JP3255848B2 - 液晶表示素子およびその製造方法 - Google Patents

液晶表示素子およびその製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、製造過程で各透明
電極の静電破壊が防止できるとともにパターンチェッカ
ーによる品質検査が行えるようにした液晶表示素子と、
その製造方法とに関する。
【0002】
【従来の技術】液晶表示素子のセル基板は一般に、透明
電極群や配向膜等を設けたガラス大基板をカッティング
することにより、複数個が一括して分割形成されるが、
配向処理工程のラビング時などに多量の静電気が透明電
極に蓄積されると、隣り合う透明電極どうしの間で放電
が起こり、アーク熱による透明電極や配向膜の損傷で表
示不良を招来しやすい。そのためセル基板を製造する際
には、ガラス大基板上のセル基板形成領域外に予め、リ
ードパターン群を介して透明電極群と導通される同電位
パターンを設け、透明電極に蓄積された静電気を該同電
位パターンへ逃がすようにした静電破壊防止対策が広く
採用されている。
【0003】しかし、このような同電位パターンが透明
電極群と完全に導通されていると、ガラス大基板上にお
いて各透明電極が電気的に独立しなくなるので、カッテ
ィング工程の前に、各透明電極にパターンチェッカーを
接触させて短絡や断線等がないことを確認するという品
質検査が行えなくなってしまう。
【0004】そこで従来、図3に示すように、ガラス大
基板1上において、各セル基板に対応する透明電極2群
から導出されて端子部となり、且つセル基板形成領域S
の外側へ延設されて同電位パターン4に連結されている
リードパターン3群に対し、各リードパターン3の前記
延設部分に、静電気を放電させるための数ミクロンの微
小間隙3aを設けるという技術が知られている。すなわ
ち、アレスタとも称されるかかる微小間隙3aが設けて
あると、製造過程で透明電極2に蓄積された静電気を該
微小間隙3aで放電させることができるので、隣り合う
透明電極2どうしの間では放電が起こりにくくなり、ま
た、該微小間隙3aを設けると各透明電極2が電気的に
互いに独立するので、パターンチェッカーによる品質検
査をガラス大基板1のカッティング工程前に行うことが
できて都合がよい。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たようにリードパターン3に微小間隙3aを設けるとな
ると、必然的に、各セル基板形成領域Sの外側にリード
パターン3群を延設して同電位パターン4に連結させる
とともに、この延設部分に微小間隙3aを形成しなけれ
ばならないので、ガラス大基板1上において異なるセル
基板形成領域Sどうしの間には、図3に示すように所定
のスペースを確保する必要がある。それゆえかかる従来
技術は、ガラス大基板1上に数多くのセル基板形成領域
Sを高密度にレイアウトすることができず、一枚のガラ
ス大基板1から分割形成されるセル基板の取り個数が少
ないという不具合があり、これが生産性の向上やコスト
ダウンを妨げる要因となっていた。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、リードパター
ンとは別に各透明電極から引出しパターンを導出させ
て、この引出しパターンのうちセル基板内で有効表示領
域外に位置する個所に、静電気を放電させるための微小
間隙を設けることにより、製造段階でガラス大基板上に
複数のセル基板形成領域を高密度にレイアウトさせて
も、静電破壊の防止やパターンチェッカーによる品質検
査が支障なく行えるようにし、もって一枚のガラス大基
板から数多くのセル基板が分割形成できるようにした。
【0007】
【発明の実施の形態】本発明の液晶表示素子では、ガラ
ス大基板を分割して形成されるセル基板上に、互いに平
行に延びる透明電極群と、各透明電極の一端から導出さ
れて端子部となるリードパターン群とが設けてある液晶
表示素子において、前記セル基板上に、各透明電極の他
端から導出された引出しパターン群が設けてあるととも
に、この引出しパターンのうち有効表示領域外に位置す
る個所に、製造過程で前記透明電極に蓄積される静電気
を放電させるための微小間隙が設けてある。ここで、前
記微小間隙は、隣り合う前記透明電極どうしの間隙より
も狭い数ミクロンの間隙に設定しておくことが好まし
い。また、この微小間隙上には、液晶を封止するための
シール剤を積層しておくことが好ましい。
【0008】このように構成される液晶表示素子は、そ
のセル基板が分割形成可能なガラス大基板上において、
隣り合う一方のセル基板形成領域内のリードパターン群
と他方のセル基板形成領域内の引出しパターン群とを連
結させるなどして、異なるセル基板形成領域どうしを隣
接させるという高密度なレイアウトを採用したとして
も、各セル基板形成領域内の引出しパターンに微小間隙
が設けてあるため、静電破壊の防止やパターンチェッカ
ーによる品質検査が支障なく行える。そして、製造過程
で該微小間隙において静電気の放電が起こっても、アー
ク熱の損傷を受けるのは有効表示領域外に位置する引出
しパターンなので、表示品位には何ら悪影響を及ぼさな
い。
【0009】また、本発明による液晶表示素子の製造方
法では、複数のセル基板が分割形成可能なガラス大基板
上に、異なる前記セル基板の形成領域どうしを隣接させ
た状態で、各セル基板の形成領域内に位置して互いに平
行に延びる透明電極群と、各透明電極の一端から導出さ
れて端子部となるリードパターン群と、各透明電極の他
端から導出された引出しパターン群と、前記セル基板の
形成領域外に位置して前記リードパターン群もしくは前
記引出しパターン群を介して各透明電極と導通された同
電位パターンとを設け、このとき前記セル基板の形成領
域どうしが隣接する個所においては一方の領域内の前記
リードパターン群と他方の領域内の前記引出しパターン
群とを連結させておき、次いで、前記引出しパターンの
うちセル基板形成領域内で有効表示領域外に位置する個
所に、製造過程で前記透明電極に蓄積される静電気を放
電させるための微小間隙を設け、しかる後、前記ガラス
大基板をカッティングして複数のセル基板を分割形成す
るようにした。
【0010】このように、ガラス大基板上において異な
るセル基板形成領域どうしを隣接させて、複数のセル基
板形成領域を高密度にレイアウトすれば、一枚のガラス
大基板から数多くのセル基板が分割形成できるので、生
産性の向上やコストダウンが図れる。
【0011】
【実施例】実施例について図面を参照して説明すると、
図1は本実施例に係る液晶表示素子のセル基板のカッテ
ィング工程前のレイアウトを示す平面図、図2は該液晶
表示素子の完成品の概略断面図であり、従来技術の説明
に用いた図3と対応する部分には同一符号が付してあ
る。
【0012】図2に示す液晶表示素子5は、透明電極
(コモン電極)2や配向膜6等を設けたセル基板7と、
透明電極(セグメント電極)8や配向膜9等を設けたセ
ル基板10とを、互いの電極形成面を対向させた状態
で、枠状に塗布形成したシール剤11を介して積層した
後、両セル基板7,10に挟まれてシール剤11に包囲
された空間に、液晶12を封入して概略構成されてい
る。
【0013】かかる液晶表示素子5のセル基板7,10
はいずれも、周知の如く、透明電極ゃ配向膜を設けて配
向処理を施したガラス大基板をカッティングすることに
よって分割形成されるが、本実施例ではガラス大基板上
に各セル基板の形成領域を高密度にレイアウトすること
により、一枚のガラス大基板から数多くのセル基板が分
割形成できるようになっている。
【0014】例えば、一方のセル基板7は、次のような
手順で多数個が一括して分割形成される。すなわち、図
1に示すように、まずガラス大基板1上に、異なるセル
基板7の形成領域Sどうしを隣接させた状態で、各セル
基板7の形成領域S内に位置して互いに平行に延びる透
明電極2群と、各透明電極2の一端から導出されて端子
部となるリードパターン3群と、各透明電極2の他端か
ら導出された引出しパターン13群と、セル基板形成領
域Sの外側に位置してリードパターン3群や引出しパタ
ーン13群を介して各透明電極2と導通された同電位パ
ターン4とを設ける。このとき、セル基板形成領域Sど
うしが隣接する個所においては、一方の領域S内のリー
ドパターン3群と他方の領域S内の引出しパターン13
群とを連結させておく。この後、各引出しパターン13
のうち、セル基板形成領域S内で外縁(カッティングラ
イン)に近く前記シール剤11の塗布領域と重なる個
所、具体的にはセル基板形成領域Sの外縁から内側へ
0.9mm離れた個所に、製造過程で透明電極2に蓄積
される静電気を放電させるための微小間隙13aを設け
る。
【0015】また、複数のセル基板形成領域Sを連続さ
せて列状にレイアウトする場合、図1に示すように、そ
の列の一方の端に位置するセル基板形成領域Sからリー
ドパターン3を延ばして同電位パターン4に連結させる
というレイアウトが好ましいので、この同電位パターン
4と連結されるリードパターン3の延設部分には、従来
技術と同様の微小間隙3aを設ける。
【0016】なお、図1はこれらの微小間隙13aや微
小間隙3aを形成した後の状態を示しているので、各透
明電極2は電気的に互いに独立しており、同電位パター
ンとの導通も解除されている。また、これらの微小間隙
13aや微小間隙3aはいずれも、隣り合う透明電極2
どうしの間隙よりも狭い6ミクロンの間隙に設定してあ
る。
【0017】こうして各引出しパターン13の所定個所
に微小間隙13aを設けると、本実施例のようにガラス
大基板1上に複数のセル基板形成領域Sを連続的に設け
るという面積効率のよいレイアウト、換言するなら異な
るセル基板形成領域Sどうしを隣接させるという高密度
なレイアウトが採用してあっても、ラビング配向処理な
どで透明電極2に蓄積された静電気を該微小間隙13a
にて放電させることができるので、透明電極2の静電破
壊が防止できる。また、かかる微小間隙13aを設ける
ことで、ガラス大基板1上において各透明電極2を電気
的に独立させることができるので、カッティング工程前
に、パターンチェッカーを接触させて短絡や断線等がな
いことを確認するという品質検査が支障なく行える。
【0018】そして、各透明電極2の品質検査等が終了
したなら、ガラス大基板1を所定のラインに沿ってカッ
ティングしてセル基板7を分割形成するが、上述したよ
うにガラス大基板1上には複数のセル基板形成領域Sが
高密度にレイアウトされているので、本実施例は一枚の
ガラス大基板1から数多くのセル基板7が一括して分割
形成できるようになっており、その結果、液晶表示素子
5の生産性が向上してコストダウンが図れるようになっ
ている。
【0019】なお、かかる製造過程で微小間隙13aに
おいて静電気の放電が起こると、その近傍で引出しパタ
ーン13がアーク熱による損傷を受けるが、このような
損傷が予想される個所はシール剤11が積層される微小
間隙13aの近傍であって、そこはセル基板7の有効表
示領域外なので、静電気の放電が起こっても表示品位に
は何ら悪影響を及ぼさない。
【0020】また、上述した実施例では液晶表示素子5
の一方のセル基板7の製造方法についてのみ説明してい
るが、他方のセル基板10も同様の手順で効率よく安価
に製造できることは言うまでもない。
【0021】
【発明の効果】本発明は以上説明したような形態で実施
され、以下に記載されるような効果を奏する。
【0022】ガラス大基板上で異なるセル基板形成領域
どうしを隣接させるという高密度なレイアウトを採用し
たとしても、各セル基板形成領域内の引出しパターンに
微小間隙が設けてあるため、静電破壊の防止やパターン
チェッカーによる品質検査が支障なく行える。また、製
造過程で該微小間隙において静電気の放電が起こって
も、アーク熱の損傷を受けるのは有効表示領域外に位置
する引出しパターンなので、表示品位には何ら悪影響を
及ぼさない。
【0023】そして、このようにガラス大基板上に複数
のセル基板形成領域を高密度にレイアウトさせることが
できれば、一枚のガラス大基板から数多くのセル基板が
分割形成できるので、生産性の向上やコストダウンが図
れる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例に係る液晶表示素子のセル基板のカッテ
ィング工程前のレイアウトを示す平面図である。
【図2】該液晶表示素子の完成品の概略断面図である。
【図3】従来例に係る液晶表示素子のセル基板のカッテ
ィング工程前のレイアウトを示す平面図である。
【符号の説明】
1 ガラス大基板 2,8 透明電極 3 リードパターン 4 同電位パターン 5 液晶表示素子 7,10 セル基板 11 シール剤 12 液晶 13 引出しパターン 13a 微小間隙 S セル基板形成領域
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平3−59512(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1333 500 G02F 1/13 101

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ガラス大基板を分割して形成されるセル
    基板上に、互いに平行に延びる透明電極群と、各透明電
    極の一端から導出されて端子部となるリードパターン群
    とが設けてある液晶表示素子であって、前記セル基板上
    に、各透明電極の他端から導出された引出しパターン群
    が設けてあるとともに、この引出しパターンのうち有効
    表示領域外に位置する個所に、製造過程で前記透明電極
    に蓄積される静電気を放電させるための微小間隙が設け
    てあることを特徴とする液晶表示素子。
  2. 【請求項2】 請求項1の記載において、前記微小間隙
    が、隣り合う前記透明電極どうしの間隙よりも狭くして
    あることを特徴とする液晶表示素子。
  3. 【請求項3】 請求項1または2の記載において、前記
    微小間隙上に、液晶を封止するためのシール剤が積層し
    てあることを特徴とする液晶表示素子。
  4. 【請求項4】 複数のセル基板が分割形成可能なガラス
    大基板上に、異なる前記セル基板の形成領域どうしを隣
    接させた状態で、各セル基板の形成領域内に位置して互
    いに平行に延びる透明電極群と、各透明電極の一端から
    導出されて端子部となるリードパターン群と、各透明電
    極の他端から導出された引出しパターン群と、前記セル
    基板の形成領域外に位置して前記リードパターン群もし
    くは前記引出しパターン群を介して各透明電極と導通さ
    れた同電位パターンとを設け、このとき前記セル基板の
    形成領域どうしが隣接する個所においては一方の領域内
    の前記リードパターン群と他方の領域内の前記引出しパ
    ターン群とを連結させておき、次いで、前記引出しパタ
    ーンのうちセル基板形成領域内で有効表示領域外に位置
    する個所に、製造過程で前記透明電極に蓄積される静電
    気を放電させるための微小間隙を設け、しかる後、前記
    ガラス大基板をカッティングして複数のセル基板を分割
    形成するようにしたことを特徴とする液晶表示素子の製
    造方法。
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