JP3222981B2 - 太陽電池とその製造方法 - Google Patents

太陽電池とその製造方法

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semiconductor film
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transparent electrode
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景一 佐野
洋一郎 綾
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    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は太陽電池とその製造方
法に関し、特にたとえば透明基板/透明電極/半導体膜
/裏面電極のような構造で透明基板側から光を照射す
る、いわゆる順タイプ構造の太陽電池とその製造方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】この種の太陽電池を大面積化する際の1
つの問題として、光入射側の透明電極による抵抗損失の
増加がある。これを回避するデバイス構造として、たと
えば「太陽電池ハンドブック」(コロナ社)電気学会太
陽電池調査専門委員会編1985年第112〜第113
頁に記載されている、集電極構造や集積型構造が提案さ
れている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】集積型構造では、透明
電極,半導体膜および裏面電極を別々に加工する必要が
あるので、製造工程が多くなるという問題がある。これ
に対して、集電極構造では、透明電極上に形成された集
電極をまたいで半導体膜を形成する必要があるので、集
電極による段差部分において半導体膜の被覆が不十分に
なるため、このような集電極構造は順タイプ構造のもの
には現実には採用されていなかった。
【0004】それゆえに、この発明の主たる目的は、実
現可能な集電極構造を有する、順タイプ構造の太陽電池
を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】第1発明は、透明基板、
透明基板上に形成される透明電極、透明電極上に形成さ
れる半導体膜、半導体膜中に形成され透明電極まで到達
する少なくとも1つの溝、透明電極に接続されるように
溝中に形成されかつ半導体膜上に露出された集電極、お
よび半導体膜上において集電極と同一平面に形成されか
表面が露出せしめられた半導体膜により集電極とは電
気的に分離されている裏面電極を備える、太陽電池であ
る。
【0006】第2発明は、透明基板上に透明電極、半導
体膜および裏面電極がこの順に積層的に形成された太陽
電池の製造方法において、半導体膜を形成した後にこれ
を選択的に除去して溝を形成し、その溝を含んで半導体
膜上に裏面電極を形成した後、裏面電極の所定部分をエ
ッチングして、裏面電極における透明電極と接している
部分を他の部分から電気的に分離するようにしたことを
特徴とする、太陽電池の製造方法である。
【0007】
【作用】透明基板の上に透明電極を形成し、その上にた
とえばアモルファス半導体からなりかつpin接合を有
する半導体膜を形成する。そして、その半導体膜中に、
たとえばレーザビームによってその半導体膜を部分的な
いしは選択的に除去することによって、少なくとも1つ
の溝を形成する。この溝を含んで、半導体膜上にたとえ
ばアルミニウムの蒸着によって裏面電極を形成する。し
たがって、裏面電極の一部が溝を通して透明電極に接続
される。そして、たとえばレーザビームによって、透明
電極と接続されている裏面電極の部分を、他の部分と電
気的に分離する。透明電極に接続されている裏面電極の
部分が集電極として作用する。
【0008】
【発明の効果】この発明によれば、半導体膜は透明電極
上にそのまま形成することができるので、半導体膜の膜
厚が不均一になってしまうという問題点が解決され、し
たがって集電極を用いた大面積の順タイプ構造の太陽電
池を実現することができる。この発明の上述の目的,そ
の他の目的,特徴および利点は、図面を参照して行う以
下の実施例の詳細な説明から一層明らかとなろう。
【0009】
【実施例】図1に示すステップでは、ガラス基板12上
に、たとえばITOからなる透明電極14が形成され、
その透明電極14上に、公知のプラズマCVD法などに
よって、アモルファスシリコンあるいはその化合物によ
ってたとえばpin接合を有する半導体膜16が形成さ
れる。
【0010】図2に示す次のステップにおいては、半導
体膜16中に透明電極14にまで達する溝18aおよび
18bを形成する。この溝18aおよび18bを形成す
るためには、たとえばYAGレーザのレーザビームが用
いられる。YAGレーザの波長はたとえば0.53μm
である。このとき、レーザビームが透明電極14まで達
したとしても、レーザビームは透明電極14を通過する
ので、透明電極14がそのレーザビームによって損傷を
受けることはない。すなわち、溝18aおよび18bに
おいては半導体膜16を確実に除去でき、しかも透明電
極14に損傷を与えることはない。ただし、エッチング
技術によってこの溝18aおよび18bを形成してもよ
い。
【0011】図3に示す次のステップにおいては、たと
えばアルミニウムや銀の蒸着やスパッタリングによって
によって、裏面電極20を形成する。その後、図4に示
すステップにおいて、レーザビームを用いてあるいはエ
ッチング技術によって、裏面電極20の透明電極14と
接続されている部分20Aaおよび20Abを、他の部
分20Ba,20Bbおよび20Bcから電気的に分離
する。その結果、裏面電極20は、図5に示すように、
斜線で示す20Aの部分とそれとは電気的に分離してい
る20Bの部分とに分離される。したがって、20Aの
部分が集電極として作用し、20Bの部分が本来の裏面
電極として作用する。したがって、半導体膜16からの
電流は図4の点線で示す経路を通って集電極20Aaお
よび20Abに流れる。そのため、透明電極14中にお
ける電流経路長があまり大きくならないので、大面積の
光起電力素子10が得られる。
【0012】このように、図1〜図5に示す実施例にお
いては、集電極部分20Aと裏面電極部分20Bとを同
時に裏面電極20として形成し、その後各部を電気的に
分離させるようにしているため、電極膜形成工程が1回
でよく、製造が簡単になる。なお、図4に示す太陽電池
10において、たとえば裏面電極20Baと集電極20
Aaとの間のように集電極20Aと表面電極20Bとを
分離する部分において半導体膜16が露出するが、この
間隔は相対的に長く(たとえば50μm)であり、特に
電流リークの問題を生じることはない。
【0013】また、集電極20Aaおよび20Abのパ
ターン幅をあまり大きくできないときには、この集電極
による抵抗損失を小さくするためには、たとえばめっき
や蒸着などでさらに膜を形成し、その厚みを大きくして
やればよい。さらに、このような集電極構造は公知のい
わゆる集積型構造のものにも適用できる。この場合、透
明電極を各セル毎に分離し、その1つのセル内で先に説
明したような集電極を形成すればよい。このとき、隣接
セルの集電極どうしを分離しないでそのまま繋いでおけ
ば集積型の接続構造が得られる。
【0014】すなわち、集積型太陽電池にこのような集
電極を設ける一例が図6に示される。図6に示す集積型
太陽電池100は、点線102で分離された複数の(こ
の実施例では2つの)ユニットセル104aおよび10
4bを含む。各ユニットセル104aおよび104bは
共通のガラス基板112上に形成され、それぞれ、透明
電極114aおよび114bを含み、透明電極114a
および114bが間隔114cにおいて分離されてい
る。透明電極114aおよび114bのそれぞれの上
に、たとえばアモルファスシリコンのような半導体膜1
16aおよび116bが形成され、各半導体膜116a
および116bが点線102すなわち分離部116cに
おいて分離される。この分離部116cを通して、第2
ユニットセル104bの集電極120bAが同じユニッ
トセルの透明電極114bに接続される。そして、隣接
ユニットセル114aの集電極120aAが集電極12
0bAに接続される。また各ユニットセル104aおよ
び104b内においては、各集電極120aAおよび1
20bAとは分離された裏面電極120aBおよび12
0bBが形成される。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例に従って太陽電池を製造す
る第1のステップを示す図解図である。
【図2】太陽電池を製造する第2のステップを示す図解
図である。
【図3】太陽電池を製造する第3のステップを示す図解
図である。
【図4】太陽電池を示す第4のステップおよびこの実施
例によって製造される太陽電池を示す図解図であり、図
5の線IV−IVにおける断面を示す。
【図5】太陽電池を示す平面図である。
【図6】この発明の他の実施例としての集積型太陽電池
を示す図解図であり、図6(A)が平面図を示し、図6
(B)が線B−B′における断面図を示す。
【符号の説明】
10 …太陽電池 12 …ガラス基板 14 …透明電極 16 …半導体膜 20A …集電極 20B …裏面電極
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−20371(JP,A) 特開 昭63−261883(JP,A) 実開 平3−57950(JP,U) 実開 昭60−48253(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 31/04 - 31/078

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】透明基板、 前記透明基板上に形成される透明電極、 前記透明電極上に形成される半導体膜、 前記半導体膜中に形成され前記透明電極まで到達する少
    なくとも1つの溝、 前記透明電極に接続されるように前記溝中に形成されか
    つ前記半導体膜上に露出された集電極、および前記半導
    体膜上において前記集電極と同一平面に形成されかつ
    面が露出せしめられた前記半導体膜により前記集電極と
    は電気的に分離されている裏面電極を備える、太陽電
    池。
  2. 【請求項2】透明基板上に透明電極、半導体膜および裏
    面電極がこの順に積層的に形成された太陽電池の製造方
    法において、 前記半導体膜を形成した後にこれを選択的に除去して溝
    を形成し、その溝を含んで半導体膜上に裏面電極を形成
    した後、当該裏面電極の所定部分をエッチングして、裏
    面電極における前記透明電極と接している部分を他の部
    分から電気的に分離するようにしたことを特徴とする、
    太陽電池の製造方法。
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