JP3245595B2 - 画像露光された印刷版板の後処理装置 - Google Patents

画像露光された印刷版板の後処理装置

Info

Publication number
JP3245595B2
JP3245595B2 JP19352193A JP19352193A JP3245595B2 JP 3245595 B2 JP3245595 B2 JP 3245595B2 JP 19352193 A JP19352193 A JP 19352193A JP 19352193 A JP19352193 A JP 19352193A JP 3245595 B2 JP3245595 B2 JP 3245595B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
post
processing device
printing plate
processing apparatus
exposure
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP19352193A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH075699A (ja
Inventor
ルドルフ、ツェルタニ
ヘルムート、ハーベルハウアー
ノルベルト、クレーマー
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Agfa Gevaert NV
Original Assignee
Agfa Gevaert NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agfa Gevaert NV filed Critical Agfa Gevaert NV
Publication of JPH075699A publication Critical patent/JPH075699A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3245595B2 publication Critical patent/JP3245595B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/38Treatment before imagewise removal, e.g. prebaking

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、加熱部とその上流に挿
入された露光部とを含む後処理装置において、絶縁体で
3方を内張りされ底部の開いた前記加熱部のハウジング
の中にIR放射源が配置され、前記IR放射源は前記ハ
ウジングを通して下方にリフレクターテーブル上に放射
し、前記後処理装置を通過する印刷版板が前記リフレク
ターテーブル上を走行するように成された後処理装置に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】このような装置はEP−A−0,45
0,486(DE−A 40 11 023)に記載さ
れている。露光部において前面にカラーフィルタを備え
たこの装置に使用される蛍光灯は老化するとスペクトル
変動を生じる。印刷版板の最適露光は狭いスペクトル範
囲内においてのみ生じるのであるから、スペクトル変動
は最適露光に対して悪影響を与える。
【0003】DE−B 12 14 085(US−P
S 3,144,331)から公知の方法においては、
感光層として印刷版板に対して被着されて酸素分子の吸
収によって感度の低下した光重合性記録媒体の感度を回
復するため、均一照射によって光重合を開始するに必要
な化学放射線の線量の70乃至98%を使用して、この
記録媒体を露光する事は公知である。この露光は、放射
線量の10乃至70%のみが光重合性層によって吸収さ
れるような波長を有する化学放射線を使用して、例えば
透明な印刷版板を通して実施される。この方法におい
て、露光は原則としてまず拡散によって実施され、次に
画像露光が実施される。拡散露光すなわち前露光は、低
い光強さをもって、すなわち完全露光作用を生じるのに
必要な放射線強さの70乃至98%をもって実施され
る。この前露光に続いて、全放射線強さによる画像露光
を実施する。
【0004】US−PS 4,298,803の開示す
る方法においては、ホトレジスト層が露光点において実
