JP3238901B2 - 多層プリント配線基板およびその製造方法 - Google Patents
多層プリント配線基板およびその製造方法Info
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Description
複数の配線パターンを備えた多層プリント配線基板およ
びその製造方法に関するものである。
化、高機能化が進展する中で電子機器を構成する各種電
子部品の小型化や薄型化等とともに、それら電子部品を
実装するプリント配線基板についても高密度実装を可能
にするための様々な技術開発が盛んである。
に、LSI等の半導体チップを高密度に実装することが
でき、高速回路にも対応することができる多層プリント
配線基板を安価に供給することが強く要望されてきてい
る。ところで、このような多層プリント配線基板には、
微細な配線ピッチで形成された複数層の配線パターン間
の高い電気的接続信頼性や優れた高周波特性が備えられ
ていることが要求される。
積層板のエッチングやめっき加工による従来のスルーホ
ール構造で層間の電気接続がなされる多層プリント配線
基板では、もはや満足して応えることは極めて困難とな
っている。そこで、そのような問題を解決するために、
新しい構造を備えたプリント配線基板や高密度配線を目
的とする製造方法が開発されつつある。
ァインパターン形成方法の最近の技術として単板プレス
法がある。この単板プレス法は、高速めっき技術と転写
法を基本的な技術とするものであり、先ず、金属板上に
高速電気銅めっきで配線パターンを形成し、プリプレグ
などの半硬化状の樹脂板の両面から、配線パターンが樹
脂板の表面と接するように、その配線パターンが形成さ
れた金属板を挟み込んで重ね、ホットプレス等により加
圧するとともに加熱して金属板上の銅めっき配線パター
ンを樹脂板に転写する。その後金属板を剥離し、樹脂板
をドリルによって孔加工してスルーホールを設け、その
スルーホール内壁に銅めっきを施すことにより両面の配
線パターンを回路接続するものである。この方法によっ
て得られる線幅、線間はともに製造レベルで40μmと
されている。
板の層間接続の主流となっていたスルーホール内壁の銅
めっき導体に代えて、インナーバイアホール内に導電体
を充填して接続信頼性の向上を図るとともに部品ランド
直下や任意の層間にインナーバイアホールを形成し、基
板サイズの小型化や高密度実装を実現することができる
全層IVH構造の樹脂多層基板(特開平6−26834
5号公報)がある。
の製造方法の一例について説明する。図9および10は
その製造方法を示す工程断面図であり、図9(a)に示
すように、先ず、離型性フィルム7が両面被覆されたア
ラミドエポキシ樹脂等のプリプレグよりなる支持体1の
必要とする箇所にレーザ加工機を用いて穿孔してバイア
ホール2を設け、同図(b)に示すようにこのバイアホ
ール2に導電性ペースト3を充填し、離型性フィルム7
を剥離して中間接続体20を得る。つぎに、同図(c)
に示すように、その中間接続体20の両面に銅箔4を配
置して加熱するとともに加圧することによってプリプレ
グ状態であった支持体1および導電性ペースト3を硬化
させるとともに両面の銅箔4を同時に支持体1に接着さ
せ、両面の銅箔4をバイアホール2の導電性ペースト3
を介して電気的に接続する。つぎに、同図(d)に示す
ように、その両面の銅箔4を従来のフォトリソグラフ法
によりエッチングして配線パターン5a、5bを形成す
ることにより両面配線基板6を得る。
で、上述した支持体1と同様の基板2枚に対して、両面
配線基板6のバイアホール2の位置とはそれぞれ別の位
置にバイアホール2a、2bを形成し、それらバイアホ
ール2a、2bに導電性ペースト3a、3bを充填して
中間接続体20aおよび中間接続体20bを作成する。
そして、図10(e)に示すように、両面配線基板6の
両面の所定の位置に中間接続体20aおよび中間接続体
20bを配置し、さらにその外側に銅箔4aおよび銅箔
4bを配置して再度加熱するとともに加圧することによ
り多層化する。つぎに図9(d)の工程と同様にして、
図10(f)に示すように、フォトリソグラフ法により
最外層の銅箔4a、4bをエッチングして外層配線パタ
ーン8a、8bを備える4層配線基板9を得る。
全層IVH構造を有する樹脂多層基板では、全層の接着
性絶縁体にアラミド不織布にエポキシ樹脂を含浸したア
ラミドエポキシプリプレグを用いており、そのことに起
因する以下の課題があった。
りなる絶縁基材は基板材料と銅箔等の金属箔との密着力
を悪くするので、上記の樹脂多層基板最外層の外面上に
形成された配線パターンに電子部品等を実装した際、高
い実装強度を得ることが困難である。
法が従来のフォトリソグラフ法であるために、その配線
ピッチや配線幅等の形成密度が従来のものと同等であ
り、また、多層プリント配線基板の最外層基板の表面に
は、アラミドエポキシプリプレグを熱圧着した際のアラ
ミド不織布繊維の形状がそのまま形成され、凹凸ができ
る。そのような凹凸を有する基板上にフォトリソグラフ
法によって配線パターンを形成する場合、銅箔とエッチ
ングレジストとの間に隙間が生じ易く、この隙間にエッ
チング液が染み込んで設計通りのパターン形成が困難と
なり、配線パターンの微細化に限界が生じていた。特
に、LSIベアチップ等の超小型電子部品を高密度で搭
載することが求められる多層プリント配線基板の最外層
の外面に設計通りの配線パターンを形成することができ
ないということは問題である。
グは繊維質基材に樹脂材が含浸された状態であるために
プリプレグ内部の構成が不均一になり易く、離型性フィ
ルムとアラミドエポキシプリプレグとの密着性が不足
し、導電性ペーストを貫通孔に充填する際、離型性フィ
ルムとプリプレグとの境界に導電性ペーストが入り込み
やすくなる。そのため、貫通孔と基板上に形成された配
線パターンとの間隔が小さい場合、電気的短絡が生じ易
くなるので、配線パターンの高密度化には限界が生じて
いた。
研究開発が続けて行われており、上記(1)の課題に対
しては、エポキシ樹脂を含浸した有機質不織布よりなる
絶縁基材の表面を絶縁性接着剤樹脂で覆うことにより基
板材料と金属箔との接着強度を向上させる技術(特開平
8−316598号公報)が開示されているが、
(2)、(3)の課題についてはまだ充分な解決策が得
られていない。但し上記(3)の課題に対する配線パタ
ーン形成面からの解決策として、配線パターンの転写に
よるプリント配線基板の製造技術が提案されている。そ
の方法は、導電性を有する離型性支持板の表面に配線パ
ターンレジストを塗布し、その配線パターンレジストを
利用して、めっきにより配線パターンを形成し、その配
線パターンを多層プリント配線基板の最外層基板面に熱
圧着して転写するものであって、微細な線幅および配線
ピッチを有する配線パターンを形成するものである(福
富直樹他、「配線転写法による微細配線技術の開発」電
子情報通信学会論文誌 Vol.J72−C No.
4、PP243−253,1989)。
写法においても、転写される側のプリント配線基板がア
ラミドエポキシプリプレグの基板では、配線パターンの
転写のさいに表面に凹凸を生み出すので、その凹凸の影
響により高い精度で超微細配線パターンを正確に基板に
転写することは極めて困難であった。
り、上記の全層IVH構造の樹脂多層基板が備える利点
を活かし、かつその抱える課題を解決することにより、
部品実装の高密度化と信頼性に優れた多層プリント配線
基板およびその製造方法を提供することを目的とする。
に、第1の本発明(請求項1に対応)は、貫通孔を有
し、その貫通孔に導電体が埋め込まれた複数の絶縁基板
で構成された絶縁基板積層体と、前記複数の絶縁基板そ
れぞれの間、および前記絶縁基板積層体の外面の少なく
とも一面に配置され、前記導電体によって接続される配
線パターンとを備え、少なくとも両面に前記配線パター
ンが配置されている最外層の前記絶縁基板の構成材は耐
熱性有機質シートであり、前記最外層以外の絶縁基板の
全部または一部は樹脂含浸繊維シートであることを特徴
とする多層プリント配線基板である。
線基板では、最外層の絶縁基板の表面が平滑化されると
ともに配線パターンが形成されるので、その配線パター
ンピッチを微細化することができ、基板全体の信頼性と
寿命特性とを向上することができる。さらに、最外層以
外の絶縁基板の全部または一部が上述した材質の樹脂含
浸繊維シートであるので、多層プリント配線基板全体の
耐熱性および機械的強度は向上する。
の本発明の多層プリント配線基板の前記耐熱性有機質シ
ートの表面には、前記配線パターンおよび/または他の
前記絶縁基板との接着性を向上させるための接着材層が
設けられていることを特徴とする多層プリント配線基板
である。
配線基板では、最外層の絶縁基板に接着材層が設けられ
ているので、最外層の絶縁基板と、配線パターンおよび
/または他の絶縁基板との接着性が向上し、多層プリン
ト配線基板への部品の高密度実装を実現することができ
る。
の本発明の多層プリント配線基板の、前記耐熱性有機質
シートの前記接着材層が設けられる前の表面には、前記
耐熱性有機質シート自身と前記接着材層との接着性を向
上させるために、コロナ放電処理、プラズマ処理、火炎
処理、紫外線処理、電子線・放射線処理、サンドブラス
ト処理のうちの少なくとも一つの処理によって凹凸が形
成されていることを特徴とする多層プリント配線基板で
ある。
配線基板では、耐熱性有機質シートの接着材層が設けら
れる前の表面に凹凸が形成されているので、耐熱性有機
質シートと接着材層との接着性は向上する。
から第3のいずれかの本発明の多層プリント配線基板の
前記耐熱性有機質シートは、全芳香族ポリアミド樹脂、
ポリイミド樹脂、全芳香族ポリエステル樹脂、ポリカー
ボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、4フッ化ポリエチレ
ン樹脂、6フッ化ポリプロピレン樹脂、ポリエーテルエ
ーテルケトン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂のうち
のいずれかであることを特徴とする多層プリント配線基
板である。
から第4のいずれかの本発明の多層プリント配線基板の
前記耐熱性有機質シートは、Al2O3、TiO2、Mg
O、SiO2のうちの1種類または2種類以上の混合物
からなる無機フィラーを5体積%〜45体積%含むこと
を特徴とする多層プリント配線基板である。
配線基板の耐熱性有機質シートは、上述したように無機
フィラーを5体積%〜45体積%含んでいるので、耐熱
性有機質シートの耐熱性と機械的強度および寸法安定性
は向上する。
から第5のいずれかの本発明の多層プリント配線基板の
樹脂含浸繊維シートは、ガラスエポキシコンポジット、
ガラスBTレジンコンポジット、アラミドエポキシコン
ポジット、アラミドBTレジンコンポジットのうちのい
ずれかであることを特徴とする多層プリント配線基板で
ある。
性有機質シートを構成材とするものを含む複数の絶縁基
板それぞれに所定の貫通孔を形成してその貫通孔に導電
体を充填し、前記絶縁基板の表面に金属箔を張り合わ
せ、その金属箔を利用して配線パターンを形成し、最外
層に、前記耐熱性有機質シートを構成材とする絶縁基板
が配置されるように、前記複数の絶縁基板を積層して加
熱するとともに加圧して接着させ、前記導電体を利用し
て前記配線パターンを電気的に接続させ、前記最外層以
外の絶縁基板の全部または一部に樹脂含浸繊維シートを
用いることを特徴とする多層プリント配線基板の製造方
法である。
性有機質シートを構成材とするものを含む複数の絶縁基
板それぞれに所定の貫通孔を形成してその貫通孔に導電
体を充填し、前記耐熱性有機質シートを構成材とする絶
縁基板が最外層に配置され、前記複数の絶縁基板それぞ
れの間に配線パターンが形成されるように、前記複数の
絶縁基板を積層し、さらにその最外層の外側に所定の配
線パターンを有する離型性支持板を配置して加熱すると
ともに加圧し、前記離型性支持板の配線パターンを前記
耐熱性有機質シートに転写させるとともに、前記複数の
絶縁基板を接着させ、前記導電体を利用して前記配線パ
ターンを電気的に接続させ、その後前記離型性支持板を
剥離し、前記最外層以外の絶縁基板の全部または一部に
樹脂含浸繊維シートを用いることを特徴とする多層プリ
ント配線基板の製造方法。である。
プリント配線基板の製造方法では、最外層の絶縁基板の
表面を平滑化するとともに配線パターンを形成するの
で、その配線パターンピッチを微細化することができ、
基板全体の信頼性と寿命特性とを向上することができ
る。さらに、最外層以外の絶縁基板の全部または一部に
上述した材質の樹脂含浸繊維シートを用いるので、多層
プリント配線基板全体の耐熱性および機械的強度は向上
する。
または第8の本発明の多層プリント配線基板の製造方法
に用いる前記耐熱性有機質シートの表面に、前記配線パ
ターンおよび/または他の前記絶縁基板との接着性を向
上させるための接着材層を設けることを特徴とする多層
プリント配線基板の製造方法である。
線基板の製造方法では、最外層の絶縁基板に接着材層を
設けるので、最外層の絶縁基板と、配線パターンおよび
/または他の絶縁基板との接着性を向上させることがで
きる。
第9の本発明の多層プリント配線基板の製造方法に用い
る前記耐熱性有機質シートの前記接着材層が設けられる
前の表面に、前記耐熱性有機質シートと前記接着材層と
の接着性を向上させるために、コロナ放電処理、プラズ
マ処理、火炎処理、紫外線処理、電子線・放射線処理、
サンドブラスト処理のうちの少なくとも一つの処理によ
って凹凸を形成することを特徴とする多層プリント配線
基板の製造方法である。
配線基板の製造方法では、耐熱性有機質シートの接着材
層を設ける前の表面に凹凸を形成するので、耐熱性有機
質シートと接着材層との接着性は向上する。
第7から第10のいずれかの本発明の多層プリント配線
基板の製造方法に用いる前記耐熱性有機質シートは、全
芳香族ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、全芳香族ポリ
エステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹
脂、4フッ化ポリエチレン樹脂、6フッ化ポリプロピレ
ン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリフェニ
レンエーテル樹脂のうちのいずれかであることを特徴と
する多層プリント配線基板の製造方法である。
第7から第11のいずれかの本発明の多層プリント配線
基板の製造方法に用いる前記耐熱性有機質シートは、A
l2O3、TiO2、MgO、SiO2のうちの1種類また
は2種類以上の混合物からなる無機フィラーを5体積%
〜45体積%含むことを特徴とする多層プリント配線基
板の製造方法である。
配線基板の製造方法では、上述したような無機フィラー
を5体積%〜45体積%含んでいる耐熱性有機質シート
を用いるので、耐熱性有機質シートの耐熱性と機械的強
度および寸法安定性を向上させることができる。
第7から第12のいずれかの本発明の多層プリント配線
基板の製造方法に用いる前記樹脂含浸繊維シートは、ガ
ラスエポキシコンポジット、ガラスBTレジンコンポジ
ット、アラミドエポキシコンポジット、アラミドBTレ
ジンコンポジットのうちのいずれかであることを特徴と
する多層プリント配線基板の製造方法である。
て図面を参照しながら説明する。
多層プリント配線基板をその製造方法とともに述べ、そ
の後、それらと従来の多層プリント配線基板とについ
て、所定の特性について比較した結果を述べる。
形態の実施例1の多層プリント配線基板の断面図を示
す。図1において、11a、11bは、本発明の特徴の
耐熱性有機質シートであって、その耐熱性有機質シート
(絶縁基板)11a、11bの材質は、全芳香族ポリア
ミド樹脂(旭化成製、アラミカ)のシートである。21
は、樹脂含浸繊維シートの絶縁基板である。2、12は
絶縁基板11a、11bまたは21の所定の位置に設け
られた貫通孔であり、3、13は貫通孔2または12の
内部に充填された導電体である。5a、5b、8a、8
bは、絶縁基板11a、11bの両面に形成されている
配線パターンであって、導電体3、13によって電気的
に接続されている。
ート11a、11bに統一した符号11を付して、その
耐熱性有機質シート11を示す。なお、その耐熱性有機
質シート11の両面には、図3に示すように、配線パタ
ーン5a、5b、8aまたは8b、もしくは絶縁基板2
1との接着性を補強するための、耐熱性を有し、かつ加
熱され加圧されたさいに、表面に実質上凹凸を形成しな
い耐熱性接着剤23a、23bを塗布しておくことも可
能である。さらに、その耐熱性有機質シート11の耐熱
性接着剤23a、23bが設けられる前の表面に、その
耐熱性有機質シート11と耐熱性接着剤23a、23b
との接着性を向上させるために、コロナ放電処理、プラ
ズマ処理、火炎処理、紫外線処理、電子線・放射線処
理、サンドブラスト処理のうちの少なくとも一つの処理
によって凹凸を形成しておくことも可能である。
プリント配線基板の製造方法を示す。以下にその製造方
法を図4および5を用いて説明する。
21の両面にポリエチレンテレフタレートなどよりなる
離型性フィルム7(16μm厚)を設け、離型性フィル
ム7が設けられた絶縁基板21の所定の箇所に、レーザ
加工機からの炭酸ガスレーザなどにより孔径200μm
の貫通孔2を形成する。このようにレーザ加工機を用い
ると、後に配線パターンを形成するさいの、その配線パ
ターンの微細化に応じた、微細な直径を有する貫通孔2
を、容易にかつ高速に形成することができる。なお、絶
縁基板21として、芳香族ポリアミド(アラミド)繊維
(例えばデュポン社製”ケブラー”、繊度:1.5デニ
ール、繊維長さ:7mm、目付:70g/m2)の不織
布(180μm厚)に熱硬化性エポキシ樹脂(例えばSh
ell社製”EPON1151B60")を含浸させたアラミドエポキ
シコンポジットよりなる樹脂含浸繊維シートを用いた。
2に、適度の粘性と流動性とを有する、導電ペーストま
たは金属粉等の導電体3を充填した後、離型性フィルム
7を剥離除去する。なお、導電体3として導電ペースト
を用いる場合、導電物質として平均粒径が2μmの銅粉
を90wt%の含有量で、バインダ樹脂として無溶剤型
のエポキシ樹脂を用い、この配合物を3本ロール混錬機
で均一に混合しておく。また、導電性ペースト3を貫通
孔2内に充填する方法として、離型性フィルム7の上か
らスキージ法またはロール転写法により印刷塗布する印
刷法を用いる。このとき離型性フィルム7は印刷マスク
として作用するので絶縁基板21の表面が導電性ペース
ト3によって汚染されることはない。
21の両表面に厚さ35μmの銅箔4よりなる金属箔を
それぞれ配置し、真空中で60kg/cm2の圧力を加
えながら室温から30分間で200℃まで昇温し、20
0℃で60分間保持した後、室温まで30分間で温度を
下げることにより、プリプレグ状態であった絶縁基板2
1および導電性ペースト3を圧縮、硬化させるとともに
両面の銅箔4を絶縁基板21に接着させ、それら両面の
銅箔4を貫通孔2内の導電体3を介して電気的に接続し
た両面銅貼回路用基板を得る。
フォトリソグラフ法によりパターンニングすることによ
り、配線パターン5aおよび5bを形成し、両面プリン
ト配線基板6を得る。
(a)を用いて説明した絶縁基板21と同様にして、耐
熱性有機質シート11の両面にポリエチレンテレフタレ
ートなどよりなる離型性フィルム7(16μm厚)を設
け、離型性フィルム7が設けられた耐熱性有機質シート
11の所定の箇所にレーザ加工機からの炭酸ガスレーザ
などにより孔径200μmの貫通孔12を形成する。こ
のようにレーザ加工機を用いると、上述したように、後
に配線パターンを形成するさいの、その配線パターンの
微細化に応じた、微細な直径を有する貫通孔12を、容
易にかつ高速に形成することができる。なお、本実施例
では、耐熱性有機質シート11として厚さ30μmの全
芳香族ポリアミド樹脂(旭化成製、アラミカ)のシート
を用いた。また、その耐熱性有機質シート11の両面
に、後に積層することになる両面プリント配線基板6の
銅箔の配線パターン5a、5bや両面プリント配線基板
6等との接着力増強のために、10μmの厚さでゴム変
成エポキシ樹脂よりなる接着剤を塗布したものを使用し
た。しかしながら、接着剤を塗布した耐熱性有機質シー
ト11の代替として、単独で両面プリント配線基板6お
よび配線パターン5a、5b等との銅箔に対して充分接
着力が得られるもの、たとえば印刷配線板用銅箔等に対
して加熱、加圧のみで高い接着力が得られる熱融着型ポ
リイミドシート等を使用する場合は接着剤の塗布を省略
することも可能である。
(b)を用いて説明した絶縁基板21と同様にして、貫
通孔12に、適度の粘性と流動性とを有する、導電ペー
ストまたは金属粉等の導電体13を充填した後、離型性
フィルム7を剥離除去して中間接続体24を得る。
別にもう一つ作成する。なお、以下の説明の便宜上、上
述した2つの中間接続体24を中間接続体24aと中間
接続体24bとする。
(d)の両面プリント配線基板6の両側に、中間接続体
24a、24bを配置し、さらにその中間接続体24
a、24bの外側に厚さ35μmの銅箔4a、4bより
なる金属箔をそれぞれ配置し、真空中で60kg/cm
2の圧力を加えながら室温から30分間で200℃まで
昇温し、200℃で60分間保持した後、室温まで30
分間で温度を下げる。このようにして、両面プリント配
線基板6と中間接続体24aおよび中間接続体24bと
を接着し、さらに、銅箔4aおよび銅箔4bと、中間接
続体24aまたは中間接続体24bとを接着する。
(g)の銅箔4a、4bをフォトリソグラフ法によりパ
ターンニングすることにより、配線パターン8a、8b
を形成して、4層の配線パターンを備える多層プリント
配線基板25を得る。
の実施例2の多層プリント配線基板について図6および
7を用いて説明する。
製造方法を実施例1の多層プリント配線基板の製造方法
から変えて製造したものである。
の製造方法を図6および7を用いて説明する。
場合と同様に、絶縁基板1の両面にポリエチレンテレフ
タレートなどよりなる厚さ12μmの離型性フィルム7
を設け、離型性フィルム7が設けられた樹脂含浸繊維シ
ートからなる絶縁基板1の所定の箇所に炭酸ガスレーザ
などを用いたレーザ加工により孔径200μmの貫通孔
2を形成する。なお、絶縁基板1として厚さ180μm
樹脂含浸繊維シートとして芳香族ポリアミド繊維に熱硬
化性エポキシ樹脂を含浸させた多孔質プリプレグよりな
る樹脂含浸繊維シートを用いた。
に、実施例1の多層プリント配線基板を製造するさいに
用いた導電体3を充填し、その後、離型性フィルム7を
剥離除去して中間接続体20を得る。
(a)と同様にして、耐熱性有機質シート11の両面に
ポリエチレンテレフタレートなどよりなる厚さ12μm
の離型性フィルム7を設け、離型性フィルム7が設けら
れた耐熱性有機質シート11の所定の箇所に炭酸ガスレ
ーザなどを用いたレーザ加工により孔径200μmの貫
通孔12を形成する。
2に、導電ペーストまたは金属粉等の導電体13を充填
した後、離型性フィルム7を剥離除去して中間接続体2
4を得る。
体24両面に厚さ35μmの銅箔14よりなる金属箔を
それぞれ配置し、真空中で60kg/cm2の圧力を加
えながら室温から30分間で200℃まで昇温し、20
0℃で60分間保持した後、室温まで30分間で温度を
下げることにより、中間接続体24の絶縁基板11およ
び導電ペースト13を圧縮、硬化させるとともに両面の
銅箔14を中間接続体24に接着させ、それら両面の銅
箔14を貫通孔12内の導電体13を介して電気的に接
続した両面銅貼回路用基板を得る。
をフォトリソグラフ法によりパターンニングすることに
より、配線パターン16および17を形成し、両面プリ
ント配線基板19を得る。
基板19を別にもう一つ作成する。なお、以下の説明の
便宜上、上述した2つの両面プリント配線基板19を両
面プリント配線基板19aと両面プリント配線基板19
bとする。
作成された異なる配線パターンを有する2枚の両面プリ
ント配線基板19a、19bの間に前記中間接続体20
を配置し、両面プリント配線基板19a、19bの外側
より加熱、加圧してプリプレグ状態の中間接続体20お
よび導電ペーストよりなる導電体13を圧縮、硬化させ
る。そして図7(h)に示すような、外層配線パターン
17a、17bおよび内層配線パターン16a、16b
の4層の配線パターンを備える多層プリント配線基板2
6を得る。
の実施例3の多層プリント配線基板を説明する。
例2の多層プリント配線基板の耐熱性有機質シート11
の全芳香族ポリアミド樹脂シートを熱硬化性ポリイミド
樹脂シート(東レ・デュポン製、カプトン)に変えた他
は実施例2と全く同様であって、製造方法は、図4およ
び5を用いて説明した実施例1の多層プリント配線基板
の製造方法を用いた。
の実施例4の多層プリント配線基板を説明する。
例2の多層プリント配線基板の耐熱性有機質シート11
の全芳香族ポリアミド樹脂シートを全芳香族ポリエステ
ル樹脂シート(クラレ製、液晶ポリマー)に変えた他は
実施例2と全く同様であって、製造方法は、図4および
5を用いて説明した実施例1の多層プリント配線基板の
製造方法を用いた。
の実施例5の多層プリント配線基板について図4および
8を用いて説明する。
1の多層プリント配線基板との相違点は、配線パターン
の形成をフォトリソグラフ法から転写法に代えた点であ
る。したがって図4(a)〜(f)までの実施例5の多
層プリント配線基板の製造工程はその図4に示す工程と
同じである。
4(a)〜(d)までと同様の工程で得られた樹脂含浸
繊維シートからなる内層用両面プリント配線基板6の両
面に、図4(e)〜(f)と同様の工程で得られた、予
め貫通孔12内に導電ペースト13を充填した熱硬化性
ポリイミド樹脂(宇部興産製、ユーピレックス)よりな
る中間接続体24a、24bを配する。更にそれら中間
接続体24a、24bの外側にあらかじめ配線パターン
18a、18bをそれぞれ形成した離型性導電支持板2
8a、28bを配置する。そして、加熱するとともに加
圧することによって導電ペースト13を圧縮、硬化さ
せ、中間接続体24a、24bそれぞれの耐熱性有機質
シート11a、11bの表面に塗布している接着剤を介
して配線パターン18a、18bを中間接続体24a、
24bに接着させる。圧縮と硬化反応が完了した後、離
型性導電支持板28a、28bを剥離することにより、
図8(b)に示すような耐熱性有機質シート11a、1
1bの外側表面が平滑化された4層の配線パターンを備
える多層プリント配線基板27を得る。
施例1から5の多層プリント配線基板の性能を調べるた
めに、比較例として従来の全層IVH構造を有するプリ
ント配線基板を製造した。
線基板の耐熱性有機質シート11を、その多層プリント
配線基板の内層に用いた絶縁基板21と同じアラミド不
織布に変えたものであって、その他は実施例2の多層プ
リント配線基板と全く同様である。なお、その比較例
を、「従来の技術」において図9および10を用いて説
明した製造方法にて得る。
実施例1から5の多層プリント配線基板の電気特性等を
測定した結果を比較例と比較して説明する。
れぞれのサンプル各3個と比較例サンプル3個のそれぞ
れについて、以下の点を測定した。
径0.5mmの所定のランドと、そのランドと0.5m
mの間隔の位置にあって、そのランドと同様の別のラン
ドに着目し、それぞれのランドに接続する幅0.2m
m、長さ15mmの平行した配線を設け、配線間に直流
電位を加え、その配線が絶縁破壊を起こす電圧を測定し
た。
基板の誘電率を常温常湿で測定し、60℃、95%RH
の恒温恒湿槽に250時間放置して取り出した後、再度
誘電率を測定し、その誘電率の変化を求めた。
面に設ける配線パターンとして、線幅が30μm、50
μm、75μmであって、かつ、それぞれの線間長が1
0mmのラインをそれぞれ100本形成したときに発生
したラインの欠陥数を求めた。
施の形態の各実施例の電気特性および微細配線パターン
の形成性は比較例よりも優れており、特に転写法によっ
て配線パターンが形成された実施例5のライン良品率
は、線幅が30μmという最も小さい線幅を有するもの
であっても、無欠陥という成績を得ることができた。
質シートの材質として全芳香族ポリアミド樹脂、熱硬化
性ポリイミド樹脂、全芳香族ポリエステル樹脂を用いた
場合の例を説明したが、耐熱性有機質シートの材質とし
て、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンエーテル樹
脂、ポリスルホン樹脂、4フッ化ポリエチレン樹脂、6
フッ化ポリプロピレン樹脂、ポリエーテルエーテルケト
ン樹脂等を用いても同様の効果を得ることができる。
維シートとしてアラミドエポキシコンポジットを用いた
例について述べたが、アラミドエポキシコンポジットに
代えてガラスエポキシコンポジット、ガラスBTコンポ
ジットまたはアラミドBTコンポジットを使用しても上
記実施例と同様のプリント配線基板を得ることができ
る。
質シート耐熱性有機質シートとして、Al2O3、TiO
2、MgO、SiO2のうちの1種類または2種類以上の
混合物からなる無機フィラーを5体積%〜45体積%含
む耐熱性有機質シートを用いてもよい。その場合、耐熱
性有機質シートの耐熱性と機械的強度および寸法安定性
は向上する。
に、本発明によれば、全層IVH構造の多層プリント配
線基板の外層用基板として耐熱性有機質シートを用いる
と、耐熱性、成形性、平滑性等に優れ、配線パターンの
絶縁基板に対する接着性を向上させ、製造工程における
圧縮時に導電ペーストが多孔質基材中に滲み出すことに
起因する配線パターン間の短絡を防止できる。それとと
もに、耐熱性有機質シート表面の高い平滑性を利用し
て、より細密な配線パターンを形成することができる。
さらには耐熱性有機質シートが備える優れた電気絶縁性
能および良好な耐トラッキング性を利用することによ
り、高密度実装に適した信頼性の高いプリント配線基板
を安価に得ることができる。
配線基板の断面図
プリント配線基板に用いる耐熱性有機質シートの一部拡
大断面図
トの一部拡大断面図
配線基板の前半の製造方法を示す工程図
配線基板の後半の製造方法を示す工程図
配線基板の前半の製造方法を示す工程図
配線基板の後半の製造方法を示す工程図
配線基板の後半の製造方法を示す工程図
の前半の製造方法を示す工程図
板の後半の製造方法を示す工程図
ペースト 4、4a、4b、14 銅箔 5a、5b、8a、8b、16、16a、16b、1
7、17a、17b、18a、18b 配線パターン 6、19、19a、19b 両面プリント配線基板、両
面配線基板 7 離型性フィルム 9 4層配線基板 11、11a、11b 耐熱性有機質シート、絶縁基板 20、20a、20b 中間接続体 21 樹脂含浸繊維シート、絶縁基板 23a、23b 耐熱性接着剤 24、24a、24b 中間接続体 25、26、27 多層プリント配線基板 28a、28b 離型性導電支持板
Claims (13)
- 【請求項1】貫通孔を有し、その貫通孔に導電体が埋め
込まれた複数の絶縁基板で構成された絶縁基板積層体
と、前記複数の絶縁基板それぞれの間、および前記絶縁
基板積層体の外面の少なくとも一面に配置され、前記導
電体によって接続される配線パターンとを備え、少なく
とも両面に前記配線パターンが配置されている最外層の
前記絶縁基板の構成材は耐熱性有機質シートであり、前
記最外層以外の絶縁基板の全部または一部は樹脂含浸繊
維シートであることを特徴とする多層プリント配線基
板。 - 【請求項2】前記耐熱性有機質シートの表面には、前記
配線パターンおよび/または他の前記絶縁基板との接着
性を向上させるための接着材層が設けられていることを
特徴とする請求項1記載の多層プリント配線基板。 - 【請求項3】前記耐熱性有機質シートの前記接着材層が
設けられる前の表面には、前記耐熱性有機質シート自身
と前記接着材層との接着性を向上させるために、コロナ
放電処理、プラズマ処理、火炎処理、紫外線処理、電子
線・放射線処理、サンドブラスト処理のうちの少なくと
も一つの処理によって凹凸が形成されていることを特徴
とする請求項2記載の多層プリント配線基板。 - 【請求項4】前記耐熱性有機質シートは、全芳香族ポリ
アミド樹脂、ポリイミド樹脂、全芳香族ポリエステル樹
脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、4フッ
化ポリエチレン樹脂、6フッ化ポリプロピレン樹脂、ポ
リエーテルエーテルケトン樹脂、ポリフェニレンエーテ
ル樹脂のうちのいずれかであることを特徴とする請求項
1から3のいずれかに記載の多層プリント配線基板。 - 【請求項5】前記耐熱性有機質シートは、Al2O3、T
iO2、MgO、SiO2のうちの1種類または2種類以
上の混合物からなる無機フィラーを5体積%〜45体積
%含むことを特徴とする請求項1から4のいずれかに記
載の多層プリント配線基板。 - 【請求項6】前記樹脂含浸繊維シートは、ガラスエポキ
シコンポジット、ガラスBTレジンコンポジット、アラ
ミドエポキシコンポジット、アラミドBTレジンコンポ
ジットのうちのいずれかであることを特徴とする請求項
1から5のいずれかに記載の多層プリント配線基板。 - 【請求項7】耐熱性有機質シートを構成材とするものを
含む複数の絶縁基板それぞれに所定の貫通孔を形成して
その貫通孔に導電体を充填し、前記絶縁基板の表面に金
属箔を張り合わせ、その金属箔を利用して配線パターン
を形成し、最外層に、前記耐熱性有機質シートを構成材
とする絶縁基板が配置されるように、前記複数の絶縁基
板を積層して加熱するとともに加圧して接着させ、前記
導電体を利用して前記配線パターンを電気的に接続さ
せ、前記最外層以外の絶縁基板の全部または一部に樹脂
含浸繊維シートを用いることを特徴とする多層プリント
配線基板の製造方法。 - 【請求項8】耐熱性有機質シートを構成材とするものを
含む複数の絶縁基板それぞれに所定の貫通孔を形成して
その貫通孔に導電体を充填し、前記耐熱性有機質シート
を構成材とする絶縁基板が最外層に配置され、前記複数
の絶縁基板それぞれの間に配線パターンが形成されるよ
うに、前記複数の絶縁基板を積層し、さらにその最外層
の外側に所定の配線パターンを有する離型性支持板を配
置して加熱するとともに加圧し、前記離型性支持板の配
線パターンを前記耐熱性有機質シートに転写させるとと
もに、前記複数の絶縁基板を接着させ、前記導電体を利
用して前記配線パターンを電気的に接続させ、その後前
記離型性支持板を剥離し、前記最外層以外の絶縁基板の
全部または一部に樹脂含浸繊維シートを用いることを特
徴とする多層プリント配線基板の製造方法。 - 【請求項9】前記耐熱性有機質シートの表面に、前記配
線パターンおよび/または他の前記絶縁基板との接着性
を向上させるための接着材層を設けることを特徴とする
請求項7または8記載の多層プリント配線基板の製造方
法。 - 【請求項10】前記耐熱性有機質シートの前記接着材層
が設けられる前の表面に、前記耐熱性有機質シートと前
記接着材層との接着性を向上させるために、コロナ放電
処理、プラズマ処理、火炎処理、紫外線処理、電子線・
放射線処理、サンドブラスト処理のうちの少なくとも一
つの処理によって凹凸を形成することを特徴とする請求
項9記載の多層プリント配線基板の製造方法。 - 【請求項11】前記耐熱性有機質シートは、全芳香族ポ
リアミド樹脂、ポリイミド樹脂、全芳香族ポリエステル
樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、4フ
ッ化ポリエチレン樹脂、6フッ化ポリプロピレン樹脂、
ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリフェニレンエー
テル樹脂のうちのいずれかであることを特徴とする請求
項7から10のいずれかに記載の多層プリント配線基板
の製造方法。 - 【請求項12】前記耐熱性有機質シートは、Al2O3、
TiO2、MgO、SiO2のうちの1種類または2種類
以上の混合物からなる無機フィラーを5体積%〜45体
積%含むことを特徴とする請求項7から11のいずれか
に記載の多層プリント配線基板の製造方法。 - 【請求項13】前記樹脂含浸繊維シートは、ガラスエポ
キシコンポジット、ガラスBTレジンコンポジット、ア
ラミドエポキシコンポジット、アラミドBTレジンコン
ポジットのうちのいずれかであることを特徴とする請求
項7から12のいずれかに記載の多層プリント配線基板
の製造方法。
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