JP3253599B2 - インクジェットヘッドの製造方法 - Google Patents

インクジェットヘッドの製造方法

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道徳 朽網
明 中澤
修 谷口
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、インク滴を吐出
させて記録を行うためのインクジェットヘッドの製造方
法に関する。
【0002】インクジェット記録方式は、構造が簡単で
カラー化がし易く、騒音も無いなどの特長があり、今後
の記録方式の主流として期待されている。
【0003】
【従来の技術】インクジェットヘッドからインク滴を吐
出させるには、圧力室に面して設けられた振動板を振動
させて、圧力室内のインクに吐出圧力を与えるようにし
ている。
【0004】振動板を振動させるのは一般に圧電素子で
あり、圧力室の位置に対応して振動板の表面に密着して
設けられている。そのような圧電素子は、従来は、振動
板とは別に独立して圧力室の大きさに対応する大きさに
形成された後、一つ一つ振動板の表面に接着されてい
た。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、インクジェッ
トヘッドにはインク吐出ノズルの数と同数の圧電素子を
取り付ける必要があるので、圧電素子を一つ一つ振動板
に密着するのは大変手間がかかり、ヘッドの製造コスト
を押し上げてしまう。
【0006】また、ヘッドを小型化するためには圧力室
を高密度に配置しなければならないので、それに合わせ
て圧電素子を小さく形成しなければならず、それに伴っ
て厚さも薄くする必要がある。
【0007】しかし、圧電素子をあまり小さく、薄く形
成すると(例えば、大きさでは1×1mm以下、厚さでは
0.1mm以下)組み立て時などに取り扱うのが困難にな
ってしまうので、圧電素子をあまり小さくすることがで
きず、それがヘッド小型化のネックになっていた。
【0008】そこで本発明は、製造コストを大幅に削減
することができ、しかも高精度で小型化が可能なインク
ジェットヘッドの製造方法を提供することを目的とす
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明のインクジェットヘッドの製造方法は、圧電
体層を焼成する温度に耐える耐熱性を有する材料からな
る基板に、インクに吐出圧力を加えるための圧力室とそ
れに連なるインク流路とを上記基板の表面から凹んだ形
状に形成し、上記圧力室の背面壁の外面に圧電材料を含
有する圧電体ペーストを印刷してから加熱、焼成して圧
電体層を形成した後、外方に開口するノズル孔が貫通形
成された蓋部材を、上記圧力室とインク流路の表面側を
塞ぐ状態に上記基板に接合したことを特徴とする。
【0010】なお、上記蓋部材が感光性ガラス材であっ
てもよく、上記圧力室が上記基板に複数形成され、その
各圧力室の位置に対応して上記ノズル孔が上記蓋部材に
形成されていてもよい。
【0011】
【発明の実施の形態】図面を参照して実施例を説明す
る。図1ないし図11に示されるインクジェットヘッド
の製造方法においては、まず、図2に示されるように、
例えば厚さ0.5mmのシリコン単結晶ウェハ1(基板)
に、エッチングによって圧力室2とインク流路3とを各
々表面から凹んだ状態に所定の深さに形成する。
【0012】図2は一つの圧力室2について図示してあ
るが、図3に示されるように、一枚のシリコンウェハ1
は、多数のインクジェットヘッド4をまとめて形成する
大きさであり、その一つのインクジェットヘッド4の一
部分Aを示す図4に示されるように、各インクジェット
ヘッド4に多数の(例えば64個の)圧力室2…が配列
されている。
【0013】次に、図5に示されるように、シリコン単
結晶ウェハ1を、圧力室2が形成されているのと反対側
の表面から、例えば厚さ0.1mmに研削する。これによ
って、圧力室2の背面壁の部分が、所定厚さ(例えば
0.02〜0.025mm)の振動板5に形成される。
【0014】次に、図6に示されるように、外方に開口
するノズル孔6がエッチング等によって貫通形成された
シリコン単結晶ウェハからなるノズル板7(蓋部材)
を、圧力室2とインク流路3の表面側を塞ぐようにシリ
コン単結晶ウェハ1に接合する。
【0015】この接合は、接合面を完全に密着させて真
空中で例えば1100℃で30分間加熱することによっ
て接合面が一体化する、いわゆる直接接合によって行う
ことができる。
【0016】ノズル孔6と圧力室2の位置関係は図7に
示されるとおりであり、各圧力室2の端部近くにノズル
孔6が位置するように、シリコン単結晶ウェハ1とノズ
ル板7とが組み合わせられる。
【0017】次に、図8に示されるように、シリコン単
結晶ウェハ1の圧力室2と反対側の表面、即ち振動板5
の表面全面に、例えば銀及びパラジウムの粉末とそれら
を結合させるためのバインダと有機溶媒とを混合して粘
度を例えば2000cPに調整した導電ペーストを、例
えばスクリーン印刷法によって厚さ5μmに印刷し、乾
燥後、電気炉で例えば1000℃の高温で2時間加熱し
て、下部電極層8を焼成する。
【0018】シリコン単結晶ウェハ1は1200℃程度
の高温までは溶解されず、歪みも発生しないので、上記
のような焼成時の熱処理に対しては充分に耐えることが
できる。
【0019】次に、その下部電極層8の表面に、例えば
酸化鉛と酸化ジルコニウムと酸化チタンとからなる圧電
微粉末(PZT)とそれら粉末どうしを結合させるため
のバインダと有機溶媒とを混合して粘度を3000cP
に調整した圧電体ペーストを、スクリーン印刷によって
厚さ30μmで印刷する。
【0020】なお、スクリーン印刷で圧電体層9を形成
する場合、その厚さは5〜100μmの範囲が適してお
り、電極層8,10としては、1〜10μmの厚さで形
成することができる。電極層8,10及び圧電体層9を
焼成する温度は、使用する材料により変わるが、400
〜1500℃の範囲が使用される。
【0021】なお圧電体ペーストの材料としては、チタ
ン酸バリュウム系セラミックや、ペロブスカイト構造の
化合物を加えたPMN−PT、又はPNN−PTPZな
どの材料を用いることもできる。
【0022】スクリーン印刷は、図9に略示されるよう
に、印刷パターンが形成されたスクリーン21をシリコ
ン単結晶ウェハ1の表面に配置して、その上に導電ペー
スト又は圧電体ペースト22を塗り、スキージ23を押
さえ付けながら移動させることによって行われる。
【0023】このとき、圧電体ペースト22の印刷は、
圧力室2と位置及び大きさを合わせて行う。そして、印
刷された圧電体ペースト22が乾燥したら、電気炉で例
えば1000℃の高温で2時間加熱し、圧電体ペースト
22から有機溶媒などを焼散させる。
【0024】これによって、図10及び図11に示され
るように、振動板5の表面に、各圧力室2と位置及び大
きさを合わせて圧電体層9が焼成される。このようにし
て圧電体層9が焼成されたら、最後に、図12に示され
るように、圧電体層9の表面に上部電極層10を厚さ3
μmで印刷、焼成する。上部電極層10の材質及び焼成
条件等は下部電極層8と同じでよい。
【0025】このようにして、振動板5の表面に、電極
層8及び圧電体層9を直接印刷によって形成することに
より、製造性にすぐれ、厚み、寸法、形状も所望のイン
クジェットヘッドを高い信頼性で形成することができ
る。
【0026】このようにして振動板5の表面に圧電体層
9及び上下電極層8,10が形成されたら、全体を図3
に示される一つ毎のインクジェットヘッド4に分割切断
する。
【0027】このようにして形成されたインクジェット
ヘッドにおいては、インクをインク流路3から圧力室2
内に満たして、上下両電極8,10間に電圧を印加する
ことによって圧電体層9が変形し、それによって振動板
5が振動して圧力室2内のインクに吐出圧力が加わり、
圧力室2内のインクがノズル孔6からインク滴となって
吐出して記録が行われる。
【0028】なお、印刷の版の厚みを制御することによ
って、圧電体層9の厚みを2〜200μmの範囲で自由
に形成できる。したがって、圧電体層9の厚みを振動板
5の厚みに対して最も好ましい厚さにして、粒子化効率
が高く、低い駆動電圧で粒子をノズルから噴射すること
ができる。
【0029】また、振動板5と電極層8、電極層8と圧
電体層9が印刷、焼成により直接接合されるので、従来
のような接着層が無く、粒子化の効率をさらに高くする
ことができる。
【0030】図12及び図13は、本発明のインクジェ
ットヘッドの製造方法の工程を示しており、ノズル板7
(蓋部材)として感光性ガラスを用い、また、下部電極
層8は、白金をスパッタリングで蒸着して形成したもの
であり、その他の工程は、図1〜図11に示した前述の
製造方法と同じである。
【0031】この場合、感光性ガラスは、圧電体層9の
焼成温度に耐えられないので、図12に示されるよう
に、シリコン単結晶ウェハ1(基板)に対してノズル板
7を取り付ける前に圧電体層9及び上部電極層10の印
刷と焼成を行い、その後で、図13に示されるように、
ノズル板7をシリコン単結晶ウェハ1の表面に接着して
圧力室2とインク流路3の表面側を塞ぐ。
【0032】なお、本発明は上記の各実施例に限定され
るものではなく、例えばノズル板7としては感光性ガラ
スに限らず感光性樹脂やモールド樹脂等も用いることが
でき、印刷については、スクリーン印刷以外の、凸版や
凹版その他どのような印刷方法を用いてもよい。
【0033】
【発明の効果】本発明によれば、基板に形成された圧力
室の背面壁の外面に圧電体層が印刷、焼成によって形成
されるので、組み立て工数が削減されて大幅なコストダ
ウンが達成される。しかも圧電体層を印刷技術における
限界まで小さく薄く高密度に形成することが可能なの
で、インクジェットヘッドを格段に小型化することがで
きる。
【0034】さらに、本発明においては、圧電体層を焼
成した後で、ノズル孔が形成された蓋部材を圧力室とイ
ンク流路の表面側を塞ぐ状態に基板に接合したので、蓋
部材及び接着剤として耐熱性のないものや熱膨張率の大
きなもの等でも使用することができ、全体形状の変形が
なく均質で高精度のヘッドを低コストの素材を選択して
製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】インクジェットヘッドの製造工程を示す正面部
分断面図である。
【図2】インクジェットヘッドの製造工程を示す正面部
分断面図である。
【図3】インクジェットヘッドの製造工程を示す全体平
面図である。
【図4】インクジェットヘッドの製造工程を示す平面断
面図である。
【図5】インクジェットヘッドの製造工程を示す正面部
分断面図である。
【図6】インクジェットヘッドの製造工程を示す正面部
分断面図である。
【図7】インクジェットヘッドの製造工程を示す平面図
である。
【図8】インクジェットヘッドの製造工程を示す正面部
分断面図である。
【図9】インクジェットヘッドの製造工程を示す側面略
示図である。
【図10】インクジェットヘッドの製造工程を示す平面
図である。
【図11】インクジェットヘッドの製造工程を示す正面
部分断面図である。
【図12】本発明の実施例の製造工程を示す正面部分断
面図である。
【図13】本発明の実施例の製造工程を示す正面部分断
面図である。
【符号の説明】
1 シリコン単結晶ウェハ(基板) 2 圧力室 3 インク流路 5 振動板(背面壁) 6 ノズル孔 7 ノズル板(蓋体) 9 圧電体層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 塚田 峰春 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1 番1号 富士通株式会社内 (72)発明者 肥田 勝春 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1 番1号 富士通株式会社内 (56)参考文献 特開 平3−211058(JP,A) 国際公開92/9111(WO,A1) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B41J 2/16 B41J 2/045

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】圧電体層を焼成する温度に耐える耐熱性を
    有する材料からなる基板に、インクに吐出圧力を加える
    ための圧力室とそれに連なるインク流路とをエッチング
    加工により上記基板の表面から凹んだ形状に形成し、
    いで上記圧力室の背面壁の外面に圧電材料を含有する圧
    電体ペーストを印刷してから加熱、焼成して圧電体層を
    形成した後、外方に開口するノズル孔が貫通形成された
    蓋部材を、上記圧力室とインク流路の表面側を塞ぐ状態
    に上記基板に接合したことを特徴とするインクジェット
    ヘッドの製造方法。
  2. 【請求項2】上記蓋部材が感光性ガラス材である請求項
    1記載のインクジェットヘッドの製造方法。
  3. 【請求項3】上記圧力室が上記基板に複数形成され、そ
    の各圧力室の位置に対応して上記ノズル孔が上記蓋部材
    に形成されている請求項1又は2記載のインクジェット
    ヘッドの製造方法。
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