JP3268481B2 - 乾式バレル研磨装置 - Google Patents
乾式バレル研磨装置Info
- Publication number
- JP3268481B2 JP3268481B2 JP11794694A JP11794694A JP3268481B2 JP 3268481 B2 JP3268481 B2 JP 3268481B2 JP 11794694 A JP11794694 A JP 11794694A JP 11794694 A JP11794694 A JP 11794694A JP 3268481 B2 JP3268481 B2 JP 3268481B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gap
- tank
- dry barrel
- suction
- barrel polishing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、乾式バレル研磨装置、
詳しくは、研磨槽内で発生した粉塵及び加工熱を固定槽
と回転盤との摺接部の隙間から吸引する集塵装置を備え
た乾式バレル研磨装置に関する。
詳しくは、研磨槽内で発生した粉塵及び加工熱を固定槽
と回転盤との摺接部の隙間から吸引する集塵装置を備え
た乾式バレル研磨装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、集塵装置を備えた乾式バレル研磨
装置は、図４に示すように構成される。図４において、
１は、研磨槽を表わしている。研磨槽１は、固定槽３と
図示矢印Ａ方向に回転する回転盤４とから構成される。
回転盤４は固定槽３と摺接しながら回転し、研磨槽１内
のマス２（機械加工品、プレス品、焼結品、ダイカスト
品又は熱処理品等のワークと、研磨材入り樹脂等のメデ
ィアとからなる。）をトロイダル流動させて、ワークの
バリ取り、スケール取り、丸み仕上げ、平滑仕上げ、光
沢仕上げ等を行なう。固定槽３の下部３ｂと回転盤４と
の間には空間１７が形成されており、また、固定槽３の
下部３ｂには、集塵装置５から伸びたパイプ６が連結さ
れる孔７が形成されている。集塵装置５は、研磨槽１内
で発生した粉塵を、固定槽３と回転盤４との摺接部隙間
１６、空間１７、孔７、パイプ６からなる吸引通路を介
して吸引し集塵装置５内部に集塵する。
装置は、図４に示すように構成される。図４において、
１は、研磨槽を表わしている。研磨槽１は、固定槽３と
図示矢印Ａ方向に回転する回転盤４とから構成される。
回転盤４は固定槽３と摺接しながら回転し、研磨槽１内
のマス２（機械加工品、プレス品、焼結品、ダイカスト
品又は熱処理品等のワークと、研磨材入り樹脂等のメデ
ィアとからなる。）をトロイダル流動させて、ワークの
バリ取り、スケール取り、丸み仕上げ、平滑仕上げ、光
沢仕上げ等を行なう。固定槽３の下部３ｂと回転盤４と
の間には空間１７が形成されており、また、固定槽３の
下部３ｂには、集塵装置５から伸びたパイプ６が連結さ
れる孔７が形成されている。集塵装置５は、研磨槽１内
で発生した粉塵を、固定槽３と回転盤４との摺接部隙間
１６、空間１７、孔７、パイプ６からなる吸引通路を介
して吸引し集塵装置５内部に集塵する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の乾
式バレル研磨装置は、粉塵が摺接部隙間１６に集中する
ため、長時間運転すると、加工熱により回転盤のライニ
ング材が膨張し、摺接部隙間１６が狭くなり、摺接部隙
間１６に粉塵が詰まったり、摩擦抵抗が増大して発熱
し、摺接部が溶着して研磨不能や摩耗破損が発生するな
どの欠点があった。
式バレル研磨装置は、粉塵が摺接部隙間１６に集中する
ため、長時間運転すると、加工熱により回転盤のライニ
ング材が膨張し、摺接部隙間１６が狭くなり、摺接部隙
間１６に粉塵が詰まったり、摩擦抵抗が増大して発熱
し、摺接部が溶着して研磨不能や摩耗破損が発生するな
どの欠点があった。
【０００４】このような問題点を解消するために、予め
摺接部隙間１６を広く設定しておくことが考えられる
が、このようにした場合、この広い隙間１６にワークが
噛み込まれて変形したり、この広い隙間１６からワーク
が落下するおそれがあるため、薄物、小物ワークの研磨
に適さなくなるという不具合が生じる。
摺接部隙間１６を広く設定しておくことが考えられる
が、このようにした場合、この広い隙間１６にワークが
噛み込まれて変形したり、この広い隙間１６からワーク
が落下するおそれがあるため、薄物、小物ワークの研磨
に適さなくなるという不具合が生じる。
【０００５】本発明に係る乾式バレル研磨装置は、上記
問題点にかんがみ、摺接部隙間を予め広く設定しなくて
も長時間運転が可能で、しかも、薄物、小物ワークの研
磨を可能にすることを目的とする。
問題点にかんがみ、摺接部隙間を予め広く設定しなくて
も長時間運転が可能で、しかも、薄物、小物ワークの研
磨を可能にすることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的の下、請求項１
に係る乾式バレル研磨装置は、研磨槽内でトロイダル流
動しているマスにより発生した粉塵を固定槽と回転盤と
の摺接部隙間から吸引する集塵装置を備えた乾式バレル
研磨装置において、前記各吸引孔と前記研磨槽の内部と
の間を連通する回転盤隙間であって、トロイダル流動中
のマスに開口する回転盤隙間が形成されるよう、前記各
吸引孔に被せられた補助吸引盤と、を備え、前記回転盤
隙間及び前記吸引孔を、前記研磨槽内部と集塵装置との
間を連通する補助吸引通路に配したことを特徴とする。
に係る乾式バレル研磨装置は、研磨槽内でトロイダル流
動しているマスにより発生した粉塵を固定槽と回転盤と
の摺接部隙間から吸引する集塵装置を備えた乾式バレル
研磨装置において、前記各吸引孔と前記研磨槽の内部と
の間を連通する回転盤隙間であって、トロイダル流動中
のマスに開口する回転盤隙間が形成されるよう、前記各
吸引孔に被せられた補助吸引盤と、を備え、前記回転盤
隙間及び前記吸引孔を、前記研磨槽内部と集塵装置との
間を連通する補助吸引通路に配したことを特徴とする。
【０００７】また、請求項２に係る乾式バレル研磨装置
は、請求項１に係る乾式バレル研磨装置において、前記
補助吸引盤が、前記各吸引孔の上に載置されるスクリー
ンと、該スクリーンを押える押えプレートとから構成さ
れることを特徴とする。
は、請求項１に係る乾式バレル研磨装置において、前記
補助吸引盤が、前記各吸引孔の上に載置されるスクリー
ンと、該スクリーンを押える押えプレートとから構成さ
れることを特徴とする。
【０００８】
【発明の作用効果】研磨槽内においては、ワークとメデ
ィアとが激しく擦り合いながらトロイダル流動している
ため、粉塵及び高熱が発生する。
ィアとが激しく擦り合いながらトロイダル流動している
ため、粉塵及び高熱が発生する。
【０００９】粉塵は、集塵装置によって、固定槽と回転
盤との摺接部隙間から吸引され、更に、回転盤隙間から
も吸引される。ここで、回転盤隙間は、摺接部隙間と同
様、トロイダル流動中のマスに開口しており、この回転
盤隙間を介して、マス中に発生した粉塵は吸引されるこ
とになる。
盤との摺接部隙間から吸引され、更に、回転盤隙間から
も吸引される。ここで、回転盤隙間は、摺接部隙間と同
様、トロイダル流動中のマスに開口しており、この回転
盤隙間を介して、マス中に発生した粉塵は吸引されるこ
とになる。
【００１０】このように、マス中の粉塵は、２個所の別
々の隙間を介して吸引されることになるため、従来装置
のように粉塵が摺接部隙間のみに集中する結果生じる摺
接部隙間の目詰まりを防止することができる。
々の隙間を介して吸引されることになるため、従来装置
のように粉塵が摺接部隙間のみに集中する結果生じる摺
接部隙間の目詰まりを防止することができる。
【００１１】また、２個所の隙間を設けたことに伴い、
研磨槽内の高温空気の排気量を増大させることができる
ため、マスに対する冷却効果が増大し、冷却されたマス
を介して摺接部の温度上昇を抑えることができる。
研磨槽内の高温空気の排気量を増大させることができる
ため、マスに対する冷却効果が増大し、冷却されたマス
を介して摺接部の温度上昇を抑えることができる。
【００１２】従って、本発明によると、摺接部隙間を予
め広く設定しておかなくても長時間運転が可能になり、
摺接部の溶着による研磨不能、摩耗破損を防止すること
ができるとともに、薄物、小物ワークの研磨が可能にな
る。
め広く設定しておかなくても長時間運転が可能になり、
摺接部の溶着による研磨不能、摩耗破損を防止すること
ができるとともに、薄物、小物ワークの研磨が可能にな
る。
【００１３】また、請求項２に係る乾式バレル研磨装置
によると、補助吸引盤がスクリーンと押えプレートから
構成される比較的簡単な構造であるため、補助吸引盤の
取付け、保守等を容易に行ない得る。
によると、補助吸引盤がスクリーンと押えプレートから
構成される比較的簡単な構造であるため、補助吸引盤の
取付け、保守等を容易に行ない得る。
【００１４】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説
明する。
明する。
【００１５】図１は、一実施例に係る乾式バレル研磨装
置の要部の断面図、図２は、要部の一部の拡大断面図を
示している。
置の要部の断面図、図２は、要部の一部の拡大断面図を
示している。
【００１６】図１及び図２において、１は、研磨槽、２
は、研磨槽１内でトロイダル流動しているマスを表わし
ている。研磨槽１は、内周面にウレタン樹脂３ａがライ
ニングされた固定槽３を備え、この固定槽３に対し、上
面にウレタン樹脂４ａがライニングされた回転盤４が摺
接しながら図示矢印Ａ方向に回転している。固定槽３の
下部３ｂには、一端部６ａが集塵装置５に接続されたパ
イプ６の他端部６ｂが連結された孔７が形成されてい
る。
は、研磨槽１内でトロイダル流動しているマスを表わし
ている。研磨槽１は、内周面にウレタン樹脂３ａがライ
ニングされた固定槽３を備え、この固定槽３に対し、上
面にウレタン樹脂４ａがライニングされた回転盤４が摺
接しながら図示矢印Ａ方向に回転している。固定槽３の
下部３ｂには、一端部６ａが集塵装置５に接続されたパ
イプ６の他端部６ｂが連結された孔７が形成されてい
る。
【００１７】回転盤４には、同一半径の円周上に等間隔
で複数（例えば８つ）の吸引孔８，…，８が形成されて
いる。これらの吸引孔８，…，８には、補助吸引盤９が
被せられている。補助吸引盤９は、図２に示すように、
スポット溶接等により井桁状に組まれ各吸引孔８，…，
８を覆う平板リング状のスクリーン１０と、このスクリ
ーン１０を下方へ押圧する、上面にウレタン樹脂１１ａ
等がライニングされた鉄材からなる平板リング状の押え
プレート１１とから構成される。押えプレート１１は、
回転軸１２に固定されたケース１３に回転盤４と共に固
定されている。ケース１３には、円錐カバー１４が固定
されている。
で複数（例えば８つ）の吸引孔８，…，８が形成されて
いる。これらの吸引孔８，…，８には、補助吸引盤９が
被せられている。補助吸引盤９は、図２に示すように、
スポット溶接等により井桁状に組まれ各吸引孔８，…，
８を覆う平板リング状のスクリーン１０と、このスクリ
ーン１０を下方へ押圧する、上面にウレタン樹脂１１ａ
等がライニングされた鉄材からなる平板リング状の押え
プレート１１とから構成される。押えプレート１１は、
回転軸１２に固定されたケース１３に回転盤４と共に固
定されている。ケース１３には、円錐カバー１４が固定
されている。
【００１８】スクリーン１０の外周縁部が回転盤４と当
接する個所には、隙間１５が形成されており、この隙間
１５が本発明にいう回転盤隙間である。この回転盤隙間
１５は、図１から明らかなように、トロイダル流動して
いるマス２に対して開口するような位置に形成させてあ
る。
接する個所には、隙間１５が形成されており、この隙間
１５が本発明にいう回転盤隙間である。この回転盤隙間
１５は、図１から明らかなように、トロイダル流動して
いるマス２に対して開口するような位置に形成させてあ
る。
【００１９】マス２のトロイダル流動により発生した粉
塵は、固定槽３と回転盤４との摺接部隙間１６から、固
定槽３の下部３ｂと回転盤４との間の空間１７、孔７及
びパイプ６を介して集塵装置５に吸引される。また、粉
塵は、回転盤隙間１５、吸引孔８，…，８、上記空間１
７、孔７及びパイプ６からなる補助吸引通路を経て集塵
装置５に吸引される。ここで、回転盤隙間１５は、上述
したようにトロイダル流動中のマス２に開口しており、
この回転盤隙間１５を介して、マス２中に発生した粉塵
は吸引されることになる。
塵は、固定槽３と回転盤４との摺接部隙間１６から、固
定槽３の下部３ｂと回転盤４との間の空間１７、孔７及
びパイプ６を介して集塵装置５に吸引される。また、粉
塵は、回転盤隙間１５、吸引孔８，…，８、上記空間１
７、孔７及びパイプ６からなる補助吸引通路を経て集塵
装置５に吸引される。ここで、回転盤隙間１５は、上述
したようにトロイダル流動中のマス２に開口しており、
この回転盤隙間１５を介して、マス２中に発生した粉塵
は吸引されることになる。
【００２０】このように、マス２中の粉塵は、２個所の
別々の隙間、即ち摺接部隙間１６及び回転盤隙間１５を
介して吸引されることになるため、従来装置のように粉
塵が摺接部隙間１６のみに集中する結果生じる摺接部隙
間１６の目詰まりを防止することができる。
別々の隙間、即ち摺接部隙間１６及び回転盤隙間１５を
介して吸引されることになるため、従来装置のように粉
塵が摺接部隙間１６のみに集中する結果生じる摺接部隙
間１６の目詰まりを防止することができる。
【００２１】また、２個所の隙間を設けたことに伴い、
研磨槽１内の高温空気の排気量を増大させることができ
るため、マス２に対する冷却効果が増大し、冷却された
マス２を介して摺接部の温度上昇を抑えることができ
る。
研磨槽１内の高温空気の排気量を増大させることができ
るため、マス２に対する冷却効果が増大し、冷却された
マス２を介して摺接部の温度上昇を抑えることができ
る。
【００２２】従って、本実施例によると、摺接部隙間１
６を予め広く設定しておかなくても長時間運転が可能に
なり、摺接部の溶着による研磨不能、摩耗破損を防止す
ることができるとともに、薄物、小物ワークの研磨が可
能になる。
６を予め広く設定しておかなくても長時間運転が可能に
なり、摺接部の溶着による研磨不能、摩耗破損を防止す
ることができるとともに、薄物、小物ワークの研磨が可
能になる。
【００２３】また、補助吸引盤９がスクリーン１０と押
えプレート１１から構成される比較的簡単な構造である
ため、補助吸引盤９の取付け、保守等を容易に行ない得
る。
えプレート１１から構成される比較的簡単な構造である
ため、補助吸引盤９の取付け、保守等を容易に行ない得
る。
【００２４】なお、本発明にいう補助吸引盤は、マスに
開口する隙間を形成できる構成のものであればよく、上
記実施例に開示した構成の補助吸引盤のみに限定される
ものではない。
開口する隙間を形成できる構成のものであればよく、上
記実施例に開示した構成の補助吸引盤のみに限定される
ものではない。
【００２５】ところで、本実施例の乾式バレル研磨装置
と上記従来の乾式バレル研磨装置をそれぞれ連続運転し
たときの摺接部隙間１６の間隔の変化と摺接部の温度の
変化とを測定したところ、図３に示すような結果が得ら
れた。この結果から明らかなように、本実施例の乾式バ
レル研磨装置によると、摺接部隙間１６の間隔の減少カ
ーブは緩やかになり、また、摺接部の温度の上昇カーブ
も緩やかになることが判明した。
と上記従来の乾式バレル研磨装置をそれぞれ連続運転し
たときの摺接部隙間１６の間隔の変化と摺接部の温度の
変化とを測定したところ、図３に示すような結果が得ら
れた。この結果から明らかなように、本実施例の乾式バ
レル研磨装置によると、摺接部隙間１６の間隔の減少カ
ーブは緩やかになり、また、摺接部の温度の上昇カーブ
も緩やかになることが判明した。
【図１】一実施例に係る乾式バレル研磨装置の要部断面
図
図
【図２】その一部の拡大断面図
【図３】本実施例の効果を説明するための摺接部隙間の
間隔と摺接部の温度の変化を表わしたグラフ
間隔と摺接部の温度の変化を表わしたグラフ
【図４】従来の乾式バレル研磨装置の断面図
１ 研磨槽 ２ マス ３ 固定槽 ４ 回転盤 ５ 集塵装置 ８ 吸引孔 ９ 補助吸引盤 １０ スクリーン １１ 押えプレート １５ 回転盤隙間 １６ 摺接部隙間
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B24B 31/00 - 31/16
Claims (2)
- 【請求項１】 研磨槽内でトロイダル流動しているマス
により発生した粉塵を固定槽と回転盤との摺接部隙間か
ら吸引する集塵装置を備えた乾式バレル研磨装置におい
て、 前記回転盤に形成された複数の吸引孔と、 前記各吸引孔と前記研磨槽の内部との間を連通する回転
盤隙間であって、トロイダル流動中のマスに開口する回
転盤隙間が形成されるよう、前記各吸引孔に被せられた
補助吸引盤と、 を備え、前記回転盤隙間及び前記吸引孔を、前記研磨槽
内部と集塵装置との間を連通する補助吸引通路に配した
ことを特徴とする乾式バレル研磨装置。 - 【請求項２】 前記補助吸引盤が、前記各吸引孔の上に
載置されるスクリーンと、該スクリーンを押える押えプ
レートとから構成されることを特徴とする請求項１に記
載の乾式バレル研磨装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11794694A JP3268481B2 (ja) | 1994-05-31 | 1994-05-31 | 乾式バレル研磨装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11794694A JP3268481B2 (ja) | 1994-05-31 | 1994-05-31 | 乾式バレル研磨装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07314322A JPH07314322A (ja) | 1995-12-05 |
| JP3268481B2 true JP3268481B2 (ja) | 2002-03-25 |
Family
ID=14724150
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11794694A Expired - Lifetime JP3268481B2 (ja) | 1994-05-31 | 1994-05-31 | 乾式バレル研磨装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3268481B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102104612B1 (ko) * | 2018-11-26 | 2020-04-27 | (주) 디씨엠 | 원심디스크 연마장치를 위한 자동 간극조절장치 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5029941B2 (ja) * | 2006-11-30 | 2012-09-19 | 新東工業株式会社 | バレル研磨方法 |
| CN103240645B (zh) * | 2013-04-19 | 2016-03-30 | 杨一舟 | 一种无水震动研磨方法及其装置 |
| JP7222422B2 (ja) * | 2019-03-29 | 2023-02-15 | 新東工業株式会社 | バレル研磨装置 |
-
1994
- 1994-05-31 JP JP11794694A patent/JP3268481B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102104612B1 (ko) * | 2018-11-26 | 2020-04-27 | (주) 디씨엠 | 원심디스크 연마장치를 위한 자동 간극조절장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07314322A (ja) | 1995-12-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5609516A (en) | Rotating abrader with polygonal pad and dust evacuation | |
| JP4299893B2 (ja) | 研磨ディスク | |
| US4179852A (en) | Method and apparatus for polishing floppy discs | |
| US5868610A (en) | Mehtod and aparatus for polishing semiconductor substrate | |
| US4616449A (en) | Suction housing for vacuum sanding devices | |
| KR100299804B1 (ko) | 워크피스의연마장치및방법 | |
| US4430782A (en) | Apparatus and method for burnishing magnetic disks | |
| CA2238714A1 (en) | Improvements to sanding disks | |
| KR20000006568A (ko) | 표면연마기 | |
| JPS5810789B2 (ja) | ジキメモリ デイスク パツクヨウノセイジヨウクウキシステム | |
| US6312320B2 (en) | Disk cleaner | |
| JP3268481B2 (ja) | 乾式バレル研磨装置 | |
| JP2000512921A (ja) | 砥石を調整する装置および方法 | |
| US5123218A (en) | Circumferential pattern finishing method | |
| EP0141139B1 (en) | Suction housing for vacuum sanding devices | |
| US5187901A (en) | Circumferential pattern finishing machine | |
| US20040053566A1 (en) | CMP platen with patterned surface | |
| JPS6038785B2 (ja) | 磁気デイスクパツク清掃装置 | |
| JP2001293664A (ja) | バフ盤 | |
| JPH0638008U (ja) | 可撓性磁気記録媒体の仕上げ装置 | |
| JP3011168B2 (ja) | 半導体基板研磨装置 | |
| JPH01268032A (ja) | ウエハ研磨方法および装置 | |
| JP2001030151A (ja) | 両面研磨方法および両面研磨装置 | |
| JPH0314298Y2 (ja) | ||
| JPH07235050A (ja) | 磁気ディスクの固定方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20011120 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080118 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110118 Year of fee payment: 9 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110118 Year of fee payment: 9 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110118 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120118 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130118 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140118 Year of fee payment: 12 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |