JP3241459B2 - 塔槽類の排ガス処理方法 - Google Patents
塔槽類の排ガス処理方法Info
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- JP3241459B2 JP3241459B2 JP28955392A JP28955392A JP3241459B2 JP 3241459 B2 JP3241459 B2 JP 3241459B2 JP 28955392 A JP28955392 A JP 28955392A JP 28955392 A JP28955392 A JP 28955392A JP 3241459 B2 JP3241459 B2 JP 3241459B2
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- gas
- inert gas
- tanks
- upper space
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は塔槽類の排ガス処理方法
に関し、揮発性有機物質を取り扱う塔槽類内上部空間の
酸素濃度を安全濃度に保持するために、当該空間を不活
性ガスでパ−ジする場合に発生する排ガスの処理に使用
するものである。
に関し、揮発性有機物質を取り扱う塔槽類内上部空間の
酸素濃度を安全濃度に保持するために、当該空間を不活
性ガスでパ−ジする場合に発生する排ガスの処理に使用
するものである。
【０００２】
【従来の技術】爆発性または有毒性の揮発性有機物質を
取り扱う塔槽類、例えば、貯留タンク，溶解撹拌槽，反
応槽，中継タンク，吸収塔，蒸留塔等においては、塔槽
類内上部空間の酸素濃度を爆発等に対して安全範囲内に
保持するように不活性ガスでパ−ジすることが行われて
いる。
取り扱う塔槽類、例えば、貯留タンク，溶解撹拌槽，反
応槽，中継タンク，吸収塔，蒸留塔等においては、塔槽
類内上部空間の酸素濃度を爆発等に対して安全範囲内に
保持するように不活性ガスでパ−ジすることが行われて
いる。
【０００３】この不活性ガスパ−ジにおいては、塔槽類
内上部空間での酸素濃度が上限濃度になると、ガスパ−
ジが開始され、下限濃度になるとガスパ−ジが停止さ
れ、ガスパ−ジに伴って追い出されるガスには、通常、
有機蒸気が高濃度で含有されている。従って、そのまま
大気中に放出することは、環境衛生上好ましくないばか
りか、有機物質の損失となり、不経済である。
内上部空間での酸素濃度が上限濃度になると、ガスパ−
ジが開始され、下限濃度になるとガスパ−ジが停止さ
れ、ガスパ−ジに伴って追い出されるガスには、通常、
有機蒸気が高濃度で含有されている。従って、そのまま
大気中に放出することは、環境衛生上好ましくないばか
りか、有機物質の損失となり、不経済である。
【０００４】かかる不利を排除するために、追い出しガ
スをそのガス中の有機物質を回収しつつ大気中に放出す
ることが知られており、その有機物質の回収に、当該有
機蒸気に対して選択透過性を有する分離膜モジュ−ルを
使用することも公知である。また、不活性ガスを回収し
て再使用することも公知である。
スをそのガス中の有機物質を回収しつつ大気中に放出す
ることが知られており、その有機物質の回収に、当該有
機蒸気に対して選択透過性を有する分離膜モジュ−ルを
使用することも公知である。また、不活性ガスを回収し
て再使用することも公知である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、塔槽類
内上部空間の圧力がガスパ−ジのために変動し、分離膜
モジュ−ルの膜間差圧もこれに伴い変動する結果、分離
膜モジュ−ルの膜間差圧を所望の一定値に保持し難く、
有機物質の効率的な分離（回収）を保障し難い。
内上部空間の圧力がガスパ−ジのために変動し、分離膜
モジュ−ルの膜間差圧もこれに伴い変動する結果、分離
膜モジュ−ルの膜間差圧を所望の一定値に保持し難く、
有機物質の効率的な分離（回収）を保障し難い。
【０００６】尤も、ガスパ−ジを低速にすれば、塔槽類
内上部空間の圧力変動を軽度にとどめ得るが、周囲条件
の急変或は塔槽類内貯留液の出入り操作によって塔槽類
内上部空間の圧力が急峻に増加したとき、その圧力変動
にガスパ−ジが追いつかずに、塔槽類のシ−ル不良部で
の大気の出入りによる酸素濃度変動や塔槽類の機械的強
度面での安全性に失する。
内上部空間の圧力変動を軽度にとどめ得るが、周囲条件
の急変或は塔槽類内貯留液の出入り操作によって塔槽類
内上部空間の圧力が急峻に増加したとき、その圧力変動
にガスパ−ジが追いつかずに、塔槽類のシ−ル不良部で
の大気の出入りによる酸素濃度変動や塔槽類の機械的強
度面での安全性に失する。
【０００７】本発明の目的は、揮発性の有機物質を取り
扱う塔槽類内上部空間を不活性ガスのパ−ジによって安
全なガス状態に保持すると共にそのガスパ−ジによって
追い出されるガスから分離膜モジュ−ルによって有機物
質を回収する場合、塔槽類内上部空間の圧力を該空間の
安全状態を保持しつつ実質上所定の一定圧力として分離
膜モジュ−ルの膜間差圧を所望の一定値に維持し、有機
蒸気の分離回収を効率よく行い得る塔槽類の排ガス処理
方法を提供することにある。
扱う塔槽類内上部空間を不活性ガスのパ−ジによって安
全なガス状態に保持すると共にそのガスパ−ジによって
追い出されるガスから分離膜モジュ−ルによって有機物
質を回収する場合、塔槽類内上部空間の圧力を該空間の
安全状態を保持しつつ実質上所定の一定圧力として分離
膜モジュ−ルの膜間差圧を所望の一定値に維持し、有機
蒸気の分離回収を効率よく行い得る塔槽類の排ガス処理
方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の塔槽類の排ガス
処理方法は、揮発性有機物質を取り扱う塔槽類内に不活
性ガスをパ−ジして当該塔槽類内上部空間での酸素濃度
を安全濃度に保持すると共に上記不活性ガスのパ−ジに
伴い追い出される有機蒸気含有不活性ガスを分離膜モジ
ュ−ルに通して有機蒸気と不活性ガスとに分離し、有機
物質を塔槽類外で回収しつつ不活性ガスを大気に放出す
る方法において、上記分離した不活性ガスリッチガスの
一部を塔槽類内に還流させる配管を設け、塔槽類内上部
空間圧力を一定とするように、不活性ガスリッチガスの
還流量並びに大気放出量を調節することを特徴とする構
成である。
処理方法は、揮発性有機物質を取り扱う塔槽類内に不活
性ガスをパ−ジして当該塔槽類内上部空間での酸素濃度
を安全濃度に保持すると共に上記不活性ガスのパ−ジに
伴い追い出される有機蒸気含有不活性ガスを分離膜モジ
ュ−ルに通して有機蒸気と不活性ガスとに分離し、有機
物質を塔槽類外で回収しつつ不活性ガスを大気に放出す
る方法において、上記分離した不活性ガスリッチガスの
一部を塔槽類内に還流させる配管を設け、塔槽類内上部
空間圧力を一定とするように、不活性ガスリッチガスの
還流量並びに大気放出量を調節することを特徴とする構
成である。
【０００９】
【作用】不活性ガスリッチガスの還流量または大気放出
量が、塔槽類内上部空間圧力を一定とするように調節さ
れ、その結果、塔槽類内上部空間に連通された分離膜モ
ジュ−ルの高圧側圧力が一定にされ、分離膜モジュ−ル
の膜間差圧が一定に保持される。従って、膜間差圧の変
動による分離効率の低下を排除できる。
量が、塔槽類内上部空間圧力を一定とするように調節さ
れ、その結果、塔槽類内上部空間に連通された分離膜モ
ジュ−ルの高圧側圧力が一定にされ、分離膜モジュ−ル
の膜間差圧が一定に保持される。従って、膜間差圧の変
動による分離効率の低下を排除できる。
【００１０】
【実施例】図１は本発明の実施例において使用する排ガ
スの処理装置を示している。図１において、１は揮発性
有機物質、例えばヘキサンの貯槽である。２は不活性ガ
ス供給ライン、３は不活性ガス流量制御弁、４は貯槽内
上部空間に連通された酸素濃度指示調節計であり、この
酸素濃度指示調節計４により貯槽内上部空間の酸素濃度
が検出され、その検出値で不活性ガス流量制御弁３が調
節され、不活性ガス供給量が制御されて酸素濃度が爆発
の畏れのない安全濃度に維持される。
スの処理装置を示している。図１において、１は揮発性
有機物質、例えばヘキサンの貯槽である。２は不活性ガ
ス供給ライン、３は不活性ガス流量制御弁、４は貯槽内
上部空間に連通された酸素濃度指示調節計であり、この
酸素濃度指示調節計４により貯槽内上部空間の酸素濃度
が検出され、その検出値で不活性ガス流量制御弁３が調
節され、不活性ガス供給量が制御されて酸素濃度が爆発
の畏れのない安全濃度に維持される。
【００１１】５は凝縮用冷却器、５１は冷却水ラインで
あり、冷却器５の被処理ガス入口と貯槽内上部空間との
間が被処理ガス移送ライン５２によって連通されてい
る。５３は有機物質回収ラインである。６は被処理ガス
中の有機蒸気に対して選択透過性を有する分離膜モジュ
−ルである。７は分離膜モジュ−ル透過側の有機蒸気リ
ッチガスを冷却器５に還流させる透過ガス還流ライン、
７１は透過ガス還流ライン７中に設けられた真空ポンプ
である。
あり、冷却器５の被処理ガス入口と貯槽内上部空間との
間が被処理ガス移送ライン５２によって連通されてい
る。５３は有機物質回収ラインである。６は被処理ガス
中の有機蒸気に対して選択透過性を有する分離膜モジュ
−ルである。７は分離膜モジュ−ル透過側の有機蒸気リ
ッチガスを冷却器５に還流させる透過ガス還流ライン、
７１は透過ガス還流ライン７中に設けられた真空ポンプ
である。
【００１２】８は分離膜モジュ−ル６の非透過ガス出口
からの不活性ガスリッチガスが吸引される非透過ガス吸
引ライン、８１はブロア、９は非透過ガスの一部を貯槽
内上部空間に還流させる非透過ガス還流配管である。
からの不活性ガスリッチガスが吸引される非透過ガス吸
引ライン、８１はブロア、９は非透過ガスの一部を貯槽
内上部空間に還流させる非透過ガス還流配管である。
【００１３】１０は非透過ガス放出ライン、１１は放出
流量制御弁、１２は貯槽内上部空間に連通された圧力指
示調節計であり、この圧力指示調節計１２により貯槽内
上部空間の圧力が検出され、その検出値で放出流量制御
弁１１が調節され、放出量がが制御されて貯槽内上部空
間の圧力が所望の一定値に保持される。
流量制御弁、１２は貯槽内上部空間に連通された圧力指
示調節計であり、この圧力指示調節計１２により貯槽内
上部空間の圧力が検出され、その検出値で放出流量制御
弁１１が調節され、放出量がが制御されて貯槽内上部空
間の圧力が所望の一定値に保持される。
【００１４】上記において、貯槽内上部空間の酸素濃度
は、有機蒸気濃度に無関係に爆発限界濃度外に設定さ
れ、通常０〜１０vol％に設定される。また、貯槽内上
部空間の圧力は、貯槽の耐久圧力値以下で、しかも任意
部分でのシ−ル不良が発生して貯槽内へ大気が多量に吸
引されて酸素濃度が上昇することが起こらないように、
通常、−１００〜＋１００mmH2Oに設定される。
は、有機蒸気濃度に無関係に爆発限界濃度外に設定さ
れ、通常０〜１０vol％に設定される。また、貯槽内上
部空間の圧力は、貯槽の耐久圧力値以下で、しかも任意
部分でのシ−ル不良が発生して貯槽内へ大気が多量に吸
引されて酸素濃度が上昇することが起こらないように、
通常、−１００〜＋１００mmH2Oに設定される。
【００１５】図１に示す装置により本発明を実施するに
は、酸素濃度指示調節計４により貯槽内上部空間の酸素
濃度を検出させ、その検出値が上記した設定値を越えて
いると、不活性ガス流量制御弁３の自動開通により不活
性ガスをパ−ジさせ、検出ヘキサン蒸気濃度が設定値に
回復するとパ−ジを停止させ、以後、パ−ジ開始と停止
とを繰り返えさせて貯槽内上部空間の酸素濃度を設定値
に維持させる。
は、酸素濃度指示調節計４により貯槽内上部空間の酸素
濃度を検出させ、その検出値が上記した設定値を越えて
いると、不活性ガス流量制御弁３の自動開通により不活
性ガスをパ−ジさせ、検出ヘキサン蒸気濃度が設定値に
回復するとパ−ジを停止させ、以後、パ−ジ開始と停止
とを繰り返えさせて貯槽内上部空間の酸素濃度を設定値
に維持させる。
【００１６】この貯槽内上部空間への不活性ガスのパ−
ジに伴い、同空間に存在していたヘキサン蒸気含有不活
性ガスを冷却器５に押出移送させ、冷却器５の温度と圧
力で定まるヘキサン蒸気飽和濃度のもとでその移送ガス
のヘキサン蒸気を凝縮させ、その凝縮液をヘキサン回収
ライン５３で回収させる。
ジに伴い、同空間に存在していたヘキサン蒸気含有不活
性ガスを冷却器５に押出移送させ、冷却器５の温度と圧
力で定まるヘキサン蒸気飽和濃度のもとでその移送ガス
のヘキサン蒸気を凝縮させ、その凝縮液をヘキサン回収
ライン５３で回収させる。
【００１７】一方、凝縮処理を終えたヘキサン蒸気飽和
ガスを、ブロア８１の吸引作用により分離膜モジュ−ル
６に移送させ、真空ポンプ７１による分離膜モジュ−ル
透過側の減圧下、ヘキサン蒸気に対して選択透過性を有
する分離膜モジュ−ル６の膜にヘキサン蒸気を透過濃縮
させ、この透過側のヘキサン蒸気過飽和のガスを冷却器
５に還流させて再度ヘキサン蒸気を凝縮分離させ、以
後、分離膜モジュ−ル６によるヘキサン蒸気の濃縮と冷
却器５によるヘキサン蒸気の凝縮を繰り返えさせてヘキ
サンを回収ライン５３で回収させていく。
ガスを、ブロア８１の吸引作用により分離膜モジュ−ル
６に移送させ、真空ポンプ７１による分離膜モジュ−ル
透過側の減圧下、ヘキサン蒸気に対して選択透過性を有
する分離膜モジュ−ル６の膜にヘキサン蒸気を透過濃縮
させ、この透過側のヘキサン蒸気過飽和のガスを冷却器
５に還流させて再度ヘキサン蒸気を凝縮分離させ、以
後、分離膜モジュ−ル６によるヘキサン蒸気の濃縮と冷
却器５によるヘキサン蒸気の凝縮を繰り返えさせてヘキ
サンを回収ライン５３で回収させていく。
【００１８】また、分離膜モジュ−ル６の非透過側から
出ていく不活性ガスリッチガスにおいては、ブロア８１
による吸引下、非透過ガス放出ライン１０並びに非透過
ガス還流配管９に向かわせ、貯槽内上部空間圧力を、前
記した所定圧力（大気圧−１００〜＋１００mmH2O）と
するように圧力指示調節計１２により、不活性ガスリッ
チガスの大気への放出量を調節させる。
出ていく不活性ガスリッチガスにおいては、ブロア８１
による吸引下、非透過ガス放出ライン１０並びに非透過
ガス還流配管９に向かわせ、貯槽内上部空間圧力を、前
記した所定圧力（大気圧−１００〜＋１００mmH2O）と
するように圧力指示調節計１２により、不活性ガスリッ
チガスの大気への放出量を調節させる。
【００１９】即ち、圧力指示調節計１２により貯槽内上
部空間圧力を検出させ、その検出値が上記した所定圧力
を越えていると、放出流量制御弁１１の自動開閉制御に
より放出量を還流流量よりも多くさせ、検出圧力が所定
値にに回復すると放出流量制御弁１１の自動閉鎖により
不活性ガスリッチガスの大気中放出量を零にしてそのガ
スの全量を貯槽１に還流させる。
部空間圧力を検出させ、その検出値が上記した所定圧力
を越えていると、放出流量制御弁１１の自動開閉制御に
より放出量を還流流量よりも多くさせ、検出圧力が所定
値にに回復すると放出流量制御弁１１の自動閉鎖により
不活性ガスリッチガスの大気中放出量を零にしてそのガ
スの全量を貯槽１に還流させる。
【００２０】このように、本発明によれば、貯槽内上部
空間の圧力を所定の一定値に維持しつつ、ヘキサンを高
効率で回収できる。
空間の圧力を所定の一定値に維持しつつ、ヘキサンを高
効率で回収できる。
【００２１】このことは、次の実施例からも確認でき
る。 実施例１ 図１において、貯槽１には有効容積１００m3のヘキサン
貯留タンクを、分離膜モジュ−ル６には日東電工（株）
製分離膜モジュ−ル，NTGS−2200−S8一本（膜面積１４
m3）を，真空ポンプ７１には３．７KWル−ツ型ドライ式
を，ブロア８１には０．４KW揺動型ドライ式をそれぞれ
使用し、貯留タンク内上部空間の酸素濃度を０〜５VOL
％とするように、窒素ガスのパ−ジ量を１００〜３００
L/minの範囲で調節すると共に貯留タンク内上部空間圧
力をゲ−ジ圧５０mmH2Oとするように分離膜モジュ−ル
６の非透過側からの窒素リッチガスの大気放出量を調節
したところ、ヘキサンの回収効率を８０％以上になし得
た。
る。 実施例１ 図１において、貯槽１には有効容積１００m3のヘキサン
貯留タンクを、分離膜モジュ−ル６には日東電工（株）
製分離膜モジュ−ル，NTGS−2200−S8一本（膜面積１４
m3）を，真空ポンプ７１には３．７KWル−ツ型ドライ式
を，ブロア８１には０．４KW揺動型ドライ式をそれぞれ
使用し、貯留タンク内上部空間の酸素濃度を０〜５VOL
％とするように、窒素ガスのパ−ジ量を１００〜３００
L/minの範囲で調節すると共に貯留タンク内上部空間圧
力をゲ−ジ圧５０mmH2Oとするように分離膜モジュ−ル
６の非透過側からの窒素リッチガスの大気放出量を調節
したところ、ヘキサンの回収効率を８０％以上になし得
た。
【００２２】なお、貯留タンク内上部空間のヘキサン蒸
気濃度を測定したところ、３０VOL％以上であった。ま
た、分離膜モジュ−ルの非透過側からの窒素リッチガス
の窒素ガス濃度を測定したところ、９０％以上であっ
た。
気濃度を測定したところ、３０VOL％以上であった。ま
た、分離膜モジュ−ルの非透過側からの窒素リッチガス
の窒素ガス濃度を測定したところ、９０％以上であっ
た。
【００２３】実施例２ 樹脂をトルエンで溶解する場合に使用する樹脂溶解釜を
対象とし、図２に示すように、並列配設の溶解釜５台に
対し処理装置を併用した（図２において、図１と同一の
符号は、同一の構成要素を示している）。
対象とし、図２に示すように、並列配設の溶解釜５台に
対し処理装置を併用した（図２において、図１と同一の
符号は、同一の構成要素を示している）。
【００２４】各樹脂溶解釜１には有効容積４m3のもの
を、分離膜モジュ−ル６には日東電工（株）製分離膜モ
ジュ−ル，NTGS−2200−S4一本（膜面積３m3）を，真空
ポンプ７１には１．５KWル−ツ型ドライ式を，ブロア８
１には０．４KWル−ツ型ドライ式をそれぞれ使用し、釜
内上部空間の酸素濃度を２〜８VOL％とするように、窒
素ガスのパ−ジ量を１０〜２０L/minの範囲で調節する
と共に釜内上部空間圧力をゲ−ジ圧−１００mmH2Oとす
るように分離膜モジュ−ルの非透過側からの窒素リッチ
ガスの大気放出量を調節したところ、トルエンの回収効
率を９０％以上になし得た。
を、分離膜モジュ−ル６には日東電工（株）製分離膜モ
ジュ−ル，NTGS−2200−S4一本（膜面積３m3）を，真空
ポンプ７１には１．５KWル−ツ型ドライ式を，ブロア８
１には０．４KWル−ツ型ドライ式をそれぞれ使用し、釜
内上部空間の酸素濃度を２〜８VOL％とするように、窒
素ガスのパ−ジ量を１０〜２０L/minの範囲で調節する
と共に釜内上部空間圧力をゲ−ジ圧−１００mmH2Oとす
るように分離膜モジュ−ルの非透過側からの窒素リッチ
ガスの大気放出量を調節したところ、トルエンの回収効
率を９０％以上になし得た。
【００２５】なお、貯留タンク内上部空間のトルエン蒸
気濃度を測定したところ、４VOL％以上であった。ま
た、分離膜モジュ−ルの非透過側からの窒素リッチガス
の窒素ガス濃度を測定したところ、９９％以上であっ
た。
気濃度を測定したところ、４VOL％以上であった。ま
た、分離膜モジュ−ルの非透過側からの窒素リッチガス
の窒素ガス濃度を測定したところ、９９％以上であっ
た。
【００２６】また、上記の実施例においては、有機蒸気
に対して選択透過性を有する分離膜モジュ−ルを使用し
ているが、不活性ガスに対し選択透過性を有する分離膜
モジュ−ルを使用し、透過側ガスを大気放出ライン並び
に貯槽への還流配管側に送り、非透過側のガスを冷却器
に還流させることもできる。
に対して選択透過性を有する分離膜モジュ−ルを使用し
ているが、不活性ガスに対し選択透過性を有する分離膜
モジュ−ルを使用し、透過側ガスを大気放出ライン並び
に貯槽への還流配管側に送り、非透過側のガスを冷却器
に還流させることもできる。
【００２７】更に、適応対象は上記の実施例の貯槽、樹
脂溶解釜に限定されるものではなく、反応槽，中継タン
ク，吸収塔，蒸留塔等の塔槽類にも適用できる。
脂溶解釜に限定されるものではなく、反応槽，中継タン
ク，吸収塔，蒸留塔等の塔槽類にも適用できる。
【００２８】
【発明の効果】本発明の塔槽類の排ガス処理方法は、揮
発性有機物質を取り扱う塔槽類内に不活性ガスをパ−ジ
して当該塔槽類内上部空間での酸素濃度を安全濃度に保
持すると共に上記不活性ガスのパ−ジに伴い追い出され
る有機蒸気含有不活性ガスを分離膜モジュ−ルに通して
有機蒸気と不活性ガスとに分離し、有機物質を回収しつ
つ不活性ガスを大気に放出する方法において、分離膜モ
ジュ−ルで分離した不活性ガスの一部を塔槽類内上部空
間に還流可能とし、その還流量とその不活性ガスの大気
中放出量とを調節して塔槽類内上部空間圧力を所定の一
定圧力に維持しているから、分離膜モジュ−ルの膜間差
圧を一定にでき、また塔槽類外の冷却器−回収ラインで
有機溶剤を回収しているから、上部空間への還流ガスが
有機溶剤稀薄不活性ガスであるにもかかわらず、有機物
質を効率よく回収できる。従って、高い分離効率と高効
率の有機物質回収を保証でき、同時に不活性ガスの消費
量を最小限に押えることが可能である。
発性有機物質を取り扱う塔槽類内に不活性ガスをパ−ジ
して当該塔槽類内上部空間での酸素濃度を安全濃度に保
持すると共に上記不活性ガスのパ−ジに伴い追い出され
る有機蒸気含有不活性ガスを分離膜モジュ−ルに通して
有機蒸気と不活性ガスとに分離し、有機物質を回収しつ
つ不活性ガスを大気に放出する方法において、分離膜モ
ジュ−ルで分離した不活性ガスの一部を塔槽類内上部空
間に還流可能とし、その還流量とその不活性ガスの大気
中放出量とを調節して塔槽類内上部空間圧力を所定の一
定圧力に維持しているから、分離膜モジュ−ルの膜間差
圧を一定にでき、また塔槽類外の冷却器−回収ラインで
有機溶剤を回収しているから、上部空間への還流ガスが
有機溶剤稀薄不活性ガスであるにもかかわらず、有機物
質を効率よく回収できる。従って、高い分離効率と高効
率の有機物質回収を保証でき、同時に不活性ガスの消費
量を最小限に押えることが可能である。
【図１】本発明において使用する処理装置の一例を示す
説明図である。
説明図である。
【図２】本発明において使用する処理装置の別例を示す
説明図である。
説明図である。
１ 塔槽類 ２ 不活性ガス供給ライン ３ 不活性ガス流量制御弁 ４ 酸素濃度指示調節計 ５ 凝縮用冷却器 ５３ 有機物質回収ライン ６ 分離膜モジュ−ル ９ 非透過ガス還流配管 １０ 非透過ガス放出ライン １１ 放出流量制御弁 １２ 圧力指示調節計
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平３−56114（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B01D 53/22
Claims (1)
- 【請求項１】揮発性有機物質を取り扱う塔槽類内に不活
性ガスをパ−ジして当該塔槽類内上部空間での酸素濃度
を安全濃度に保持すると共に上記不活性ガスのパ−ジに
伴い追い出される有機蒸気含有不活性ガスを分離膜モジ
ュ−ルに通して有機蒸気と不活性ガスとに分離し、有機
物質を塔槽類外で回収しつつ不活性ガスを大気に放出す
る方法において、上記分離した不活性ガスリッチガスの
一部を塔槽類内に還流させる配管を設け、塔槽類内上部
空間圧力を一定とするように、不活性ガスリッチガスの
還流量並びに大気放出量を調節することを特徴とする塔
槽類の排ガス処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28955392A JP3241459B2 (ja) | 1992-10-02 | 1992-10-02 | 塔槽類の排ガス処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28955392A JP3241459B2 (ja) | 1992-10-02 | 1992-10-02 | 塔槽類の排ガス処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06114229A JPH06114229A (ja) | 1994-04-26 |
| JP3241459B2 true JP3241459B2 (ja) | 2001-12-25 |
Family
ID=17744730
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28955392A Expired - Lifetime JP3241459B2 (ja) | 1992-10-02 | 1992-10-02 | 塔槽類の排ガス処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3241459B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1992
- 1992-10-02 JP JP28955392A patent/JP3241459B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06114229A (ja) | 1994-04-26 |
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