JP3230809U - 基板洗浄装置 - Google Patents

Abstract

【課題】基板に対する洗浄部材の接触状態を容易に検知し、洗浄部材による洗浄力を一定にすることが可能な基板洗浄装置を提供する。【解決手段】搬送されるガラス板Ｇの表裏の少なくとも一方の面を被洗浄面として洗浄する基板洗浄装置であって、ガラス板の表面に回転しながら接触するディスクブラシ２３と、ディスクブラシを支持するフレーム３３と、フレームに設けられてガラス板の表面にかかるディスクブラシの荷重を測定するロードセル６１と、を備える。【選択図】図３

Description

本考案は、基板洗浄装置に関する。

例えば、ＬＣＤ（Liquid Crystal Display）やＯＬＥＤ（Organic Light-Emitting Diode）等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ:Flat Panel Display）用に使用されるガラス板は、その表面が洗浄装置によって洗浄される。

特許文献１には、ガラス板の洗浄装置として、搬送中のガラス板の表面に複数のディスクブラシからなる洗浄部材を接触させた状態で回転させ、ガラス板の表面に付着した付着物を除去することが記載されている。この洗浄装置では、調整手段によってガラス板の表面に対する洗浄部材の位置を微調整して接触状態を調整している。

特開２０１５−３０５７０号公報

ところで、特許文献１のように、洗浄部材の高さに基づいて接触状態を調整する洗浄装置では、洗浄部材の先端位置を的確に検知して高さ調整しなければならず、その調整作業に時間及び手間がかかってしまう。しかも、単に洗浄部材の高さを調整するだけでは、ガラス板に対する洗浄力を一定に保つことが難しく、場所によって洗浄状態にムラが生じてしまう。

また、洗浄部材は摩耗等によってガラス板に接触しなくなるおそれがある。このため、洗浄部材が実際にガラス板に接触しているか否かの面当たりを確認する必要がある。この面当たりの確認をともなう接触状態の検知は、一つの洗浄ラインで数時間が必要である。

そこで本考案は、基板に対する洗浄部材の接触状態を容易に検知し、洗浄部材による洗浄力を一定にすることが可能な基板洗浄装置を提供することを目的とする。

本考案は下記構成からなる。
搬送される基板の表裏の少なくとも一方の面を被洗浄面として洗浄する基板洗浄装置であって、
前記基板の前記被洗浄面に回転しながら接触する洗浄部材と、
前記洗浄部材を支持するフレームと、
前記フレームに設けられて前記被洗浄面にかかる前記洗浄部材の荷重を測定する荷重計と、
を備える、
基板洗浄装置。

本考案の基板洗浄装置によれば、基板に対する洗浄部材の接触状態を容易に検知し、洗浄部材による洗浄力を一定にできる。

本考案の実施形態に係る基板洗浄装置を備えた基板搬送装置の概略平面図である。 図１におけるＡ−Ａ断面図である。 一部を断面視した基板洗浄装置の側面図である。 基板洗浄装置の制御系の概略構成を説明するブロック図である。

以下、本考案の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。
図１は、本考案の実施形態に係る基板洗浄装置を備えた基板搬送装置の概略平面図である。

図１に示すように、本実施形態に係る基板洗浄装置１００は、複数の搬送部１１を備える基板搬送装置１０に組み込まれている。

基板洗浄装置１００は、矩形状に形成されたガラス板（基板）Ｇを洗浄する装置である。この基板洗浄装置１００によって洗浄するガラス板Ｇは、例えば、ＬＣＤ（Liquid Crystal Display）やＯＬＥＤ（Organic Light-Emitting Diode）等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ:Flat Panel Display）用に使用される無アルカリガラス系材料からなる。基板洗浄装置１００は、水平に搬送されるガラス板Ｇの表面を洗浄する装置であり、特に、ガラス板Ｇの各種の処理や加工が施される表面を洗浄する。

基板搬送装置１０を構成する複数の搬送部１１は、上下に配置された搬送ローラ１３を有している。これらの搬送ローラ１３は、上下の対向位置に水平に配置されており、その間にガラス板Ｇが通される。搬送部１１は、上下の搬送ローラ１３の間にガラス板Ｇを挟んで互いに逆方向に回転することで、ガラス板Ｇを一方向である搬送方向Ｘへ搬送する。

基板洗浄装置１００は、搬送部１１の間に配置されている。本例では、二つの搬送部１１を一組とし、これらの組の搬送部１１同士の間にそれぞれ基板洗浄装置１００が配置されている。

図２は、図１におけるＡ−Ａ断面図である。図３は、一部を断面視した基板洗浄装置の側面図である。

図２に示すように、基板洗浄装置１００は、支持枠２１と、複数のディスクブラシ（洗浄部材）２３とを有している。複数のディスクブラシ２３は、支持枠２１に支持されており、ガラス板Ｇの搬送方向Ｘに対して直交する幅方向に配列されている。ディスクブラシ２３は、例えば、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）等の樹脂からなるスポンジ製のブラシ、あるいはナイロン（ポリアミド）等の樹脂からなる毛ブラシであり、その形状は、例えば外径５０〜１５０ｍｍの円柱形状である。

支持枠２１は、ガラス板Ｇの搬送経路の両側部に配置された支柱３１と、これらの支柱３１に架け渡されたフレーム３３とを有している。フレーム３３は、搬送されるガラス板Ｇの被洗浄面である表面に沿って配置されている。

図２及び図３に示すように、フレーム３３には、長手方向に配列された複数の支持機構３５を有している。これらの支持機構３５は、ディスクブラシ２３に対応して設けられており、それぞれのディスクブラシ２３は、支持機構３５によってフレーム３３に支持されている。

支持機構３５は、下端部に固定板３７が設けられた支持軸３９を有しており、この固定板３７にディスクブラシ２３が取り付けられている。支持軸３９には、その上端に、伝達歯車４１が設けられており、隣接する支持軸３９の伝達歯車４１は、互いに噛み合わされている。隣接する伝達歯車４１は、各伝達歯車４１の間に他の歯車を介して接続されていてもよい。

支持枠２１には、駆動歯車４３を回転させる回転モータ４５が固定フレーム（図示略）によって支持されている。回転モータ４５の駆動歯車４３は、フレーム３３の一端側の伝達歯車４１に噛み合わされている。これにより、回転モータ４５によって駆動歯車４３が回転されると、この駆動歯車４３の回転力が、互いに噛み合わされた伝達歯車４１に伝達されて各支持軸３９が回転される。これにより、各支持軸３９の固定板３７に取り付けられたディスクブラシ２３が回転される。なお、回転モータ４５によるディスクブラシ２３の回転速度は、１００〜５００ｒｐｍとすることが好ましい。

図３に示すように、支持機構３５は、フランジ５１と、ベアリング５３とを有している。ベアリング５３はフランジ５１に組み込まれており、このベアリング５３によって支持軸３９が回転可能に支持されている。

この支持機構３５のフランジ５１は、フレーム３３に立設された一対の支持壁５５の間に設けられている。フランジ５１と支持壁５５との間には、直動ベアリング５７が設けられており、これにより、支持機構３５は、直動ベアリング５７によって、ガラス板Ｇの表面に対して近接離間方向である上下方向へ移動可能に支持されている。

基板洗浄装置１００は、ロードセル６１、レーザ変位計６３及び加速度計６５を備えている。

ロードセル６１は、フレーム３３と支持機構３５のフランジ５１との間に設けられている。このロードセル６１は、フレーム３３にかかる支持機構３５からの荷重を測定する。レーザ変位計６３は、フレーム３３の上方に配置されている。このレーザ変位計６３は、レーザ変位計６３は、フレーム３３に対してレーザを照射し、その反射光を検出する。これにより、フレーム３３の上下方向の変位量を非接触で検出する。加速度計６５は、フレーム３３の上面に固定されている。この加速度計６５は、フレーム３３の振動を検出する。

図４は、基板洗浄装置の制御系の概略構成を説明するブロック図である。
図４に示すように、基板洗浄装置１００は、制御部７１を備えており、この制御部７１によって駆動が制御される。制御部７１には、回転モータ４５が接続されており、回転モータ４５は、制御部７１によって駆動が制御される。また、制御部７１には、ロードセル６１、レーザ変位計６３及び加速度計６５が接続されており、これらのロードセル６１、レーザ変位計６３及び加速度計６５から制御部７１に測定データが送信される。制御部７１は、ロードセル６１、レーザ変位計６３及び加速度計６５からの測定データに基づいて、ガラス板Ｇに対するディスクブラシ２３の接触状態を検知する検知部としても機能する。

基板洗浄装置１００は、ガラス板Ｇの表面に洗浄液を噴射するノズル（図示略）を備えている。ガラス板Ｇの表面には、例えば、酸化セリウム等を含有するスラリー、洗浄剤（アルカリ性または酸性）あるいは純水などの洗浄液がノズルから噴射される。例えば、洗浄液として、有機ホスホン酸、ポリカルボン酸塩、芳香族スルホン酸、及びアミン−アルキレンオキサイド付加物を含む水系洗浄剤を使用すれば、研磨後のガラス板Ｇの表面に残留および／または付着した酸化セリウム等からなる研磨砥粒を、良好に分散して除去することができ、ガラス板Ｇの平坦性を損なうこともない。また、洗浄液としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、および炭酸カリウム等の無機アルカリを含有する無機アルカリ洗浄剤も使用される。

上記構成の基板洗浄装置１００では、搬送部１１を構成する上下のローラ１３間にガラス板Ｇが送り込まれると、このガラス板Ｇは、上下のローラ１３で挟持されて搬送方向Ｘへ搬送される。

搬送方向Ｘへ搬送されるガラス板Ｇには、搬送部１１の間に配置された基板洗浄装置１００のディスクブラシ２３が回転しながら表面に接触する。これにより、ガラス板Ｇの表面の付着物等が除去されて洗浄される。

基板洗浄装置１００では、上記の基板洗浄時において、制御部７１にロードセル６１から測定データが送信される。すると、制御部７１は、ロードセル６１からの測定データに基づいて、各ディスクブラシ２３のガラス板Ｇに対する面当たりの有無等の接触状態を検知する。

具体的には、制御部７１は、ガラス板Ｇの表面にディスクブラシ２３が接触しているときの荷重である接触時荷重Ｆ１及びガラス板Ｇの表面にディスクブラシ２３が接触していないときの荷重である非接触時荷重Ｆ２を取得する。

ここで、ロードセル６１は、フレーム３３と支持機構３５のフランジ５１との間に設けられている。したがって、非接触時荷重Ｆ２は、ディスクブラシ２３、ディスクブラシ２３が固定板３７に固定される支持軸３９、支持軸３９を回転可能に支持するベアリング５３及びベアリング５３が組み込まれたフランジ５１の重量の和となる。つまり、接触時荷重Ｆ１と非接触時荷重Ｆ２との荷重差ΔＦを求めることにより、ガラス板Ｇに対する各ディスクブラシ２３の接触状態を検知できる。

制御部７１は、ロードセル６１からの測定データに基づいて、接触時荷重Ｆ１及び非接触時荷重Ｆ２を比較して荷重差ΔＦ（ΔＦ＝｜Ｆ１−Ｆ２｜）を算出し、ガラス板Ｇに対する各ディスクブラシ２３の接触状態を検知する。

また、基板洗浄時において、制御部７１には、ロードセル６１からの測定データとともに、レーザ変位計６３及び加速度計６５から測定データが送信される。すると、制御部７１は、これらのレーザ変位計６３及び加速度計６５からの測定データに基づいて、ガラス板Ｇへのディスクブラシ２３の接触時におけるフレーム３３の変位量及びフレーム３３の振動を求め、ガラス板Ｇに対する複数のディスクブラシ２３の接触状態を検知する。

さらに、制御部７１は、ガラス板Ｇへのディスブラシ２３の接触時における回転モータ４５の負荷の変動を検出する。そして、この回転モータ４５の負荷の変動に基づいて、ガラス板Ｇに対するディスクブラシ２３の接触状態を検知する。

このように、本実施形態に係る基板洗浄装置１００によれば、フレーム３３に設けられてガラス板Ｇの表面にかかるディスクブラシ２３の荷重を測定するロードセル６１を備えている。したがって、ロードセル６１の測定データに基づいて、ガラス板Ｇの表面に対するディスクブラス２３の接触状態を、制御部７１によって容易にかつ的確に検知できる。そして、検知した接触状態に基づいて、ガラス板Ｇの表面に対するディスクブラシ２３の接触荷重を容易にかつ短時間で調整し、ディスクブラシ２３による洗浄力を一定にできる。このとき、制御部７１には、ディスクブラシ２３とガラス板の接触状態を調整する駆動部（不図示）が接続されていてもよい。駆動部は、支持軸３９をガラス板Ｇに対するディスクブラシ２３の突き当て方向に動作させることで、ディスクブラシ２３の位置を制御できる。駆動部は、制御部７１で検知されるディスクブラシ２３とガラス板Ｇとの接触状態、及び予め設定された閾値に基づいて、支持軸３９を突き当て方向に動作させ、ディスクブラシ２３とガラス板Ｇの接触状態を制御する。

また、ディスクブラシ２３を支持する支持機構３５とフレーム３３との間にロードセル６１を設け、ディスクブラシ２３を支持する支持機構３５のフレーム３３に対する荷重を測定可能としている。したがって、ガラス板Ｇの表面に対するディスクブラシ２３の接触時及び非接触時におけるロードセル６１の測定値の差からガラス板Ｇの表面に対するディスクブラシ２３の接触状態を正確に検知できる。

しかも、基板洗浄装置１００は、フレーム３３の変位量を測定するレーザ変位計６３を備えている。したがって、レーザ変位計６３からの測定データに基づいて、ガラス板Ｇへのディスクブラシ２３の接触時におけるフレーム３３の変位量を求め、ガラス板Ｇに対するディスクブラシ２３の接触状態をより正確に検知できる。

なお、図２に示すように、基板洗浄装置１００は、レーザ変位計６３に代えて、またはレーザ変位計６３とともに、フレーム３３の変位量を検出する歪みゲージ８１や引張式ロードセル８３などの変位計を備えていてもよい。例えば、歪みゲージ８１は、フレーム３３に取り付けられ、引張式ロードセル８３は、支柱３１とフレーム３３との連結部分に取り付けられる。そして、これらの歪みゲージ８１や引張式ロードセル８３によってフレーム３３の変位量を検出することにより、ガラス板Ｇに対する複数のディスクブラシ２３の接触状態をより詳細に検知できる。

さらに、基板洗浄装置１００は、フレーム３３の振動を検出する加速度計６５を備えている。したがって、加速度計６５からの測定データに基づいて、ガラス板Ｇへのディスクブラシ２３の接触時におけるフレーム３３の振動を求め、ガラス板Ｇに対するディスクブラシ２３の接触状態をより正確に検知できる。

なお、加速度計６５は、ディスクブラシ２３に近いほど振動を良好に検出することができる。したがって、加速度計６５は、フレーム３３におけるディスクブラシ２３に近接した位置に設けるのが好ましい。また、加速度計６５としては、少なくとも１軸方向の振動を測定可能なものであればよい。この場合、加速度計６５によってガラス板Ｇに対するディスクブラシ２３の突き当て方向に沿うフレーム３３の振動を検出する。

また、基板洗浄装置１００では、固定板３７とディスクブラシ２３との間に面圧センサ８５を設け、ガラス板Ｇへのディスクブラシ２３の接触時にディスクブラシ２３が受ける圧力の変動を検出してもよい。これにより、この面圧センサ８５からの検出結果に基づいて、ガラス板Ｇに対する各ディスクブラシ２３の接触状態をさらに詳細に検知できる。なお、面圧センサ８５をロードセル６１と同様に、フレーム３３と支持機構３５のフランジ５１との間に設け、フレーム３３にかかる支持機構３５のフランジ５１からの圧力の変動を検出してもよい。これにより、この面圧センサ８５からの検出結果に基づいて、ガラス板Ｇに対する各ディスクブラシ２３の接触状態をさらに詳細に検知できる。

また、基板洗浄装置１００によれば、制御部７１が、ガラス板Ｇにディスクブラシ２３が接触した際の回転モータ４５の負荷の変動を検出し、この回転モータ４５の負荷の変動に基づいて、ガラス板Ｇに対するディスクブラシ２３の接触状態をより正確に検知できる。

なお、本実施形態では、一つの回転モータ４５によって全てのディスクブラシ２３を回転させる構成としたが、ディスクブラシ２３と同数の回転モータ４５を設け、各ディスクブラシ２３を回転モータ４５によってそれぞれ回転させてもよい。また、ディスクブラシ２３を数個ずつのユニットに分割し、ユニットごとに設けた回転モータ４５によってユニットを構成するディスクブラシ２３を回転させてもよい。

また、上記実施形態では、搬送されるガラス板Ｇの表面を洗浄するディスクブラシ２３を例示して説明したが、本考案は、ガラス板Ｇの裏面を洗浄するディスクブラシのガラス板Ｇに対する接触状態を検知する場合にも適用可能であるのは勿論である。この場合も、フレーム３３と支持機構３５のフランジ５１との間のロードセルからの測定データに基づいて、ガラス板Ｇの裏面にディスクブラシ２３が接触しているときの荷重である接触時荷重Ｆ１及びガラス板Ｇの裏面にディスクブラシ２３が接触していないときの荷重である非接触時荷重Ｆ２を取得する。そして、これらの接触時荷重Ｆ１及び非接触時荷重Ｆ２の荷重差ΔＦ（ΔＦ＝｜Ｆ１−Ｆ２｜）を算出し、この荷重差ΔＦからガラス板Ｇに対する各ディスクブラシ２３の接触状態を検知する。

なお、ロードセル６１としては、例えば、ボルトの軸力を測定する簡素な構造のボルト型ロードセルを用いてもよい。このボルト型ロードセルを用いる場合、例えば、フレーム３３と支持機構３５のフランジ５１とをボルト型ロードセルで締結する。そして、ボルト型ロードセルの軸力の測定データから接触時荷重Ｆ１及び非接触時荷重Ｆ２を取得し、これらの接触時荷重Ｆ１及び非接触時荷重Ｆ２の荷重差ΔＦからガラス板Ｇに対する各ディスクブラシ２３の接触状態を検知する。

また、ガラス板Ｇに接触させて洗浄する洗浄部材としては、ディスクブラシ２３に限らず、ガラス板Ｇに沿う回転軸を回転させることにより、回転軸の周りに設けられたブラシをガラス板Ｇに接触させて洗浄するロールブラシであってもよい。

なお、本考案は、ＬＣＤ、ＯＬＥＤ、ＦＰＤ以外の電子デバイス、例えば、光学素子用ガラス基板、ガラスディスク、太陽電池等の基板を洗浄するのに適用することができる。また、洗浄する基板としては、ガラス板に限らず、例えば、金属、セラミックあるいは樹脂から成形されたものでもよい。

このように、本考案は上記の実施形態に限定されるものではなく、実施形態の各構成を相互に組み合わせることや、明細書の記載、並びに周知の技術に基づいて、当業者が変更、応用することも本考案の予定するところであり、保護を求める範囲に含まれる。

以上の通り、本明細書には次の事項が開示されている。
（１） 搬送される基板の表裏の少なくとも一方の面を被洗浄面として洗浄する基板洗浄装置であって、
前記基板の前記被洗浄面に回転しながら接触する洗浄部材と、
前記洗浄部材を支持するフレームと、
前記フレームに設けられて前記被洗浄面にかかる前記洗浄部材の荷重を測定する荷重計と、
を備える、基板洗浄装置。
上記（１）の構成の基板洗浄装置によれば、フレームに設けられて基板の被洗浄面にかかる洗浄部材の荷重を測定する荷重計を備えている。したがって、この荷重計の測定データに基づいて、基板の被洗浄面に対する洗浄部材の接触状態を容易に検知できる。そして、検知した接触状態に基づいて、基板の被洗浄面に対する洗浄部材の接触荷重を容易にかつ短時間で調整し、洗浄部材による洗浄力を一定にできる。

（２） 前記荷重計からの測定データに基づいて、前記基板に対する前記洗浄部材の接触状態を検知する検知部を備える、（１）に記載の基板制御装置。
上記（２）の構成の基板洗浄装置によれば、荷重計の測定データに基づいて、基板の被洗浄面に対する洗浄部材の接触状態を、検知部によって的確に検知できる。

（３） 前記フレームには、前記洗浄部材を回転可能に支持するとともに前記基板の前記被洗浄面に対して近接離間方向へ移動可能に支持する支持機構を備え、
前記荷重計は、前記フレームと前記支持機構との間に設けられ、
前記検知部は、前記基板に対する前記洗浄部材の接触状態として、前記被洗浄面に対する前記洗浄部材の接触時及び非接触時における前記荷重計の測定値の差を求める、（２）に記載の基板洗浄装置。
上記（３）の構成の基板洗浄装置によれば、洗浄部材を支持する支持機構とフレームとの間に荷重計を設け、洗浄部材を支持する支持機構のフレームに対する荷重を測定可能としている。したがって、被洗浄面に対する洗浄部材の接触時及び非接触時における荷重計の測定値の差から基板の被洗浄面に対する洗浄部材の接触状態を正確に検知できる。

（４） 前記フレームの変位量を測定する変位計を備え、
前記検知部は、前記変位計からの測定データに基づいて、前記基板に対する前記洗浄部材の接触状態を検知する、（２）または（３）に記載の基板洗浄装置。
上記（４）の構成の基板洗浄装置によれば、変位計からの測定データに基づいて、基板への洗浄部材の接触時におけるフレームの変位量を求め、基板に対する洗浄部材の接触状態をより正確に検知できる。

（５） 前記フレームの振動を検出する加速度計を備え、
前記検知部は、前記加速度計からの測定データに基づいて、前記基板に対する前記洗浄部材の接触状態を検知する、（２）〜（４）のいずれか一つに記載の基板洗浄装置。
上記（５）の構成の基板洗浄装置によれば、加速度計からの測定データに基づいて、基板への洗浄部材の接触時におけるフレームの振動を求め、基板に対する洗浄部材の接触状態をより正確に検知できる。

（６） 前記基板へ前記洗浄部材が接触した際の圧力変動を検出する面圧センサを備え、
前記検知部は、前記面圧センサからの測定データに基づいて、前記基板に対する前記洗浄部材の接触状態を検知する、（２）〜（５）のいずれか一つに記載の基板洗浄装置。
上記（６）の構成の基板洗浄装置によれば、面圧センサで検出される基板へ洗浄部材が接触した際の圧力変動に基づいて、基板に対する洗浄部材の接触状態をより正確に検知できる。

（７） 前記洗浄部材を回転させる回転モータを備え、
前記検知部は、前記基板へ前記洗浄部材が接触した際の前記回転モータの負荷の変動に基づいて、前記基板に対する前記洗浄部材の接触状態を検知する、（２）〜（６）のいずれか一つに記載の基板洗浄装置。
上記（７）の構成の基板洗浄装置によれば、基板へ洗浄部材が接触した際の回転モータの負荷の変動を検出し、この回転モータの負荷の変動に基づいて、基板に対する洗浄部材の接触状態をより正確に検知できる。

（８） 前記洗浄部材は、前記基板の前記被洗浄面に当接しながら回転する複数のディスクブラシを備える、（１）〜（７）のいずれか一つに記載の基板洗浄装置。
上記（８）の構成の基板洗浄装置によれば、基板の被洗浄面に当接しながら回転する複数のディスクブラシの基板に対する接触状態を検知し、複数のディスクブラシによる洗浄力を一定にして基板を良好に洗浄させることができる。

（９） 前記基板は、ガラス板である、（１）〜（８）のいずれか一つに記載の基板洗浄装置。
上記（９）の構成の基板洗浄装置によれば、ガラス板に対する洗浄部材の接触状態を検知し、洗浄部材による洗浄力を一定にしてガラス板を良好に洗浄させることができる。

２３ ディスクブラシ（洗浄部材）
３３ フレーム
３５ 支持機構
４５ 回転モータ
６１ ロードセル（荷重計）
６３ レーザ変位計（変位計）
６５ 加速度計
７１ 制御部（検知部）
８１ 歪みゲージ（変位計）
８３ 引張式ロードセル（変位計）
８５ 面圧センサ
１００ 基板洗浄装置
Ｇ ガラス板（基板）

Claims (9)

1. 搬送される基板の表裏の少なくとも一方の面を被洗浄面として洗浄する基板洗浄装置であって、
   前記基板の前記被洗浄面に回転しながら接触する洗浄部材と、
   前記洗浄部材を支持するフレームと、
   前記フレームに設けられて前記被洗浄面にかかる前記洗浄部材の荷重を測定する荷重計と、
   を備える、
   基板洗浄装置。
2. 前記荷重計からの測定データに基づいて、前記基板に対する前記洗浄部材の接触状態を検知する検知部を備える、
   請求項１に記載の基板制御装置。
3. 前記フレームには、前記洗浄部材を回転可能に支持するとともに前記基板の前記被洗浄面に対して近接離間方向へ移動可能に支持する支持機構を備え、
   前記荷重計は、前記フレームと前記支持機構との間に設けられ、
   前記検知部は、前記基板に対する前記洗浄部材の接触状態として、前記被洗浄面に対する前記洗浄部材の接触時及び非接触時における前記荷重計の測定値の差を求める、
   請求項２に記載の基板洗浄装置。
4. 前記フレームの変位量を測定する変位計を備え、
   前記検知部は、前記変位計からの測定データに基づいて、前記基板に対する前記洗浄部材の接触状態を検知する、
   請求項２または請求項３に記載の基板洗浄装置。
5. 前記フレームの振動を検出する加速度計を備え、
   前記検知部は、前記加速度計からの測定データに基づいて、前記基板に対する前記洗浄部材の接触状態を検知する、
   請求項２〜４のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
6. 前記基板へ前記洗浄部材が接触した際の圧力変動を検出する面圧センサを備え、
   前記検知部は、前記面圧センサからの測定データに基づいて、前記基板に対する前記洗浄部材の接触状態を検知する、
   請求項２〜５のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
7. 前記洗浄部材を回転させる回転モータを備え、
   前記検知部は、前記基板へ前記洗浄部材が接触した際の前記回転モータの負荷の変動に基づいて、前記基板に対する前記洗浄部材の接触状態を検知する、
   請求項２〜６のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
8. 前記洗浄部材は、前記基板の前記被洗浄面に当接しながら回転する複数のディスクブラシを備える、
   請求項１〜７のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
9. 前記基板は、ガラス板である、
   請求項１〜８のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。

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