JP3224397B2 - ナフトール誘導体およびその製法 - Google Patents
ナフトール誘導体およびその製法Info
- Publication number
- JP3224397B2 JP3224397B2 JP51818398A JP51818398A JP3224397B2 JP 3224397 B2 JP3224397 B2 JP 3224397B2 JP 51818398 A JP51818398 A JP 51818398A JP 51818398 A JP51818398 A JP 51818398A JP 3224397 B2 JP3224397 B2 JP 3224397B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- conh
- carbon atoms
- cor
- halogen atom
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D213/72—Nitrogen atoms
- C07D213/75—Amino or imino radicals, acylated by carboxylic or carbonic acids, or by sulfur or nitrogen analogues thereof, e.g. carbamates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D233/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
- C07D233/54—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D233/66—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D233/88—Nitrogen atoms, e.g. allantoin
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D233/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
- C07D233/54—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D233/66—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D233/90—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D235/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, condensed with other rings
- C07D235/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, condensed with other rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D235/04—Benzimidazoles; Hydrogenated benzimidazoles
- C07D235/24—Benzimidazoles; Hydrogenated benzimidazoles with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached in position 2
- C07D235/26—Oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D277/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
- C07D277/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings
- C07D277/20—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D277/32—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D277/38—Nitrogen atoms
- C07D277/44—Acylated amino or imino radicals
- C07D277/46—Acylated amino or imino radicals by carboxylic acids, or sulfur or nitrogen analogues thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D277/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
- C07D277/60—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D277/62—Benzothiazoles
- C07D277/68—Benzothiazoles with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached in position 2
- C07D277/82—Nitrogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
- C07D401/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings
- C07D401/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D403/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00
- C07D403/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings
- C07D403/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D417/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
- C07D417/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings
- C07D417/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B29/00—Monoazo dyes prepared by diazotising and coupling
- C09B29/10—Monoazo dyes prepared by diazotising and coupling from coupling components containing hydroxy as the only directing group
- C09B29/103—Monoazo dyes prepared by diazotising and coupling from coupling components containing hydroxy as the only directing group of the naphthalene series
- C09B29/106—Hydroxy carboxylic acids of the naphthalene series
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B29/00—Monoazo dyes prepared by diazotising and coupling
- C09B29/10—Monoazo dyes prepared by diazotising and coupling from coupling components containing hydroxy as the only directing group
- C09B29/18—Monoazo dyes prepared by diazotising and coupling from coupling components containing hydroxy as the only directing group ortho-Hydroxy carbonamides
- C09B29/20—Monoazo dyes prepared by diazotising and coupling from coupling components containing hydroxy as the only directing group ortho-Hydroxy carbonamides of the naphthalene series
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S534/00—Organic compounds -- part of the class 532-570 series
- Y10S534/04—Azo compounds which are lakes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Pyridine Compounds (AREA)
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は染料、顔料、観光材料等の合成用原料等とし
て用いることのできる新規なナフトール誘導体およびそ
の製法に関する。
て用いることのできる新規なナフトール誘導体およびそ
の製法に関する。
背景技術 ナフトール誘導体は共役ポリエン系を形成し、電子帯
に吸収を有する縮合芳香族化合物の中でも最も安価であ
り、合成用原料としても利用し易いもので、種々の特徴
ある化合物、特に染料、顔料、感光材料等の原料として
用いられてきた。
に吸収を有する縮合芳香族化合物の中でも最も安価であ
り、合成用原料としても利用し易いもので、種々の特徴
ある化合物、特に染料、顔料、感光材料等の原料として
用いられてきた。
このようなナフトール誘導体として2−ヒドロキシナ
フタレンの3位または6位に置換基を導入した2−ヒド
ロキシ−3−フェニルアミノカルボニルナフタレンおよ
び2−ヒドロキシ−6−フェニルアミノカルボニルナフ
タレン、更にこれらのフェニル基にアルキル基、アルコ
キシ基がついたものが知られている。
フタレンの3位または6位に置換基を導入した2−ヒド
ロキシ−3−フェニルアミノカルボニルナフタレンおよ
び2−ヒドロキシ−6−フェニルアミノカルボニルナフ
タレン、更にこれらのフェニル基にアルキル基、アルコ
キシ基がついたものが知られている。
しかし、2−ヒドロキシナフタレンの3および6位に
ともに置換基を有するナフタレン誘導体としては2−ヒ
ドロキシ−3,6−ジヒドロキシカルボニルナフタレンが
知られているにすぎない。
ともに置換基を有するナフタレン誘導体としては2−ヒ
ドロキシ−3,6−ジヒドロキシカルボニルナフタレンが
知られているにすぎない。
本発明の目的は合成用原料として有用な新規3,6−ジ
置換−2−ヒドロキシナフタレン、特に2−ヒドロキシ
−3,6−ジヒドロキシカルボニルナフタレンの誘導体お
よびその合成方法を提供することにある。
置換−2−ヒドロキシナフタレン、特に2−ヒドロキシ
−3,6−ジヒドロキシカルボニルナフタレンの誘導体お
よびその合成方法を提供することにある。
発明の開示 本発明は一般式(I) 〔式中、Yは−(CONH)n−Xまたは−COR; Y′は−(CONH)n−X′または−COR′; XおよびX′は同じであっても異なっていてもよいピ
リジル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基またはイ
ミダゾリル基であり、いずれも置換基を有してもよい; RおよびR′は、同じであっても異なっていてもよい
水酸基、炭素原子数が1〜6の分岐を有していてもよい
アルコキシ基、ハロゲン原子、ベンジルオキシ基、フェ
ニルオキシ基またはフェナシルオキシ基; R2は水素原子、アルカリ金属、炭素原子数が1〜6の
分岐を有してもよいアルキル基、炭素原子数が1〜6の
アシル基またはフェニルアルキレン基; Zは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ニトロソ基
またはアミノ基からなる群から選ばれる1種または2種
以上の基、Zはナフタレン環のどちらの環に置換しても
よい。; nは1または2の整数を示す、 ただし、YとY′が同時に−CORと−COR′を構成する
ことはない〕 で表されるナフトール誘導体およびその製法に関する。
リジル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基またはイ
ミダゾリル基であり、いずれも置換基を有してもよい; RおよびR′は、同じであっても異なっていてもよい
水酸基、炭素原子数が1〜6の分岐を有していてもよい
アルコキシ基、ハロゲン原子、ベンジルオキシ基、フェ
ニルオキシ基またはフェナシルオキシ基; R2は水素原子、アルカリ金属、炭素原子数が1〜6の
分岐を有してもよいアルキル基、炭素原子数が1〜6の
アシル基またはフェニルアルキレン基; Zは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ニトロソ基
またはアミノ基からなる群から選ばれる1種または2種
以上の基、Zはナフタレン環のどちらの環に置換しても
よい。; nは1または2の整数を示す、 ただし、YとY′が同時に−CORと−COR′を構成する
ことはない〕 で表されるナフトール誘導体およびその製法に関する。
特に、本発明は、(I)に於いてYおよびY′の一方
が−(CONH)n−Xであり、他方が−(CONH)n−Xま
たは−COR〔式中、X、nおよびRは前記と同意義〕で
ある一般式(IV)または(IV′) または で表されるナフトール誘導体に関する。
が−(CONH)n−Xであり、他方が−(CONH)n−Xま
たは−COR〔式中、X、nおよびRは前記と同意義〕で
ある一般式(IV)または(IV′) または で表されるナフトール誘導体に関する。
本発明のナフトール誘導体(I)は新規なナフトール
誘導体化合物である。
誘導体化合物である。
本発明のナフトール誘導体(IV)および(IV′)は新
規化合物であり、2−ヒドロキシナフタレンの3位およ
び/または6位にアミノカルボニル基または−CONHCONH
−基を介していずれも置換基を有していてもよいピリジ
ル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基またはイミダ
ゾリル基を付加した化合物である。アミノカルボニル基
または−CONHCONH−基を介して付加するこれらの残基は
3位と6位で同じものであっても異なっていてもよい。
また連結基であるアミノカルボニル基または−CONHCONH
−基も3位と6位で同じものであっても異なっていても
よい。また本発明のナフトール誘導体は3位または6位
の一方がヒドロキシカルボニル基、炭素原子数が1〜6
の分岐を有していてもよいアルコキシカルボニル基、ベ
ンジルオキシカルボニル基、フェニルオキシカルボニル
基またはフェナシルオキシカルボニル基であってもよ
い。また2位の水酸基の水素原子はアルカリ金属原子、
炭素原子数1〜6の分岐を有してもよいアルキル基、炭
素原子数が1〜6のアシル基またはフェニル置換アルキ
レン基で置換されていてもよい。またナフタレン環には
ハロゲン原子、ニトロ基、ニトロソ基またはアミノ基の
群から選ばれる1種または2種以上が導入されていても
よい。
規化合物であり、2−ヒドロキシナフタレンの3位およ
び/または6位にアミノカルボニル基または−CONHCONH
−基を介していずれも置換基を有していてもよいピリジ
ル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基またはイミダ
ゾリル基を付加した化合物である。アミノカルボニル基
または−CONHCONH−基を介して付加するこれらの残基は
3位と6位で同じものであっても異なっていてもよい。
また連結基であるアミノカルボニル基または−CONHCONH
−基も3位と6位で同じものであっても異なっていても
よい。また本発明のナフトール誘導体は3位または6位
の一方がヒドロキシカルボニル基、炭素原子数が1〜6
の分岐を有していてもよいアルコキシカルボニル基、ベ
ンジルオキシカルボニル基、フェニルオキシカルボニル
基またはフェナシルオキシカルボニル基であってもよ
い。また2位の水酸基の水素原子はアルカリ金属原子、
炭素原子数1〜6の分岐を有してもよいアルキル基、炭
素原子数が1〜6のアシル基またはフェニル置換アルキ
レン基で置換されていてもよい。またナフタレン環には
ハロゲン原子、ニトロ基、ニトロソ基またはアミノ基の
群から選ばれる1種または2種以上が導入されていても
よい。
Xがピリジル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基
またはイミダゾリル基の置換体である場合、置換基とし
てはアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル
基、フェノキシ基、アルコキシカルボニル基、ニトロ
基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ベンゾ
イルアミノ基、ジアルキルアミノスルホニル基またはシ
アノ基が挙げられ、アルキル基としては炭素原子数が1
〜6である分岐を有していてもよい飽和または不飽和の
アルキル基を用いることができ、好ましくはメチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、t−ブチルで
あり、アルコキシ基としては炭素原子数が1〜6である
分岐を有していてもよい飽和または不飽和のアルキル基
を用いることができ、好ましくはメトキシ基またはエト
キシ基である。ハロゲン原子としてはフッ素、塩素、臭
素、ヨウ素が挙げられる。また置換基の数は1〜5であ
り、置換基の種類は同一でも、異なっていてもよい。
またはイミダゾリル基の置換体である場合、置換基とし
てはアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル
基、フェノキシ基、アルコキシカルボニル基、ニトロ
基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ベンゾ
イルアミノ基、ジアルキルアミノスルホニル基またはシ
アノ基が挙げられ、アルキル基としては炭素原子数が1
〜6である分岐を有していてもよい飽和または不飽和の
アルキル基を用いることができ、好ましくはメチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、t−ブチルで
あり、アルコキシ基としては炭素原子数が1〜6である
分岐を有していてもよい飽和または不飽和のアルキル基
を用いることができ、好ましくはメトキシ基またはエト
キシ基である。ハロゲン原子としてはフッ素、塩素、臭
素、ヨウ素が挙げられる。また置換基の数は1〜5であ
り、置換基の種類は同一でも、異なっていてもよい。
本発明の上記ナフトール誘導体(IV)または(IV′)
は、一般式(II) 〔式中、R4およびR4′は、いずれか一方が水酸基または
ハロゲン原子で、他方が水酸基、ハロゲン原子または炭
素原子数が1〜6の分岐を有してもよいアルコキシ基、
ベンジルオキシ基、フェニルオキシ基またはフェナシル
オキシ基; R5は水素原子または水酸基の保護基; Zは前記と同意義〕 で表されるナフトール誘導体と 一般式(III) H2N−R3−X (III) 〔式中、R3は単結合または−CONH−を示す。ただし、X
は前記と同意義〕で表される複素環化合物とを縮合反応
することにより製造することができる。
は、一般式(II) 〔式中、R4およびR4′は、いずれか一方が水酸基または
ハロゲン原子で、他方が水酸基、ハロゲン原子または炭
素原子数が1〜6の分岐を有してもよいアルコキシ基、
ベンジルオキシ基、フェニルオキシ基またはフェナシル
オキシ基; R5は水素原子または水酸基の保護基; Zは前記と同意義〕 で表されるナフトール誘導体と 一般式(III) H2N−R3−X (III) 〔式中、R3は単結合または−CONH−を示す。ただし、X
は前記と同意義〕で表される複素環化合物とを縮合反応
することにより製造することができる。
式(II)の化合物におけるR5は水素原子、アルカリ金
属原子または水酸基の保護基を示し、水酸基の保護基と
は他の置換位置に置換基を導入する反応中、水酸基を保
護するために一時的に水酸基に結合し、所望の反応が終
了後、例えばアルカリや酸加水分解等により水酸基を容
易に回復することができる基を意味し、例えば炭素原子
数が1〜6の分岐を有していてもよいアルキル基、ベン
ジル基、アセチル基、アセトニル基、テトラヒドロピラ
ニル基、トリメチルシリル基等である。
属原子または水酸基の保護基を示し、水酸基の保護基と
は他の置換位置に置換基を導入する反応中、水酸基を保
護するために一時的に水酸基に結合し、所望の反応が終
了後、例えばアルカリや酸加水分解等により水酸基を容
易に回復することができる基を意味し、例えば炭素原子
数が1〜6の分岐を有していてもよいアルキル基、ベン
ジル基、アセチル基、アセトニル基、テトラヒドロピラ
ニル基、トリメチルシリル基等である。
式(III)の化合物におけるR3が−CONH−であるフェ
ニルウレア誘導体は、該当する複素環化合物にシアン酸
を作用させるシアネート法によりウレイド基を形成して
得ることができる。
ニルウレア誘導体は、該当する複素環化合物にシアン酸
を作用させるシアネート法によりウレイド基を形成して
得ることができる。
より詳しく説明すると、反応式(VI) 〔式中、Xは前記と同意義〕 に示すように、例えば複素環化合物を酢酸水溶液に溶解
し、15℃でシアン酸カリ水溶液を30分間かけて滴下し、
滴下終了後30℃まで昇温し、30分間反応後、析出してく
る結晶を濾過し、水洗して得ることができる。
し、15℃でシアン酸カリ水溶液を30分間かけて滴下し、
滴下終了後30℃まで昇温し、30分間反応後、析出してく
る結晶を濾過し、水洗して得ることができる。
化合物(II)と(III)との反応は、例えばキシレン
溶媒中に2−ヒドロキシ−3,6−ジヒドロキシカルボニ
ルナフタレンおよび複素環化合物を仕込み、90〜100℃
でPCl3を滴下して行うことができる。その後140℃に昇
温して3時間反応し、反応後、加水、中和し、反応によ
り生成してくる結晶を濾過し、濾紙上の結晶を有機溶媒
(例えば、キシレン)で洗浄して化合物(IV)または
(IV′)が得られる。
溶媒中に2−ヒドロキシ−3,6−ジヒドロキシカルボニ
ルナフタレンおよび複素環化合物を仕込み、90〜100℃
でPCl3を滴下して行うことができる。その後140℃に昇
温して3時間反応し、反応後、加水、中和し、反応によ
り生成してくる結晶を濾過し、濾紙上の結晶を有機溶媒
(例えば、キシレン)で洗浄して化合物(IV)または
(IV′)が得られる。
R2に水素原子以外の置換基を導入するには、例えば、
2−ヒドロキシ−3,6−ジヒドロキシカルボニルナフタ
レンの該当する3,6−誘導体を、3位および6位が保護
された状態で、導入しようとする残基のハロゲン化物例
えばベンジルクロライド、ヨウ化エチル等を適当な塩基
性物質、例えば炭酸カリウムの存在下で反応させればよ
い。
2−ヒドロキシ−3,6−ジヒドロキシカルボニルナフタ
レンの該当する3,6−誘導体を、3位および6位が保護
された状態で、導入しようとする残基のハロゲン化物例
えばベンジルクロライド、ヨウ化エチル等を適当な塩基
性物質、例えば炭酸カリウムの存在下で反応させればよ
い。
ナフタレン環の置換基Zとして、例えばハロゲンを導
入するには、相当する位置が未置換の化合物の溶液に、
ハロゲン分子、例えば臭素をクロロホルム等に溶かして
添加すればよい。ニトロソ基を導入するには、該当する
未置換化合物の溶液に亜硝酸ナトリウムの水溶液を反応
させればよい。
入するには、相当する位置が未置換の化合物の溶液に、
ハロゲン分子、例えば臭素をクロロホルム等に溶かして
添加すればよい。ニトロソ基を導入するには、該当する
未置換化合物の溶液に亜硝酸ナトリウムの水溶液を反応
させればよい。
図面の簡単な説明 第1図は実施例1で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
トル。
第2図は実施例2で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
トル。
第3図は実施例3で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
トル。
第4図は実施例4で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
トル。
第5図は実施例5で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
トル。
第6図は実施例6で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
トル。
実施例1 2−ヒドロキシ−3,6−ビス(2′−ピリジルアミノカ
ルボニル)ナフタレンの合成 2−ヒドロキシ−3,6−ジヒドロキシカルボニルナフ
タレン14.3gおよび2−アミノピリジン13.6gを、N−メ
チル−2−ピロリドン120gおよび酢酸エチル150gに溶解
し、これにジシクロヘキシルカルボジイミド30.9gを加
え、室温で約15時間反応する。不溶物を濾去した後、濾
液を約半分の重量まで濃縮し、次いでジグライム30.6g
を加え、170℃に昇温する。2時間後、室温まで冷却
し、不溶物を濾去する。濾液を濃縮した後、酢酸エチル
200Gを加え、超音波処理して析出した結晶を濾過する。
生成物を乾燥すると、黄白色粉末[2−ヒドロキシ−3,
6−ビス(2′−ピリジルアミノカルボニル)ナフタレ
ン]15.7gを得た(融点:311.2℃)。
ルボニル)ナフタレンの合成 2−ヒドロキシ−3,6−ジヒドロキシカルボニルナフ
タレン14.3gおよび2−アミノピリジン13.6gを、N−メ
チル−2−ピロリドン120gおよび酢酸エチル150gに溶解
し、これにジシクロヘキシルカルボジイミド30.9gを加
え、室温で約15時間反応する。不溶物を濾去した後、濾
液を約半分の重量まで濃縮し、次いでジグライム30.6g
を加え、170℃に昇温する。2時間後、室温まで冷却
し、不溶物を濾去する。濾液を濃縮した後、酢酸エチル
200Gを加え、超音波処理して析出した結晶を濾過する。
生成物を乾燥すると、黄白色粉末[2−ヒドロキシ−3,
6−ビス(2′−ピリジルアミノカルボニル)ナフタレ
ン]15.7gを得た(融点:311.2℃)。
この赤外吸収スペクトル(KBr法)を第1図に示す。
実施例2 2−ヒドロキシ−3,6−ビス(チアゾール−2′−イル
アミノカルボニル)ナフタレンの合成 2−アミノチアゾール6.3gをN−メチル−2−ピロリ
ドン50.0gおよびトルエン30.0gに溶解し、60℃に加熱す
る。これに2−ヒドロキシ−3,6−ビスクロロカルボニ
ルナフタレン5.6gをN−メチル−2−ピロリドン120.0g
に溶解した溶液を添加し、80℃に昇温する。約24時間
後、濃縮し、水470gを加える。析出した結晶を濾過し、
メタノールで洗浄後、乾燥して肌色粉末[2−ヒドロキ
シ−3,6−ビス(チアゾール−2′−イルアミノカルボ
ニル)ナフタレン]1.7gを得た(融点:286.6℃)。
アミノカルボニル)ナフタレンの合成 2−アミノチアゾール6.3gをN−メチル−2−ピロリ
ドン50.0gおよびトルエン30.0gに溶解し、60℃に加熱す
る。これに2−ヒドロキシ−3,6−ビスクロロカルボニ
ルナフタレン5.6gをN−メチル−2−ピロリドン120.0g
に溶解した溶液を添加し、80℃に昇温する。約24時間
後、濃縮し、水470gを加える。析出した結晶を濾過し、
メタノールで洗浄後、乾燥して肌色粉末[2−ヒドロキ
シ−3,6−ビス(チアゾール−2′−イルアミノカルボ
ニル)ナフタレン]1.7gを得た(融点:286.6℃)。
この赤外吸収スペクトル(KBr法)を第2図に示す。
実施例3 2−ヒドロキシ−3,6−ビス(ベンゾチアゾール−2′
−イルアミノカルボニル)ナフタレンの合成 実施例2の2−アミノチアゾールを2−アミノベンゾ
チアゾール9.4gに変えることの他は、実施例2と同様に
して、肌色粉末[2−ヒドロキシ−3,6−ビス(ベンゾ
チアゾール−2′−イルアミノカルボニル)ナフタレ
ン]3.2gを得た(融点:364.1℃)。
−イルアミノカルボニル)ナフタレンの合成 実施例2の2−アミノチアゾールを2−アミノベンゾ
チアゾール9.4gに変えることの他は、実施例2と同様に
して、肌色粉末[2−ヒドロキシ−3,6−ビス(ベンゾ
チアゾール−2′−イルアミノカルボニル)ナフタレ
ン]3.2gを得た(融点:364.1℃)。
この赤外吸収スペクトル(KBr法)を第3図に示す。
実施例4 2−ヒドロキシ−3,6−ジ(4′,5′−ジシアノイミダ
ゾール−2′−イルアミノカルボニル)ナフタレンの合
成 実施例2の2−アミノチアゾールを2−アミノ−4,5
−ジシアノイミダゾール8.3gに代えることの他は、実施
例2と同様にして、肌色粉末[2−ヒドロキシ3,6−ジ
(4′,5′−ジシアノイミダゾール−2′−イルアミノ
カルボニル)ナフタレン]3.5gを得た(融点:256.8
℃)。
ゾール−2′−イルアミノカルボニル)ナフタレンの合
成 実施例2の2−アミノチアゾールを2−アミノ−4,5
−ジシアノイミダゾール8.3gに代えることの他は、実施
例2と同様にして、肌色粉末[2−ヒドロキシ3,6−ジ
(4′,5′−ジシアノイミダゾール−2′−イルアミノ
カルボニル)ナフタレン]3.5gを得た(融点:256.8
℃)。
この赤外吸収スペクトル(KBr法)を第4図に示す。
実施例5 2−ヒドロキシ−3−メトキシカルボニル−6−(ベン
ゾチアゾール−2′−イルアミノカルボニル)ナフタレ
ンの合成 実施例3の2−ヒドロキシ−3,6−ビスクロロカルボ
ニルナフタレンを2−ヒドロキシ−3−メトキシカルボ
ニル−6−クロロカルボニルナフタレン2.6gに代えるこ
との他は、実施例3と同様にして、淡黄色粉末〔2−ヒ
ドロキシ−3−メトキシカルボニル−6−(ベンゾチア
ゾール−2′−イルアミノカルボニル)ナフタレン〕3.
5gを得た。(分解点:375.3℃)。
ゾチアゾール−2′−イルアミノカルボニル)ナフタレ
ンの合成 実施例3の2−ヒドロキシ−3,6−ビスクロロカルボ
ニルナフタレンを2−ヒドロキシ−3−メトキシカルボ
ニル−6−クロロカルボニルナフタレン2.6gに代えるこ
との他は、実施例3と同様にして、淡黄色粉末〔2−ヒ
ドロキシ−3−メトキシカルボニル−6−(ベンゾチア
ゾール−2′−イルアミノカルボニル)ナフタレン〕3.
5gを得た。(分解点:375.3℃)。
この赤外吸収スペクトル(KBr法)を図5に示す。
実施例6 2−ヒドロキシ−6−メトキシカルボニル−3−
(4′,5′−ジシアノイミダゾール−2′−イルアミノ
カルボニル)ナフタレンの合成 実施例3の2−ヒドロキシ−3,6−ビスクロロカルボ
ニルナフタレンを2−ヒドロキシ−6−メトキシカルボ
ニル−3−クロロカルボニルナフタレン5.3gに代えるこ
との他は、実施例3と同様にして、淡褐色粉末〔2−ヒ
ドロキシ−6−メトキシカルボニル−3−(4′,5′−
ジシアノイミダゾール−2′−イルアミノカルボニル)
ナフタレン〕5.0gを得た。(分解点:323.1℃)。
(4′,5′−ジシアノイミダゾール−2′−イルアミノ
カルボニル)ナフタレンの合成 実施例3の2−ヒドロキシ−3,6−ビスクロロカルボ
ニルナフタレンを2−ヒドロキシ−6−メトキシカルボ
ニル−3−クロロカルボニルナフタレン5.3gに代えるこ
との他は、実施例3と同様にして、淡褐色粉末〔2−ヒ
ドロキシ−6−メトキシカルボニル−3−(4′,5′−
ジシアノイミダゾール−2′−イルアミノカルボニル)
ナフタレン〕5.0gを得た。(分解点:323.1℃)。
この赤外吸収スペクトル(KBr法)を図6に示す。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI C09B 29/20 C09B 29/20 (56)参考文献 特開 昭61−55650(JP,A) 特開 昭47−1730(JP,A) 国際公開96/32366(WO,A1) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 213/00 - 213/75 C07D 233/00 - 233/90 C07D 275/00 C07D 277/00 - 277/38 CA(STN) REGISTRY(STN)
Claims (3)
- 【請求項1】一般式(I) 〔式中、Yは−(CONH)n−Xまたは−COR; Y′は−(CONH)n−X′または−COR′; XおよびX′は同じであっても異なっていてもよいピリ
ジル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基またはイミ
ダゾリル基であり、いずれも置換基を有してもよい; RおよびR′は、同じであっても異なっていてもよい水
酸基、炭素原子数が1〜6の分岐を有してもよいアルコ
キシ基、ハロゲン原子、ベンジルオキシ基、フェニルオ
キシ基またはフェナシルオキシ基; R2は水素原子、アルカリ金属、炭素原子数が1〜6の分
岐を有してもよいアルキル基、炭素原子数が1〜6のア
シル基またはフェニルアルキレン基; Zは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ニトロソ基ま
たはアミノ基からなる群から選ばれる1種または2種以
上の基、Zはナフタレン環のどちらの環に置換していて
もよい。; nは1または2の整数を示す、 ただし、YとY′が同時に−CORと−COR′を構成するこ
とはない〕 で表されるナフトール誘導体。 - 【請求項2】YおよびY′の一方が−(CONH)n−Xで
あり、他方が−(CONH)n−X′〔式中、X、X′およ
びnは前記と同意義〕である請求の範囲第1項記載のナ
フトール誘導体。 - 【請求項3】一般式(II) 〔式中、R4およびR4′は、いずれか一方が水酸基または
ハロゲン原子で、他方が水酸基、ハロゲン原子または炭
素原子数が1〜6の分岐を有してもよいアルコキシ基、
ベンジルオキシ基、フェニルオキシ基またはフェナシル
オキシ基; R5は水素原子または水酸基の保護基; Zは前記と同じ意味を有する〕 で表されるナフトール誘導体、と 一般式(III) H2N−R3−X (III) 〔式中、R3は単結合または−CONH−を示す。ただし、X
は前記と同意義〕で表される複素環化合物とを縮合反応
することを特徴とする請求の範囲第2項記載のナフトー
ル誘導体の製法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8-269985 | 1996-10-11 | ||
| JP26998596 | 1996-10-11 | ||
| PCT/JP1997/003637 WO1998016587A1 (en) | 1996-10-11 | 1997-10-09 | Azo compounds and process for preparing the same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO1998016513A1 JPWO1998016513A1 (ja) | 1999-03-09 |
| JP3224397B2 true JP3224397B2 (ja) | 2001-10-29 |
Family
ID=17479971
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51818398A Expired - Fee Related JP3224397B2 (ja) | 1996-10-11 | 1997-10-09 | ナフトール誘導体およびその製法 |
| JP51818198A Expired - Fee Related JP3393869B2 (ja) | 1996-10-11 | 1997-10-09 | アゾ化合物およびその製法 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51818198A Expired - Fee Related JP3393869B2 (ja) | 1996-10-11 | 1997-10-09 | アゾ化合物およびその製法 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5973126A (ja) |
| EP (2) | EP0872477B1 (ja) |
| JP (2) | JP3224397B2 (ja) |
| KR (2) | KR100472978B1 (ja) |
| CN (2) | CN1150281C (ja) |
| AT (2) | ATE285401T1 (ja) |
| CA (1) | CA2240073A1 (ja) |
| DE (2) | DE69732022T2 (ja) |
| TW (2) | TW416975B (ja) |
| WO (2) | WO1998016513A1 (ja) |
Families Citing this family (25)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW445284B (en) * | 1997-03-19 | 2001-07-11 | Ueno Seiyaku Oyo Kenkyujo Kk | Condensed azo compounds and their preparation |
| ATE246715T1 (de) * | 1997-08-28 | 2003-08-15 | Ueno Seiyaku Oyo Kenkyujo Kk | Wasserlösliche azofarbstoffe und verfahren zu ihrer herstellung |
| TW527402B (en) * | 1997-12-26 | 2003-04-11 | Ueno Seiyaku Oyo Kenkyujo Kk | Water soluble azo compound and a process for preparing the same |
| JP3672823B2 (ja) * | 1998-10-16 | 2005-07-20 | 株式会社上野製薬応用研究所 | アゾ化合物およびその製法 |
| WO2001087859A1 (fr) * | 2000-05-16 | 2001-11-22 | Kabushiki Kaisha Ueno Seiyaku Oyo Kenkyujo | Derives de naphtol |
| US6451988B1 (en) | 2000-05-16 | 2002-09-17 | Kabushiki Kaisha Ueno Seiyaku Oyo Kenkyujo | Naphthol derivatives |
| EP1313697B1 (en) | 2000-08-29 | 2005-11-30 | Nobex Corporation | Immunoregulatory compounds, derivatives thereof and their use |
| US7169931B2 (en) * | 2001-01-26 | 2007-01-30 | Shionogi & Co., Ltd. | Cyclic compounds exhibiting thrombopoietin receptor agonism |
| WO2002062771A1 (en) * | 2001-02-05 | 2002-08-15 | Roche Vitamins Ag | Novel 2-benzoxazolyl benzene derivatives and their use as uv screening agents |
| US6686201B2 (en) | 2001-04-04 | 2004-02-03 | General Electric Company | Chemically-resistant sensor devices, and systems and methods for using same |
| US6383815B1 (en) | 2001-04-04 | 2002-05-07 | General Electric Company | Devices and methods for measurements of barrier properties of coating arrays |
| US20020172620A1 (en) * | 2001-04-04 | 2002-11-21 | Potyrailo Radislav Alexandrovich | Systems and methods for rapid evaluation of chemical resistance of materials |
| US6567753B2 (en) | 2001-04-04 | 2003-05-20 | General Electric Company | Devices and methods for simultaneous measurement of transmission of vapors through a plurality of sheet materials |
| US8048924B2 (en) | 2001-08-29 | 2011-11-01 | Biocon Limited | Methods and compositions employing 4-aminophenylacetic acid compounds |
| US20030154031A1 (en) * | 2002-02-14 | 2003-08-14 | General Electric Company | Method and apparatus for the rapid evaluation of a plurality of materials or samples |
| IL150317A0 (en) * | 2002-06-19 | 2002-12-01 | Yissum Res Dev Co | Organo-clay complexes |
| TW200504159A (en) * | 2003-06-03 | 2005-02-01 | Ueno Seiyaku Oyo Kenkyujo Kk | Monoazo compound and process for making same |
| US20050054116A1 (en) * | 2003-09-05 | 2005-03-10 | Potyrailo Radislav A. | Method of manufacturing and evaluating sensor coatings and the sensors derived therefrom |
| TW200526746A (en) * | 2003-11-28 | 2005-08-16 | Ueno Seiyaku Oyo Kenkyujo Kk | Red ink composition for color filter |
| EP1773767B1 (en) | 2004-07-07 | 2016-03-09 | Biocon Limited | Synthesis of azo bonded immunoregulatory compounds |
| JP2006290838A (ja) * | 2005-04-14 | 2006-10-26 | Ueno Technology:Kk | ヒドラジド化されたヒドロキシナフタレンジカルボン酸およびその誘導体ならびにその製造方法 |
| JP4963882B2 (ja) * | 2006-07-05 | 2012-06-27 | 上野製薬株式会社 | 2−ナフトール誘導体およびモノアゾ化合物 |
| JP5173333B2 (ja) * | 2006-11-02 | 2013-04-03 | 大日精化工業株式会社 | 顔料組成物、これを用いた着色組成物およびカラーフィルター |
| TW201134884A (en) * | 2010-01-15 | 2011-10-16 | Fujifilm Corp | Pigment composition, ink for inkjet recording, coloring composition for color filter, and color filter |
| CN106634040A (zh) * | 2016-08-30 | 2017-05-10 | 上虞市东海化工有限公司 | 一种红色颜料的制备方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996032366A1 (en) | 1995-04-12 | 1996-10-17 | Kabushiki Kaisha Ueno Seiyaku Oyo Kenkyujo | Naphthol derivatives and process for producing the same |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH477536A (de) * | 1966-04-23 | 1969-08-31 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Pigmentfarbstoffen |
| DE1644216A1 (de) * | 1967-06-03 | 1970-12-17 | Bayer Ag | Azofarbstoffe |
| ES358994A1 (es) * | 1967-10-10 | 1970-11-01 | Ciba Geigy | Procedimiento para la preparacion de pigmentos colorantes azoicos. |
| DE2059677C3 (de) * | 1970-12-04 | 1975-10-16 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Azopigmente der beta-Hydroxynaphthoesäurereihe, Verfahren zu deren Herstellung und ihre Verwendung |
| CH619584GA3 (ja) * | 1975-03-26 | 1980-10-15 | ||
| EP0031798A3 (de) * | 1979-12-28 | 1981-07-15 | Ciba-Geigy Ag | Neue Monoazopigmente und Verfahren zu deren Herstellung |
| DE3018713A1 (de) * | 1980-05-16 | 1981-12-03 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zum faerben und/oder bedrucken von cellulosehaltigem textilmaterial und neue farbstoffe |
| US4737581A (en) * | 1984-04-25 | 1988-04-12 | Ciba-Geigy Corporation | Phenyl-azo-hydroxynaphthoic acid amide pigments containing at least one carbonamide group |
| DE3562683D1 (en) * | 1984-08-13 | 1988-06-16 | Agfa Gevaert Nv | Process for the production of diffusion transfer images with magenta dye-releasing non-diffusable compounds |
| JPH0798907B2 (ja) * | 1989-05-17 | 1995-10-25 | 株式会社上野製薬応用研究所 | アゾ化合物およびその製法 |
-
1997
- 1997-10-09 JP JP51818398A patent/JP3224397B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1997-10-09 KR KR10-1998-0703755A patent/KR100472978B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1997-10-09 CN CNB971914206A patent/CN1150281C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1997-10-09 US US09/068,954 patent/US5973126A/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-10-09 WO PCT/JP1997/003639 patent/WO1998016513A1/ja not_active Ceased
- 1997-10-09 WO PCT/JP1997/003637 patent/WO1998016587A1/ja not_active Ceased
- 1997-10-09 AT AT97943171T patent/ATE285401T1/de not_active IP Right Cessation
- 1997-10-09 TW TW086114879A patent/TW416975B/zh active
- 1997-10-09 CN CN97191988A patent/CN1105106C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1997-10-09 JP JP51818198A patent/JP3393869B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1997-10-09 EP EP97943171A patent/EP0872477B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-10-09 KR KR1019980704351A patent/KR100479314B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1997-10-09 US US09/077,921 patent/US6084101A/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-10-09 EP EP97943169A patent/EP0881267B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-10-09 AT AT97943169T patent/ATE265498T1/de not_active IP Right Cessation
- 1997-10-09 DE DE69732022T patent/DE69732022T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1997-10-09 DE DE69728860T patent/DE69728860T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1997-10-09 TW TW086114880A patent/TW403771B/zh active
- 1997-10-09 CA CA002240073A patent/CA2240073A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996032366A1 (en) | 1995-04-12 | 1996-10-17 | Kabushiki Kaisha Ueno Seiyaku Oyo Kenkyujo | Naphthol derivatives and process for producing the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3393869B2 (ja) | 2003-04-07 |
| DE69732022T2 (de) | 2005-05-19 |
| TW416975B (en) | 2001-01-01 |
| DE69728860D1 (de) | 2004-06-03 |
| WO1998016513A1 (en) | 1998-04-23 |
| CN1210520A (zh) | 1999-03-10 |
| EP0881267A1 (en) | 1998-12-02 |
| KR19990072054A (ko) | 1999-09-27 |
| US5973126A (en) | 1999-10-26 |
| EP0872477A1 (en) | 1998-10-21 |
| CN1205021A (zh) | 1999-01-13 |
| EP0881267A4 (en) | 2003-03-05 |
| EP0881267B1 (en) | 2004-04-28 |
| ATE285401T1 (de) | 2005-01-15 |
| TW403771B (en) | 2000-09-01 |
| WO1998016587A1 (en) | 1998-04-23 |
| KR100479314B1 (ko) | 2006-03-23 |
| CA2240073A1 (en) | 1998-04-23 |
| CN1105106C (zh) | 2003-04-09 |
| DE69732022D1 (de) | 2005-01-27 |
| EP0872477A4 (en) | 2002-01-02 |
| DE69728860T2 (de) | 2005-04-21 |
| KR19990071483A (ko) | 1999-09-27 |
| KR100472978B1 (ko) | 2005-09-02 |
| US6084101A (en) | 2000-07-04 |
| EP0872477B1 (en) | 2004-12-22 |
| ATE265498T1 (de) | 2004-05-15 |
| CN1150281C (zh) | 2004-05-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3224397B2 (ja) | ナフトール誘導体およびその製法 | |
| JPWO1998016513A1 (ja) | ナフトール誘導体およびその製法 | |
| EP0765858B1 (en) | Naphthol derivatives and process for producing the same | |
| JPWO1996032366A1 (ja) | ナフトール誘導体およびその製法 | |
| US3873558A (en) | Process for preparing 1,5-substituted or 1,6-substituted benzimidazoles | |
| US5864044A (en) | Syntheses of trisulfonated phthalocyanines and their derivatatives using boron (111) subphthalocyanines as intermediates | |
| JP3231792B2 (ja) | ビス(アミノカルボニルナフトール)誘導体 | |
| EP1283205B1 (en) | Naphthol derivatives | |
| JP4843312B2 (ja) | アミノカルボニルナフトール誘導体およびシアノナフトール誘導体ならびにそれらの製造方法 | |
| CA1059131A (en) | Preparation of n-2-(6-hydroxybenzothiazolyl)-n-phenyl (or substituted phenyl) ureas | |
| JPWO1998016498A1 (ja) | ビス(アミノカルボニルナフトール)誘導体 | |
| US6451988B1 (en) | Naphthol derivatives | |
| US3238210A (en) | Manufacture of a thiachromonoacridone-containing pigment | |
| JP3024998B2 (ja) | フタロシアニン化合物およびその製造方法 | |
| JP3010383B2 (ja) | 3−カルボキシ−5−アシルオキシピラゾールの合成法 | |
| JP2515122B2 (ja) | アントラニル酸エステルの製造方法 | |
| JPH09104673A (ja) | キノリン誘導体及びその製造方法 | |
| JPH09176158A (ja) | 含窒素複素環化合物及びその製造方法 | |
| CS204040B2 (en) | Method of producing novel heterocyclic compounds | |
| JPS63172771A (ja) | インドアニリン系染料の製造法 | |
| JPS62238285A (ja) | 4,5,6,7―テトラヒドロ―2h―インダゾール誘導体 | |
| JPS6044301B2 (ja) | 4‐スルホナフタル酸イミド類の製造法 | |
| JPH04114063A (ja) | オキソノール染料の製造方法 | |
| PL158547B1 (en) | Method of obtaining 2(4-/2-chlorobenzamido/-ethyl-/-phenoxy)-2methyl propanic acid |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |