JP3260052B2 - 石膏・水スラリー用分散剤 - Google Patents
石膏・水スラリー用分散剤Info
- Publication number
- JP3260052B2 JP3260052B2 JP03077895A JP3077895A JP3260052B2 JP 3260052 B2 JP3260052 B2 JP 3260052B2 JP 03077895 A JP03077895 A JP 03077895A JP 3077895 A JP3077895 A JP 3077895A JP 3260052 B2 JP3260052 B2 JP 3260052B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gypsum
- water slurry
- mol
- dispersant
- dispersant according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B24/00—Use of organic materials as active ingredients for mortars, concrete or artificial stone, e.g. plasticisers
- C04B24/16—Sulfur-containing compounds
- C04B24/20—Sulfonated aromatic compounds
- C04B24/22—Condensation or polymerisation products thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B24/00—Use of organic materials as active ingredients for mortars, concrete or artificial stone, e.g. plasticisers
- C04B24/24—Macromolecular compounds
- C04B24/28—Macromolecular compounds obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- C04B24/30—Condensation polymers of aldehydes or ketones
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2103/00—Function or property of ingredients for mortars, concrete or artificial stone
- C04B2103/40—Surface-active agents, dispersants
- C04B2103/408—Dispersants
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は石膏・水スラリー用分散
剤に関する。さらに詳しくは石膏ボード製造時の石膏・
水スラリーの分散性と泡沫安定性に優れた分散剤に関す
る。
剤に関する。さらに詳しくは石膏ボード製造時の石膏・
水スラリーの分散性と泡沫安定性に優れた分散剤に関す
る。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
石膏・水スラリー用分散剤として、ナフタレンスルホン
酸ホルムアルデヒド縮合物（以下ナフタレン系と称す）
が知られている。石膏ボードの製造において、ナフタレ
ン系分散剤を使用することにより混練り水量が低減さ
れ、乾燥時間の短縮が可能となり生産性が向上する。
石膏・水スラリー用分散剤として、ナフタレンスルホン
酸ホルムアルデヒド縮合物（以下ナフタレン系と称す）
が知られている。石膏ボードの製造において、ナフタレ
ン系分散剤を使用することにより混練り水量が低減さ
れ、乾燥時間の短縮が可能となり生産性が向上する。
【０００３】石膏ボードの製造は、所定の配合に応じて
石膏、混和剤水溶液、硬化促進剤水溶液等と泡沫とを同
時に連続的にピンミキサーと称す混練機に投入して、10
秒程度の攪拌で排出され上下のボード（紙）に挟み込む
生産工程からなっている。
石膏、混和剤水溶液、硬化促進剤水溶液等と泡沫とを同
時に連続的にピンミキサーと称す混練機に投入して、10
秒程度の攪拌で排出され上下のボード（紙）に挟み込む
生産工程からなっている。
【０００４】しかし、所定量の泡沫を投入しても、その
破泡性が大きいことから、通常は破泡される体積を見越
して約倍量の泡沫を投入しているのが現状である。
破泡性が大きいことから、通常は破泡される体積を見越
して約倍量の泡沫を投入しているのが現状である。
【０００５】さらに泡沫の破泡過程で生じる粗大泡がボ
ードとの界面に集合して石膏スラリーとの接着が阻害さ
れ、品質不良の原因となっている。
ードとの界面に集合して石膏スラリーとの接着が阻害さ
れ、品質不良の原因となっている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記問題点
を鑑み、鋭意検討の結果、泡沫の破泡には分散剤による
影響が大きいことを見出し、本発明の分散剤を用いるこ
とで解決するに至った。
を鑑み、鋭意検討の結果、泡沫の破泡には分散剤による
影響が大きいことを見出し、本発明の分散剤を用いるこ
とで解決するに至った。
【０００７】即ち、従来のナフタレン系分散剤は界面活
性剤の泡沫に対して消泡作用が大きく、破泡による体積
減少をきたし、泡沫量を多く必要とする。しかも消泡過
程で生じた粗大泡が原因となり、石膏スラリーとボード
との接着阻害の原因となっている。
性剤の泡沫に対して消泡作用が大きく、破泡による体積
減少をきたし、泡沫量を多く必要とする。しかも消泡過
程で生じた粗大泡が原因となり、石膏スラリーとボード
との接着阻害の原因となっている。
【０００８】従って、本発明者らは泡沫に対し、消泡作
用が小さく、しかも分散作用の大きい分散剤を目標に鋭
意検討の結果、本発明を完成するに至ったものである。
用が小さく、しかも分散作用の大きい分散剤を目標に鋭
意検討の結果、本発明を完成するに至ったものである。
【０００９】即ち、本発明は、炭素数２〜３のオキシア
ルキレン基１〜300 モルを導入した芳香族化合物の中か
ら選ばれる１種又は２種以上(A) とカルボキシル基を有
する芳香族化合物の中から選ばれる１種又は２種以上
(B) とのホルムアルデヒド共縮合物又はその中和塩を必
須成分とする石膏・水スラリー用分散剤に関する。
ルキレン基１〜300 モルを導入した芳香族化合物の中か
ら選ばれる１種又は２種以上(A) とカルボキシル基を有
する芳香族化合物の中から選ばれる１種又は２種以上
(B) とのホルムアルデヒド共縮合物又はその中和塩を必
須成分とする石膏・水スラリー用分散剤に関する。
【００１０】更に、本発明は、炭素数２〜３のオキシア
ルキレン基１〜300 モルを導入した芳香族化合物の中か
ら選ばれる１種又は２種以上(A) とカルボキシル基を有
する芳香族化合物の中から選ばれる１種又は２種以上
(B) 及びスルホン酸基を有する芳香族化合物の中から選
ばれる１種又は２種以上(C) とのホルムアルデヒド共縮
合物又はその中和塩を必須成分とする石膏・水スラリー
用分散剤に関する。
ルキレン基１〜300 モルを導入した芳香族化合物の中か
ら選ばれる１種又は２種以上(A) とカルボキシル基を有
する芳香族化合物の中から選ばれる１種又は２種以上
(B) 及びスルホン酸基を有する芳香族化合物の中から選
ばれる１種又は２種以上(C) とのホルムアルデヒド共縮
合物又はその中和塩を必須成分とする石膏・水スラリー
用分散剤に関する。
【００１１】本発明における共縮合物は芳香族ホルムア
ルデヒド共縮合系に、アルキレンオキシドとカルボキシ
ル基を有した構造であり、石膏への吸着力が高まるもの
である。
ルデヒド共縮合系に、アルキレンオキシドとカルボキシ
ル基を有した構造であり、石膏への吸着力が高まるもの
である。
【００１２】また、本発明のように芳香族ホルムアルデ
ヒド共縮合系にアルキレンオキシド基を導入することで
芳香族系本来の電気斥力による分散性にアルキレンオキ
シド基の立体障害的な斥力が加わり、分散効果が極めて
高まるものである。
ヒド共縮合系にアルキレンオキシド基を導入することで
芳香族系本来の電気斥力による分散性にアルキレンオキ
シド基の立体障害的な斥力が加わり、分散効果が極めて
高まるものである。
【００１３】本発明に用いる炭素数２〜３のオキシアル
キレン基１〜300 モルを導入した芳香族化合物(A) とし
ては、炭素数２〜３のオキシアルキレン基１〜300 モル
を導入したポリオキシアルキレンアルキルフェノール又
はポリオキシアルキレンアルキルナフトール類が使用さ
れる。一例を挙げれば、フェノール、クレゾール、ノニ
ルフェノール、ナフタレン、メチルナフタレン、ブチル
ナフタレン、ビスフェノール等へのオキシアルキレン基
１〜300 モル付加物である。
キレン基１〜300 モルを導入した芳香族化合物(A) とし
ては、炭素数２〜３のオキシアルキレン基１〜300 モル
を導入したポリオキシアルキレンアルキルフェノール又
はポリオキシアルキレンアルキルナフトール類が使用さ
れる。一例を挙げれば、フェノール、クレゾール、ノニ
ルフェノール、ナフタレン、メチルナフタレン、ブチル
ナフタレン、ビスフェノール等へのオキシアルキレン基
１〜300 モル付加物である。
【００１４】共縮合性の面から、ベンゼン環誘導体、即
ち、ポリオキシアルキレンアルキルフェノールが好まし
く、特に、フェノールのオキシアルキレン基付加物が好
ましい。
ち、ポリオキシアルキレンアルキルフェノールが好まし
く、特に、フェノールのオキシアルキレン基付加物が好
ましい。
【００１５】炭素数２〜３のオキシアルキレン基とはエ
チレンオキシド、プロピレンオキシドを意味し、ランダ
ム状、ブロック状のいずれでもよく、限定されるもので
はない。また、オキシアルキレン基の末端が水酸基、ア
ルキルエーテル、アルキルエステルのいずれでも使用す
ることができる。
チレンオキシド、プロピレンオキシドを意味し、ランダ
ム状、ブロック状のいずれでもよく、限定されるもので
はない。また、オキシアルキレン基の末端が水酸基、ア
ルキルエーテル、アルキルエステルのいずれでも使用す
ることができる。
【００１６】フェノールの炭素数２〜３のアルキレンオ
キシド付加物は、付加モル数が平均１以上であればよ
く、付加していないものが含有している場合、あるいは
付加していないものが配合されている場合のいずれでも
使用することができる。しかし、オキシアルキレン基が
300モルを超えると分散性が低下して好ましくない。
キシド付加物は、付加モル数が平均１以上であればよ
く、付加していないものが含有している場合、あるいは
付加していないものが配合されている場合のいずれでも
使用することができる。しかし、オキシアルキレン基が
300モルを超えると分散性が低下して好ましくない。
【００１７】本発明に用いるカルボキシル基を有する芳
香族化合物(B) は、ナフタレン環又はベンゼン環誘導
体、例えば、イソフタル酸、オキシナフトエ酸、安息香
酸、ヒドロキシ安息香酸等やこれらの異性体が使用され
る。
香族化合物(B) は、ナフタレン環又はベンゼン環誘導
体、例えば、イソフタル酸、オキシナフトエ酸、安息香
酸、ヒドロキシ安息香酸等やこれらの異性体が使用され
る。
【００１８】しかし、共縮合性から考慮すると、下記の
一般式(a) で表される化合物が好ましい。
一般式(a) で表される化合物が好ましい。
【００１９】
【化２】
【００２０】即ち、ｏ−ヒドロキシ安息香酸、ｍ−ヒド
ロキシ安息香酸、ｐ−ヒドロキシ安息香酸が好ましい。
ロキシ安息香酸、ｐ−ヒドロキシ安息香酸が好ましい。
【００２１】本発明に用いるスルホン酸基を有する芳香
族化合物(C) は、アルキルナフタレンスルホン酸、アル
キルフェノールスルホン酸、アニリンスルホン酸、アル
キルベンゼンスルホン酸等で、一例を挙げれば、ナフタ
レンスルホン酸、メチルナフタレンスルホン酸、ブチル
ナフタレンスルホン酸、フェノールスルホン酸、クレゾ
ールスルホン酸、アニリンスルホン酸、ベンゼンスルホ
ン酸、トルエンスルホン酸等が挙げられる。また、これ
らの異性体及びすでにこれらの縮合されたものを用いる
ことも可能である。例えば、リグニンスルホン酸やナフ
タレンスルホン酸ホルムアルデヒド縮合物を使用するこ
とができる。
族化合物(C) は、アルキルナフタレンスルホン酸、アル
キルフェノールスルホン酸、アニリンスルホン酸、アル
キルベンゼンスルホン酸等で、一例を挙げれば、ナフタ
レンスルホン酸、メチルナフタレンスルホン酸、ブチル
ナフタレンスルホン酸、フェノールスルホン酸、クレゾ
ールスルホン酸、アニリンスルホン酸、ベンゼンスルホ
ン酸、トルエンスルホン酸等が挙げられる。また、これ
らの異性体及びすでにこれらの縮合されたものを用いる
ことも可能である。例えば、リグニンスルホン酸やナフ
タレンスルホン酸ホルムアルデヒド縮合物を使用するこ
とができる。
【００２２】しかし、共縮合性から考慮すると、フェノ
ール誘導体からなるスルホン酸化合物、即ち、アルキル
フェノールスルホン酸が好ましく、特にフェノールスル
ホン酸が好ましい。
ール誘導体からなるスルホン酸化合物、即ち、アルキル
フェノールスルホン酸が好ましく、特にフェノールスル
ホン酸が好ましい。
【００２３】また、本発明の効果を損なわない範囲内
で、他の共縮合可能な単量体と反応させてもよい。例え
ば、フェノール、クレゾール等のアルキルフェノールが
挙げられる。
で、他の共縮合可能な単量体と反応させてもよい。例え
ば、フェノール、クレゾール等のアルキルフェノールが
挙げられる。
【００２４】共縮合物は、酸性のまま石膏・水スラリー
用分散剤として用いることもできるが、貯蔵面と使用面
からは中和塩として用いることが好ましい。中和塩とし
ては、１価金属塩、２価金属塩、アンモニウム塩、アミ
ン塩又は置換アミン塩が挙げられる。
用分散剤として用いることもできるが、貯蔵面と使用面
からは中和塩として用いることが好ましい。中和塩とし
ては、１価金属塩、２価金属塩、アンモニウム塩、アミ
ン塩又は置換アミン塩が挙げられる。
【００２５】炭素数２〜３のオキシアルキレン基１〜30
0 モルを導入した芳香族化合物の中から選ばれる１種又
は２種以上(A) とカルボキシル基を有する芳香族化合物
の中から選ばれる１種又は２種以上(B) とのホルムアル
デヒド共縮合物又はその中和塩において、(A) 、(B) の
反応モル比としては、(A) ／(B) ＝１〜99／99〜１の範
囲が分散性に好ましく、10〜50／50〜90の範囲が特に好
ましい。
0 モルを導入した芳香族化合物の中から選ばれる１種又
は２種以上(A) とカルボキシル基を有する芳香族化合物
の中から選ばれる１種又は２種以上(B) とのホルムアル
デヒド共縮合物又はその中和塩において、(A) 、(B) の
反応モル比としては、(A) ／(B) ＝１〜99／99〜１の範
囲が分散性に好ましく、10〜50／50〜90の範囲が特に好
ましい。
【００２６】炭素数２〜３のオキシアルキレン基１〜30
0 モルを導入した芳香族化合物の中から選ばれる１種又
は２種以上(A) とカルボキシル基を有する芳香族化合物
の中から選ばれる１種又は２種以上(B) 及びスルホン酸
基を有する芳香族化合物の中から選ばれる１種又は２種
以上(C) とのホルムアルデヒド共縮合物又はその中和塩
において、(A) 、(B) 、(C) の反応モル比としては、
(A)／(B)／(C) ＝１〜98／１〜98／１〜98の範囲が好ま
しく、５〜50／５〜90／５〜90の範囲が特に好ましい。
0 モルを導入した芳香族化合物の中から選ばれる１種又
は２種以上(A) とカルボキシル基を有する芳香族化合物
の中から選ばれる１種又は２種以上(B) 及びスルホン酸
基を有する芳香族化合物の中から選ばれる１種又は２種
以上(C) とのホルムアルデヒド共縮合物又はその中和塩
において、(A) 、(B) 、(C) の反応モル比としては、
(A)／(B)／(C) ＝１〜98／１〜98／１〜98の範囲が好ま
しく、５〜50／５〜90／５〜90の範囲が特に好ましい。
【００２７】本発明における共縮合物の標準的な製造法
を示すが、これによって本発明は何ら限定されるもので
はない。
を示すが、これによって本発明は何ら限定されるもので
はない。
【００２８】共縮合物の製造法としては、例えば、所定
量のアルキレンオキシド付加物とカルボキシル基を有す
る芳香族化合物、又はカルボキシル基を有する芳香族化
合物及びスルホン酸基を有する芳香族化合物を反応容器
に仕込み、70〜90℃の攪拌下で所定量のホルマリン水を
１〜４時間かけて滴下、滴下後、還流下で３〜30時間攪
拌して冷却、中和する方法が挙げられる。
量のアルキレンオキシド付加物とカルボキシル基を有す
る芳香族化合物、又はカルボキシル基を有する芳香族化
合物及びスルホン酸基を有する芳香族化合物を反応容器
に仕込み、70〜90℃の攪拌下で所定量のホルマリン水を
１〜４時間かけて滴下、滴下後、還流下で３〜30時間攪
拌して冷却、中和する方法が挙げられる。
【００２９】共縮合系において、縮合粘度と縮合時間を
