KR20220000970U

KR20220000970U - 기판 세정 장치

Info

Publication number: KR20220000970U
Application number: KR2020210003213U
Authority: KR
Inventors: 미츠루 호리에; 겐타로 가토
Original assignee: 에이지씨 가부시키가이샤
Priority date: 2020-10-26
Filing date: 2021-10-25
Publication date: 2022-05-03
Also published as: TWM625842U; JP3230809U; CN216175148U

Abstract

본 고안은, 반송되는 유리판(G)의 표리의 적어도 한쪽의 면을 피세정면으로서 세정하는 기판 세정 장치(100)이며, 유리판(G)의 표면에 회전하면서 접촉하는 디스크 브러시(23)와, 디스크 브러시(23)를 지지하는 프레임(33)과, 프레임(33)에 마련되어 유리판(G)의 표면에 걸리는 디스크 브러시(23)의 하중을 측정하는 로드셀(61)을 구비하는 기판 세정 장치(100)에 관한 것이다.

Description

기판 세정 장치 {APPARATUS FOR CLEANING SUBSTRATE}

본 고안은, 기판 세정 장치에 관한 것이다.

예를 들어, LCD(Liquid Crystal Display)나 OLED(Organic Light-Emitting Diode) 등의 플랫 패널 디스플레이(FPD: Flat Panel Display)용으로 사용되는 유리판은, 그 표면이 세정 장치에 의해 세정된다.

특허문헌 1에는, 유리판의 세정 장치로서, 반송 중의 유리판 표면이 복수의 디스크 브러시를 포함하는 세정 부재를 접촉시킨 상태에서 회전시켜, 유리판의 표면에 부착된 부착물을 제거하는 것이 기재되어 있다. 이 세정 장치에서는, 조정 수단에 의해 유리판의 표면에 대한 세정 부재의 위치를 미세 조정하여 접촉 상태를 조정하고 있다.

일본 특허 공개 제2015-30570호 공보

그런데, 특허문헌 1과 같이, 세정 부재의 높이에 기초하여 접촉 상태를 조정하는 세정 장치에서는, 세정 부재의 선단 위치를 적확하게 검지하여 높이 조정하지 않으면 안되고, 그 조정 작업에 시간 및 수고가 많이 들어버린다. 게다가, 단순히 세정 부재의 높이를 조정하는 것만으로는, 유리판에 대한 세정력을 일정하게 유지하는 것이 어려워, 장소에 따라서 세정 상태에 불균일이 발생해버린다.

또한, 세정 부재는 마모 등에 의해 유리판에 접촉하지 않게 될 우려가 있다. 이 때문에, 세정 부재가 실제로 유리판에 접촉되어 있는지 여부의 면접촉을 확인할 필요가 있다. 이 면접촉의 확인을 수반하는 접촉 상태의 검지는, 하나의 세정 라인에서 수시간이 필요하다.

여기에서 본 고안은, 기판에 대한 세정 부재의 접촉 상태를 용이하게 검지하고, 세정 부재에 의한 세정력을 일정하게 하는 것이 가능한 기판 세정 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 고안은 하기 구성을 포함한다.

반송되는 기판의 표리의 적어도 한쪽의 면을 피세정면으로서 세정하는 기판 세정 장치이며,

상기 기판의 상기 피세정면에 회전하면서 접촉하는 세정 부재와,

상기 세정 부재를 지지하는 프레임과,

상기 프레임에 마련되어 상기 피세정면에 걸리는 상기 세정 부재의 하중을 측정하는 하중계

를 구비하는,

기판 세정 장치.

본 고안의 기판 세정 장치에 의하면, 기판에 대한 세정 부재의 접촉 상태를 용이하게 검지하고, 세정 부재에 의한 세정력을 일정하게 할 수 있다.

도 1은, 본 고안의 실시 형태에 관한 기판 세정 장치를 구비한 기판 반송 장치의 개략 평면도이다.
도 2는, 도 1에 있어서의 A-A 단면도이다.
도 3은, 일부를 단면으로 본 기판 세정 장치의 측면도이다.
도 4는, 기판 세정 장치의 제어계의 개략 구성을 설명하는 블록도이다.

이하, 본 고안의 실시 형태에 대하여, 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.

도 1은, 본 고안의 실시 형태에 관한 기판 세정 장치를 구비한 기판 반송 장치의 개략 평면도이다.

도 1에 나타내는 바와 같이, 본 실시 형태에 관한 기판 세정 장치(100)는, 복수의 반송부(11)를 구비하는 기판 반송 장치(10)에 내장되어 있다.

기판 세정 장치(100)는 직사각형상으로 형성된 유리판(기판)(G)을 세정하는 장치이다. 이 기판 세정 장치(100)에 의해 세정하는 유리판(G)은, 예를 들어 LCD(Liquid Crystal Display)나 OLED(Organic Light-Emitting Diode) 등의 플랫 패널 디스플레이(FPD: Flat Panel Display)용으로 사용되는 무알칼리 유리계 재료를 포함한다. 기판 세정 장치(100)는 수평으로 반송되는 유리판(G)의 표면을 세정하는 장치이며, 특히 유리판(G)의 각종 처리나 가공이 실시되는 표면을 세정한다.

기판 반송 장치(10)를 구성하는 복수의 반송부(11)는, 상하에 배치된 반송 롤러(13)를 갖고 있다. 이들 반송 롤러(13)는 상하의 대향 위치에 수평으로 배치되어 있고, 그 사이에 유리판(G)이 통과된다. 반송부(11)는 상하의 반송 롤러(13) 사이에 유리판(G)을 끼워서 서로 역방향으로 회전함으로써, 유리판(G)을 일방향인 반송 방향 X로 반송한다.

기판 세정 장치(100)는 반송부(11)의 사이에 배치되어 있다. 본 예에서는, 2개의 반송부(11)를 1조로 하고, 이들 조의 반송부(11)끼리의 사이에 각각 기판 세정 장치(100)가 배치되어 있다.

도 2는, 도 1에 있어서의 A-A 단면도이다. 도 3은, 일부를 단면으로 본 기판 세정 장치의 측면도이다.

도 2에 나타내는 바와 같이, 기판 세정 장치(100)는 지지 프레임(21)과, 복수의 디스크 브러시(세정 부재)(23)를 갖고 있다. 복수의 디스크 브러시(23)는 지지 프레임(21)에 지지되어 있고, 유리판(G)의 반송 방향 X에 대하여 직교하는 폭 방향으로 배열되어 있다. 디스크 브러시(23)는, 예를 들어 PVA(폴리비닐알코올) 등의 수지를 포함하는 스펀지제의 브러시, 혹은 나일론(폴리아미드) 등의 수지를 포함하는 강모 브러시이며, 그 형상은, 예를 들어 외경 50 내지 150mm의 원주 형상이다.

지지 프레임(21)은, 유리판(G)의 반송 경로의 양측부에 배치된 지주(31)와, 이들 지주(31)에 걸쳐진 프레임(33)을 갖고 있다. 프레임(33)은 반송되는 유리판(G)의 피세정면인 표면을 따라서 배치되어 있다.

도 2 및 도 3에 도시한 바와 같이, 프레임(33)에는, 길이 방향으로 배열된 복수의 지지 기구(35)를 갖고 있다. 이들 지지 기구(35)는 디스크 브러시(23)에 대응하여 마련되어 있고, 각각의 디스크 브러시(23)는 지지 기구(35)에 의해 프레임(33)에 지지되어 있다.

지지 기구(35)는 하단부에 고정판(37)이 마련된 지지축(39)을 갖고 있으며, 이 고정판(37)에 디스크 브러시(23)가 설치되어 있다. 지지축(39)에는, 그 상단부에, 전달 기어(41)가 마련되어 있고, 인접하는 지지축(39)의 전달 기어(41)는 서로 맞물려 있다. 인접하는 전달 기어(41)는 각 전달 기어(41)의 사이에 다른 기어를 개재하여 접속되어 있어도 된다.

지지 프레임(21)에는, 구동 기어(43)를 회전시키는 회전 모터(45)가 고정 프레임(도시 생략)에 의해 지지되어 있다. 회전 모터(45)의 구동 기어(43)는 프레임(33)의 일단부측 전달 기어(41)에 맞물려 있다. 이에 의해, 회전 모터(45)에 의해 구동 기어(43)가 회전되면, 이 구동 기어(43)의 회전력이, 서로 맞물려진 전달 기어(41)에 전달되어 각 지지축(39)이 회전된다. 이에 의해, 각 지지축(39)의 고정판(37)에 설치된 디스크 브러시(23)가 회전된다. 또한, 회전 모터(45)에 의한 디스크 브러시(23)의 회전 속도는, 100 내지 500rpm으로 하는 것이 바람직하다.

도 3에 도시한 바와 같이, 지지 기구(35)는 플랜지(51)와 베어링(53)을 갖고 있다. 베어링(53)은 플랜지(51)에 내장되어 있으며, 이 베어링(53)에 의해 지지축(39)이 회전 가능하게 지지되어 있다.

이 지지 기구(35)의 플랜지(51)는, 프레임(33)에 세워 설치된 한 쌍의 지지벽(55) 사이에 마련되어 있다. 플랜지(51)와 지지벽(55) 사이에는, 직동 베어링(57)이 마련되어 있고, 이에 의해 지지 기구(35)는 직동 베어링(57)에 의해, 유리판(G)의 표면에 대하여 근접 이격 방향인 상하 방향으로 이동 가능하게 지지되어 있다.

기판 세정 장치(100)는 로드셀(하중계)(61), 레이저 변위계(63) 및 가속도계(65)를 구비하고 있다.

로드셀(61)은 프레임(33)과 지지 기구(35)의 플랜지(51) 사이에 마련되어 있다. 이 로드셀(61)은 프레임(33)에 걸리는 지지 기구(35)로부터의 하중을 측정한다. 레이저 변위계(63)는 프레임(33)의 상방에 배치되어 있다. 이 레이저 변위계(63)는 프레임(33)에 대하여 레이저를 조사하고, 그 반사광을 검출한다. 이에 의해, 프레임(33)의 상하 방향의 변위량을 비접촉으로 검출한다. 가속도계(65)는 프레임(33)의 상면에 고정되어 있다. 이 가속도계(65)는 프레임(33)의 진동을 검출한다.

도 4는, 기판 세정 장치의 제어계의 개략 구성을 설명하는 블록도이다.

도 4에 나타내는 바와 같이, 기판 세정 장치(100)는 제어부(71)를 구비하고 있고, 이 제어부(71)에 의해 구동이 제어된다. 제어부(71)에는, 회전 모터(45)가 접속되어 있고, 회전 모터(45)는 제어부(71)에 의해 구동이 제어된다. 또한, 제어부(71)에는, 로드셀(61), 레이저 변위계(63) 및 가속도계(65)가 접속되어 있고, 이들 로드셀(61), 레이저 변위계(63) 및 가속도계(65)로부터 제어부(71)로 측정 데이터가 송신된다. 제어부(71)는 로드셀(61), 레이저 변위계(63) 및 가속도계(65)로부터의 측정 데이터에 기초하여, 유리판(G)에 대한 디스크 브러시(23)의 접촉 상태를 검지하는 검지부로서도 기능한다.

기판 세정 장치(100)는 유리판(G)의 표면에 세정액을 분사하는 노즐(도시 생략)을 구비하고 있다. 유리판(G)의 표면에는, 예를 들어 산화세륨 등을 함유하는 슬러리, 세정제(알칼리성 또는 산성) 혹은 순수 등의 세정액이 노즐로부터 분사된다. 예를 들어, 세정액으로서, 유기 포스폰산, 폴리카르복실산염, 방향족 술폰산 및 아민-알킬렌옥시드 부가물을 포함하는 수계 세정제를 사용하면, 연마 후의 유리판(G)의 표면에 잔류 및/또는 부착된 산화세륨 등을 포함하는 연마 지립을, 양호하게 분산시켜 제거할 수 있어, 유리판(G)의 평탄성을 손상시키지 않는다. 또한, 세정액으로서는, 예를 들어 수산화리튬, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산리튬, 탄산나트륨 및 탄산칼륨 등의 무기 알칼리를 함유하는 무기 알칼리 세정제도 사용된다.

상기 구성의 기판 세정 장치(100)에서는, 반송부(11)를 구성하는 상하의 롤러(13) 사이에 유리판(G)이 송입되면, 이 유리판(G)은 상하의 롤러(13)로 협지되어 반송 방향 X로 반송된다.

반송 방향 X로 반송되는 유리판(G)에는, 반송부(11) 사이에 배치된 기판 세정 장치(100)의 디스크 브러시(23)가 회전하면서 표면에 접촉한다. 이에 의해, 유리판(G)의 표면의 부착물 등이 제거되어 세정된다.

기판 세정 장치(100)에서는, 상기 기판 세정 시에 있어서, 제어부(71)에 로드셀(61)로부터 측정 데이터가 송신된다. 그러면, 제어부(71)는 로드셀(61)로부터의 측정 데이터에 기초하여, 각 디스크 브러시(23)의 유리판(G)에 대한 면접촉의 유무 등의 접촉 상태를 검지한다.

구체적으로는, 제어부(71)는, 유리판(G)의 표면에 디스크 브러시(23)가 접촉되어 있을 때의 하중인 접촉시 하중 F1 및 유리판(G)의 표면에 디스크 브러시(23)가 접촉되어 있지 않을 때의 하중인 비접촉시 하중 F2를 취득한다.

여기서, 로드셀(61)은 프레임(33)과 지지 기구(35)의 플랜지(51) 사이에 마련되어 있다. 따라서, 비접촉시 하중 F2는, 디스크 브러시(23), 디스크 브러시(23)가 고정판(37)에 고정되는 지지축(39), 지지축(39)을 회전 가능하게 지지하는 베어링(53) 및 베어링(53)이 내장된 플랜지(51)의 중량의 합이 된다. 즉, 접촉시 하중 F1과 비접촉시 하중 F2의 하중차 ΔF를 구함으로써, 유리판(G)에 대한 각 디스크 브러시(23)의 접촉 상태를 검지할 수 있다.

제어부(71)는 로드셀(61)로부터의 측정 데이터에 기초하여, 접촉시 하중 F1 및 비접촉시 하중 F2를 비교하여 하중차 ΔF(ΔF=│F1-F2│)를 산출하고, 유리판(G)에 대한 각 디스크 브러시(23)의 접촉 상태를 검지한다.

또한, 기판 세정 시에 있어서, 제어부(71)에는, 로드셀(61)로부터의 측정 데이터와 함께, 레이저 변위계(63) 및 가속도계(65)로부터 측정 데이터가 송신된다. 그러면, 제어부(71)는 이들 레이저 변위계(63) 및 가속도계(65)로부터의 측정 데이터에 기초하여, 유리판(G)에의 디스크 브러시(23)의 접촉시에 있어서의 프레임(33)의 변위량 및 프레임(33)의 진동을 구하여, 유리판(G)에 대한 복수의 디스크 브러시(23)의 접촉 상태를 검지한다.

또한, 제어부(71)는, 유리판(G)에의 디스크 브러시(23)의 접촉시에 있어서의 회전 모터(45)의 부하의 변동을 검출한다. 그리고, 이 회전 모터(45)의 부하의 변동에 기초하여, 유리판(G)에 대한 디스크 브러시(23)의 접촉 상태를 검지한다.

이와 같이, 본 실시 형태에 관한 기판 세정 장치(100)에 의하면, 프레임(33)에 마련되어 유리판(G)의 표면에 걸리는 디스크 브러시(23)의 하중을 측정하는 로드셀(61)을 구비하고 있다. 따라서, 로드셀(61)의 측정 데이터에 기초하여, 유리판(G)의 표면에 대한 디스크 브라스(23)의 접촉 상태를, 제어부(71)에 의해 용이하면서 또한 적확하게 검지할 수 있다. 그리고, 검지한 접촉 상태에 기초하여, 유리판(G)의 표면에 대한 디스크 브러시(23)의 접촉 하중을 용이하면서 또한 단시간에 조정하고, 디스크 브러시(23)에 의한 세정력을 일정하게 할 수 있다. 이 때, 제어부(71)에는, 디스크 브러시(23)와 유리판의 접촉 상태를 조정하는 구동부(도시하지 않음)가 접속되어 있어도 된다. 구동부는, 지지축(39)을 유리판(G)에 대한 디스크 브러시(23)의 접촉 방향으로 동작시킴으로써, 디스크 브러시(23)의 위치를 제어할 수 있다. 구동부는, 제어부(71)에서 검지되는 디스크 브러시(23)와 유리판(G)의 접촉 상태, 및 미리 설정된 역치에 기초하여, 지지축(39)을 접촉 방향으로 동작시켜, 디스크 브러시(23)와 유리판(G)의 접촉 상태를 제어한다.

또한, 디스크 브러시(23)를 지지하는 지지 기구(35)과 프레임(33) 사이에 로드셀(61)을 마련하여, 디스크 브러시(23)를 지지하는 지지 기구(35)의 프레임(33)에 대한 하중을 측정 가능하게 하고 있다. 따라서, 유리판(G)의 표면에 대한 디스크 브러시(23)의 접촉시 및 비접촉시에 있어서의 로드셀(61)의 측정값의 차로부터 유리판(G)의 표면에 대한 디스크 브러시(23)의 접촉 상태를 정확하게 검지할 수 있다.

게다가, 기판 세정 장치(100)는 프레임(33)의 변위량을 측정하는 레이저 변위계(63)를 구비하고 있다. 따라서, 레이저 변위계(63)로부터의 측정 데이터에 기초하여, 유리판(G)에의 디스크 브러시(23)의 접촉시에 있어서의 프레임(33)의 변위량을 구하여, 유리판(G)에 대한 디스크 브러시(23)의 접촉 상태를 보다 정확하게 검지할 수 있다.

또한, 도 2에 나타내는 바와 같이, 기판 세정 장치(100)는 레이저 변위계(63) 대신에, 또는 레이저 변위계(63)와 함께, 프레임(33)의 변위량을 검출하는 변형 게이지(81)나 인장식 로드셀(83) 등의 변위계를 구비하고 있어도 된다. 예를 들어, 변형 게이지(81)는 프레임(33)에 설치되고, 인장식 로드셀(83)은 지주(31)와 프레임(33)의 연결 부분에 설치된다. 그리고, 이들 변형 게이지(81)나 인장식 로드셀(83)에 의해 프레임(33)의 변위량을 검출함으로써, 유리판(G)에 대한 복수의 디스크 브러시(23)의 접촉 상태를 보다 상세하게 검지할 수 있다.

또한, 기판 세정 장치(100)는 프레임(33)의 진동을 검출하는 가속도계(65)를 구비하고 있다. 따라서, 가속도계(65)로부터의 측정 데이터에 기초하여, 유리판(G)에의 디스크 브러시(23)의 접촉시에 있어서의 프레임(33)의 진동을 구하여, 유리판(G)에 대한 디스크 브러시(23)의 접촉 상태를 보다 정확하게 검지할 수 있다.

또한, 가속도계(65)는 디스크 브러시(23)에 가까울수록 진동을 양호하게 검출할 수 있다. 따라서, 가속도계(65)는 프레임(33)에 있어서의 디스크 브러시(23)에 근접한 위치에 마련하는 것이 바람직하다. 또한, 가속도계(65)로서는, 적어도 1축 방향의 진동을 측정 가능한 것이면 된다. 이 경우, 가속도계(65)에 의해 유리판(G)에 대한 디스크 브러시(23)의 접촉 방향에 따른 프레임(33)의 진동을 검출한다.

또한, 기판 세정 장치(100)에서는, 고정판(37)과 디스크 브러시(23) 사이에 면압 센서(85)를 마련하고, 유리판(G)에의 디스크 브러시(23)의 접촉시에 디스크 브러시(23)가 받는 압력의 변동을 검출해도 된다. 이에 의해, 이 면압 센서(85)로부터의 검출 결과에 기초하여, 유리판(G)에 대한 각 디스크 브러시(23)의 접촉 상태를 더욱 상세하게 검지할 수 있다. 또한, 면압 센서(85)를 로드셀(61)과 마찬가지로, 프레임(33)과 지지 기구(35)의 플랜지(51) 사이에 마련하여, 프레임(33)에 걸리는 지지 기구(35)의 플랜지(51)로부터의 압력의 변동을 검출해도 된다. 이에 의해, 이 면압 센서(85)로부터의 검출 결과에 기초하여, 유리판(G)에 대한 각 디스크 브러시(23)의 접촉 상태를 더욱 상세하게 검지할 수 있다.

또한, 기판 세정 장치(100)에 의하면, 제어부(71)가, 유리판(G)에 디스크 브러시(23)가 접촉하였을 때의 회전 모터(45)의 부하의 변동을 검출하고, 이 회전 모터(45)의 부하의 변동에 기초하여, 유리판(G)에 대한 디스크 브러시(23)의 접촉 상태를 보다 정확하게 검지할 수 있다.

또한, 본 실시 형태에서는, 하나의 회전 모터(45)에 의해 모든 디스크 브러시(23)를 회전시키는 구성으로 하였지만, 디스크 브러시(23)와 동일수의 회전 모터(45)를 마련하여, 각 디스크 브러시(23)를 회전 모터(45)에 의해 각각 회전시켜도 된다. 또한, 디스크 브러시(23)를 수개씩의 유닛으로 분할하고, 유닛마다 마련한 회전 모터(45)에 의해 유닛을 구성하는 디스크 브러시(23)를 회전시켜도 된다.

또한, 상기 실시 형태에서는, 반송되는 유리판(G)의 표면을 세정하는 디스크 브러시(23)를 예시하여 설명하였지만, 본 고안은, 유리판(G)의 이면을 세정하는 디스크 브러시의 유리판(G)에 대한 접촉 상태를 검지하는 경우에도 적용 가능한 것은 물론이다. 이 경우도, 프레임(33)과 지지 기구(35)의 플랜지(51) 사이의 로드셀로부터의 측정 데이터에 기초하여, 유리판(G)의 이면에 디스크 브러시(23)가 접촉되어 있을 때의 하중인 접촉시 하중 F1 및 유리판(G)의 이면에 디스크 브러시(23)가 접촉되어 있지 않을 때의 하중인 비접촉시 하중 F2를 취득한다. 그리고, 이들 접촉시 하중 F1 및 비접촉시 하중 F2의 하중차 ΔF(ΔF=│F1-F2│)를 산출하고, 이 하중차 ΔF로부터 유리판(G)에 대한 각 디스크 브러시(23)의 접촉 상태를 검지한다.

또한, 로드셀(61)로서는, 예를 들어 볼트의 축력을 측정하는 간소한 구조의 볼트형 로드셀을 사용해도 된다. 이 볼트형 로드셀을 사용하는 경우, 예를 들어 프레임(33)과 지지 기구(35)의 플랜지(51)를 볼트형 로드셀로 체결한다. 그리고, 볼트형 로드셀의 축력의 측정 데이터로부터 접촉시 하중 F1 및 비접촉시 하중 F2를 취득하고, 이들 접촉시 하중 F1 및 비접촉시 하중 F2의 하중차 ΔF로부터 유리판(G)에 대한 각 디스크 브러시(23)의 접촉 상태를 검지한다.

또한, 유리판(G)에 접촉시켜 세정하는 세정 부재로서는, 디스크 브러시(23)에 한정되지 않고, 유리판(G)에 따른 회전축을 회전시킴으로써, 회전축의 둘레에 마련된 브러시를 유리판(G)에 접촉시켜 세정하는 롤 브러시여도 된다.

또한, 본 고안은, LCD, OLED, FPD 이외의 전자 디바이스, 예를 들어 광학 소자용 유리 기판, 유리 디스크, 태양 전지 등의 기판을 세정하는 데 적용할 수 있다. 또한, 세정하는 기판으로서는, 유리판에 한정되지 않고, 예를 들어 금속, 세라믹 혹은 수지로부터 성형된 것이어도 된다.

이와 같이, 본 고안은 상기 실시 형태에 한정되는 것은 아니며, 실시 형태의 각 구성을 서로 조합하는 것이나, 명세서의 기재, 그리고 주지의 기술에 기초하여, 당업자가 변경, 응용하는 것도 본 고안이 예정하는 바이며, 보호를 구하는 범위에 포함된다.

이상과 같이, 본 명세서에는 다음 사항이 개시되어 있다.

(1) 반송되는 기판의 표리의 적어도 한쪽의 면을 피세정면으로서 세정하는 기판 세정 장치이며,

상기 세정 부재를 지지하는 프레임과,

를 구비하는, 기판 세정 장치.

상기 (1)의 구성의 기판 세정 장치에 의하면, 프레임에 마련되어 기판의 피세정면에 걸리는 세정 부재의 하중을 측정하는 하중계를 구비하고 있다. 따라서, 이 하중계의 측정 데이터에 기초하여, 기판의 피세정면에 대한 세정 부재의 접촉 상태를 용이하게 검지할 수 있다. 그리고, 검지한 접촉 상태에 기초하여, 기판의 피세정면에 대한 세정 부재의 접촉 하중을 용이하면서 또한 단시간에 조정하여, 세정 부재에 의한 세정력을 일정하게 할 수 있다.

(2) 상기 하중계로부터의 측정 데이터에 기초하여, 상기 기판에 대한 상기 세정 부재의 접촉 상태를 검지하는 검지부를 구비하는, (1)에 기재된 기판 세정 장치.

상기 (2)의 구성의 기판 세정 장치에 의하면, 하중계의 측정 데이터에 기초하여, 기판의 피세정면에 대한 세정 부재의 접촉 상태를, 검지부에 의해 적확하게 검지할 수 있다.

(3) 상기 프레임은, 상기 세정 부재를 회전 가능하게 지지함과 함께 상기 기판의 상기 피세정면에 대하여 근접 이격 방향으로 이동 가능하게 지지하는 지지 기구를 구비하고,

상기 하중계는 상기 프레임과 상기 지지 기구 사이에 마련되고,

상기 검지부는, 상기 기판에 대한 상기 세정 부재의 접촉 상태로서, 상기 피세정면에 대한 상기 세정 부재의 접촉시 및 비접촉시에 있어서의 상기 하중계의 측정값의 차를 구하는, (2)에 기재된 기판 세정 장치.

상기 (3)의 구성의 기판 세정 장치에 의하면, 세정 부재를 지지하는 지지 기구와 프레임 사이에 하중계를 마련하여, 세정 부재를 지지하는 지지 기구의 프레임에 대한 하중을 측정 가능하게 하고 있다. 따라서, 피세정면에 대한 세정 부재의 접촉시 및 비접촉시에 있어서의 하중계의 측정값의 차로부터 기판의 피세정면에 대한 세정 부재의 접촉 상태를 정확하게 검지할 수 있다.

(4) 상기 프레임의 변위량을 측정하는 변위계를 구비하고,

상기 검지부는 상기 변위계로부터의 측정 데이터에 기초하여, 상기 기판에 대한 상기 세정 부재의 접촉 상태를 검지하는, (2) 또는 (3)에 기재된 기판 세정 장치.

상기 (4)의 구성의 기판 세정 장치에 의하면, 변위계로부터의 측정 데이터에 기초하여, 기판에의 세정 부재의 접촉시에 있어서의 프레임의 변위량을 구하여, 기판에 대한 세정 부재의 접촉 상태를 보다 정확하게 검지할 수 있다.

(5) 상기 프레임의 진동을 검출하는 가속도계를 구비하고,

상기 검지부는 상기 가속도계로부터의 측정 데이터에 기초하여, 상기 기판에 대한 상기 세정 부재의 접촉 상태를 검지하는, (2) 내지 (4) 중 어느 하나에 기재된 기판 세정 장치.

상기 (5)의 구성의 기판 세정 장치에 의하면, 가속도계로부터의 측정 데이터에 기초하여, 기판에의 세정 부재의 접촉시에 있어서의 프레임의 진동을 구하여, 기판에 대한 세정 부재의 접촉 상태를 보다 정확하게 검지할 수 있다.

(6) 상기 기판에 상기 세정 부재가 접촉하였을 때의 압력 변동을 검출하는 면압 센서를 구비하고,

상기 검지부는 상기 면압 센서로부터의 측정 데이터에 기초하여, 상기 기판에 대한 상기 세정 부재의 접촉 상태를 검지하는, (2) 내지 (5) 중 어느 하나에 기재된 기판 세정 장치.

상기 (6)의 구성의 기판 세정 장치에 의하면, 면압 센서로 검출되는 기판에 세정 부재가 접촉하였을 때의 압력 변동에 기초하여, 기판에 대한 세정 부재의 접촉 상태를 보다 정확하게 검지할 수 있다.

(7) 상기 세정 부재를 회전시키는 회전 모터를 구비하고,

상기 검지부는, 상기 기판에 상기 세정 부재가 접촉하였을 때의 상기 회전 모터의 부하의 변동에 기초하여, 상기 기판에 대한 상기 세정 부재의 접촉 상태를 검지하는, (2) 내지 (6) 중 어느 하나에 기재된 기판 세정 장치.

상기 (7)의 구성의 기판 세정 장치에 의하면, 기판에 세정 부재가 접촉하였을 때의 회전 모터의 부하의 변동을 검출하고, 이 회전 모터의 부하의 변동에 기초하여, 기판에 대한 세정 부재의 접촉 상태를 보다 정확하게 검지할 수 있다.

(8) 상기 세정 부재는, 상기 기판의 상기 피세정면에 맞닿으면서 회전하는 복수의 디스크 브러시를 구비하는, (1) 내지 (7) 중 어느 하나에 기재된 기판 세정 장치.

상기 (8)의 구성의 기판 세정 장치에 의하면, 기판의 피세정면에 맞닿으면서 회전하는 복수의 디스크 브러시의 기판에 대한 접촉 상태를 검지하여, 복수의 디스크 브러시에 의한 세정력을 일정하게 하여 기판을 양호하게 세정시킬 수 있다.

(9) 상기 기판은 유리판인, (1) 내지 (8) 중 어느 하나에 기재된 기판 세정 장치.

상기 (9)의 구성의 기판 세정 장치에 의하면, 유리판에 대한 세정 부재의 접촉 상태를 검지하여, 세정 부재에 의한 세정력을 일정하게 하여 유리판을 양호하게 세정시킬 수 있다.

본 고안은, 2020년 10월 26일 출원의 일본 실용신안 출원 2020-004614에 기초하는 것이고, 그 내용은 여기에 참조로서 원용된다.

23: 디스크 브러시(세정 부재)
33: 프레임
35: 지지 기구
45: 회전 모터
61: 로드셀(하중계)
63: 레이저 변위계(변위계)
65: 가속도계
71: 제어부(검지부)
81: 변형 게이지(변위계)
83: 인장식 로드셀(변위계)
85: 면압 센서
100: 기판 세정 장치
G: 유리판(기판)

Claims

반송되는 기판의 표리의 적어도 한쪽의 면을 피세정면으로서 세정하는 기판 세정 장치이며,
상기 기판의 상기 피세정면에 회전하면서 접촉하는 세정 부재와,
상기 세정 부재를 지지하는 프레임과,
상기 프레임에 마련되어 상기 피세정면에 걸리는 상기 세정 부재의 하중을 측정하는 하중계
를 구비하는,
기판 세정 장치.
제1항에 있어서, 상기 하중계로부터의 측정 데이터에 기초하여, 상기 기판에 대한 상기 세정 부재의 접촉 상태를 검지하는 검지부를 구비하는,
기판 세정 장치.
제2항에 있어서, 상기 프레임은, 상기 세정 부재를 회전 가능하게 지지함과 함께 상기 기판의 상기 피세정면에 대하여 근접 이격 방향으로 이동 가능하게 지지하는 지지 기구를 구비하고,
상기 하중계는, 상기 프레임과 상기 지지 기구 사이에 마련되고,
상기 검지부는, 상기 기판에 대한 상기 세정 부재의 접촉 상태로서, 상기 피세정면에 대한 상기 세정 부재의 접촉시 및 비접촉시에 있어서의 상기 하중계의 측정값의 차를 구하는,
기판 세정 장치.
제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 프레임의 변위량을 측정하는 변위계를 구비하고,
상기 검지부는 상기 변위계로부터의 측정 데이터에 기초하여, 상기 기판에 대한 상기 세정 부재의 접촉 상태를 검지하는,
기판 세정 장치.
제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 프레임의 진동을 검출하는 가속도계를 구비하고,
상기 검지부는 상기 가속도계로부터의 측정 데이터에 기초하여, 상기 기판에 대한 상기 세정 부재의 접촉 상태를 검지하는,
기판 세정 장치.
제2항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기판에 상기 세정 부재가 접촉하였을 때의 압력 변동을 검출하는 면압 센서를 구비하고,
상기 검지부는 상기 면압 센서로부터의 측정 데이터에 기초하여, 상기 기판에 대한 상기 세정 부재의 접촉 상태를 검지하는,
기판 세정 장치.
제2항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 세정 부재를 회전시키는 회전 모터를 구비하고,
상기 검지부는, 상기 기판에 상기 세정 부재가 접촉하였을 때의 상기 회전 모터의 부하의 변동에 기초하여, 상기 기판에 대한 상기 세정 부재의 접촉 상태를 검지하는,
기판 세정 장치.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 세정 부재는, 상기 기판의 상기 피세정면에 맞닿으면서 회전하는 복수의 디스크 브러시를 구비하는,
기판 세정 장치.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기판은 유리판인,
기판 세정 장치.