JPH10163101A - パターン露光装置 - Google Patents
パターン露光装置Info
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- JPH10163101A JPH10163101A JP8333106A JP33310696A JPH10163101A JP H10163101 A JPH10163101 A JP H10163101A JP 8333106 A JP8333106 A JP 8333106A JP 33310696 A JP33310696 A JP 33310696A JP H10163101 A JPH10163101 A JP H10163101A
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70383—Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】処理速度が早いパターン露光装置を提供するこ
と。さらに、安定した露光品質が得られること。 【解決手段】光源（３１）と、パターン生成手段（５
１）と、投影レンズ（９１）から成るパターン露光装置
において、光源（３１）に複数のフラッシュランプ（３
２）を使用するとともに、１つのフラッシュランプから
出た光によって１つのセグメントを形成し、複数のセグ
メントの配列によってパターン生成手段（５１）を構成
する。
と。さらに、安定した露光品質が得られること。 【解決手段】光源（３１）と、パターン生成手段（５
１）と、投影レンズ（９１）から成るパターン露光装置
において、光源（３１）に複数のフラッシュランプ（３
２）を使用するとともに、１つのフラッシュランプから
出た光によって１つのセグメントを形成し、複数のセグ
メントの配列によってパターン生成手段（５１）を構成
する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体基板やガラ
ス基板等（以下基板という）に文字やバーコードなどの
パターンを露光する装置に関する。
ス基板等（以下基板という）に文字やバーコードなどの
パターンを露光する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】パターン露光装置は、一般にタイトラー
と呼ばれ、基板の生産管理のために基板毎に異なったパ
ターンを露光する装置である。従来のパターン露光装置
の主要部は図７に示すような構造になっている。すなわ
ち、基板１１にはフォトレジスト等の感光材料が塗布さ
れ、搬送路２１上をパターン露光装置の下に搬送され
る。搬送されてきた基板は露光ステーション２５上に載
せられ、２７と２８の方向からピン２６に押し当てて位
置決めされる。図示しない光源には超高圧水銀灯や水銀
キセノンランプ等の連続点灯の放電灯が使用され、光源
から露光ヘッド６１まではライトガイド４１を使用して
光が伝送される。伝送された光はコンデンサーレンズ９
５でロータリーマスク５５上の１個所に集められる。ロ
ータリーマスクは、ガラス上にクロムの被膜をが蒸着
し、このクロム被膜の同一円周上にあらかじめ各種パタ
ーン（文字、数字、バーコード、記号を含む。以下同
じ）をエッチングしたものである。外部から供給される
信号によって駆動されるモーター５６によってロータリ
ーマスク５５の回転角が決定され、露光すべきパターン
が選択される。投影レンズ９１はこのパターンの１つを
基板１１の上に投影し、基板上にパターン８１が露光さ
れる。つまり、従来のパターン露光装置におけるパター
ン生成手段にはロータリーマスク５５が使用されてい
た。また、基板１１は静止した状態で露光が行われてい
た。１つの露光が終了すると、露光ヘッド６１全体がモ
ータ６５とボールネジ６６よって一定距離移動させら
れ、次の露光が行われる。この工程を繰り返すことによ
って、通常基板上には１０程度のパターンが露光され
る。露光が終了すると基板は露光ステーション２５から
開放され、搬送ローラ２２によって搬送されていく。
と呼ばれ、基板の生産管理のために基板毎に異なったパ
ターンを露光する装置である。従来のパターン露光装置
の主要部は図７に示すような構造になっている。すなわ
ち、基板１１にはフォトレジスト等の感光材料が塗布さ
れ、搬送路２１上をパターン露光装置の下に搬送され
る。搬送されてきた基板は露光ステーション２５上に載
せられ、２７と２８の方向からピン２６に押し当てて位
置決めされる。図示しない光源には超高圧水銀灯や水銀
キセノンランプ等の連続点灯の放電灯が使用され、光源
から露光ヘッド６１まではライトガイド４１を使用して
光が伝送される。伝送された光はコンデンサーレンズ９
５でロータリーマスク５５上の１個所に集められる。ロ
ータリーマスクは、ガラス上にクロムの被膜をが蒸着
し、このクロム被膜の同一円周上にあらかじめ各種パタ
ーン（文字、数字、バーコード、記号を含む。以下同
じ）をエッチングしたものである。外部から供給される
信号によって駆動されるモーター５６によってロータリ
ーマスク５５の回転角が決定され、露光すべきパターン
が選択される。投影レンズ９１はこのパターンの１つを
基板１１の上に投影し、基板上にパターン８１が露光さ
れる。つまり、従来のパターン露光装置におけるパター
ン生成手段にはロータリーマスク５５が使用されてい
た。また、基板１１は静止した状態で露光が行われてい
た。１つの露光が終了すると、露光ヘッド６１全体がモ
ータ６５とボールネジ６６よって一定距離移動させら
れ、次の露光が行われる。この工程を繰り返すことによ
って、通常基板上には１０程度のパターンが露光され
る。露光が終了すると基板は露光ステーション２５から
開放され、搬送ローラ２２によって搬送されていく。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、従来のパタ
ーン露光装置は、処理速度が遅いという問題があった。
一般的には、１つのパターンの露光は１秒で終了するも
のの、ロータリーマスクの回転に平均２秒を要する。露
光ヘッドの移動はロータリーマスクの回転中に行われる
ので直接のロスタイムにはならないものの、１０パター
ンの露光が終了するのにおよそ３０秒を要するのであ
る。さらに、従来のパターン露光装置は、露光時間が一
定（たとえば１秒）であるため、光源に使用しているラ
ンプが劣化してきて光量が低下した場合は露光量が不足
し、露光品質が低下するという問題があった。そこで、
本発明が解決しようとする第１の課題は、処理速度が早
いパターン露光装置を提供することにある。さらに、本
発明が解決しようとする第２の課題は処理速度が早く、
かつ安定した露光品質の得られるパターン露光装置を提
供することである。
ーン露光装置は、処理速度が遅いという問題があった。
一般的には、１つのパターンの露光は１秒で終了するも
のの、ロータリーマスクの回転に平均２秒を要する。露
光ヘッドの移動はロータリーマスクの回転中に行われる
ので直接のロスタイムにはならないものの、１０パター
ンの露光が終了するのにおよそ３０秒を要するのであ
る。さらに、従来のパターン露光装置は、露光時間が一
定（たとえば１秒）であるため、光源に使用しているラ
ンプが劣化してきて光量が低下した場合は露光量が不足
し、露光品質が低下するという問題があった。そこで、
本発明が解決しようとする第１の課題は、処理速度が早
いパターン露光装置を提供することにある。さらに、本
発明が解決しようとする第２の課題は処理速度が早く、
かつ安定した露光品質の得られるパターン露光装置を提
供することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】第１の手段は第１の課題
を解決するためのもので、光源３１と、パターン生成手
段５１と、投影レンズ９１から成るパターン露光装置に
おいて、光源３１に複数のフラッシュランプ３２を使用
するとともに、１つのフラッシュランプから出た光によ
って１つのセグメントを形成し、複数のセグメントの配
列によってパターン生成手段５１を構成したものであ
る。
を解決するためのもので、光源３１と、パターン生成手
段５１と、投影レンズ９１から成るパターン露光装置に
おいて、光源３１に複数のフラッシュランプ３２を使用
するとともに、１つのフラッシュランプから出た光によ
って１つのセグメントを形成し、複数のセグメントの配
列によってパターン生成手段５１を構成したものであ
る。
【０００５】第２の手段は第２の課題を解決するための
もので、第１の手段に加えて、各セグメントから出る主
光線が交差する点に光量検出器７１を配置するととも
に、この光量検出器７１の出力を参照してフラッシュラ
ンプ３２の発光光量を調節するものである。
もので、第１の手段に加えて、各セグメントから出る主
光線が交差する点に光量検出器７１を配置するととも
に、この光量検出器７１の出力を参照してフラッシュラ
ンプ３２の発光光量を調節するものである。
【０００６】
【発明の実施の形態】１図に示す装置は本発明を実施し
た形態の１つであり、基板１１上に１０桁の数字を露光
するパターン露光装置である。基板１１にはガラスにフ
ォトレジストを塗布したものが使用され、搬送ローラ２
２によって搬送される。基板検知機２３によって基板の
搬送が確認され、露光ヘッド６１の下を通過する際に基
板１１上に１０桁の数字が露光される。以下光源と露光
ヘッドの構成について詳述する。
た形態の１つであり、基板１１上に１０桁の数字を露光
するパターン露光装置である。基板１１にはガラスにフ
ォトレジストを塗布したものが使用され、搬送ローラ２
２によって搬送される。基板検知機２３によって基板の
搬送が確認され、露光ヘッド６１の下を通過する際に基
板１１上に１０桁の数字が露光される。以下光源と露光
ヘッドの構成について詳述する。
【０００７】光源３１は、７つのキセノンフラッシュラ
ンプ３２から成る。キセノンフラッシュランプとは、小
型バルブ内にキセノンガスを封入し電極とトリガープロ
ーブを取り付けたもので、パルス点灯によって可視を中
心に紫外から赤外に至る広範囲の光を放射することので
きるランプである。各ランプから出た光はランプに内蔵
されている凹面鏡とレンズ３３によって集光され、１束
のライトガイド４１に入射する。１束のライトガイド
は、直径０．１ｍｍの細い石英製ファイバーを束ねた構
成になっている。ライトガイド４１はランプ毎に１束ず
つ設置されており、合計７束のライトガイドが露光ヘッ
ドに光を供給する。パターン生成手段５１は、露光する
パターンに応じて配置された複数の「セグメント」から
構成されている。ここで、「セグメント」とは発光面を
特定の形状にしたものをいい、本実施形態においてはラ
イトガイド終端を特定形状に揃えてセグメントとしてい
る。本例では露光パターンは数字であるので、各セグメ
ントは図３の５１１から５１７ような形状になってお
り、７つのセグメントは８の字状に配置されている。８
の字の大きさは６ｍｍであり、これが倍率４分の１の投
影レンズ９１によって基板１１上に大きさ１．５ｍｍに
投影される。光源の各キセノンフラッシュランプ３２
は、外部信号の指示によって発光する。例えば、数字の
「１」を露光する場合は、図３のセグメント５１２と、
セグメント５１３に対応するランプが同時に点灯させら
れる。他の数字も同様にして図４上段のように０から９
までの１０種類の数字が生成され、露光される。また必
要な場合には図４中段と下段に示すパターンも露光可能
である。図２は露光ヘッド６１の内部を表したもので、
パターン生成手段５１の像を、投影レンズ前段９２と投
影レンズ後段９３で縮小投影する様子を表している。基
板に露光された数字は、人または他の装置によって読み
取られ、基板の生産管理に活用される。
ンプ３２から成る。キセノンフラッシュランプとは、小
型バルブ内にキセノンガスを封入し電極とトリガープロ
ーブを取り付けたもので、パルス点灯によって可視を中
心に紫外から赤外に至る広範囲の光を放射することので
きるランプである。各ランプから出た光はランプに内蔵
されている凹面鏡とレンズ３３によって集光され、１束
のライトガイド４１に入射する。１束のライトガイド
は、直径０．１ｍｍの細い石英製ファイバーを束ねた構
成になっている。ライトガイド４１はランプ毎に１束ず
つ設置されており、合計７束のライトガイドが露光ヘッ
ドに光を供給する。パターン生成手段５１は、露光する
パターンに応じて配置された複数の「セグメント」から
構成されている。ここで、「セグメント」とは発光面を
特定の形状にしたものをいい、本実施形態においてはラ
イトガイド終端を特定形状に揃えてセグメントとしてい
る。本例では露光パターンは数字であるので、各セグメ
ントは図３の５１１から５１７ような形状になってお
り、７つのセグメントは８の字状に配置されている。８
の字の大きさは６ｍｍであり、これが倍率４分の１の投
影レンズ９１によって基板１１上に大きさ１．５ｍｍに
投影される。光源の各キセノンフラッシュランプ３２
は、外部信号の指示によって発光する。例えば、数字の
「１」を露光する場合は、図３のセグメント５１２と、
セグメント５１３に対応するランプが同時に点灯させら
れる。他の数字も同様にして図４上段のように０から９
までの１０種類の数字が生成され、露光される。また必
要な場合には図４中段と下段に示すパターンも露光可能
である。図２は露光ヘッド６１の内部を表したもので、
パターン生成手段５１の像を、投影レンズ前段９２と投
影レンズ後段９３で縮小投影する様子を表している。基
板に露光された数字は、人または他の装置によって読み
取られ、基板の生産管理に活用される。
【０００８】ところで、キセノンフラッシュランプ３２
の発光時間は８０マイクロ秒であり、基板が毎秒２００
ｍｍの速度で搬送されていても、露光ずれはわずか１６
ミクロンに収まる。大きさ１．５ｍｍの文字に対し、１
６ミクロンは約１００分の１であり、事実上搬送による
ブレは無視できる。さらにキセノンフラッシュランプは
１００ヘルツで繰り返し点灯できるため、数字は２ｍｍ
ピッチで露光できる。すなわち、搬送されている基板は
露光の際に毎回停止する必要はなく、毎秒２００ｍｍの
速度で連続搬送されながら露光することができる。この
ため、１０種類の数字を露光するのにわずか０．１秒し
か要しない。
の発光時間は８０マイクロ秒であり、基板が毎秒２００
ｍｍの速度で搬送されていても、露光ずれはわずか１６
ミクロンに収まる。大きさ１．５ｍｍの文字に対し、１
６ミクロンは約１００分の１であり、事実上搬送による
ブレは無視できる。さらにキセノンフラッシュランプは
１００ヘルツで繰り返し点灯できるため、数字は２ｍｍ
ピッチで露光できる。すなわち、搬送されている基板は
露光の際に毎回停止する必要はなく、毎秒２００ｍｍの
速度で連続搬送されながら露光することができる。この
ため、１０種類の数字を露光するのにわずか０．１秒し
か要しない。
【０００９】本実施形態においては数字を露光する例と
して７つのセグメントを８の字に配列した例を示した
が、セグメントの形状と配列は必ずしもこれに限定され
ない。たとえば、図５のように４つのセグメントを田の
字状に配列して、図６のような組み合わせによって数字
と同様の意味を付与してもよい。この場合、露光パター
ンはスキャナーによる自動読み取りが好適である。とこ
ろで、本実施形態においては露光ヘッド６１を固定した
例を示したが、露光ヘッド６１に移動機構をつけて基板
の任意の位置にパターンを露光するようにしてもよい。
また、本実施形態においては光源からの光をライトガイ
ド４１を用いてセグメントに導いたが、ライトガイドを
用いず、フラッシュランプの集光点に特定開口形状を有
するマスクを配置し、これをもってセグメントとしても
よい。さらに、本実施形態においては光源にキセノンフ
ラッシュランプ３２を使用した例を示したが、パルス点
灯できて感光材料を感光できる発光スペクトルとエネル
ギーを持つ光源なら他の光源で代替できることはいうま
でもない。
して７つのセグメントを８の字に配列した例を示した
が、セグメントの形状と配列は必ずしもこれに限定され
ない。たとえば、図５のように４つのセグメントを田の
字状に配列して、図６のような組み合わせによって数字
と同様の意味を付与してもよい。この場合、露光パター
ンはスキャナーによる自動読み取りが好適である。とこ
ろで、本実施形態においては露光ヘッド６１を固定した
例を示したが、露光ヘッド６１に移動機構をつけて基板
の任意の位置にパターンを露光するようにしてもよい。
また、本実施形態においては光源からの光をライトガイ
ド４１を用いてセグメントに導いたが、ライトガイドを
用いず、フラッシュランプの集光点に特定開口形状を有
するマスクを配置し、これをもってセグメントとしても
よい。さらに、本実施形態においては光源にキセノンフ
ラッシュランプ３２を使用した例を示したが、パルス点
灯できて感光材料を感光できる発光スペクトルとエネル
ギーを持つ光源なら他の光源で代替できることはいうま
でもない。
【００１０】次に光量検出器７１について説明する。光
量検出器７１は投影レンズ前段９２の後側焦点に設置さ
れている。投影レンズ前段９２の後側焦点は、投影レン
ズ９１のセグメント側から光軸と平行に入射した光線が
光軸と交わる点である。このため、セグメントから光軸
と平行に出射した光線（これを主光線という）はセグメ
ントの位置に依存せず、すべてこの光量検出器７１に入
射する。従って光量検出器７１をここに配置すること
で、発光領域から出る最も代表的な光である主光線を検
知することができる。この実施形態においてはキセノン
フラッシュランプが約１万回発光するごとに光量較正を
行う。光量較正する場合はフラッシュランプを１つずつ
発光させ、順次光量検出器で光量を検出する。その結果
光量が低下しているフラッシュランプについては駆動電
流を増大させる。発光光量が元と同じになるよう駆動電
流を制御し、次回露光時からは露光に際してその値を維
持することによって、基板にはランプが新品の時に等し
い露光が与えられ、安定した露光品質が確保される。
量検出器７１は投影レンズ前段９２の後側焦点に設置さ
れている。投影レンズ前段９２の後側焦点は、投影レン
ズ９１のセグメント側から光軸と平行に入射した光線が
光軸と交わる点である。このため、セグメントから光軸
と平行に出射した光線（これを主光線という）はセグメ
ントの位置に依存せず、すべてこの光量検出器７１に入
射する。従って光量検出器７１をここに配置すること
で、発光領域から出る最も代表的な光である主光線を検
知することができる。この実施形態においてはキセノン
フラッシュランプが約１万回発光するごとに光量較正を
行う。光量較正する場合はフラッシュランプを１つずつ
発光させ、順次光量検出器で光量を検出する。その結果
光量が低下しているフラッシュランプについては駆動電
流を増大させる。発光光量が元と同じになるよう駆動電
流を制御し、次回露光時からは露光に際してその値を維
持することによって、基板にはランプが新品の時に等し
い露光が与えられ、安定した露光品質が確保される。
【００１１】
【発明の効果】請求項１に記載する発明によれば、極め
て処理速度の早いパターン露光装置を提供することでき
る。これは本装置に特に露光ステーションを設ける必要
がなくなることを意味する。なぜなら、毎秒２００ｍｍ
という本装置の処理速度は一般的な基板搬送速度を上回
るため、露光ヘッドを単に基板搬送路の上に設置するだ
けでパターン露光をすることができるようになるからで
ある。露光ステーションが不要になると、パターン露光
装置として特に基板処理ラインの床の一部を占拠しなく
てもすみ、基板処理ラインの省スぺース化が図れる。特
に単位床面積当たりの設備費が高いクリーンルームにお
いて、設置床面積が実質的にゼロになるコストメリット
は大きい。もちろん、露光ステーションが不要な点は基
板処理ラインの低コスト化だけでなく、パターン露光装
置自身の低コスト化にも寄与する。
て処理速度の早いパターン露光装置を提供することでき
る。これは本装置に特に露光ステーションを設ける必要
がなくなることを意味する。なぜなら、毎秒２００ｍｍ
という本装置の処理速度は一般的な基板搬送速度を上回
るため、露光ヘッドを単に基板搬送路の上に設置するだ
けでパターン露光をすることができるようになるからで
ある。露光ステーションが不要になると、パターン露光
装置として特に基板処理ラインの床の一部を占拠しなく
てもすみ、基板処理ラインの省スぺース化が図れる。特
に単位床面積当たりの設備費が高いクリーンルームにお
いて、設置床面積が実質的にゼロになるコストメリット
は大きい。もちろん、露光ステーションが不要な点は基
板処理ラインの低コスト化だけでなく、パターン露光装
置自身の低コスト化にも寄与する。
【００１２】請求項１に記載する発明は、上記の主効果
の他、次の副次的な効果を有する。第１は発熱が少ない
点である。従来のパターン露光装置では光源に超高圧水
銀灯等の連続点灯の放電灯を使用していたため、露光時
間以外でも光源は点灯しており、少なからぬ発熱があっ
た。この点本発明のランプは極めて低いデュティー比で
駆動されるため、発熱が少ない。例えば、基板が２００
ｍｍピッチで毎秒２００ｍｍの速度で搬送されており、
これに基板毎に１０種のパターンを露光する場合、露光
時間の総和は基板毎に０．８ミリ秒でありデュティー比
は１対１０００以下になる。つまり、従来のパターン露
光装置と光学効率が等しい場合、発熱は連続点灯光源の
１０００分の１以下になる。通常、基板の処理ラインは
高度に温度制御された室内に設置され、発熱体には別途
排気設備を用意する必要がある。このため、発熱が少な
い点は設備面で大きなコストメリットを生む。
の他、次の副次的な効果を有する。第１は発熱が少ない
点である。従来のパターン露光装置では光源に超高圧水
銀灯等の連続点灯の放電灯を使用していたため、露光時
間以外でも光源は点灯しており、少なからぬ発熱があっ
た。この点本発明のランプは極めて低いデュティー比で
駆動されるため、発熱が少ない。例えば、基板が２００
ｍｍピッチで毎秒２００ｍｍの速度で搬送されており、
これに基板毎に１０種のパターンを露光する場合、露光
時間の総和は基板毎に０．８ミリ秒でありデュティー比
は１対１０００以下になる。つまり、従来のパターン露
光装置と光学効率が等しい場合、発熱は連続点灯光源の
１０００分の１以下になる。通常、基板の処理ラインは
高度に温度制御された室内に設置され、発熱体には別途
排気設備を用意する必要がある。このため、発熱が少な
い点は設備面で大きなコストメリットを生む。
【００１３】第２の効果はランプの寿命が長い点であ
る。従来のパターン露光装置で使用されている超高圧水
銀灯等の連続点灯光源の寿命は千時間内外である。一
方、フラッシュランプは１億回程度の繰り返し点灯がで
きる。すなわち、上記の例のように毎秒１０回点灯した
場合、フラッシュランプには３千時間の寿命があること
になり、わずらわしいランプ交換作業は従来の３分の１
の頻度ですむ。しかも、従来のパターン露光装置に比較
して３００倍の生産性があるので、１本のランプで処理
できる基板枚数は従来の９００倍になる。これは基板１
枚当たりのランプのランニングコストを著しく低下させ
る。
る。従来のパターン露光装置で使用されている超高圧水
銀灯等の連続点灯光源の寿命は千時間内外である。一
方、フラッシュランプは１億回程度の繰り返し点灯がで
きる。すなわち、上記の例のように毎秒１０回点灯した
場合、フラッシュランプには３千時間の寿命があること
になり、わずらわしいランプ交換作業は従来の３分の１
の頻度ですむ。しかも、従来のパターン露光装置に比較
して３００倍の生産性があるので、１本のランプで処理
できる基板枚数は従来の９００倍になる。これは基板１
枚当たりのランプのランニングコストを著しく低下させ
る。
【００１４】次に、請求項２に記載する発明によれば、
処理速度が早いだけでなく安定した露光品質の得られる
パターン露光装置を提供することができる。本発明にお
いては特に光量検出器７１をセグメントから出る主光線
７２が交差する点に配置したから、全てのセグメントか
ら来る光を１つの光量検出器で検出できる。このため、
複数のセグメントがあるにもかかわらず光量検出器は１
つで足り、露光ヘッドがコンパクトになるだけでなく、
露光ヘッドのコストを低減できる。さらに、各発光領域
から出る光の内最も代表的な光の強さを検出できるの
で、光量検出の精度が高く、フラッシュランプの寿命末
期まで安定した露光品質が確保できる。
処理速度が早いだけでなく安定した露光品質の得られる
パターン露光装置を提供することができる。本発明にお
いては特に光量検出器７１をセグメントから出る主光線
７２が交差する点に配置したから、全てのセグメントか
ら来る光を１つの光量検出器で検出できる。このため、
複数のセグメントがあるにもかかわらず光量検出器は１
つで足り、露光ヘッドがコンパクトになるだけでなく、
露光ヘッドのコストを低減できる。さらに、各発光領域
から出る光の内最も代表的な光の強さを検出できるの
で、光量検出の精度が高く、フラッシュランプの寿命末
期まで安定した露光品質が確保できる。
【図１】本発明にかかるパターン露光装置の動作状況を
表す図である。
表す図である。
【図２】本発明にかかるパターン露光装置の露光ヘッド
部の詳細図である。
部の詳細図である。
【図３】本発明にかかるパターン露光装置のセグメント
配列を表す図である。
配列を表す図である。
【図４】図３のセグメント配列で露光可能なパターンの
例を示す図である。
例を示す図である。
【図５】本発明にかかるパターン露光装置の別のセグメ
ント配列表す図である。
ント配列表す図である。
【図６】図５のセグメント配列で露光可能なパターンの
別の例を示す図である。
別の例を示す図である。
【図７】従来のパターン露光装置の動作状況を表す図で
ある。
ある。
１１ 基板 ２１ 搬送路 ３１ 光源 ３２ フラッシュランプ ４１ ライトガイド ５１ パターン生成手段 ５１１ セグメント ６１ 露光ヘッド ７１ 光量検出器 ８１ 露光されたパターン ９１ 投影レンズ
Claims (2)
- 【請求項１】光源（３１）と、パターン生成手段（５
１）と、投影レンズ（９１）から成るパターン露光装置
において、光源（３１）に複数のフラッシュランプ（３
２）を使用するとともに、１つのフラッシュランプから
出た光によって１つのセグメントを形成し、複数のセグ
メントの配列によってパターン生成手段（５１）を構成
したことを特徴とするパターン露光装置。 - 【請求項２】各セグメントから出る主光線が交差する点
に光量検出器（７１）を配置するとともに、この光量検
出器（７１）の出力を参照してフラッシュランプ（３
２）の発光光量を調節することを特徴とする請求項１記
載のパターン露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8333106A JPH10163101A (ja) | 1996-11-29 | 1996-11-29 | パターン露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8333106A JPH10163101A (ja) | 1996-11-29 | 1996-11-29 | パターン露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10163101A true JPH10163101A (ja) | 1998-06-19 |
Family
ID=18262356
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8333106A Pending JPH10163101A (ja) | 1996-11-29 | 1996-11-29 | パターン露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10163101A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007220933A (ja) * | 2006-02-17 | 2007-08-30 | Ushio Inc | 露光装置 |
| US7339675B2 (en) | 2000-06-02 | 2008-03-04 | Fujifilm Corporation | Apparatus for stacking sheet members, apparatus for measuring dimensions of sheet members, and apparatus for and method of marking sheet members |
-
1996
- 1996-11-29 JP JP8333106A patent/JPH10163101A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7339675B2 (en) | 2000-06-02 | 2008-03-04 | Fujifilm Corporation | Apparatus for stacking sheet members, apparatus for measuring dimensions of sheet members, and apparatus for and method of marking sheet members |
| JP2007220933A (ja) * | 2006-02-17 | 2007-08-30 | Ushio Inc | 露光装置 |
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