コントロールするために水の添加調整を行う。反応系は
酸性下で行い、スルホン酸基を有する芳香族化合物やこ
れに含まれる未反応の酸によりすでに酸性下になってい
る場合はこのままの酸性領域で縮合を行う。また、反応
系によって、酸性にならない場合は、予め硫酸などを加
えてpH２以下にして反応を行う。
コントロールするために水の添加調整を行う。反応系は
酸性下で行い、スルホン酸基を有する芳香族化合物やこ
れに含まれる未反応の酸によりすでに酸性下になってい
る場合はこのままの酸性領域で縮合を行う。また、反応
系によって、酸性にならない場合は、予め硫酸などを加
えてpH２以下にして反応を行う。
【００３０】本発明における共縮合物又はその中和塩の
重量平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフ
法／ポリスチレンスルホン酸ナトリウム換算による分子
量から縮合度を算出）は 3,000〜100,000 が好ましく、
5,000〜50,000がより好ましい。平均分子量が 3,000未
満又は 100,000を超えると分散性に劣る。
重量平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフ
法／ポリスチレンスルホン酸ナトリウム換算による分子
量から縮合度を算出）は 3,000〜100,000 が好ましく、
5,000〜50,000がより好ましい。平均分子量が 3,000未
満又は 100,000を超えると分散性に劣る。
【００３１】本発明の分散剤の石膏への添加量は石膏に
対して固形分量で0.01〜1.0 重量％が好ましく、0.05〜
0.2 重量％がより好ましい。
対して固形分量で0.01〜1.0 重量％が好ましく、0.05〜
0.2 重量％がより好ましい。
【００３２】
【実施例】以下、本発明を具体的に説明するが、本発明
はこれらの実施例に限定されるものではない。
はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００３３】また、実施例中の分子量は、重量平均分子
量（ゲルパーミエーションクロマトグラフ法／ポリスチ
レンスルホン酸ナトリウム換算）による分子量を表わ
す。
量（ゲルパーミエーションクロマトグラフ法／ポリスチ
レンスルホン酸ナトリウム換算）による分子量を表わ
す。
【００３４】実施例に使用した炭素数２〜３のオキシア
ルキレン基１〜300 モルを導入した芳香族化合物(A) 、
カルボキシル基を有する芳香族化合物(B) 、スルホン酸
基を有する芳香族化合物(C) の内容を以下に示す。尚、
EOはエチレンオキシド、POはプロピレンオキシドを、数
値は平均の付加モル数を表す。
ルキレン基１〜300 モルを導入した芳香族化合物(A) 、
カルボキシル基を有する芳香族化合物(B) 、スルホン酸
基を有する芳香族化合物(C) の内容を以下に示す。尚、
EOはエチレンオキシド、POはプロピレンオキシドを、数
値は平均の付加モル数を表す。
【００３５】〈芳香族化合物(A)〉 Ａ−１；フェノール EO 10モル付加物 Ａ−２；フェノール EO 25モル付加物 Ａ−３；フェノール EO 75モル付加物 Ａ−４；フェノール EO 120 モル付加物 Ａ−５；フェノール EO 250 モル・PO 20 モルブロック
付加物 Ａ−６；ナフトール EO ２モル付加物 Ａ−７（比較）；フェノールEO 370モル付加物。
付加物 Ａ−６；ナフトール EO ２モル付加物 Ａ−７（比較）；フェノールEO 370モル付加物。
【００３６】〈芳香族化合物(B)〉 Ｂ−１；ｐ−ヒドロキシ安息香酸 Ｂ−２；ｏ−ヒドロキシ安息香酸 Ｂ−３；オキシナフトエ酸。
【００３７】〈芳香族化合物(C)〉 Ｃ−１；フェノールスルホン酸 Ｃ−２；ｐ−クレゾールスルホン酸 Ｃ−３；ナフタレンスルホン酸ホルムアルデヒド縮合物
（分子量4500）。
（分子量4500）。
【００３８】製造例１（分散剤の記号Ｄ−１） 攪拌付き反応容器にＡ−１を 0.3モル、Ｂ−１を 0.7モ
ル、硫酸を 0.5モル、水を４モル仕込み、37％ホルムア
ルデヒド 0.9モルを80℃で３時間で滴下する。滴下終了
後、 105℃に昇温して10時間反応した後、冷却して50％
水酸化ナトリウムでpH８に調製して静置する。静置後、
二層分離した上層をとり、水を加えて固形分を30％に調
整して、分子量21,000の共縮合物を得た。
ル、硫酸を 0.5モル、水を４モル仕込み、37％ホルムア
ルデヒド 0.9モルを80℃で３時間で滴下する。滴下終了
後、 105℃に昇温して10時間反応した後、冷却して50％
水酸化ナトリウムでpH８に調製して静置する。静置後、
二層分離した上層をとり、水を加えて固形分を30％に調
整して、分子量21,000の共縮合物を得た。
【００３９】製造例２（分散剤の記号Ｄ−２） 攪拌付き反応容器にＡ−３を 0.2モル、Ｂ−１を 0.7モ
ル、Ｂ−２を 0.1モル、硫酸を 0.5モル、水を５モル仕
込み、37％ホルムアルデヒド 0.9モルを80℃で３時間で
滴下する。滴下終了後、 105℃に昇温して12時間反応し
た後、冷却して50％水酸化ナトリウムでpH８に調製して
静置する。静置後、二層分離した上層をとり、水を加え
て固形分を30％に調整して、分子量19,000の共縮合物を
得た。
ル、Ｂ−２を 0.1モル、硫酸を 0.5モル、水を５モル仕
込み、37％ホルムアルデヒド 0.9モルを80℃で３時間で
滴下する。滴下終了後、 105℃に昇温して12時間反応し
た後、冷却して50％水酸化ナトリウムでpH８に調製して
静置する。静置後、二層分離した上層をとり、水を加え
て固形分を30％に調整して、分子量19,000の共縮合物を
得た。
【００４０】製造例３（分散剤の記号Ｄ−３） 攪拌付き反応容器にＡ−４を 0.1モル、Ｂ−１を 0.9モ
ル、硫酸を 0.5モル、水を４モル仕込み、37％ホルムア
ルデヒド 0.9モルを80℃で３時間で滴下する。滴下終了
後、 105℃に昇温して10時間反応した後、冷却して50％
水酸化ナトリウムでpH８に調製して静置する。静置後、
二層分離した上層をとり、水を加えて固形分を30％に調
整して、分子量42,000の共縮合物を得た。
ル、硫酸を 0.5モル、水を４モル仕込み、37％ホルムア
ルデヒド 0.9モルを80℃で３時間で滴下する。滴下終了
後、 105℃に昇温して10時間反応した後、冷却して50％
水酸化ナトリウムでpH８に調製して静置する。静置後、
二層分離した上層をとり、水を加えて固形分を30％に調
整して、分子量42,000の共縮合物を得た。
【００４１】製造例４（分散剤の記号Ｄ−４） 攪拌付き反応容器にＡ−１を 0.3モル、Ｂ−１を 0.6モ
ル、Ｃ−１を 0.1モル、硫酸を 0.3モル、水を４モル仕
込み、37％ホルムアルデヒド 0.9モルを80℃で３時間で
滴下する。滴下終了後、 105℃に昇温して10時間反応し
た後、冷却して50％水酸化ナトリウムでpH８に調製して
静置する。静置後、二層分離した上層をとり、水を加え
て固形分を30％に調整して、分子量12,000の共縮合物を
得た。
ル、Ｃ−１を 0.1モル、硫酸を 0.3モル、水を４モル仕
込み、37％ホルムアルデヒド 0.9モルを80℃で３時間で
滴下する。滴下終了後、 105℃に昇温して10時間反応し
た後、冷却して50％水酸化ナトリウムでpH８に調製して
静置する。静置後、二層分離した上層をとり、水を加え
て固形分を30％に調整して、分子量12,000の共縮合物を
得た。
【００４２】製造例５（分散剤の記号Ｄ−５） 攪拌付き反応容器にＡ−２を 0.3モル、Ｂ−１を 0.6モ
ル、Ｃ−２を 0.1モル、水を５モル仕込み、37％ホルム
アルデヒド 0.9モルを80℃で３時間で滴下する。滴下終
了後、 105℃に昇温して12時間反応した後、冷却して50
％水酸化ナトリウムでpH８に調製して水を加えて固形分
を30％に調整して、分子量17,000の共縮合物を得た。
ル、Ｃ−２を 0.1モル、水を５モル仕込み、37％ホルム
アルデヒド 0.9モルを80℃で３時間で滴下する。滴下終
了後、 105℃に昇温して12時間反応した後、冷却して50
％水酸化ナトリウムでpH８に調製して水を加えて固形分
を30％に調整して、分子量17,000の共縮合物を得た。
【００４３】製造例６（分散剤の記号Ｄ−６） 攪拌付き反応容器にＡ−３を 0.2モル、Ｂ−１を 0.7モ
ル、Ｃ−３を 0.1モル（ナフタレン骨格としてのモル
数）、水を５モル仕込み、37％ホルムアルデヒド0.9モ
ルを80℃で３時間で滴下する。滴下終了後、 105℃に昇
温して８時間反応した後、冷却して50％水酸化ナトリウ
ムでpH８に調製して水を加えて固形分を20％に調整し
て、分子量25,000の共縮合物を得た。
ル、Ｃ−３を 0.1モル（ナフタレン骨格としてのモル
数）、水を５モル仕込み、37％ホルムアルデヒド0.9モ
ルを80℃で３時間で滴下する。滴下終了後、 105℃に昇
温して８時間反応した後、冷却して50％水酸化ナトリウ
ムでpH８に調製して水を加えて固形分を20％に調整し
て、分子量25,000の共縮合物を得た。
【００４４】製造例７（分散剤の記号Ｄ−７） 攪拌付き反応容器にＡ−４を 0.2モル、Ｂ−２を 0.5モ
ル、Ｃ−１を 0.3モル、水を５モル仕込み、37％ホルム
アルデヒド 0.9モルを80℃で３時間で滴下する。滴下終
了後、 105℃に昇温して12時間反応した後、冷却して50
％水酸化ナトリウムでpH８に調製して水を加えて固形分
を20％に調整して、分子量31,000の共縮合物を得た。
ル、Ｃ−１を 0.3モル、水を５モル仕込み、37％ホルム
アルデヒド 0.9モルを80℃で３時間で滴下する。滴下終
了後、 105℃に昇温して12時間反応した後、冷却して50
％水酸化ナトリウムでpH８に調製して水を加えて固形分
を20％に調整して、分子量31,000の共縮合物を得た。
【００４５】製造例８（分散剤の記号Ｄ−８） 攪拌付き反応容器にＡ−５を 0.1モル、Ｂ−２を 0.5モ
ル、Ｃ−１を 0.4モル、水を６モル仕込み、37％ホルム
アルデヒド 0.9モルを80℃で３時間で滴下する。滴下終
了後、 105℃に昇温して15時間反応した後、冷却して50
％水酸化ナトリウムでpH８に調製して水を加えて固形分
を20％に調整して、分子量33,000の共縮合物を得た。
ル、Ｃ−１を 0.4モル、水を６モル仕込み、37％ホルム
アルデヒド 0.9モルを80℃で３時間で滴下する。滴下終
了後、 105℃に昇温して15時間反応した後、冷却して50
％水酸化ナトリウムでpH８に調製して水を加えて固形分
を20％に調整して、分子量33,000の共縮合物を得た。
【００４６】製造例９（分散剤の記号Ｄ−９） 攪拌付き反応容器にＡ−６を 0.3モル、Ｂ−２を 0.3モ
ル、Ｃ−１を 0.4モル、水を６モル仕込み、37％ホルム
アルデヒド 0.9モルを80℃で３時間で滴下する。滴下終
了後、 105℃に昇温して25時間反応した後、冷却して50
％水酸化ナトリウムでpH８に調製して水を加えて固形分
を20％に調整して、分子量11,000の共縮合物を得た。
ル、Ｃ−１を 0.4モル、水を６モル仕込み、37％ホルム
アルデヒド 0.9モルを80℃で３時間で滴下する。滴下終
了後、 105℃に昇温して25時間反応した後、冷却して50
％水酸化ナトリウムでpH８に調製して水を加えて固形分
を20％に調整して、分子量11,000の共縮合物を得た。
【００４７】製造例10（分散剤の記号Ｄ−10） 攪拌付き反応容器にＡ−４を 0.1モル、Ｂ−２を 0.6モ
ル、Ｃ−１を 0.3モル、水を６モル仕込み、37％ホルム
アルデヒド 0.9モルを80℃で３時間で滴下する。滴下終
了後、 105℃に昇温して18時間反応した後、冷却して50
％水酸化ナトリウムでpH８に調製して水を加えて固形分
を20％に調整して、分子量26,000の共縮合物を得た。
ル、Ｃ−１を 0.3モル、水を６モル仕込み、37％ホルム
アルデヒド 0.9モルを80℃で３時間で滴下する。滴下終
了後、 105℃に昇温して18時間反応した後、冷却して50
％水酸化ナトリウムでpH８に調製して水を加えて固形分
を20％に調整して、分子量26,000の共縮合物を得た。
【００４８】製造例11（分散剤の記号Ｄ−11） 攪拌付き反応容器にＡ−３を 0.1モル、Ｂ−３を 0.1モ
ル、Ｃ−１を 0.6モル、水を３モル仕込み、37％ホルム
アルデヒド 0.9モルを80℃で３時間で滴下する。滴下終
了後、 105℃に昇温して25時間反応した後、冷却して50
％水酸化ナトリウムでpH８に調製して水を加えて固形分
を30％に調整して、分子量11,000の共縮合物を得た。
ル、Ｃ−１を 0.6モル、水を３モル仕込み、37％ホルム
アルデヒド 0.9モルを80℃で３時間で滴下する。滴下終
了後、 105℃に昇温して25時間反応した後、冷却して50
％水酸化ナトリウムでpH８に調製して水を加えて固形分
を30％に調整して、分子量11,000の共縮合物を得た。
【００４９】製造例12（分散剤の記号Ｄ−12） 攪拌付き反応容器にＡ−７を 0.1モル、Ｂ−２を 0.5モ
ル、Ｃ−１を 0.4モル、水を７モル仕込み、37％ホルム
アルデヒド 0.9モルを80℃で３時間で滴下する。滴下終
了後、 105℃に昇温して15時間反応した後、冷却して50
％水酸化ナトリウムでpH８に調製して水を加えて固形分
を20％に調整して、分子量41,000の共縮合物を得た。
ル、Ｃ−１を 0.4モル、水を７モル仕込み、37％ホルム
アルデヒド 0.9モルを80℃で３時間で滴下する。滴下終
了後、 105℃に昇温して15時間反応した後、冷却して50
％水酸化ナトリウムでpH８に調製して水を加えて固形分
を20％に調整して、分子量41,000の共縮合物を得た。
【００５０】〈実施例に使用した比較分散剤の内容〉 分散剤の記号ＮＳ；ナフタレン系分散剤（マイテイG-15
0 ；花王（株）製） 分散剤の記号ＰＳ；ナフタレン系分散剤（サンフローP
S；日本製紙（株）製）。
0 ；花王（株）製） 分散剤の記号ＰＳ；ナフタレン系分散剤（サンフローP
S；日本製紙（株）製）。
【００５１】実施例に使用した起泡剤を以下に示す。 〈実施例に使用した起泡剤の内容〉 エマールD-3-D （花王（株）製）。
【００５２】試験条件を以下に示す。 〈試験条件〉下記に示す試験材料を小型ピンミキサーに
投入して、15秒間混合した後、スラリーの流動性と泡沫
の安定性を測定した。
投入して、15秒間混合した後、スラリーの流動性と泡沫
の安定性を測定した。
【００５３】半水石膏；1000ｇ 水 ； 600ｇ 分散剤 ；対石膏 0.1（固形分換算）重量％（水に含
む） 泡沫 ；エマールD-3-D の１％水溶液を用いて発泡機
で0.05g/ml（20倍）の泡沫を製造して、20ml（400ml)加
える。
む） 泡沫 ；エマールD-3-D の１％水溶液を用いて発泡機
で0.05g/ml（20倍）の泡沫を製造して、20ml（400ml)加
える。
【００５４】・流動性の測定 Φ50mm×高さ50mmの円筒コーンにスラリーを充填し、引
き抜き後の拡がり（mm）を測定した。
き抜き後の拡がり（mm）を測定した。
【００５５】・泡沫の安定性 泡沫の安定性（％）は一定容積当たりの石膏スラリーの
重量を計量して各材料の比重から次式より求めた。
重量を計量して各材料の比重から次式より求めた。
【００５６】
【数１】
【００５７】実施例の結果を表１に示す。
【００５８】
【表１】
【００５９】
【発明の効果】表１の結果から明らかなように、本発明
の石膏・水スラリー用分散剤は泡沫の安定性に優れた効
果を示す。従って、紙（ボード）との接着性の改善が期
待される。また流動性にも優れることから減水効果によ
る生産性の向上が可能となる。
の石膏・水スラリー用分散剤は泡沫の安定性に優れた効
果を示す。従って、紙（ボード）との接着性の改善が期
待される。また流動性にも優れることから減水効果によ
る生産性の向上が可能となる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｌ 71/00 Ｃ０８Ｌ 71/00 (56)参考文献 特開 平６−340459（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−127997（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−319884（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−178648（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−85788（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−58692（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−257053（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−65756（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−164046（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−109054（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−91898（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−26800（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−12401（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−109158（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C04B 24/30
Claims (12)
- 【請求項１】 炭素数２〜３のオキシアルキレン基１〜
300 モルを導入した芳香族化合物の中から選ばれる１種
又は２種以上(A) とカルボキシル基を有する芳香族化合
物の中から選ばれる１種又は２種以上(B) とのホルムア
ルデヒド共縮合物又はその中和塩を必須成分とする石膏
・水スラリー用分散剤。 - 【請求項２】 炭素数２〜３のオキシアルキレン基１〜
300 モルを導入した芳香族化合物の中から選ばれる１種
又は２種以上(A) とカルボキシル基を有する芳香族化合
物の中から選ばれる１種又は２種以上(B) 及びスルホン
酸基を有する芳香族化合物の中から選ばれる１種又は２
種以上(C) とのホルムアルデヒド共縮合物又はその中和
塩を必須成分とする石膏・水スラリー用分散剤。 - 【請求項３】 (A) 、(B) の反応モル比が (A)／(B)＝
１〜99／99〜１である請求項１記載の石膏・水スラリー
用分散剤。 - 【請求項４】 (A) 、(B) 、(C) の反応モル比が (A)／
(B)／(C) ＝１〜98／１〜98／１〜98である請求項２記
載の石膏・水スラリー用分散剤。 - 【請求項５】 炭素数２〜３のオキシアルキレン基１〜
300 モルを導入した芳香族化合物がベンゼン環誘導体で
ある請求項１〜４の何れか１項に記載の石膏・水スラリ
ー用分散剤。 - 【請求項６】 ベンゼン環誘導体がフェノールのオキシ
アルキレン基付加物である請求項５記載の石膏・水スラ
リー用分散剤。 - 【請求項７】 カルボキシル基を有する芳香族化合物が
ナフタレン環又はベンゼン環誘導体である請求項１〜６
の何れか１項に記載の石膏・水スラリー用分散剤。 - 【請求項８】 ベンゼン環誘導体が下記の一般式(a) で
表される化合物である請求項７記載の石膏・水スラリー
用分散剤。 【化１】 - 【請求項９】 スルホン酸基を有する芳香族化合物がフ
ェノール誘導体である請求項１〜８の何れか１項に記載
の石膏・水スラリー用分散剤。 - 【請求項１０】 フェノール誘導体がフェノールスルホ
ン酸である請求項９記載の石膏・水スラリー用分散剤。 - 【請求項１１】 共縮合物の中和塩が、１価金属塩、２
価金属塩、アンモニウム塩、アミン塩又は置換アミン塩
である請求項１〜10の何れか１項に記載の石膏・水スラ
リー用分散剤。 - 【請求項１２】 共縮合物又はその中和塩の重量平均分
子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフ法／ポリス
チレンスルホン酸ナトリウム換算）が3,000〜100,000
である請求項１〜11の何れか１項に記載の石膏・水スラ
リー用分散剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03077895A JP3260052B2 (ja) | 1995-02-20 | 1995-02-20 | 石膏・水スラリー用分散剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03077895A JP3260052B2 (ja) | 1995-02-20 | 1995-02-20 | 石膏・水スラリー用分散剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08217507A JPH08217507A (ja) | 1996-08-27 |
| JP3260052B2 true JP3260052B2 (ja) | 2002-02-25 |
Family
ID=12313148
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03077895A Expired - Fee Related JP3260052B2 (ja) | 1995-02-20 | 1995-02-20 | 石膏・水スラリー用分散剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3260052B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3184728B2 (ja) * | 1995-02-20 | 2001-07-09 | 花王株式会社 | 石膏・水スラリー用分散剤 |
| US6527850B2 (en) | 2001-04-11 | 2003-03-04 | Arco Chemical Technology L.P. | Use of comb-branched copolymers in gypsum compositions |
| US6869988B2 (en) | 2003-04-16 | 2005-03-22 | Arco Chemical Technology, L.P. | Solid supported comb-branched copolymers as an additive for gypsum compositions |
| DE102004050395A1 (de) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Construction Research & Technology Gmbh | Polykondensationsprodukt auf Basis von aromatischen oder heteroaromatischen Verbindungen, Verfahren zu seiner Herstellung und dessen Verwendung |
| JP6567839B2 (ja) * | 2014-03-26 | 2019-08-28 | 株式会社日本触媒 | リグニン誘導体 |
| JP6814063B2 (ja) * | 2017-02-08 | 2021-01-13 | 東邦化学工業株式会社 | 重縮合生成物及びそれを含有する水硬性組成物用分散剤 |
-
1995
- 1995-02-20 JP JP03077895A patent/JP3260052B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08217507A (ja) | 1996-08-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN109206609A (zh) | 一种超支化型聚醚类引气剂的制备及应用 | |
| JP3260052B2 (ja) | 石膏・水スラリー用分散剤 | |
| EP0780348B1 (en) | Cement dispersant | |
| JP3188245B2 (ja) | 界面活性剤組成物 | |
| US5651817A (en) | Cement dispersant | |
| JP3306983B2 (ja) | セメント用添加剤 | |
| JP2999371B2 (ja) | セメント分散剤 | |
| US5233012A (en) | Production of novel condensates comprising bisphenols and aromatic aminosulfonic acids, condensates and dispersant, additive and water-reducing agent based thereon | |
| US5153299A (en) | Production of novel condensates comprising bisphenols and aromatic aminosulfonic acids, condensates and dispersant, additive and water-reducing agent based thereon | |
| JP3293294B2 (ja) | セメント用添加剤 | |
| JP3618795B2 (ja) | コンクリート製品用混和剤組成物 | |
| JP3387080B2 (ja) | セメント分散剤及びその製造方法 | |
| JPH06340459A (ja) | セメント分散剤 | |
| JP2994952B2 (ja) | コンクリート用気泡連行剤 | |
| JP3203269B2 (ja) | 空気連行剤 | |
| US3870681A (en) | Mofiefied sulfonated resin surfactants | |
| JP2002187756A (ja) | コンクリートの流動性調整方法 | |
| JPH0578157A (ja) | セメント分散剤の製造法 | |
| JPH10194809A (ja) | コンクリート混和剤 | |
| JPH08134477A (ja) | 石炭粉末の水スラリー用分散安定剤 | |
| WO2019116425A1 (ja) | 水硬性組成物 | |
| JP3618794B2 (ja) | 自己充填性コンクリート混和剤 | |
| JP3067811B2 (ja) | 石膏スラリー用減水剤 | |
| KR20040009222A (ko) | 시멘트 및 콘크리트용 혼화제(분산제) | |
| KR100524383B1 (ko) | 시멘트 및 콘크리트 혼화제(분산제) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071214 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081214 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081214 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091214 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091214 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101214 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101214 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111214 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111214 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121214 Year of fee payment: 11 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |