JP3230809U - 基板洗浄装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】基板に対する洗浄部材の接触状態を容易に検知し、洗浄部材による洗浄力を一定にすることが可能な基板洗浄装置を提供する。【解決手段】搬送されるガラス板Gの表裏の少なくとも一方の面を被洗浄面として洗浄する基板洗浄装置であって、ガラス板の表面に回転しながら接触するディスクブラシ23と、ディスクブラシを支持するフレーム33と、フレームに設けられてガラス板の表面にかかるディスクブラシの荷重を測定するロードセル61と、を備える。【選択図】図3
Description
本考案は、基板洗浄装置に関する。
例えば、LCD(Liquid Crystal Display)やOLED(Organic Light-Emitting Diode)等のフラットパネルディスプレイ(FPD:Flat Panel Display)用に使用されるガラス板は、その表面が洗浄装置によって洗浄される。
特許文献1には、ガラス板の洗浄装置として、搬送中のガラス板の表面に複数のディスクブラシからなる洗浄部材を接触させた状態で回転させ、ガラス板の表面に付着した付着物を除去することが記載されている。この洗浄装置では、調整手段によってガラス板の表面に対する洗浄部材の位置を微調整して接触状態を調整している。
ところで、特許文献1のように、洗浄部材の高さに基づいて接触状態を調整する洗浄装置では、洗浄部材の先端位置を的確に検知して高さ調整しなければならず、その調整作業に時間及び手間がかかってしまう。しかも、単に洗浄部材の高さを調整するだけでは、ガラス板に対する洗浄力を一定に保つことが難しく、場所によって洗浄状態にムラが生じてしまう。
また、洗浄部材は摩耗等によってガラス板に接触しなくなるおそれがある。このため、洗浄部材が実際にガラス板に接触しているか否かの面当たりを確認する必要がある。この面当たりの確認をともなう接触状態の検知は、一つの洗浄ラインで数時間が必要である。
そこで本考案は、基板に対する洗浄部材の接触状態を容易に検知し、洗浄部材による洗浄力を一定にすることが可能な基板洗浄装置を提供することを目的とする。
本考案は下記構成からなる。
搬送される基板の表裏の少なくとも一方の面を被洗浄面として洗浄する基板洗浄装置であって、
前記基板の前記被洗浄面に回転しながら接触する洗浄部材と、
前記洗浄部材を支持するフレームと、
前記フレームに設けられて前記被洗浄面にかかる前記洗浄部材の荷重を測定する荷重計と、
を備える、
基板洗浄装置。
搬送される基板の表裏の少なくとも一方の面を被洗浄面として洗浄する基板洗浄装置であって、
前記基板の前記被洗浄面に回転しながら接触する洗浄部材と、
前記洗浄部材を支持するフレームと、
前記フレームに設けられて前記被洗浄面にかかる前記洗浄部材の荷重を測定する荷重計と、
を備える、
基板洗浄装置。
本考案の基板洗浄装置によれば、基板に対する洗浄部材の接触状態を容易に検知し、洗浄部材による洗浄力を一定にできる。
以下、本考案の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。
図1は、本考案の実施形態に係る基板洗浄装置を備えた基板搬送装置の概略平面図である。
図1は、本考案の実施形態に係る基板洗浄装置を備えた基板搬送装置の概略平面図である。
図1に示すように、本実施形態に係る基板洗浄装置100は、複数の搬送部11を備える基板搬送装置10に組み込まれている。
基板洗浄装置100は、矩形状に形成されたガラス板(基板)Gを洗浄する装置である。この基板洗浄装置100によって洗浄するガラス板Gは、例えば、LCD(Liquid Crystal Display)やOLED(Organic Light-Emitting Diode)等のフラットパネルディスプレイ(FPD:Flat Panel Display)用に使用される無アルカリガラス系材料からなる。基板洗浄装置100は、水平に搬送されるガラス板Gの表面を洗浄する装置であり、特に、ガラス板Gの各種の処理や加工が施される表面を洗浄する。
基板搬送装置10を構成する複数の搬送部11は、上下に配置された搬送ローラ13を有している。これらの搬送ローラ13は、上下の対向位置に水平に配置されており、その間にガラス板Gが通される。搬送部11は、上下の搬送ローラ13の間にガラス板Gを挟んで互いに逆方向に回転することで、ガラス板Gを一方向である搬送方向Xへ搬送する。
基板洗浄装置100は、搬送部11の間に配置されている。本例では、二つの搬送部11を一組とし、これらの組の搬送部11同士の間にそれぞれ基板洗浄装置100が配置されている。
図2は、図1におけるA−A断面図である。図3は、一部を断面視した基板洗浄装置の側面図である。
図2に示すように、基板洗浄装置100は、支持枠21と、複数のディスクブラシ(洗浄部材)23とを有している。複数のディスクブラシ23は、支持枠21に支持されており、ガラス板Gの搬送方向Xに対して直交する幅方向に配列されている。ディスクブラシ23は、例えば、PVA(ポリビニルアルコール)等の樹脂からなるスポンジ製のブラシ、あるいはナイロン(ポリアミド)等の樹脂からなる毛ブラシであり、その形状は、例えば外径50〜150mmの円柱形状である。
支持枠21は、ガラス板Gの搬送経路の両側部に配置された支柱31と、これらの支柱31に架け渡されたフレーム33とを有している。フレーム33は、搬送されるガラス板Gの被洗浄面である表面に沿って配置されている。
図2及び図3に示すように、フレーム33には、長手方向に配列された複数の支持機構35を有している。これらの支持機構35は、ディスクブラシ23に対応して設けられており、それぞれのディスクブラシ23は、支持機構35によってフレーム33に支持されている。
支持機構35は、下端部に固定板37が設けられた支持軸39を有しており、この固定板37にディスクブラシ23が取り付けられている。支持軸39には、その上端に、伝達歯車41が設けられており、隣接する支持軸39の伝達歯車41は、互いに噛み合わされている。隣接する伝達歯車41は、各伝達歯車41の間に他の歯車を介して接続されていてもよい。
支持枠21には、駆動歯車43を回転させる回転モータ45が固定フレーム(図示略)によって支持されている。回転モータ45の駆動歯車43は、フレーム33の一端側の伝達歯車41に噛み合わされている。これにより、回転モータ45によって駆動歯車43が回転されると、この駆動歯車43の回転力が、互いに噛み合わされた伝達歯車41に伝達されて各支持軸39が回転される。これにより、各支持軸39の固定板37に取り付けられたディスクブラシ23が回転される。なお、回転モータ45によるディスクブラシ23の回転速度は、100〜500rpmとすることが好ましい。
図3に示すように、支持機構35は、フランジ51と、ベアリング53とを有している。ベアリング53はフランジ51に組み込まれており、このベアリング53によって支持軸39が回転可能に支持されている。
この支持機構35のフランジ51は、フレーム33に立設された一対の支持壁55の間に設けられている。フランジ51と支持壁55との間には、直動ベアリング57が設けられており、これにより、支持機構35は、直動ベアリング57によって、ガラス板Gの表面に対して近接離間方向である上下方向へ移動可能に支持されている。
基板洗浄装置100は、ロードセル61、レーザ変位計63及び加速度計65を備えている。
ロードセル61は、フレーム33と支持機構35のフランジ51との間に設けられている。このロードセル61は、フレーム33にかかる支持機構35からの荷重を測定する。レーザ変位計63は、フレーム33の上方に配置されている。このレーザ変位計63は、レーザ変位計63は、フレーム33に対してレーザを照射し、その反射光を検出する。これにより、フレーム33の上下方向の変位量を非接触で検出する。加速度計65は、フレーム33の上面に固定されている。この加速度計65は、フレーム33の振動を検出する。
図4は、基板洗浄装置の制御系の概略構成を説明するブロック図である。
図4に示すように、基板洗浄装置100は、制御部71を備えており、この制御部71によって駆動が制御される。制御部71には、回転モータ45が接続されており、回転モータ45は、制御部71によって駆動が制御される。また、制御部71には、ロードセル61、レーザ変位計63及び加速度計65が接続されており、これらのロードセル61、レーザ変位計63及び加速度計65から制御部71に測定データが送信される。制御部71は、ロードセル61、レーザ変位計63及び加速度計65からの測定データに基づいて、ガラス板Gに対するディスクブラシ23の接触状態を検知する検知部としても機能する。
図4に示すように、基板洗浄装置100は、制御部71を備えており、この制御部71によって駆動が制御される。制御部71には、回転モータ45が接続されており、回転モータ45は、制御部71によって駆動が制御される。また、制御部71には、ロードセル61、レーザ変位計63及び加速度計65が接続されており、これらのロードセル61、レーザ変位計63及び加速度計65から制御部71に測定データが送信される。制御部71は、ロードセル61、レーザ変位計63及び加速度計65からの測定データに基づいて、ガラス板Gに対するディスクブラシ23の接触状態を検知する検知部としても機能する。
基板洗浄装置100は、ガラス板Gの表面に洗浄液を噴射するノズル(図示略)を備えている。ガラス板Gの表面には、例えば、酸化セリウム等を含有するスラリー、洗浄剤(アルカリ性または酸性)あるいは純水などの洗浄液がノズルから噴射される。例えば、洗浄液として、有機ホスホン酸、ポリカルボン酸塩、芳香族スルホン酸、及びアミン−アルキレンオキサイド付加物を含む水系洗浄剤を使用すれば、研磨後のガラス板Gの表面に残留および/または付着した酸化セリウム等からなる研磨砥粒を、良好に分散して除去することができ、ガラス板Gの平坦性を損なうこともない。また、洗浄液としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、および炭酸カリウム等の無機アルカリを含有する無機アルカリ洗浄剤も使用される。
上記構成の基板洗浄装置100では、搬送部11を構成する上下のローラ13間にガラス板Gが送り込まれると、このガラス板Gは、上下のローラ13で挟持されて搬送方向Xへ搬送される。
搬送方向Xへ搬送されるガラス板Gには、搬送部11の間に配置された基板洗浄装置100のディスクブラシ23が回転しながら表面に接触する。これにより、ガラス板Gの表面の付着物等が除去されて洗浄される。
基板洗浄装置100では、上記の基板洗浄時において、制御部71にロードセル61から測定データが送信される。すると、制御部71は、ロードセル61からの測定データに基づいて、各ディスクブラシ23のガラス板Gに対する面当たりの有無等の接触状態を検知する。
具体的には、制御部71は、ガラス板Gの表面にディスクブラシ23が接触しているときの荷重である接触時荷重F1及びガラス板Gの表面にディスクブラシ23が接触していないときの荷重である非接触時荷重F2を取得する。
ここで、ロードセル61は、フレーム33と支持機構35のフランジ51との間に設けられている。したがって、非接触時荷重F2は、ディスクブラシ23、ディスクブラシ23が固定板37に固定される支持軸39、支持軸39を回転可能に支持するベアリング53及びベアリング53が組み込まれたフランジ51の重量の和となる。つまり、接触時荷重F1と非接触時荷重F2との荷重差ΔFを求めることにより、ガラス板Gに対する各ディスクブラシ23の接触状態を検知できる。
制御部71は、ロードセル61からの測定データに基づいて、接触時荷重F1及び非接触時荷重F2を比較して荷重差ΔF(ΔF=|F1−F2|)を算出し、ガラス板Gに対する各ディスクブラシ23の接触状態を検知する。
また、基板洗浄時において、制御部71には、ロードセル61からの測定データとともに、レーザ変位計63及び加速度計65から測定データが送信される。すると、制御部71は、これらのレーザ変位計63及び加速度計65からの測定データに基づいて、ガラス板Gへのディスクブラシ23の接触時におけるフレーム33の変位量及びフレーム33の振動を求め、ガラス板Gに対する複数のディスクブラシ23の接触状態を検知する。
さらに、制御部71は、ガラス板Gへのディスブラシ23の接触時における回転モータ45の負荷の変動を検出する。そして、この回転モータ45の負荷の変動に基づいて、ガラス板Gに対するディスクブラシ23の接触状態を検知する。
このように、本実施形態に係る基板洗浄装置100によれば、フレーム33に設けられてガラス板Gの表面にかかるディスクブラシ23の荷重を測定するロードセル61を備えている。したがって、ロードセル61の測定データに基づいて、ガラス板Gの表面に対するディスクブラス23の接触状態を、制御部71によって容易にかつ的確に検知できる。そして、検知した接触状態に基づいて、ガラス板Gの表面に対するディスクブラシ23の接触荷重を容易にかつ短時間で調整し、ディスクブラシ23による洗浄力を一定にできる。このとき、制御部71には、ディスクブラシ23とガラス板の接触状態を調整する駆動部(不図示)が接続されていてもよい。駆動部は、支持軸39をガラス板Gに対するディスクブラシ23の突き当て方向に動作させることで、ディスクブラシ23の位置を制御できる。駆動部は、制御部71で検知されるディスクブラシ23とガラス板Gとの接触状態、及び予め設定された閾値に基づいて、支持軸39を突き当て方向に動作させ、ディスクブラシ23とガラス板Gの接触状態を制御する。
また、ディスクブラシ23を支持する支持機構35とフレーム33との間にロードセル61を設け、ディスクブラシ23を支持する支持機構35のフレーム33に対する荷重を測定可能としている。したがって、ガラス板Gの表面に対するディスクブラシ23の接触時及び非接触時におけるロードセル61の測定値の差からガラス板Gの表面に対するディスクブラシ23の接触状態を正確に検知できる。
しかも、基板洗浄装置100は、フレーム33の変位量を測定するレーザ変位計63を備えている。したがって、レーザ変位計63からの測定データに基づいて、ガラス板Gへのディスクブラシ23の接触時におけるフレーム33の変位量を求め、ガラス板Gに対するディスクブラシ23の接触状態をより正確に検知できる。
なお、図2に示すように、基板洗浄装置100は、レーザ変位計63に代えて、またはレーザ変位計63とともに、フレーム33の変位量を検出する歪みゲージ81や引張式ロードセル83などの変位計を備えていてもよい。例えば、歪みゲージ81は、フレーム33に取り付けられ、引張式ロードセル83は、支柱31とフレーム33との連結部分に取り付けられる。そして、これらの歪みゲージ81や引張式ロードセル83によってフレーム33の変位量を検出することにより、ガラス板Gに対する複数のディスクブラシ23の接触状態をより詳細に検知できる。
さらに、基板洗浄装置100は、フレーム33の振動を検出する加速度計65を備えている。したがって、加速度計65からの測定データに基づいて、ガラス板Gへのディスクブラシ23の接触時におけるフレーム33の振動を求め、ガラス板Gに対するディスクブラシ23の接触状態をより正確に検知できる。
なお、加速度計65は、ディスクブラシ23に近いほど振動を良好に検出することができる。したがって、加速度計65は、フレーム33におけるディスクブラシ23に近接した位置に設けるのが好ましい。また、加速度計65としては、少なくとも1軸方向の振動を測定可能なものであればよい。この場合、加速度計65によってガラス板Gに対するディスクブラシ23の突き当て方向に沿うフレーム33の振動を検出する。
また、基板洗浄装置100では、固定板37とディスクブラシ23との間に面圧センサ85を設け、ガラス板Gへのディスクブラシ23の接触時にディスクブラシ23が受ける圧力の変動を検出してもよい。これにより、この面圧センサ85からの検出結果に基づいて、ガラス板Gに対する各ディスクブラシ23の接触状態をさらに詳細に検知できる。なお、面圧センサ85をロードセル61と同様に、フレーム33と支持機構35のフランジ51との間に設け、フレーム33にかかる支持機構35のフランジ51からの圧力の変動を検出してもよい。これにより、この面圧センサ85からの検出結果に基づいて、ガラス板Gに対する各ディスクブラシ23の接触状態をさらに詳細に検知できる。
また、基板洗浄装置100によれば、制御部71が、ガラス板Gにディスクブラシ23が接触した際の回転モータ45の負荷の変動を検出し、この回転モータ45の負荷の変動に基づいて、ガラス板Gに対するディスクブラシ23の接触状態をより正確に検知できる。
なお、本実施形態では、一つの回転モータ45によって全てのディスクブラシ23を回転させる構成としたが、ディスクブラシ23と同数の回転モータ45を設け、各ディスクブラシ23を回転モータ45によってそれぞれ回転させてもよい。また、ディスクブラシ23を数個ずつのユニットに分割し、ユニットごとに設けた回転モータ45によってユニットを構成するディスクブラシ23を回転させてもよい。
また、上記実施形態では、搬送されるガラス板Gの表面を洗浄するディスクブラシ23を例示して説明したが、本考案は、ガラス板Gの裏面を洗浄するディスクブラシのガラス板Gに対する接触状態を検知する場合にも適用可能であるのは勿論である。この場合も、フレーム33と支持機構35のフランジ51との間のロードセルからの測定データに基づいて、ガラス板Gの裏面にディスクブラシ23が接触しているときの荷重である接触時荷重F1及びガラス板Gの裏面にディスクブラシ23が接触していないときの荷重である非接触時荷重F2を取得する。そして、これらの接触時荷重F1及び非接触時荷重F2の荷重差ΔF(ΔF=|F1−F2|)を算出し、この荷重差ΔFからガラス板Gに対する各ディスクブラシ23の接触状態を検知する。
なお、ロードセル61としては、例えば、ボルトの軸力を測定する簡素な構造のボルト型ロードセルを用いてもよい。このボルト型ロードセルを用いる場合、例えば、フレーム33と支持機構35のフランジ51とをボルト型ロードセルで締結する。そして、ボルト型ロードセルの軸力の測定データから接触時荷重F1及び非接触時荷重F2を取得し、これらの接触時荷重F1及び非接触時荷重F2の荷重差ΔFからガラス板Gに対する各ディスクブラシ23の接触状態を検知する。
また、ガラス板Gに接触させて洗浄する洗浄部材としては、ディスクブラシ23に限らず、ガラス板Gに沿う回転軸を回転させることにより、回転軸の周りに設けられたブラシをガラス板Gに接触させて洗浄するロールブラシであってもよい。
なお、本考案は、LCD、OLED、FPD以外の電子デバイス、例えば、光学素子用ガラス基板、ガラスディスク、太陽電池等の基板を洗浄するのに適用することができる。また、洗浄する基板としては、ガラス板に限らず、例えば、金属、セラミックあるいは樹脂から成形されたものでもよい。
このように、本考案は上記の実施形態に限定されるものではなく、実施形態の各構成を相互に組み合わせることや、明細書の記載、並びに周知の技術に基づいて、当業者が変更、応用することも本考案の予定するところであり、保護を求める範囲に含まれる。
以上の通り、本明細書には次の事項が開示されている。
(1) 搬送される基板の表裏の少なくとも一方の面を被洗浄面として洗浄する基板洗浄装置であって、
前記基板の前記被洗浄面に回転しながら接触する洗浄部材と、
前記洗浄部材を支持するフレームと、
前記フレームに設けられて前記被洗浄面にかかる前記洗浄部材の荷重を測定する荷重計と、
を備える、基板洗浄装置。
上記(1)の構成の基板洗浄装置によれば、フレームに設けられて基板の被洗浄面にかかる洗浄部材の荷重を測定する荷重計を備えている。したがって、この荷重計の測定データに基づいて、基板の被洗浄面に対する洗浄部材の接触状態を容易に検知できる。そして、検知した接触状態に基づいて、基板の被洗浄面に対する洗浄部材の接触荷重を容易にかつ短時間で調整し、洗浄部材による洗浄力を一定にできる。
(1) 搬送される基板の表裏の少なくとも一方の面を被洗浄面として洗浄する基板洗浄装置であって、
前記基板の前記被洗浄面に回転しながら接触する洗浄部材と、
前記洗浄部材を支持するフレームと、
前記フレームに設けられて前記被洗浄面にかかる前記洗浄部材の荷重を測定する荷重計と、
を備える、基板洗浄装置。
上記(1)の構成の基板洗浄装置によれば、フレームに設けられて基板の被洗浄面にかかる洗浄部材の荷重を測定する荷重計を備えている。したがって、この荷重計の測定データに基づいて、基板の被洗浄面に対する洗浄部材の接触状態を容易に検知できる。そして、検知した接触状態に基づいて、基板の被洗浄面に対する洗浄部材の接触荷重を容易にかつ短時間で調整し、洗浄部材による洗浄力を一定にできる。
(2) 前記荷重計からの測定データに基づいて、前記基板に対する前記洗浄部材の接触状態を検知する検知部を備える、(1)に記載の基板制御装置。
上記(2)の構成の基板洗浄装置によれば、荷重計の測定データに基づいて、基板の被洗浄面に対する洗浄部材の接触状態を、検知部によって的確に検知できる。
上記(2)の構成の基板洗浄装置によれば、荷重計の測定データに基づいて、基板の被洗浄面に対する洗浄部材の接触状態を、検知部によって的確に検知できる。
(3) 前記フレームには、前記洗浄部材を回転可能に支持するとともに前記基板の前記被洗浄面に対して近接離間方向へ移動可能に支持する支持機構を備え、
前記荷重計は、前記フレームと前記支持機構との間に設けられ、
前記検知部は、前記基板に対する前記洗浄部材の接触状態として、前記被洗浄面に対する前記洗浄部材の接触時及び非接触時における前記荷重計の測定値の差を求める、(2)に記載の基板洗浄装置。
上記(3)の構成の基板洗浄装置によれば、洗浄部材を支持する支持機構とフレームとの間に荷重計を設け、洗浄部材を支持する支持機構のフレームに対する荷重を測定可能としている。したがって、被洗浄面に対する洗浄部材の接触時及び非接触時における荷重計の測定値の差から基板の被洗浄面に対する洗浄部材の接触状態を正確に検知できる。
前記荷重計は、前記フレームと前記支持機構との間に設けられ、
前記検知部は、前記基板に対する前記洗浄部材の接触状態として、前記被洗浄面に対する前記洗浄部材の接触時及び非接触時における前記荷重計の測定値の差を求める、(2)に記載の基板洗浄装置。
上記(3)の構成の基板洗浄装置によれば、洗浄部材を支持する支持機構とフレームとの間に荷重計を設け、洗浄部材を支持する支持機構のフレームに対する荷重を測定可能としている。したがって、被洗浄面に対する洗浄部材の接触時及び非接触時における荷重計の測定値の差から基板の被洗浄面に対する洗浄部材の接触状態を正確に検知できる。
(4) 前記フレームの変位量を測定する変位計を備え、
前記検知部は、前記変位計からの測定データに基づいて、前記基板に対する前記洗浄部材の接触状態を検知する、(2)または(3)に記載の基板洗浄装置。
上記(4)の構成の基板洗浄装置によれば、変位計からの測定データに基づいて、基板への洗浄部材の接触時におけるフレームの変位量を求め、基板に対する洗浄部材の接触状態をより正確に検知できる。
前記検知部は、前記変位計からの測定データに基づいて、前記基板に対する前記洗浄部材の接触状態を検知する、(2)または(3)に記載の基板洗浄装置。
上記(4)の構成の基板洗浄装置によれば、変位計からの測定データに基づいて、基板への洗浄部材の接触時におけるフレームの変位量を求め、基板に対する洗浄部材の接触状態をより正確に検知できる。
(5) 前記フレームの振動を検出する加速度計を備え、
前記検知部は、前記加速度計からの測定データに基づいて、前記基板に対する前記洗浄部材の接触状態を検知する、(2)〜(4)のいずれか一つに記載の基板洗浄装置。
上記(5)の構成の基板洗浄装置によれば、加速度計からの測定データに基づいて、基板への洗浄部材の接触時におけるフレームの振動を求め、基板に対する洗浄部材の接触状態をより正確に検知できる。
前記検知部は、前記加速度計からの測定データに基づいて、前記基板に対する前記洗浄部材の接触状態を検知する、(2)〜(4)のいずれか一つに記載の基板洗浄装置。
上記(5)の構成の基板洗浄装置によれば、加速度計からの測定データに基づいて、基板への洗浄部材の接触時におけるフレームの振動を求め、基板に対する洗浄部材の接触状態をより正確に検知できる。
(6) 前記基板へ前記洗浄部材が接触した際の圧力変動を検出する面圧センサを備え、
前記検知部は、前記面圧センサからの測定データに基づいて、前記基板に対する前記洗浄部材の接触状態を検知する、(2)〜(5)のいずれか一つに記載の基板洗浄装置。
上記(6)の構成の基板洗浄装置によれば、面圧センサで検出される基板へ洗浄部材が接触した際の圧力変動に基づいて、基板に対する洗浄部材の接触状態をより正確に検知できる。
前記検知部は、前記面圧センサからの測定データに基づいて、前記基板に対する前記洗浄部材の接触状態を検知する、(2)〜(5)のいずれか一つに記載の基板洗浄装置。
上記(6)の構成の基板洗浄装置によれば、面圧センサで検出される基板へ洗浄部材が接触した際の圧力変動に基づいて、基板に対する洗浄部材の接触状態をより正確に検知できる。
(7) 前記洗浄部材を回転させる回転モータを備え、
前記検知部は、前記基板へ前記洗浄部材が接触した際の前記回転モータの負荷の変動に基づいて、前記基板に対する前記洗浄部材の接触状態を検知する、(2)〜(6)のいずれか一つに記載の基板洗浄装置。
上記(7)の構成の基板洗浄装置によれば、基板へ洗浄部材が接触した際の回転モータの負荷の変動を検出し、この回転モータの負荷の変動に基づいて、基板に対する洗浄部材の接触状態をより正確に検知できる。
前記検知部は、前記基板へ前記洗浄部材が接触した際の前記回転モータの負荷の変動に基づいて、前記基板に対する前記洗浄部材の接触状態を検知する、(2)〜(6)のいずれか一つに記載の基板洗浄装置。
上記(7)の構成の基板洗浄装置によれば、基板へ洗浄部材が接触した際の回転モータの負荷の変動を検出し、この回転モータの負荷の変動に基づいて、基板に対する洗浄部材の接触状態をより正確に検知できる。
(8) 前記洗浄部材は、前記基板の前記被洗浄面に当接しながら回転する複数のディスクブラシを備える、(1)〜(7)のいずれか一つに記載の基板洗浄装置。
上記(8)の構成の基板洗浄装置によれば、基板の被洗浄面に当接しながら回転する複数のディスクブラシの基板に対する接触状態を検知し、複数のディスクブラシによる洗浄力を一定にして基板を良好に洗浄させることができる。
上記(8)の構成の基板洗浄装置によれば、基板の被洗浄面に当接しながら回転する複数のディスクブラシの基板に対する接触状態を検知し、複数のディスクブラシによる洗浄力を一定にして基板を良好に洗浄させることができる。
(9) 前記基板は、ガラス板である、(1)〜(8)のいずれか一つに記載の基板洗浄装置。
上記(9)の構成の基板洗浄装置によれば、ガラス板に対する洗浄部材の接触状態を検知し、洗浄部材による洗浄力を一定にしてガラス板を良好に洗浄させることができる。
上記(9)の構成の基板洗浄装置によれば、ガラス板に対する洗浄部材の接触状態を検知し、洗浄部材による洗浄力を一定にしてガラス板を良好に洗浄させることができる。
23 ディスクブラシ(洗浄部材)
33 フレーム
35 支持機構
45 回転モータ
61 ロードセル(荷重計)
63 レーザ変位計(変位計)
65 加速度計
71 制御部(検知部)
81 歪みゲージ(変位計)
83 引張式ロードセル(変位計)
85 面圧センサ
100 基板洗浄装置
G ガラス板(基板)
33 フレーム
35 支持機構
45 回転モータ
61 ロードセル(荷重計)
63 レーザ変位計(変位計)
65 加速度計
71 制御部(検知部)
81 歪みゲージ(変位計)
83 引張式ロードセル(変位計)
85 面圧センサ
100 基板洗浄装置
G ガラス板(基板)
Claims (9)
- 搬送される基板の表裏の少なくとも一方の面を被洗浄面として洗浄する基板洗浄装置であって、
前記基板の前記被洗浄面に回転しながら接触する洗浄部材と、
前記洗浄部材を支持するフレームと、
前記フレームに設けられて前記被洗浄面にかかる前記洗浄部材の荷重を測定する荷重計と、
を備える、
基板洗浄装置。 - 前記荷重計からの測定データに基づいて、前記基板に対する前記洗浄部材の接触状態を検知する検知部を備える、
請求項1に記載の基板制御装置。 - 前記フレームには、前記洗浄部材を回転可能に支持するとともに前記基板の前記被洗浄面に対して近接離間方向へ移動可能に支持する支持機構を備え、
前記荷重計は、前記フレームと前記支持機構との間に設けられ、
前記検知部は、前記基板に対する前記洗浄部材の接触状態として、前記被洗浄面に対する前記洗浄部材の接触時及び非接触時における前記荷重計の測定値の差を求める、
請求項2に記載の基板洗浄装置。 - 前記フレームの変位量を測定する変位計を備え、
前記検知部は、前記変位計からの測定データに基づいて、前記基板に対する前記洗浄部材の接触状態を検知する、
請求項2または請求項3に記載の基板洗浄装置。 - 前記フレームの振動を検出する加速度計を備え、
前記検知部は、前記加速度計からの測定データに基づいて、前記基板に対する前記洗浄部材の接触状態を検知する、
請求項2〜4のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。 - 前記基板へ前記洗浄部材が接触した際の圧力変動を検出する面圧センサを備え、
前記検知部は、前記面圧センサからの測定データに基づいて、前記基板に対する前記洗浄部材の接触状態を検知する、
請求項2〜5のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。 - 前記洗浄部材を回転させる回転モータを備え、
前記検知部は、前記基板へ前記洗浄部材が接触した際の前記回転モータの負荷の変動に基づいて、前記基板に対する前記洗浄部材の接触状態を検知する、
請求項2〜6のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。 - 前記洗浄部材は、前記基板の前記被洗浄面に当接しながら回転する複数のディスクブラシを備える、
請求項1〜7のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。 - 前記基板は、ガラス板である、
請求項1〜8のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
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JP3230809U true JP3230809U (ja) | 2021-02-18 |
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Family Applications (1)
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2015030570A (ja) | 2013-08-01 | 2015-02-16 | 旭硝子株式会社 | ガラス板の製造装置及びガラス板の製造方法 |
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2020
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TWM625842U (zh) | 2022-04-21 |
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KR20220000970U (ko) | 2022-05-03 |
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