JP3254527B2 - スラッシュ水素の製造方法及び装置 - Google Patents
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- F25J2280/40—Control of freezing of components
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、スラッシュ水素の製造
方法及び装置に関し、詳しくは、液体ヘリウムを使用し
てスラッシュ水素、即ち固体水素と液体水素の混合物を
実験室規模で製造するのに適したスラッシュ水素の製造
方法及び装置に関する。
方法及び装置に関し、詳しくは、液体ヘリウムを使用し
てスラッシュ水素、即ち固体水素と液体水素の混合物を
実験室規模で製造するのに適したスラッシュ水素の製造
方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】固体水素と液体水素の混合物であるスラ
ッシュ水素は、液体水素に比べて密度や比熱が大きいな
どの利点を有しているため、ロケット等の燃料として注
目されているが、特に近年の水平離着陸型単段式宇宙往
還機(NASP:National AerospacePlane)の研究に関連し
て、このスラッシュ水素の研究が盛んになってきた。
ッシュ水素は、液体水素に比べて密度や比熱が大きいな
どの利点を有しているため、ロケット等の燃料として注
目されているが、特に近年の水平離着陸型単段式宇宙往
還機(NASP:National AerospacePlane)の研究に関連し
て、このスラッシュ水素の研究が盛んになってきた。
【０００３】このスラッシュ水素は、液体水素に比べて
密度や熱容量の面で優れており、固体水素に比べて流動
性を有することで取扱い性も優れているが、ロケットの
燃料等としては、固体水素が５０重量％程度のものが最
適であるとされている。
密度や熱容量の面で優れており、固体水素に比べて流動
性を有することで取扱い性も優れているが、ロケットの
燃料等としては、固体水素が５０重量％程度のものが最
適であるとされている。
【０００４】このようなスラッシュ水素を製造する手段
として、液体水素を低温容器（クライオスタット）に貯
液し、容器内を真空ポンプで排気することにより、液体
水素を３重点（約１３．８Ｋ，約０．０６９５ａｔｍ）
まで冷却し、この状態で圧力を少し変化させて液体水素
の表面に固体水素を形成し、この固体水素を砕いてスラ
ッシュ化させる方法（フリーズ・ソー法）が知られてい
るが、バッチプロセスであり、連続的にスラッシュ水素
を製造することができなかった。
として、液体水素を低温容器（クライオスタット）に貯
液し、容器内を真空ポンプで排気することにより、液体
水素を３重点（約１３．８Ｋ，約０．０６９５ａｔｍ）
まで冷却し、この状態で圧力を少し変化させて液体水素
の表面に固体水素を形成し、この固体水素を砕いてスラ
ッシュ化させる方法（フリーズ・ソー法）が知られてい
るが、バッチプロセスであり、連続的にスラッシュ水素
を製造することができなかった。
【０００５】そのため、液体水素中に設置した冷却面
を、液体ヘリウムや低温ヘリウムガスで冷却し、冷却面
上に固体水素を析出凍結させてこれを掻き落とす方法
（オーガ法）が研究されている。
を、液体ヘリウムや低温ヘリウムガスで冷却し、冷却面
上に固体水素を析出凍結させてこれを掻き落とす方法
（オーガ法）が研究されている。
【０００６】オーガ法を実施する装置は、図２に示すよ
うに、液体水素を貯留する低温容器１と、この低温容器
１内に設置された円筒状の冷却面２を冷却するための液
体ヘリウムを供給する系統３と、冷却面２の表面に生成
した固体水素を掻き落とすオーガ４とにより構成されて
おり、液体ヘリウム供給系統３には、冷媒である液体ヘ
リウムを貯留する液体ヘリウム貯槽５，液体ヘリウムを
送り出すためのヘリウムガスを貯槽５内に供給するヘリ
ウムガスボンベ６，冷却面２を冷却した後のヘリウムを
加温する加温器７及び液体ヘリウム供給用の断熱配管
（トランスファーチューブ）８や液体ヘリウム供給弁９
等が設けられている。
うに、液体水素を貯留する低温容器１と、この低温容器
１内に設置された円筒状の冷却面２を冷却するための液
体ヘリウムを供給する系統３と、冷却面２の表面に生成
した固体水素を掻き落とすオーガ４とにより構成されて
おり、液体ヘリウム供給系統３には、冷媒である液体ヘ
リウムを貯留する液体ヘリウム貯槽５，液体ヘリウムを
送り出すためのヘリウムガスを貯槽５内に供給するヘリ
ウムガスボンベ６，冷却面２を冷却した後のヘリウムを
加温する加温器７及び液体ヘリウム供給用の断熱配管
（トランスファーチューブ）８や液体ヘリウム供給弁９
等が設けられている。
【０００７】このような構成の装置でスラッシュ水素を
製造する際には、冷却面２に液体ヘリウムを供給して冷
却面２を３重点温度以下に冷却するとともにオーガ４を
回転させ、冷却面上に生成した固体水素をオーガ４のス
クリュー状の刃で隔離して低温容器１の底部に掻き落と
すようにする。
製造する際には、冷却面２に液体ヘリウムを供給して冷
却面２を３重点温度以下に冷却するとともにオーガ４を
回転させ、冷却面上に生成した固体水素をオーガ４のス
クリュー状の刃で隔離して低温容器１の底部に掻き落と
すようにする。
【０００８】上記方法において、液体水素や液体ヘリウ
ムを連続的に補給するとともに、低温容器１の底部から
掻き落とされた固体水素と液体水素とを連続的に抜き出
すことにより、連続してスラッシュ水素を製造すること
ができる。
ムを連続的に補給するとともに、低温容器１の底部から
掻き落とされた固体水素と液体水素とを連続的に抜き出
すことにより、連続してスラッシュ水素を製造すること
ができる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】上記構成の装置を用い
たオーガ法においても、スラッシュ水素の製造は、現段
階では３重点下の液体水素が対象であり、スラッシュ水
素製造中だけでなく、製造開始時に、大気圧状態で静定
している液体水素を、固体水素が生成する３重点まで冷
却（予冷）するためにも、液体ヘリウムや低温ヘリウム
ガスを用いている。このため、特に実験用の小型装置で
は、上記液体水素を予冷するために消費される低温ヘリ
ウム量が、スラッシュ水素製造過程で消費される量に比
べて無視できない量になっている。
たオーガ法においても、スラッシュ水素の製造は、現段
階では３重点下の液体水素が対象であり、スラッシュ水
素製造中だけでなく、製造開始時に、大気圧状態で静定
している液体水素を、固体水素が生成する３重点まで冷
却（予冷）するためにも、液体ヘリウムや低温ヘリウム
ガスを用いている。このため、特に実験用の小型装置で
は、上記液体水素を予冷するために消費される低温ヘリ
ウム量が、スラッシュ水素製造過程で消費される量に比
べて無視できない量になっている。
【００１０】そこで本発明は、上記液体水素を３重点ま
で予冷するための低温ヘリウム、即ち液体ヘリウムや低
温ヘリウムガスを低減乃至削減でき、冷媒となる液体ヘ
リウム等の使用量を低減できるスラッシュ水素の製造方
法及び装置を提供することを目的としている。
で予冷するための低温ヘリウム、即ち液体ヘリウムや低
温ヘリウムガスを低減乃至削減でき、冷媒となる液体ヘ
リウム等の使用量を低減できるスラッシュ水素の製造方
法及び装置を提供することを目的としている。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ため、本発明のスラッシュ水素の製造方法は、低温容器
内の液体水素を、低温ヘリウムにより冷却される冷却面
上に析出凍結させ、該凍結した固体水素を掻き落とし、
剥離してスラッシュ水素を製造する方法において、液体
水素を貯液した低温容器内を減圧して液体水素を蒸発さ
せ、蒸発潜熱により液体水素の温度を固体水素が発生す
る３重点温度まで冷却した後、冷却面に低温ヘリウムを
供給することを特徴とするもので、さらに、前記低温容
器内の減圧中に、前記冷却面に低温ヘリウムを供給する
系統にヘリウムガスを供給して与圧すること、前記低温
容器内の減圧は、前記冷却面及び該冷却面に低温ヘリウ
ムを供給する系統が、低温ヘリウムにより前記３重点温
度付近に冷却されるまで継続することを特徴としてい
る。
ため、本発明のスラッシュ水素の製造方法は、低温容器
内の液体水素を、低温ヘリウムにより冷却される冷却面
上に析出凍結させ、該凍結した固体水素を掻き落とし、
剥離してスラッシュ水素を製造する方法において、液体
水素を貯液した低温容器内を減圧して液体水素を蒸発さ
せ、蒸発潜熱により液体水素の温度を固体水素が発生す
る３重点温度まで冷却した後、冷却面に低温ヘリウムを
供給することを特徴とするもので、さらに、前記低温容
器内の減圧中に、前記冷却面に低温ヘリウムを供給する
系統にヘリウムガスを供給して与圧すること、前記低温
容器内の減圧は、前記冷却面及び該冷却面に低温ヘリウ
ムを供給する系統が、低温ヘリウムにより前記３重点温
度付近に冷却されるまで継続することを特徴としてい
る。
【００１２】また、本発明のスラッシュ水素の装置は、
液体水素を貯液した低温容器に、該容器内を減圧する真
空ポンプを付設したことを特徴をとし、さらに前記冷却
面に低温ヘリウムを供給する系統に、該系統内を与圧す
るためのヘリウムガスを供給する系統を付設したことを
特徴としている。
液体水素を貯液した低温容器に、該容器内を減圧する真
空ポンプを付設したことを特徴をとし、さらに前記冷却
面に低温ヘリウムを供給する系統に、該系統内を与圧す
るためのヘリウムガスを供給する系統を付設したことを
特徴としている。
【００１３】
【作 用】上記構成によれば、低温容器内を真空ポンプ
で減圧すると、容器内の液体水素が蒸発し、蒸発潜熱に
より液体水素が冷却される。したがって、冷却面に低温
ヘリウムを供給することなく液体水素を３重点まで予冷
することができる。
で減圧すると、容器内の液体水素が蒸発し、蒸発潜熱に
より液体水素が冷却される。したがって、冷却面に低温
ヘリウムを供給することなく液体水素を３重点まで予冷
することができる。
【００１４】また、上記液体水素を予冷する際に、冷却
面に低温ヘリウムを供給する系統にヘリウムガスを供給
して与圧することにより、この系統が液体水素の予冷と
ともに冷却されて負圧となり、空気が逆流することを防
止できる。
面に低温ヘリウムを供給する系統にヘリウムガスを供給
して与圧することにより、この系統が液体水素の予冷と
ともに冷却されて負圧となり、空気が逆流することを防
止できる。
【００１５】さらに、予冷終了後、冷却面が低温ヘリウ
ムにより所定温度に冷却されるまで低温容器内の減圧を
継続することにより、低温ヘリウム供給開始時に比較的
温度が高いヘリウムが供給されて低温容器内の圧力が上
昇することを防止できる。
ムにより所定温度に冷却されるまで低温容器内の減圧を
継続することにより、低温ヘリウム供給開始時に比較的
温度が高いヘリウムが供給されて低温容器内の圧力が上
昇することを防止できる。
【００１６】
【実施例】以下、本発明を、図面に示す一実施例に基づ
いて、さらに詳細に説明する。なお、前記図２に示した
従来例と同一要素のものには同一符号を付して、その詳
細な説明は省略する。
いて、さらに詳細に説明する。なお、前記図２に示した
従来例と同一要素のものには同一符号を付して、その詳
細な説明は省略する。
【００１７】本実施例に示すスラッシュ水素の製造装置
は、前記図２に示した従来装置と同様に、前記オーガ法
によりスラッシュ水素を製造するものであって、基本的
構成は略同一である。
は、前記図２に示した従来装置と同様に、前記オーガ法
によりスラッシュ水素を製造するものであって、基本的
構成は略同一である。
【００１８】即ち、液体水素を貯留する低温容器１，低
温容器１内に設置された冷却面２、冷却面２に液体ヘリ
ウムを供給する液体ヘリウム供給系統３，冷却面２の表
面に生成した固体水素を剥離・掻き落とすオーガ４，液
体ヘリウムを貯留する液体ヘリウム貯槽５，液体ヘリウ
ム送出用のヘリウムガスを液体ヘリウム貯槽５に供給す
るヘリウムガスボンベ６等を有するものであり、本実施
例装置では、これに加えて、低温容器１内を減圧するた
めの真空ポンプ１１及び該真空排気系統に設けた加温器
７ａと弁１１ａ、そして圧力監視用の圧力計１２と、液
体ヘリウム供給系統３にヘリウムガスを供給する与圧系
統１３とを設けるとともに、液体ヘリウム供給系統３の
出口に排出弁１４を付設している。
温容器１内に設置された冷却面２、冷却面２に液体ヘリ
ウムを供給する液体ヘリウム供給系統３，冷却面２の表
面に生成した固体水素を剥離・掻き落とすオーガ４，液
体ヘリウムを貯留する液体ヘリウム貯槽５，液体ヘリウ
ム送出用のヘリウムガスを液体ヘリウム貯槽５に供給す
るヘリウムガスボンベ６等を有するものであり、本実施
例装置では、これに加えて、低温容器１内を減圧するた
めの真空ポンプ１１及び該真空排気系統に設けた加温器
７ａと弁１１ａ、そして圧力監視用の圧力計１２と、液
体ヘリウム供給系統３にヘリウムガスを供給する与圧系
統１３とを設けるとともに、液体ヘリウム供給系統３の
出口に排出弁１４を付設している。
【００１９】上記与圧系統１３に供給されるヘリウムガ
スは、前記液体ヘリウム貯槽５内の液体ヘリウムを冷却
面２に送り出すためのヘリウムガスと同じヘリウムガス
ボンベ６から得ており、保圧弁１５により液体ヘリウム
供給系統３内を一定圧力以上に保つようにしている。
スは、前記液体ヘリウム貯槽５内の液体ヘリウムを冷却
面２に送り出すためのヘリウムガスと同じヘリウムガス
ボンベ６から得ており、保圧弁１５により液体ヘリウム
供給系統３内を一定圧力以上に保つようにしている。
【００２０】なお、液体ヘリウム供給系統３において、
与圧が必要な部分は、予冷される液体水素により冷却さ
れる部分、即ち低温容器１内の配管部分であって、例え
ば図に示すように、液体ヘリウム供給弁９から排出弁１
４までの間を与圧すれば良い。また、排出弁１４は、加
温器７の入口側に設けてもよい。
与圧が必要な部分は、予冷される液体水素により冷却さ
れる部分、即ち低温容器１内の配管部分であって、例え
ば図に示すように、液体ヘリウム供給弁９から排出弁１
４までの間を与圧すれば良い。また、排出弁１４は、加
温器７の入口側に設けてもよい。
【００２１】上記構成のスラッシュ水素製造装置を用い
てスラッシュ水素の製造を開始する際には、まず、各部
品をセットし、常法によりヘリウムガスボンベ６からの
ヘリウムガスでガス置換を行った後、低温容器１内に液
体水素を入れ、真空ポンプ１１を作動させて低温容器１
内を減圧する。
てスラッシュ水素の製造を開始する際には、まず、各部
品をセットし、常法によりヘリウムガスボンベ６からの
ヘリウムガスでガス置換を行った後、低温容器１内に液
体水素を入れ、真空ポンプ１１を作動させて低温容器１
内を減圧する。
【００２２】このとき、液体ヘリウム供給系統３には液
体ヘリウムを供給せずに、前記与圧系統１３からヘリウ
ムガスを供給して液体ヘリウム供給系統３内を与圧し、
該系統３内が負圧になって空気が流入することを防止す
る。即ち、真空ポンプ１１による減圧操作によって、液
体水素を降温している最中は、排出弁１４を閉じ、保圧
弁１５を開として液体ヘリウム供給系統３内を与圧し、
空気の流入を防ぐ。
体ヘリウムを供給せずに、前記与圧系統１３からヘリウ
ムガスを供給して液体ヘリウム供給系統３内を与圧し、
該系統３内が負圧になって空気が流入することを防止す
る。即ち、真空ポンプ１１による減圧操作によって、液
体水素を降温している最中は、排出弁１４を閉じ、保圧
弁１５を開として液体ヘリウム供給系統３内を与圧し、
空気の流入を防ぐ。
【００２３】真空ポンプ１１による減圧で液体水素の一
部が蒸発し、蒸発潜熱により液体水素が３重点付近まで
冷却されたら、ヘリウムガスボンベ６の出口弁６ａ，液
体ヘリウム供給弁９及び排出弁１４を開いて冷却面２へ
の液体ヘリウムの供給を開始する。
部が蒸発し、蒸発潜熱により液体水素が３重点付近まで
冷却されたら、ヘリウムガスボンベ６の出口弁６ａ，液
体ヘリウム供給弁９及び排出弁１４を開いて冷却面２へ
の液体ヘリウムの供給を開始する。
【００２４】この液体ヘリウム供給開始時には、トラン
スファーチューブ８内等からの暖かいヘリウムガスが、
低温容器１内の液体ヘリウム供給系統３や冷却面２に流
れてこれらが加温され、低温容器１内の圧力が上がるこ
とがあるので、液体ヘリウム供給系統３や冷却面２が液
体ヘリウムにより十分に冷却されるまで真空ポンプ１１
の運転を継続することが好ましい。
スファーチューブ８内等からの暖かいヘリウムガスが、
低温容器１内の液体ヘリウム供給系統３や冷却面２に流
れてこれらが加温され、低温容器１内の圧力が上がるこ
とがあるので、液体ヘリウム供給系統３や冷却面２が液
体ヘリウムにより十分に冷却されるまで真空ポンプ１１
の運転を継続することが好ましい。
【００２５】上記のようにして各部が所定の温度，圧力
になると、液体水素内の冷却面２の表面に固体水素が生
成するので、オーガ４を回転させてこれを掻き落とすこ
とにより、低温容器１の底部にスラッシュ水素が得られ
る。
になると、液体水素内の冷却面２の表面に固体水素が生
成するので、オーガ４を回転させてこれを掻き落とすこ
とにより、低温容器１の底部にスラッシュ水素が得られ
る。
【００２６】さらに、上記スラッシュ水素の製造中でも
真空ポンプ１１の運転を継続するとともに、低温容器１
内の圧力を圧力計１２で監視し、低温容器１内の圧力が
３重点近傍になるように真空ポンプ１１の入口弁１１ａ
の開度を調節すれば、より効率よくスラッシュ水素を製
造することが可能である。
真空ポンプ１１の運転を継続するとともに、低温容器１
内の圧力を圧力計１２で監視し、低温容器１内の圧力が
３重点近傍になるように真空ポンプ１１の入口弁１１ａ
の開度を調節すれば、より効率よくスラッシュ水素を製
造することが可能である。
【００２７】例えば、従来のように、液体ヘリウムを冷
却面２に供給して、該液体ヘリウムの潜熱のみで低温容
器１内の液体水素を３重点まで冷却する場合、１リット
ルの液体水素に対して液体ヘリウムが１．６リットル必
要であるから、例えば液体水素量６０リットルの実験設
備では９６リットルの液体ヘリウムを節約することがで
きる。
却面２に供給して、該液体ヘリウムの潜熱のみで低温容
器１内の液体水素を３重点まで冷却する場合、１リット
ルの液体水素に対して液体ヘリウムが１．６リットル必
要であるから、例えば液体水素量６０リットルの実験設
備では９６リットルの液体ヘリウムを節約することがで
きる。
【００２８】一方、上記実施例装置において、低温容器
の容量を１００リットル、液化水素量を６０リットルと
し、これを排気能力が毎分１５００リットル（０．１１
８ｇ／ｓｅｃ ａｔ ４０Ｔｏｏｒ）の真空ポンプを用
い、大気圧から３重点まで予冷する場合、ヒートロスを
２０Ｗとして約１時間５０分かかり、このときの液体水
素の蒸発量（消耗量）は、約１５リットルであるが、こ
の液体水素の消耗による損失や真空ポンプの動力費は、
液体ヘリウムが液体水素に比べて極めて高価であること
から、全く問題になることはなく、液体ヘリウムの使用
量を低減できる効果は極めて大きいものである。
の容量を１００リットル、液化水素量を６０リットルと
し、これを排気能力が毎分１５００リットル（０．１１
８ｇ／ｓｅｃ ａｔ ４０Ｔｏｏｒ）の真空ポンプを用
い、大気圧から３重点まで予冷する場合、ヒートロスを
２０Ｗとして約１時間５０分かかり、このときの液体水
素の蒸発量（消耗量）は、約１５リットルであるが、こ
の液体水素の消耗による損失や真空ポンプの動力費は、
液体ヘリウムが液体水素に比べて極めて高価であること
から、全く問題になることはなく、液体ヘリウムの使用
量を低減できる効果は極めて大きいものである。
【００２９】なお、真空ポンプから排出される水素ガス
や冷却面冷却後に排出されるヘリウムガスは、適宜な手
段により回収することができる。また、装置構成は、製
造能力等に応じて適宜最適な形態とすることができる。
や冷却面冷却後に排出されるヘリウムガスは、適宜な手
段により回収することができる。また、装置構成は、製
造能力等に応じて適宜最適な形態とすることができる。
【００３０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
スラッシュ水素の製造を開始する際の液体水素の冷却
を、該液体水素が貯液されている低温容器内を減圧する
ことにより行うので、冷媒である液体ヘリウムの使用量
を大幅に低減することができ、スラッシュ水素の製造コ
ストを大幅に低減することができる。
スラッシュ水素の製造を開始する際の液体水素の冷却
を、該液体水素が貯液されている低温容器内を減圧する
ことにより行うので、冷媒である液体ヘリウムの使用量
を大幅に低減することができ、スラッシュ水素の製造コ
ストを大幅に低減することができる。
【図１】本発明のスラッシュ水素製造装置の一実施例を
示す系統図である。
示す系統図である。
【図２】従来のスラッシュ水素製造装置の一例を示す系
統図である。
統図である。
１…低温容器 ２…冷却面 ３…液体ヘリウム供給
系統 ４…オーガ ５…液体ヘリウム貯槽 ６…ヘリウムガスボンベ
１１…真空ポンプ １３…与圧系統
系統 ４…オーガ ５…液体ヘリウム貯槽 ６…ヘリウムガスボンベ
１１…真空ポンプ １３…与圧系統
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭55−49680（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−169780（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−280801（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−201701（ＪＰ，Ａ) 実開 昭61−197489（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) F25J 1/00 - 5/00
Claims (5)
- 【請求項１】 低温容器内の液体水素を、低温ヘリウム
により冷却される冷却面上に析出させ、該析出した固体
水素を剥離してスラッシュ水素を製造する方法におい
て、前記低温容器内を減圧して液体水素を蒸発させ、蒸
発潜熱により液体水素の温度を固体水素が発生する３重
点温度まで冷却した後、前記冷却面に低温ヘリウムを供
給することを特徴とするスラッシュ水素の製造方法。 - 【請求項２】 請求項１記載のスラッシュ水素の製造方
法において、前記低温容器内の減圧中に、前記冷却面に
低温ヘリウムを供給する系統にヘリウムガスを供給して
与圧することを特徴とするスラッシュ水素の製造方法。 - 【請求項３】 請求項１記載のスラッシュ水素の製造方
法において、前記低温容器内の減圧は、前記冷却面及び
該冷却面に低温ヘリウムを供給する系統が、低温ヘリウ
ムにより前記３重点温度付近に冷却されるまで継続する
ことを特徴とするスラッシュ水素の製造方法。 - 【請求項４】 液体水素を貯留する低温容器と、該低温
容器内に設けられた冷却面に低温ヘリウムを供給する系
統と、該冷却面に析出した固体水素を剥離するオーガと
を備えたスラッシュ水素の製造装置において、前記低温
容器に、該容器内を減圧する真空ポンプを付設したこと
を特徴とするスラッシュ水素の製造装置。 - 【請求項５】 前記冷却面に低温ヘリウムを供給する系
統に、該系統内を与圧するためのヘリウムガスを供給す
る系統を付設したことを特徴とする請求項４記載のスラ
ッシュ水素の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2405992A JP3254527B2 (ja) | 1992-02-10 | 1992-02-10 | スラッシュ水素の製造方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2405992A JP3254527B2 (ja) | 1992-02-10 | 1992-02-10 | スラッシュ水素の製造方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05223442A JPH05223442A (ja) | 1993-08-31 |
| JP3254527B2 true JP3254527B2 (ja) | 2002-02-12 |
Family
ID=12127886
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2405992A Expired - Fee Related JP3254527B2 (ja) | 1992-02-10 | 1992-02-10 | スラッシュ水素の製造方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3254527B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4872032B2 (ja) | 2009-12-28 | 2012-02-08 | 株式会社フジクラ | 給電コネクタ |
-
1992
- 1992-02-10 JP JP2405992A patent/JP3254527B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05223442A (ja) | 1993-08-31 |
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