JP3237968B2 - 半導体素子モジュール - Google Patents

半導体素子モジュール

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、複数の信号レベル系が
混在する本体側に接続される半導体素子モジュールに関
する。
【0002】近年、半導体素子の標準とされていた電源
電圧規格及び信号レベルが、半導体プロセスの問題で5
V系から3.3 V系へ移行しつつあり、さらに2.5 V,1.
8 V等より低い電圧へ移行する可能性もある。また、3.
3 V系等の低電圧系でも複数のインタフェースレベル
(信号レベル)が混在する場合があり、同一の出力回路
で複数の信号レベルを切り換える方式を採用する場合に
半導体素子モジュールにおいてその対策を施す必要があ
る。
【0003】
【従来の技術】従来、半導体素子モジュールとして例え
ばメモリ素子モジュールの回路方式には、TTL(Tran
sistor Transistor Logic )やECL(Emitter Couple
d Logic )等がある。そして、半導体素子の電源電圧規
格及び信号レベルが低電圧化しつつある中で、異なる電
源電圧が混在する場合があると共に、低電圧系において
も複数のインタフェースレベルが混在する場合がある。
【0004】電源系の混在は、TTLとECLとが混在
する場合もあるが、プリント板とコネクタとの関係で誤
挿入防止機構を設ける等により対処されている。
【0005】一方、複数のインタフェースレベルの信号
系については、同一素子で複数のインタフェースに適合
する素子がないことから、インタフェースレベルに適合
する素子のモジュールをプリント板ごとに製造すること
で対処されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、低電圧系に
おいて、5V系のスレシホールドレベル(2.0 V以上を
Hi,0.8 V以下をLo)でそのまま低電圧で使用する
LV(Low Voltage )−TTLの他に、より小振幅で高
速伝達を行わせるための例えば終端(terminated)付き
LV−TTL(T−LVTTL)が考えられている。こ
のT−LVTTLは、例えば3.3 V系におけるLV−T
TLのプッシュプルトランジスタの中間点より抵抗(例
えば50Ω)を介して電源(例えば1.5 V)に接続され
るもので、スレシホールドレベルが1.5 V±0.2 V(1.
7 V以上をHi,1.3 V以下をLo)に設定されること
で、小振幅の高速伝送を実現することができるものであ
る。
【0007】従って、LV−TTLとT−LVTTLの
組合せのように複数のインタフェースレベルが混在する
場合があり、これを同一素子で適合させるために異なる
信号レベル系に切り換え可能な素子をモジュールに搭載
した場合には、モジュールの信号配列を変更しなければ
ならず、又は切り換え用の制御信号をその都度設定しな
ければならないという問題がある。
【0008】そこで、本発明は上記課題に鑑みなされた
もので、信号配列を変更することなく適した信号レベル
を得る半導体素子モジュールを提供することを目的とす
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1では、基板上に所定回路方式の半導体素子
が所定数搭載され、異なる信号レベルが混在する本体側
の所定のコネクタに挿入されて接続される半導体素子モ
ジュールにおいて、前記基板に、接続される前記コネク
タへの挿入方向に複数段で端子列が形成されると共に、
各段の所定端子間に、前記コネクタへの挿入深さで前記
信号レベルを変化させる直列抵抗が接続され、半導体素
子モジュールのコネクタへの挿入の深さに応じて、上記
複数段の端子列のうちの一つの段の端子列が該コネクタ
を介して上記本体側に接続される
【0010】また、請求項3では、基板上に所定回路方
式の半導体素子が所定数搭載され、異なる信号レベルが
混在する本体側の所定のコネクタに挿入されて接続され
る半導体素子モジュールにおいて、前記基板に、接続さ
れる前記コネクタへの挿入方向に複数段で端子列が形成
されると共に、何れかの前記端子に、所定電圧の電源よ
りプルアップ抵抗が接続され、前記コネクタへの挿入深
さにより前記半導体素子への制御信号の供給を切り換
え、半導体素子モジュールのコネクタへの挿入の深さに
応じて、上記複数段の端子列のうちの一つの段の端子列
が該コネクタを介して上記本体側に接続され、前記半導
体素子への制御信号が決定される。
【0011】
【作用】請求項1の発明では、複数段で端子列が形成さ
れ、各段の所定端子間に直列抵抗が接続される。例えば
2段で端子列が形成された場合に、上段の端子列がコネ
クタに接続されるようにモジュールが挿入されると直列
抵抗が介在されず、下段の端子列がコネクタに接続され
るようにモジュールが挿入されると直列抵抗が介在され
て信号が供給される。
【0012】すなわち、直列抵抗が介在される場合と、
介在されない場合とにより信号レベルが異なるもので、
同一素子で異なる信号レベル系に切り換える場合に信号
配列を変更することなく挿入深さで適正な信号レベルを
得ることが可能となる。
【0013】また、請求項3の発明では、所定の端子を
コネクタへの挿入深さで接続させる場合と接続させない
ことにより、プルアップ抵抗により半導体素子への制御
信号の供給を切り換える。例えば、プルアップ抵抗が接
続された端子がコネクタに接続された場合には半導体素
子にローレベルの制御信号が供給され、当該端子がコネ
クタに接続されない場合にはプルアップ抵抗より半導体
素子にハイレベルの制御信号が供給されることとなる。
これにより、切り換え用の制御信号が自動的に設定さ
れ、異なる信号レベルから適した信号レベルを得る回路
方式を設定することが可能となる。
【0014】
【実施例】図1に、本発明の第1実施例の概略構成図を
示し、図2(A),(B)に本発明が適用されるモジュ
ールの全体図を示す。図1及び図2(A),(B)は、
半導体素子モジュールとしてメモリボード11を示した
もので、一般的なめっき、エッチング等により所定パタ
ーンが形成されたエポキシ樹脂等の基板12の両面に表
面実装型のメモリIC13が所定数実装される。
【0015】この基板12の両面には端子領域14が配
置されており、後述する本体側のコネクタへの挿入方向
に上部端子15及び下部端子16が2段で端子列として
形成される。そして、各メモリIC13の信号ピンより
上部端子15のうち信号系として使用される所定数の上
部信号端子15aに上記パターンによる信号ライン17
がそれぞれ接続される(図2では省略する)。
【0016】また、上部信号端子15aと、これに対応
する下部端子16の下部信号端子16aとの間に直列抵
抗RS がそれぞれ接続される。なお、後述するように
(図3,図4)、下部信号端子16aは終端抵抗Rt
介して終端電圧電源Vttに接続される。
【0017】このようなメモリボード11が本体側のコ
ネクタ(図3,図4参照)に挿入される場合に、その挿
入深さ(コネクタのストッパで設定)により、該コネク
タのコンタクト部とメモリボード11の上部端子15又
は下部端子16との接続が選択設定される。すなわち、
メモリボード11をコネクタに深く挿入すると上部端子
15がコネクタのコンタクト部に接続され、浅く挿入す
ると下部端子16が該コンタクト部に接続されるもので
ある。
【0018】そこで、図3及び図4に、図1(図2)の
モジュール挿入の説明図を示す。図3はメモリボード1
1をコネクタに深く挿入した場合を示し、図4は浅く挿
入した場合を示している。
【0019】図3において、本体側ではメモリボード1
1に対するコネクタ21A が例えばマザーボード22に
接続固定されており、コネクタ21A は該メモリボード
11を深く挿入させるための溝21Aaが形成されると共
に、溝21Aaで対向して表出するコンタクト部21Ab
メモリボード11の各段の端子数に応じて設けられてい
る。
【0020】ところで、図3(A)におけるメモリボー
ド11はTTL又はLV−TTLの回路方式とする。そ
こで、まずコネクタ21A にメモリボード11の端子領
域14を溝21Aaの底まで挿入すると、コネクタ21A
のコンタクト部21Abはメモリボード11の上部端子1
5と接続された状態となる。
【0021】この場合の各メモリIC13の出力信号の
経路が、図3(B)に示す等価状態となる。すなわち、
一つのメモリIC13の出力系をみると、図3(C)に
示すように、コネクタ21A のコンタクト部21Abへの
出力信号は上部端子15の上部信号端子15aより各メ
モリIC13から直接出力されることになり、直列抵抗
S が介在されずに信号が出力される。この場合、下部
端子16に接続された終端抵抗Rt は開放状態となる。
【0022】このように、メモリボード11が例えば電
源電圧VDDが5V系のTTL又は3.3 V系のLV−TT
Lの回路方式の場合、本体(マザーボード)側からの信
号がそのまま入力され、例えばスレシホールドレベル2.
0 V(Hi),0.8 V(Lo)により信号レベル(イン
タフェースレベル)が決定される。
【0023】一方、図4(A)において、メモリボード
11がCTT(Center Taped Termination)、T−LV
TTLの回路方式の何れかで、例えばスレシホールドレ
ベル1.5 ±0.2 V(1.7 VをHi,1.3 VをLo)のT
−LVTTL方式とする。従って、例えば電源電圧VDD
を3.3 V,終端電圧電源Vttを1.5 V,終端抵抗Rt
50Ω、直列抵抗RS を20Ωとする。
【0024】また、マザーボード22には、T−LVT
TL方式に対応するコネクタ21Bが接続固定されてい
る。このコネクタ21B はメモリボード11を浅く挿入
させるための溝21Baが形成されると共に、溝21Ba
で対向して表出するコンタクト部21Bbがメモリボード
11の各段の端子数に応じて設けられている。
【0025】そこで、コネクタ21B にメモリボード1
1の端子領域14を溝21Baの底まで挿入すると、コネ
クタ21B のコンタクト部21Bbはメモリボード11の
下部端子16と接続された状態となる。
【0026】この場合、各メモリIC13の出力信号の
経路が、図4(B)に示すように、各メモリIC13の
出力ピンと下部信号端子16aとの間に直列抵抗RS
介在された状態になると共に、下部信号端子16に終端
抵抗Rt を介して終端電圧V ttが印加された状態とな
る。
【0027】すなわち、一つのメモリIC13の出力系
をみると、図4(C)に示すように、メモリIC13の
出力ピン(上部信号端子15a)からの出力信号は、直
列抵抗RS と終端抵抗Rt とにより小振幅となり、高速
に下部信号端子16aより出力されるものである。これ
により、メモリボード11において小振幅による高速伝
送を行うことができる。
【0028】このように、図3及び図4より、同一のメ
モリボード11による同一メモリ素子で、コネクタ21
A ,21B への挿入深さで信号レベル(インタフェース
レベル)の異なるLV−TTL方式とT−LVTTL方
式を、信号配列を変更することなく切り換えることがで
き、インタフェースに適した信号レベル(インタフェー
スレベル)を得ることができるものである。
【0029】次に、図5に、本発明の第2実施例の説明
図を示す。なお、図1(図2)と同一構成部分には同一
符号を付して詳細な説明は省略する。図5(A)におい
て、メモリボード31は、基板12上に制御信号により
動作モードの切り換えが可能なメモリIC13aが所定
数搭載されると共に、図1と同様に、端子領域14に2
段で上部端子15及び下部端子16が形成される。
【0030】また、基板12上では、各メモリIC13
aの制御ピンより上部端子15のうちの制御端子15b
に前述のパターンによる制御ライン32が接続されると
共に、該制御端子15bに電源(VCC)よりプルアップ
抵抗RP を介して電圧VCCが印加される。
【0031】このようなメモリボード31において、メ
モリIC13aの各制御ピンにLowレベルの制御信号
が入力された場合にはLV−TTLの回路方式で動作
し、Highレベルの制御信号が入力された場合にはT
−LVTTLの回路方式で動作するものとする。従っ
て、図5(B),(C)に示すコネクタ21A ,21B
のコンタクト部21Ab,21Bbのうちメモリボード31
の制御端子15bに対応するコンタクト部21Ab1 ,2
Bb1 はマザーボード22上においてグランド(GN
D)に接続される。
【0032】まず、図5(B)に示すように、コネクタ
21A にメモリボード31が深く挿入された場合には、
上部端子15の制御端子15bにコネクタ21A のGN
Dに接地されたコンタクト部21Ab1 に接続される。従
って、各メモリIC13aの制御ピンにはLowレベル
の制御信号が入力されることとなり、当該メモリボード
31の各メモリIC13aはLV−TTLモードとなっ
て動作する。
【0033】一方、図5(C)に示すように、コネクタ
21B にメモリボード31が浅く挿入された場合には、
下部端子16がコネクタ21B のコンタクト部21Bb1
と接続され、上部端子15の制御端子15bはコネクタ
21B のコンタクト部21Bb 1 と接続されずに、フロー
状態となる。
【0034】これにより、各メモリIC13aの制御ピ
ンには、プルアップ抵抗RP によりHighレベルの制
御信号が入力されることとなり、当該メモリボード31
の各メモリIC13aはT−LVTTLモードとなって
動作するものである。
【0035】このように、メモリIC13aが特別の制
御信号により出力回路のドライブ能力が切り換え可能な
場合、メモリボード31のコネクタ21A ,21B に対
する挿入深さで制御信号の切り換えを自動的に設定する
ことができ、信号配列を変更することなく、適した信号
レベルを得ることができるものである。
【0036】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、基板上に
複数段で端子列が形成され、コネクタへの挿入深さで信
号レベルを変化させ、又は制御信号を自動的に設定する
ことにより、複数の信号レベル系が混在する場合に信号
配列を変更することなく適した信号レベルを得ることが
でき、インタフェース規格の混在時期に互換性を維持さ
せることができるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例の概略構成図である。
【図2】本発明が適用されるモジュールの全体図であ
る。
【図3】図1のモジュール挿入の説明図(その1)であ
る。
【図4】図1のモジュール挿入の説明図(その2)であ
る。
【図5】本発明の第2実施例の説明図である。
【符号の説明】
11,31 メモリボード 12 基板 13,13a メモリIC 14 端子領域 15 上部端子 15a 上部信号端子 15b 制御端子 16 下部端子 16 下部信号端子 21A ,21B コネクタ 21Aa,21Ba 溝 21Aa,21Bb コンタクト部 22 マザーボード 32 制御ライン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 25/00 - 25/18

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板(12)上に所定回路方式の半導体
    素子(13)が所定数搭載され、異なる信号レベルが混
    在する本体側の所定のコネクタ(21A ,21B )に挿
    入されて接続される半導体素子モジュールにおいて、 前記基板(12)に、接続される前記コネクタ(2
    A ,21B )への挿入方向に複数段で端子列(15,
    16)が形成されると共に、 各段の所定端子(15a,16b)間に、前記コネクタ
    (21A ,21B )への挿入深さで前記信号レベルを変
    化させる直列抵抗(RS )が接続された構成であり、 該半導体素子モジュールのコネクタへの挿入の深さに応
    じて 上記複数段の端子列のうちの一つの段の端子列が
    該コネクタを介して上記本体側に接続される 構成とした
    ことを特徴とする半導体素子モジュール。
  2. 【請求項2】 前記直列抵抗(RS )が接続された最下
    段の前記端子(16b)のそれぞれは、所定電圧の電源
    (Vtt)より終端抵抗(Rt )を介して接続されること
    を特徴とする請求項1記載の半導体素子モジュール。
  3. 【請求項3】 基板(12)上に所定回路方式の半導体
    素子(13a)が所定数搭載され、異なる信号レベルが
    混在する本体側の所定のコネクタ(21A ,21B )に
    挿入されて接続される半導体素子モジュールにおいて、 前記基板(12)に、接続される前記コネクタ(2
    A ,21B )への挿入方向に複数段で端子列(15,
    16)が形成されると共に、 何れかの前記端子(15b)に、所定電圧の電源
    (Vcc)よりプルアップ抵抗(RP )が接続された構成
    あり、 該半導体素子モジュールのコネクタへの挿入の深さに応
    じて、上記複数段の端子列のうちの一つの段の端子列が
    該コネクタを介して上記本体側に接続され、前記半導体
    素子(13a)への制御信号が決定される構成とした
    とを特徴とする半導体素子モジュール。
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