質的に溶解される臨界露光強さより低い露光強さをもっ
てこのホトレジスト層を前露光する。この前露光後に、
ホトレジスト層の画像露光が実施される。これらの2つ
の露光プロセスの順序を交換する事ができる。いずれの
場合においても、ホトレジストの感光度が改良され、こ
れが処理時間を大幅に短縮する。この方法を実施する装
置においては、画像露光と前露光または後露光とが電子
ビームまたはUVあるいはX線源によって実施される。
【0005】またUS−PS 4,716,097に開
示された方法においては、染料を含有する光重合性層が
まず拡散露光され、次に400nm以上の波長と少なく
とも1500ルーメン/m2 の強さとを有する光に対し
て画像露光される。
【0006】ドイツ公開特許DE−A 24 12 5
71に開示された印刷版板の光効果性重合体層の硬化方
法においては、まず拡散露光が短時間実施され、次に露
光区域において重合体層が実質的に完全に硬化されるま
で画像露光が実施される。前露光についても画像露光に
ついても同一の放射線強さを使用し、拡散露光時間は重
合体層の完全硬化時間の90%以下とする。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、画像
露光された印刷版板の後処理装置において、老化の結果
として露光部の光源のスペクトル変動が生じる事なく、
また印刷版板の各露光部分の全長にわたって均一な制御
された光度が得られるように成された後処理装置を開発
するにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、冒頭に
記載の型の後処理装置において、前記露光部は線形LE
D列を含み、前記線形LED列は印刷版板の全面露光の
ために光散乱プレートによってカバーされ、また前記線
形LED列の光度または光出力は0%乃至100%の範
囲内において変動されるように成された後処理装置によ
って前記目的は達成される。
【0009】本発明の実施態様において、前記線形LE
D列は565±20nmの波長範囲で放射する。
【0010】本発明の他の実施態様は、特許請求の範囲
請求項3乃至18から明かである。
【0011】
【作用】本発明による後処理装置は光重合性印刷版板、
特に投影版板および高感光性レーザ版板の処理に使用す
る事ができ、この装置においては、非常に低いまた非常
に均一な光による後処理と後硬化の結果、このように処
理された印刷版板の寿命と印刷長さが著しく増大され
る。そのため、例えばレーザ露光装置の中で488nm
の波長に対して露光されまたは投影装置中で水銀ランプ
あるいはキセノンランプ、フラッシュライト、カーボン
ランプなどによって画像露光された印刷版板が再び後処
理装置中で、非常に低い強さのλ=565±20nmの
波長の光に対して後露光され、次に同一装置中で80乃
至120℃の温度に後加熱される。この後処理装置の利
点は、露光部の光度を非常に広い範囲内で調整できる事
にある。
【0012】以下、本発明を図面に示す実施例について
詳細に説明するが本発明はこれに限定されるものではな
い。
【0013】
【実施例】後処理装置1は本質的ユニットとして露光部
2、加熱部3、リフレクターテーブル7および搬送ロー
ラ対5、6を含み、これらのユニットが後処理装置のハ
ウジング4によって包囲されている。図1において印刷
版板30の1つを示し、この印刷版板30は後処理装置
1の搬送路12に沿って走行する。この印刷版板30を
後処理装置中を搬送するため、装置中に搬送路12の始
点に入口搬送ローラ対5が配置され、搬送路の終点に出
口搬送ローラ対6が配置されている。これらの搬送ロー
ラの軸上に端面スプロケット25、26、27、28が
取付けられ、これらのスプロケットの上に無限循環スプ
ロケットチェーン29が掛け回されている。入口ローラ
対5の一方のローラがモータ(図示されず)によって駆
動される。この被駆動ローラの端面スプロケットがスプ
ロケットチェーン29を循環させ、これにより入口ロー
ラ対と出口ローラ対との同期走行を生じる。
【0014】印刷版板の搬送方向に見て、加熱部3の上
流に露光部2が挿入されている。印刷版板30の全面拡
散露光のため、放射線源として線形LED列8が露光部
2の中に配置されている。この線形LED列8は図2お
よび図3に図示のように相互に片寄った2列のLEDモ
ジュールD1 、D2 、...Dn とD1'、D2'...D
n'とを含み、露光部2の閉鎖ハウジングの中に配置され
る。このハウジングはその底部に、印刷版板の搬送路1
2に対向して露光開口13を有し、この開口13は光散
乱プレート9によってカバーされている。
【0015】それぞれのモジュールD1 、...Dn と
D1'、...Dn'は一般に4発光ダイオード(LED)
を含み、これらのダイオードは図4に図示のように相互
に直列に接続されている。また、2つのモジュールD1
、D1';D2 、D2'...Dn 、Dn'がそれぞれ直列
に接続され、図示されていない電流源から基準電圧Ure
f を供給される。直列に接続された2つのモジュール
は、それぞれトランジスタTiと、電流制限抵抗Riと
を含む回路によって制御される。この場合、i=1,
2,...nとする。抵抗Ri は電位差計の形の固定抵
抗または可変抵抗とする事ができる。電流源は、相互に
並列に接続されたすべてのトランジスタTi のベースに
対して基準電圧Uref を加える。同様に並列に接続され
た抵抗Ri がトランジスタTi のエミッター電流を制限
する。基準電圧Uref は0〜3Vの範囲内の直流電圧で
あってこの場合には0〜30mAのベース−エミッター
電流IBEが流れ、あるいは0〜6Vの範囲内の方形波で
あってこの場合には0〜60mAのベース−エミッター
電流IBEが流れ、衝撃周期は1:2である。基準電圧U
ref の電流源は100mAのオーダの電流を供給し、バ
ッファ段階を有するD/A変換器とし、または別個の制
御回路とする事ができる。
【0016】線形LED列8の実効光度はセンサ23に
よって測定される。線形LED列8の幅全体の均一な照
明を保持するため、1つのメーカから得られたLEDモ
ジュールを使用する。しかし各モジュールの間に輝度の
差異が生じる場合には、対応の抵抗Ri を変更する事に
よって輝度を同等にする。
【0017】LEDモジュールD1 、D1'、...Dn
、Dn'はセグメント33上に配置され、これらのセグ
メント33は図3に図示のように同等長さまたは相異な
る長さを有して相互にプラグ接点34によってプラグ接
続され、印刷回路盤31を成す。単一セグメント上に単
一のモジュールまたは2−4のモジュールを配置する事
ができる。プラグ接点34は図3において破線で示され
ている。線形LED列8の上列において1つのモジュー
ルまたは2つのモジュールを有するセグメント33はそ
れぞれ括弧で示されている。プラグ接続された印刷回路
盤31はベース印刷回路盤32上に搭載され、このベー
ス印刷回路盤32の上にトランジスタTiと抵抗Ri も
配置されている。それぞれセグメントは相異なる長さを
有するので、列の長さは露光される印刷版板4の幅に一
致させる事ができる。線形LED列8のセグメント構造
の故に、1つまたは複数のLEDモジュールの故障に際
して、機能素子を離脱する必要がないので、迅速な交換
が可能である。LEDの老化に伴って特殊の変動、すな
わち放射される波長範囲の移動が生じない。LEDモジ
ュールの電流制御の結果として、低電圧で作動される線
形LED列8の全長にわたって均一な光出力を設定する
事ができる。
【0018】印刷版板4に対して加えられる光の量を正
確に調整するため、本発明の露光部2の線形LED列8
の照度は最大照度の0%から100%まで電子的に無限
に変動させる事ができる。前記線形LED列8の照度は
デジタル表示され、センサ23が照度測定のため露光部
2のハウジングの中に搭載されている。このハウジング
の閉鎖性の故に、センサ23による照度測定に悪影響を
及ぼすような外部放射線の進入を防止する。
【0019】線形LED列8の照度は、図1において露
光部2の上方に示される電子制御装置24によって設定
される。
【0020】線形LED列8のスペクトル分布は565
±20nmの波長範囲にある。
【0021】照度を測定するセンサ23は原則として露
光部2のハウジングの中に配置されたホトダイオードで
あり、従って後処理装置1の中に進入する日光などの望
ましくない放射線から遮断される。ホトダイオードは望
ましくは印刷回路盤31の上方に搭載される(図2参
照)。
【0022】加熱部3はIR放射源18を備え、このI
R源は絶縁体20、21、22によって3方を断熱され
たハウジングの中に収容されている。このハウジングは
底部においてリフレクターテーブル7の方に開き、この
リフレクターテーブル上を印刷版板30が通過する。前
記の放射線源18は例えばセラミックスから成る赤外線
暗放射体であって、可視波長領域および印刷版板の放射
線感度領域からはるかに離れた波長領域において放射線
を放出する。IR放射線源18の上方にリフレクター1
9が搭載されている。IR放射線源18によって放射さ
れる放射線は1,000nm 乃至10,000nmの範囲内にある。こ
のような熱放射線のスペクトル領域の結果、印刷版板3
0に作用する電磁放射線、すなわち一方において前記の
熱発生赤外線と、他方において、すでに画像露光された
印刷版板のいわゆる「後露光」のための可視光線に対す
る拡散露光とを相互に完全に独立に配量する事ができ
る。
【0023】赤外線放射体18は、印刷版板が80℃乃
至120℃の温度に加熱されるようにその放射出力にお
いて変動できる。
【0024】リフレクターテーブル7はトラフ状中空体
であって、図5と図6に図示のように、印刷版板30の
搬送路12のレベルにおいてストリング15を有する。
ストリング15は細い金属ワイヤまたは細いプラスティ
ック糸から成り、リフレクターテーブル7(図5)の上
側にV状に展張されるので、印刷版板の前縁が後処理装
置1を通して搬送される際にこれらのストリングの下方
に入る事ができない。このように進入すれば、印刷版板
の閉塞を生じるであろう。
【0025】印刷版板30と比較してストリング15の
熱容量が非常に低いので、加熱部3の下方区域での印刷
版板の加熱に際して、印刷版板の不均一加熱を生じるよ
うな熱損はそのいずれの点においても生じない。リフレ
クターテーブル7の内側面は熱反射金属シートによって
内張りされている。リフレクターテーブル7の下側面に
調節装置16、17、通常は調節ネジが配置され、この
ネジはリフレクターテーブル7の底部をある程度上下さ
せて、印刷版板の下側面とテーブルの底部との間隔をあ
る程度調節する事ができる。
【0026】リフレクターテーブルの金属シートとの接
触による印刷版板30からの熱損は印刷版板の接触区域
における部分的温度低下と、従ってその不均一加熱を生
じ、このようにして印刷版板の光ポリマー層の不均一硬
化を生じるであろう。
【0027】
【発明の効果】本発明の後処理装置は、露光部2の線形
LED列8が印刷版板30の有効幅全体に非常に均一な
露光強さを生じ、また発光ダイオードモジュールあるい
は線形LED列8の露光強さを無限に変動する事ができ
る。種々の露光強さによる露光の結果は常に再現可能で
ある。LEDモジュールの老化がスペクトル移動を生じ
る事なく、従って放射される波長は非常に一定であると
いう利点を示す。さらに本発明の後処理装置の利点は、
露光部および加熱部の区域において望ましくない放射線
が発生せず、線形LED列8の長さを所望のように形成
しまたその長さ全体にそって露光のために利用する事が
でき、また線形LED列8は低電圧で作動する事ができ
てその光出力の0乃至100%の範囲内で調節する事が
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による後処理装置の概略断面図。
【図2】本発明による後処理装置の露光部のそれぞれ側
面図、平面図および線形LED列回路図。
【図3】本発明による後処理装置の露光部のそれぞれ側
面図、平面図および線形LED列回路図。
【図4】本発明による後処理装置の露光部のそれぞれ側
面図、平面図および線形LED列回路図。
【図5】本発明による後処理装置のリフレクターテーブ
ルの部分断面図。
【図6】図5に図示のリフレクターテーブルの平面図。
【符号の説明】
1 後処理装置 2 露光部 3 加熱部 4 後処理装置ハウジング 5、6 搬送ローラ対 7 リフレクターテーブル 8 線形LED列 9 光拡散プレート 12 印刷版板の搬送路 13 開口 15 ストリング 16、17 調節装置 18 赤外線源 19 リフレクター 23 センサ 24 制御装置 25、26、27、28 スプロケット 29 スプロケットチェーン 30 印刷版板 31、32 印刷回路盤 33 セグメント 34 プラグ接点 LEDモジュール D1 、D1'、...Dn 、Dn' R1-n 抵抗 T1-n トランジスタ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ノルベルト、クレーマー ドイツ連邦共和国ハイデンロート、ラウ フェンシュトラーセ、3 (56)参考文献 特開 平4−230760(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03F 7/40 G03F 7/20

Claims (18)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】加熱部とその上流に挿入された露光部とを
    含む後処理装置において、絶縁体で3方を内張りされ底
    部の開いた前記加熱部のハウジングの中にIR放射源が
    配置され、前記IR放射源は前記ハウジングを通して下
    方にリフレクターテーブル上に放射し、前記後処理装置
    を通過する印刷版板が前記リフレクターテーブル上を走
    行し、前記露光部は線形LED列を含み、前記線形LE
    D列は印刷版板の全面露光のために光散乱プレートによ
    ってカバーされ、またここに前記線形LED列の光度ま
    たは光出力は0%乃至100%の範囲内において変動さ
    れる事を特徴とする画像露光された印刷版板の後処理装
    置。
  2. 【請求項2】前記線形LED列は565±20nmの波
    長範囲で放射することを特徴とする請求項1に記載の後
    処理装置。
  3. 【請求項3】前記線形LED列はLEDモジュール(D
    i ;Di')の相互に片寄らされた少なくとも2列を含
    み、また各モジュール(Di ;Di')は複数の発光ダイ
    オードから成ることを特徴とする請求項1に記載の後処
    理装置。
  4. 【請求項4】各モジュールはそれぞれ4個の発光ダイオ
    ード(LED)を含み、これらの発光ダイオードが相互
    に直列に接続されていることを特徴とする請求項3に記
    載の後処理装置。
  5. 【請求項5】それぞれ2つのモジュール(D1 、D1';
    D2 、D2'...Dn 、Dn')は相互に直列に接続さ
    れ、またそれぞれトランジスタ(T1 ;T2 ;...T
    n )、可変抵抗または固定抵抗(R1 ;R2 ;...R
    n )および前記トランジスタのベースに対して基準電圧
    Uref を加えるすべてのモジュールに共通の電流源から
    成る電気回路によって制御されることを特徴とする請求
    項3に記載の後処理装置。
  6. 【請求項6】すべてのトランジスタ(T1 ;T2
    ;...Tn )は並列に接続され、またすべての抵抗
    (R1 ;R2 ;...Rn )はトランジスタのエミッタ
    ーとアース導線との間において並列に接続されることを
    特徴とする請求項5に記載の後処理装置。
  7. 【請求項7】基準電圧Uref は直流電圧または1:2の
    衝撃周期を有する方形波電圧であることを特徴とする請
    求項5に記載の後処理装置。
  8. 【請求項8】線形LED列の光度の測定のためのセンサ
    が前記露光部の中に配置されることを特徴とする請求項
    1に記載の後処理装置。
  9. 【請求項9】線形LED列は複数のセグメントを含み、
    これらのセグメントがプラグ接点によって相互にプラグ
    接続されて印刷回路盤を形成することを特徴とする請求
    項3に記載の後処理装置。
  10. 【請求項10】前記セグメントは相異なる長さまたは同
    等の長さを有することを特徴とする請求項9に記載の後
    処理装置。
  11. 【請求項11】線形LED列が、下方開口を光散乱プレ
    ートによってカバーされたハウジングの中に配置され、
    また前記ホトダイオードがセンサとしてハウジング内部
    に前記印刷回路盤上に配置されることを特徴とする請求
    項8または9のいずれかに記載の後処理装置。
  12. 【請求項12】加熱部の赤外線放射源はセラミックスか
    ら成る赤外線暗放射体であって、この放射体は可視波長
    領域からも印刷版板の放射線感度領域からも離間した波
    長領域の放射線を放射することを特徴とする請求項1に
    記載の後処理装置。
  13. 【請求項13】前記赤外線放射源は1,000 乃至10,000nm
    の波長領域の放射線を放射することを特徴とする請求項
    12に記載の後処理装置。
  14. 【請求項14】前記赤外線放射源は、印刷版板が80℃
    乃至120℃の温度に加熱されるようにその放射出力を
    変動されることを特徴とする請求項13に記載の後処理
    装置。
  15. 【請求項15】リフレクターテーブルはトラフ状中空体
    として形成され、前記中空体は印刷版板の搬送路のレベ
    ルにおいてストリングを張設されていることを特徴とす
    る請求項1に記載の後処理装置。
  16. 【請求項16】前記ストリングは細い金属ワイヤまたは
    細いプラスティック糸から成り、リフレクターテーブル
    の上側面にV状に張設されることを特徴とする請求項1
    5に記載の後処理装置。
  17. 【請求項17】前記リフレクターテーブルの内側面は熱
    反射性金属シートによって内張りされていることを特徴
    とする請求項14に記載の後処理装置。
  18. 【請求項18】印刷版板を後処理装置の中において搬送
    路に沿って搬送するため、導入搬送ローラ対と排出搬送
    ローラ対とが存在し、これらのローラ対はハウジングの
    中に配置されて、前記2つの搬送ローラ対の搬送ローラ
    の軸上に取付けられた端面スプロケット上に掛け回され
    た無限循環スプロケットチェーンによって前記ローラ対
    が同期的に駆動され、前記ローラ対の一方の搬送ローラ
    がモータ駆動されることを特徴とする請求項1に記載の
    後処理装置。
JP19352193A 1992-08-05 1993-08-04 画像露光された印刷版板の後処理装置 Expired - Fee Related JP3245595B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4225831A DE4225831A1 (de) 1992-08-05 1992-08-05 Nachbehandlungsgerät für bildmäßig belichtete Druckplatten
DE4225831.6 1992-08-05

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH075699A JPH075699A (ja) 1995-01-10
JP3245595B2 true JP3245595B2 (ja) 2002-01-15

Family

ID=6464860

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19352193A Expired - Fee Related JP3245595B2 (ja) 1992-08-05 1993-08-04 画像露光された印刷版板の後処理装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5359201A (ja)
EP (1) EP0582253B1 (ja)
JP (1) JP3245595B2 (ja)
DE (2) DE4225831A1 (ja)
DK (1) DK0582253T3 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3805565B2 (ja) * 1999-06-11 2006-08-02 株式会社日立製作所 電子線画像に基づく検査または計測方法およびその装置
JP6892727B2 (ja) * 2016-09-26 2021-06-23 カンタツ株式会社 パターン製造装置、パターン製造方法およびパターン製造プログラム

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL273451A (ja) * 1961-01-13
US3859091A (en) * 1971-09-08 1975-01-07 Grace W R & Co Preparation of printing or pattern plates
ZA739244B (en) * 1973-04-19 1974-11-27 Grace W R & Co Preparation of printing of pattern plates
JPS5596942A (en) * 1979-01-19 1980-07-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method and apparatus for producing minute pattern
GB2043927B (en) * 1979-02-09 1982-12-08 Uniroyal Ltd Exposing plates
US4716097A (en) * 1986-02-03 1987-12-29 E. I. Du Pont De Nemours And Company Increased photopolymer photospeed employing yellow light preexposure
KR880701112A (ko) * 1986-03-26 1988-07-25 고지 마사시 위생장치
JPS6357262A (ja) * 1986-08-29 1988-03-11 Fuji Xerox Co Ltd 光書込み装置
DE4011023A1 (de) * 1990-04-05 1991-10-10 Hoechst Ag Nachbehandlungsgeraet fuer druckplatten
DE9210462U1 (ja) * 1992-08-05 1992-09-24 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt, De

Also Published As

Publication number Publication date
EP0582253A3 (en) 1994-06-22
DK0582253T3 (da) 1998-09-14
US5359201A (en) 1994-10-25
DE59308020D1 (de) 1998-02-26
EP0582253A2 (de) 1994-02-09
DE4225831A1 (de) 1994-02-10
EP0582253B1 (de) 1998-01-21
JPH075699A (ja) 1995-01-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20020192569A1 (en) Devices and methods for exposure of photoreactive compositions with light emitting diodes
TWI394014B (zh) Peripheral exposure device
EP0023709B1 (en) System for controlling the exposure time of a photoresist layer
US5455416A (en) Preexposure device for printing forms to be imagewise exposed
JP3245595B2 (ja) 画像露光された印刷版板の後処理装置
US5386268A (en) Exposure unit and method for exposing photosensitive materials
US5124559A (en) Aftertreatment apparatus for printing plates
US5504515A (en) Laser exposure apparatus for printing forms to be imagewise exposed
EP0312002B1 (en) Exposure apparatus
US3796916A (en) X-ray image viewer
US5185625A (en) Exposure apparatus for forming pattern on printed-wiring board
CN114424123A (zh) 用于曝光凸版前体的装置和方法
US3698815A (en) Exposure lamp alignment equipment
US7015446B2 (en) Light source for an optical apparatus in which the amount of light emission is controlled at a constant level
US3658533A (en) Copying process
RU2813114C2 (ru) Способ и устройство для экспонирования исходного материала для формирования рельефа
JP4584130B2 (ja) 平版刷版の耐刷性向上用の後露光方法及び装置
JPS58147121A (ja) 画像形成系
JP2587590B2 (ja) ウェーハ露光装置
US3364593A (en) Film dryer
JPH10163101A (ja) パターン露光装置
JPH04350643A (ja) 画像コマサイズの判別方法及び写真焼付方法
JPH04350640A (ja) 画像コマ検出方法とその装置及び写真フィルムキャリア
JPH04185434A (ja) ポリマー画像形成装置

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees