JP3217873B2 - ベンゾフェノン誘導体及びこれを含有する紫外線吸収剤 - Google Patents
ベンゾフェノン誘導体及びこれを含有する紫外線吸収剤Info
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なベンゾフェノン
誘導体及びこれを含有する紫外線吸収剤に関する。
誘導体及びこれを含有する紫外線吸収剤に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】近年、
皮膚疾患の原因の一つとして紫外線が注目を浴びてお
り、日焼け、老化、皮膚がん等の皮膚疾患に紫外線が深
く関わっていることが明らかになりつつある。このよう
な背景において、皮膚を紫外線から守ることが重要視さ
れ、紫外線防御物質を成分に含む日焼け止め製剤、スキ
ンケア、ファンデーション等の化粧品が数多く上市され
ている。また、紫外線吸収剤は、紫外線による高分子の
劣化や、染料、色素の退色を防止するため、種々の高分
子材料に添加されている。
皮膚疾患の原因の一つとして紫外線が注目を浴びてお
り、日焼け、老化、皮膚がん等の皮膚疾患に紫外線が深
く関わっていることが明らかになりつつある。このよう
な背景において、皮膚を紫外線から守ることが重要視さ
れ、紫外線防御物質を成分に含む日焼け止め製剤、スキ
ンケア、ファンデーション等の化粧品が数多く上市され
ている。また、紫外線吸収剤は、紫外線による高分子の
劣化や、染料、色素の退色を防止するため、種々の高分
子材料に添加されている。
【０００３】紫外線は、長波長紫外線（ＵＶ−Ａ；３２
０〜４００nm）、中波長紫外線（ＵＶ−Ｂ；２９０〜３
２０nm）及び短波長紫外線（ＵＶ−Ｃ；〜２９０nm）に
区別され、中でも地表に到達するＵＶ−Ａ及びＵＶ−Ｂ
の皮膚に対する有害性が明らかにされ、これらの紫外線
を防御するために多くの紫外線防御物質が開発されてい
る。
０〜４００nm）、中波長紫外線（ＵＶ−Ｂ；２９０〜３
２０nm）及び短波長紫外線（ＵＶ−Ｃ；〜２９０nm）に
区別され、中でも地表に到達するＵＶ−Ａ及びＵＶ−Ｂ
の皮膚に対する有害性が明らかにされ、これらの紫外線
を防御するために多くの紫外線防御物質が開発されてい
る。
【０００４】例えば、ＵＶ−Ａ防御物質としては酸化チ
タン、酸化鉄、酸化亜鉛等の無機化合物や、４−ｔ−ブ
チル−４′−メトキシジベンゾイルメタン等の油溶性の
有機化合物が知られており、微粒子化、超微粒子化、疎
水化表面処理、他物質との複合化などの方法により、Ｕ
Ｖ−Ａ防御効果を高めたり、目的に応じた化粧品素材と
して使用可能な素材にする工夫が行われている。
タン、酸化鉄、酸化亜鉛等の無機化合物や、４−ｔ−ブ
チル−４′−メトキシジベンゾイルメタン等の油溶性の
有機化合物が知られており、微粒子化、超微粒子化、疎
水化表面処理、他物質との複合化などの方法により、Ｕ
Ｖ−Ａ防御効果を高めたり、目的に応じた化粧品素材と
して使用可能な素材にする工夫が行われている。
【０００５】またＵＶ−Ｂ防御物質としては、パラアミ
ノ安息香酸、サリチル酸、メトキシ桂皮酸、ベンゾフェ
ノン等及びそれらの誘導体が知られており、化粧品素材
として利用されている。
ノ安息香酸、サリチル酸、メトキシ桂皮酸、ベンゾフェ
ノン等及びそれらの誘導体が知られており、化粧品素材
として利用されている。
【０００６】しかしながら、これらの紫外線防御物質
は、ほとんどが不溶性の粉体や水に難溶な油溶性物質で
あるため、化粧水、ローション等の水性製剤に配合する
のは極めて困難であった。従って、親水性で紫外線吸収
作用に優れた紫外線吸収剤が望まれていた。
は、ほとんどが不溶性の粉体や水に難溶な油溶性物質で
あるため、化粧水、ローション等の水性製剤に配合する
のは極めて困難であった。従って、親水性で紫外線吸収
作用に優れた紫外線吸収剤が望まれていた。
【０００７】
【課題を解決するための手段】かかる実情において、本
発明者らは鋭意研究を行った結果、後記一般式（１）で
表わされるベンゾフェノン誘導体が、親水性でしかも紫
外線吸収作用に優れることを見出し、本発明を完成し
た。
発明者らは鋭意研究を行った結果、後記一般式（１）で
表わされるベンゾフェノン誘導体が、親水性でしかも紫
外線吸収作用に優れることを見出し、本発明を完成し
た。
【０００８】すなわち、本発明は、一般式（１）
【０００９】
【化２】
【００１０】（式中、Ａは水素原子又は（メタ）アクリ
ロイル基を示し、Ｇは保護基を有さない糖残基を示し、
Ｒ1は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ2は水素原子、メ
チル基又は炭素数１〜８のアルコキシ基を示す）で表わ
されるベンゾフェノン誘導体及びこれを含有する紫外線
吸収剤を提供するものである。
ロイル基を示し、Ｇは保護基を有さない糖残基を示し、
Ｒ1は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ2は水素原子、メ
チル基又は炭素数１〜８のアルコキシ基を示す）で表わ
されるベンゾフェノン誘導体及びこれを含有する紫外線
吸収剤を提供するものである。
【００１１】本発明のベンゾフェノン誘導体は前記一般
式（１）で表わされるものであり、式中、Ｇで示される
糖残基としては、糖単位１〜１０、特に１〜５の単糖又
はオリゴ糖が好ましく、例えばグルコース、マンノー
ス、ガラクトース、グルコサミン、マンノサミン、ガラ
クトサミン等の六炭糖類、アラビノース、キシロース、
リボース等の五炭糖類、マルトース、ラクトース、トレ
ハトース、セロビオース、イソマルトース、ゲンチオビ
オース、メリビオース、ラミナリビオース、キトビオー
ス、キシロビオース、マンノビオース、ソホロースなど
の二糖類、マントトリオース、イソマルトトリオース、
マルトテトラオース、マルトペンタオース、マンノトリ
オース、マンニノトリオースなどや、でんぷん、セルロ
ース、キチン、キトサンなどの加水分解物（例えば、局
方デキストリン、アクロデキストリン、ブリテッシュガ
ム、セロデキストリンなど）などを挙げることができ
る。
式（１）で表わされるものであり、式中、Ｇで示される
糖残基としては、糖単位１〜１０、特に１〜５の単糖又
はオリゴ糖が好ましく、例えばグルコース、マンノー
ス、ガラクトース、グルコサミン、マンノサミン、ガラ
クトサミン等の六炭糖類、アラビノース、キシロース、
リボース等の五炭糖類、マルトース、ラクトース、トレ
ハトース、セロビオース、イソマルトース、ゲンチオビ
オース、メリビオース、ラミナリビオース、キトビオー
ス、キシロビオース、マンノビオース、ソホロースなど
の二糖類、マントトリオース、イソマルトトリオース、
マルトテトラオース、マルトペンタオース、マンノトリ
オース、マンニノトリオースなどや、でんぷん、セルロ
ース、キチン、キトサンなどの加水分解物（例えば、局
方デキストリン、アクロデキストリン、ブリテッシュガ
ム、セロデキストリンなど）などを挙げることができ
る。
【００１２】これらのベンゾフェノン誘導体（１）は、
例えば以下に示すごとく、２，４−ジヒドロキシベンゾ
フェノン誘導体（２）とハロゲン化糖（３）を反応させ
ることにより製造することができる。
例えば以下に示すごとく、２，４−ジヒドロキシベンゾ
フェノン誘導体（２）とハロゲン化糖（３）を反応させ
ることにより製造することができる。
【００１３】
【化３】
【００１４】（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＧは前記と同じ意味
を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、Ａ´は（メタ）アク
リロイル基を示す）
を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、Ａ´は（メタ）アク
リロイル基を示す）
【００１５】すなわち、まず一般式（１）中、Ａが水素
原子のベンゾフェノン誘導体（１ａ）は、２，４−ジヒ
ドロキシベンゾフェノン誘導体（２）とハロゲン化糖
（３）を溶媒の存在下、０〜８０℃で５〜１２時間反応
させることにより得ることができる。ここで、ハロゲン
化糖（３）は、その水酸基がアセチル基等の保護基で保
護されているものを用いるのが好ましく、この場合、前
記反応後に通常の方法により脱保護反応を行えばよい。
溶媒としては、例えばジクロロメタン、１，２−ジクロ
ロエタン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラ
ン、１，４−ジオキサン、エチルエーテル、酢酸エチル
等を用いることができる。２，４−ジヒドロキシベンゾ
フェノン誘導体（２）とハロゲン化糖（３）の使用割合
は、特に１．２：１であるのが好ましい。
原子のベンゾフェノン誘導体（１ａ）は、２，４−ジヒ
ドロキシベンゾフェノン誘導体（２）とハロゲン化糖
（３）を溶媒の存在下、０〜８０℃で５〜１２時間反応
させることにより得ることができる。ここで、ハロゲン
化糖（３）は、その水酸基がアセチル基等の保護基で保
護されているものを用いるのが好ましく、この場合、前
記反応後に通常の方法により脱保護反応を行えばよい。
溶媒としては、例えばジクロロメタン、１，２−ジクロ
ロエタン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラ
ン、１，４−ジオキサン、エチルエーテル、酢酸エチル
等を用いることができる。２，４−ジヒドロキシベンゾ
フェノン誘導体（２）とハロゲン化糖（３）の使用割合
は、特に１．２：１であるのが好ましい。
【００１６】また、一般式（１）中、Ａが（メタ）アク
リロイル基であるベンゾフェノン誘導体（１ｂ）は、前
記の如くして得たベンゾフェノン誘導体（１ａ）を、更
にハロゲン化（メタ）アクリロイルと反応させることに
より得ることができる。反応は、溶媒の存在下、−５〜
５℃で４〜１５時間行えばよく、溶媒としては、例えば
ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホル
ム、ベンゼン、トルエン、キシレン、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサ
ン、エチルエーテル、酢酸エチル等を用いることができ
る。また、ベンゾフェノン誘導体（１ａ）とハロゲン化
（メタ）アクリロイルとの使用割合は、特に１：１であ
るのが好ましい。なお、この反応により、（メタ）アク
リロイル基は糖の各水酸基に導入され得るが、糖の６位
に（メタ）アクリロイル基が導入されたものをメイン
に、他の水酸基に導入されたものも若干含む混合物とし
て得られる。
リロイル基であるベンゾフェノン誘導体（１ｂ）は、前
記の如くして得たベンゾフェノン誘導体（１ａ）を、更
にハロゲン化（メタ）アクリロイルと反応させることに
より得ることができる。反応は、溶媒の存在下、−５〜
５℃で４〜１５時間行えばよく、溶媒としては、例えば
ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホル
ム、ベンゼン、トルエン、キシレン、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサ
ン、エチルエーテル、酢酸エチル等を用いることができ
る。また、ベンゾフェノン誘導体（１ａ）とハロゲン化
（メタ）アクリロイルとの使用割合は、特に１：１であ
るのが好ましい。なお、この反応により、（メタ）アク
リロイル基は糖の各水酸基に導入され得るが、糖の６位
に（メタ）アクリロイル基が導入されたものをメイン
に、他の水酸基に導入されたものも若干含む混合物とし
て得られる。
【００１７】いずれの場合も、反応終了後には、通常の
方法によって、洗浄、乾燥、シリカゲルカラム処理等を
施すことにより、目的物を得ることができる。
方法によって、洗浄、乾燥、シリカゲルカラム処理等を
施すことにより、目的物を得ることができる。
【００１８】このようにして得られる本発明のベンゾフ
ェノン誘導体（１）は、優れた紫外線吸収作用を有する
ため、紫外線吸収剤として有用なものである。
ェノン誘導体（１）は、優れた紫外線吸収作用を有する
ため、紫外線吸収剤として有用なものである。
【００１９】本発明の紫外線吸収剤は、前記ベンゾフェ
ノン誘導体（１）の１種又は２種以上をそのまま使用す
ることができ、更に、ベンゾフェノン誘導体（１）の紫
外線吸収作用を損わない範囲において、他の成分、例え
ば防腐剤、香料、着色料、界面活性剤、金属塩等を配合
することもできる。
ノン誘導体（１）の１種又は２種以上をそのまま使用す
ることができ、更に、ベンゾフェノン誘導体（１）の紫
外線吸収作用を損わない範囲において、他の成分、例え
ば防腐剤、香料、着色料、界面活性剤、金属塩等を配合
することもできる。
【００２０】
【発明の効果】本発明のベンゾフェノン誘導体（１）
は、親水性でしかも優れた紫外線吸収作用を有するもの
である。従って、これを含有する本発明の紫外線吸収剤
は、化粧料をはじめ、多くの水性製剤などに容易に配合
することができる。また、本発明のベンゾフェノン誘導
体のうち、分子中にラジカル重合可能な二重結合を含む
（メタ）アクリロイル基を有するものは、他のラジカル
重合可能な親水性モノマーと共重合させることもできる
ため、例えば親水性コンタクトレンズや眼内レンズ材料
に適用すれば、まぶしさを感じたり網膜に有害である紫
外線を除去することができる。
は、親水性でしかも優れた紫外線吸収作用を有するもの
である。従って、これを含有する本発明の紫外線吸収剤
は、化粧料をはじめ、多くの水性製剤などに容易に配合
することができる。また、本発明のベンゾフェノン誘導
体のうち、分子中にラジカル重合可能な二重結合を含む
（メタ）アクリロイル基を有するものは、他のラジカル
重合可能な親水性モノマーと共重合させることもできる
ため、例えば親水性コンタクトレンズや眼内レンズ材料
に適用すれば、まぶしさを感じたり網膜に有害である紫
外線を除去することができる。
【００２１】
【実施例】次に、実施例を挙げて本発明を更に説明する
が、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
が、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００２２】実施例１ ２−ヒドロキシ−４−〔２′−（β−Ｄ−グルコピラノ
シロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノンメタクリレートの
合成： （１）２−ヒドロキシ−４−（２′−ヒドロキシエトキ
シ）ベンゾフェノンの合成 ２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン（１７．１ｇ，８
０mmol）をメタノール（１００ml）に溶解し、水酸化ナ
トリウム（３．２ｇ，８０mmol）を加えた。これに水
（４０ml）を加え、次いで２−ブロモエタノール（６．
７ml，８０mmol）を加え、一夜還流した。減圧濃縮によ
りメタノールを除去した後、水を加え、４規定塩酸にて
pHを２に調節した。この混合物を酢酸エチルで抽出し、
酢酸エチル層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾
燥後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラム上でヘキサ
ン−酢酸エチル（３：２ｖ／ｖ）で処理し、目的物を含
むフラクションを集め、減圧濃縮し、ヘキサンより目的
物を針状結晶として得た。 収量；8.3ｇ（40％） 融点；88−89℃ λmax；287,326nm logε；4.21, 4.02 元素分析値； 計算値 C,69.25; H,5.46 測定値 C,69.17; H,5.49
シロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノンメタクリレートの
合成： （１）２−ヒドロキシ−４−（２′−ヒドロキシエトキ
シ）ベンゾフェノンの合成 ２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン（１７．１ｇ，８
０mmol）をメタノール（１００ml）に溶解し、水酸化ナ
トリウム（３．２ｇ，８０mmol）を加えた。これに水
（４０ml）を加え、次いで２−ブロモエタノール（６．
７ml，８０mmol）を加え、一夜還流した。減圧濃縮によ
りメタノールを除去した後、水を加え、４規定塩酸にて
pHを２に調節した。この混合物を酢酸エチルで抽出し、
酢酸エチル層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾
燥後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラム上でヘキサ
ン−酢酸エチル（３：２ｖ／ｖ）で処理し、目的物を含
むフラクションを集め、減圧濃縮し、ヘキサンより目的
物を針状結晶として得た。 収量；8.3ｇ（40％） 融点；88−89℃ λmax；287,326nm logε；4.21, 4.02 元素分析値； 計算値 C,69.25; H,5.46 測定値 C,69.17; H,5.49
【００２３】（２）２−ヒドロキシ−４−〔２′−（テ
トラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシロキシ）
エトキシ〕ベンゾフェノンの合成 ペンタ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノース
（７．８１ｇ，２０mmol）をごく少量のジクロロメタン
に溶解し、２５％臭化水素の氷酢酸溶液（４０ml）を加
えた。混合物を室温に２時間放置し、クロロホルムに溶
解した。この溶液を４％炭酸水素ナトリウムと水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥、減圧濃縮後ヘキサン
を加えて固化した。 収量；6.05g(74％） 上記の方法によって得られたブロム化糖（１．８１ｇ，
７mmol）と、（１）で得た２−ヒドロキシ−４−（２′
−ヒドロキシエトキシ）ベンゾフェノン（２．８８ｇ，
７mmol）を１，２−ジクロロエタン（２０ml）に溶解
し、酸化銀（１．７１ｇ）を酸受容体に用いて室温にて
一夜反応させた。銀塩を濾去した後、濾液を減圧濃縮
し、シリカゲルカラム上でヘキサン−酢酸エチル（１：
１ｖ／ｖ）で処理し、目的物を含むフラクションを集
め、減圧濃縮して、目的物をフィルムとして得た。 収量；2.93ｇ（71％） 融点；92−92℃ λmax；286,323nm logε；4.21, 4.02 元素分析値； 計算値 C,59.18; H,5.48 測定値 C,59.04; H,5.51
トラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシロキシ）
エトキシ〕ベンゾフェノンの合成 ペンタ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノース
（７．８１ｇ，２０mmol）をごく少量のジクロロメタン
に溶解し、２５％臭化水素の氷酢酸溶液（４０ml）を加
えた。混合物を室温に２時間放置し、クロロホルムに溶
解した。この溶液を４％炭酸水素ナトリウムと水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥、減圧濃縮後ヘキサン
を加えて固化した。 収量；6.05g(74％） 上記の方法によって得られたブロム化糖（１．８１ｇ，
７mmol）と、（１）で得た２−ヒドロキシ−４−（２′
−ヒドロキシエトキシ）ベンゾフェノン（２．８８ｇ，
７mmol）を１，２−ジクロロエタン（２０ml）に溶解
し、酸化銀（１．７１ｇ）を酸受容体に用いて室温にて
一夜反応させた。銀塩を濾去した後、濾液を減圧濃縮
し、シリカゲルカラム上でヘキサン−酢酸エチル（１：
１ｖ／ｖ）で処理し、目的物を含むフラクションを集
め、減圧濃縮して、目的物をフィルムとして得た。 収量；2.93ｇ（71％） 融点；92−92℃ λmax；286,323nm logε；4.21, 4.02 元素分析値； 計算値 C,59.18; H,5.48 測定値 C,59.04; H,5.51
【００２４】（３）２−ヒドロキシ−４−〔２′−（β
−Ｄ−グルコピラノシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノ
ンの合成 （２）で得た２−ヒドロキシ−４−〔２′−（テトラ−
Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシロキシ）エトキ
シ〕ベンゾフェノン（２．１２ｇ，３．６mmol）をエタ
ノール（８０ml）に懸濁し、２規定水酸化ナトリウム
（１０．８ml）を加えた。反応混合物を室温で３０分攪
拌し、減圧濃縮した。残渣に水を加え、次いでＤｏｗｅ
ｘ５０（Ｈ+ 型）を加えてナトリムウイオンを吸着させ
た。イオン交換樹脂を濾去した後、濾液を減圧濃縮し、
析出した結晶を集めた。元素分析の結果、これらの結晶
は一水化物であることが確認された。 収量；1.24ｇ（82％） 融点；136−137℃ λmax；286,326nm logε；4.21, 4.02 元素分析値； 計算値 C,57.53; H,5.98 測定値 C,57.45; H,6.01
−Ｄ−グルコピラノシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノ
ンの合成 （２）で得た２−ヒドロキシ−４−〔２′−（テトラ−
Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシロキシ）エトキ
シ〕ベンゾフェノン（２．１２ｇ，３．６mmol）をエタ
ノール（８０ml）に懸濁し、２規定水酸化ナトリウム
（１０．８ml）を加えた。反応混合物を室温で３０分攪
拌し、減圧濃縮した。残渣に水を加え、次いでＤｏｗｅ
ｘ５０（Ｈ+ 型）を加えてナトリムウイオンを吸着させ
た。イオン交換樹脂を濾去した後、濾液を減圧濃縮し、
析出した結晶を集めた。元素分析の結果、これらの結晶
は一水化物であることが確認された。 収量；1.24ｇ（82％） 融点；136−137℃ λmax；286,326nm logε；4.21, 4.02 元素分析値； 計算値 C,57.53; H,5.98 測定値 C,57.45; H,6.01
【００２５】（４）２−ヒドロキシ−４−〔２′−（β
−Ｄ−グルコピラノシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノ
ンメタクリレートの合成 （３）で得た２−ヒドロキシ−４−〔２′−（β−Ｄ−
グルコピラノシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノン
（１．１６ｇ，２．８mmol）をジクロロメタン（１０m
l）とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０ml）の混合
溶液に溶解し、ピリジン（０．９１ml，１１．２mmol）
を加えた。この溶液を氷冷下、攪拌しながら塩化メタク
リロイル（０．５５ml，５．６mmol）のジクロロメタン
溶液を徐々に滴下した。反応混合物を氷冷下で２時間攪
拌した後、冷蔵庫に一夜放置し、減圧濃縮した。残渣に
酢酸エチルを加え、１規定塩酸、４％炭酸水素ナトリウ
ム、水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、
減圧濃縮した。次いで、残渣をシリカゲルカラム上でヘ
キサン−酢酸エチル（ヘキサン含量が５０−０％のグラ
ジュエント）で処理し、目的物を含むフラクションを集
めて減圧濃縮し、油状物を得た。得られた化合物は、グ
ルコース６−位にメタクリレートが導入されたものを主
成分とする、モノメタクリレートの混合物であることが
確認された。 収量；0.62ｇ（45％） λmax；284,324nm logε；4.21, 4.02 元素分析値； 計算値 C,61.47; H,5.78 測定値 C,61.28; H,5.88
−Ｄ−グルコピラノシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノ
ンメタクリレートの合成 （３）で得た２−ヒドロキシ−４−〔２′−（β−Ｄ−
グルコピラノシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノン
（１．１６ｇ，２．８mmol）をジクロロメタン（１０m
l）とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０ml）の混合
溶液に溶解し、ピリジン（０．９１ml，１１．２mmol）
を加えた。この溶液を氷冷下、攪拌しながら塩化メタク
リロイル（０．５５ml，５．６mmol）のジクロロメタン
溶液を徐々に滴下した。反応混合物を氷冷下で２時間攪
拌した後、冷蔵庫に一夜放置し、減圧濃縮した。残渣に
酢酸エチルを加え、１規定塩酸、４％炭酸水素ナトリウ
ム、水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、
減圧濃縮した。次いで、残渣をシリカゲルカラム上でヘ
キサン−酢酸エチル（ヘキサン含量が５０−０％のグラ
ジュエント）で処理し、目的物を含むフラクションを集
めて減圧濃縮し、油状物を得た。得られた化合物は、グ
ルコース６−位にメタクリレートが導入されたものを主
成分とする、モノメタクリレートの混合物であることが
確認された。 収量；0.62ｇ（45％） λmax；284,324nm logε；4.21, 4.02 元素分析値； 計算値 C,61.47; H,5.78 測定値 C,61.28; H,5.88
【００２６】（５）（３）で得られた２−ヒドロキシ−
４−〔２′−（β−Ｄ−グルコピラノシロキシ）エトキ
シ〕ベンゾフェノン及び（４）で得られた２−ヒドロキ
シ−４−〔２′−（β−Ｄ−グルコピラノシロキシ）エ
トキシ〕ベンゾフェノンメタクリレートを、それぞれ１
０ppm 水溶液にし、分光特性を測定したところ、図１及
び図２に示すように、特に４００nm以下で良好な紫外線
吸収効果を示した。
４−〔２′−（β−Ｄ−グルコピラノシロキシ）エトキ
シ〕ベンゾフェノン及び（４）で得られた２−ヒドロキ
シ−４−〔２′−（β−Ｄ−グルコピラノシロキシ）エ
トキシ〕ベンゾフェノンメタクリレートを、それぞれ１
０ppm 水溶液にし、分光特性を測定したところ、図１及
び図２に示すように、特に４００nm以下で良好な紫外線
吸収効果を示した。
【００２７】実施例２ （１）２−ヒドロキシ−４−〔２′−（ヘプタ−Ｏ−ア
セチル−β−Ｄ−セロビオシロキシ）エトキシ〕ベンゾ
フェノンの合成：オクタ−Ｏ−アセチルセロビオース
（３．０９ｇ，５mmol）をジクロロメタン（５０ml）と
酢酸エチル（６ml）の混合溶媒に溶解し、四臭化チタン
（２．９４ｇ，８mmol）を加えた。混合物を室温にて４
８時間攪拌した後、氷冷し、氷水にて二回洗浄した。有
機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧濃縮後ヘ
キサンより固化した。 収量；2.66ｇ（76％） 上記の方法によって得られたブロム化糖（２．６６ｇ，
３．８mmol）と、実施例１（１）で得た２−ヒドロキシ
−４−（２′−ヒドロキシエトキシ）ベンゾフェノン
（１．２９ｇ，５mmol）を１，２−ジクロロエタン（２
０ml）に溶解し、酸化銀（１．２２ｇ）を酸受容体に用
いて室温にて一夜反応させた。実施例１（２）と同様の
方法により精製し、目的物を油状物として得た。 収量；1.83g （62％）
セチル−β−Ｄ−セロビオシロキシ）エトキシ〕ベンゾ
フェノンの合成：オクタ−Ｏ−アセチルセロビオース
（３．０９ｇ，５mmol）をジクロロメタン（５０ml）と
酢酸エチル（６ml）の混合溶媒に溶解し、四臭化チタン
（２．９４ｇ，８mmol）を加えた。混合物を室温にて４
８時間攪拌した後、氷冷し、氷水にて二回洗浄した。有
機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧濃縮後ヘ
キサンより固化した。 収量；2.66ｇ（76％） 上記の方法によって得られたブロム化糖（２．６６ｇ，
３．８mmol）と、実施例１（１）で得た２−ヒドロキシ
−４−（２′−ヒドロキシエトキシ）ベンゾフェノン
（１．２９ｇ，５mmol）を１，２−ジクロロエタン（２
０ml）に溶解し、酸化銀（１．２２ｇ）を酸受容体に用
いて室温にて一夜反応させた。実施例１（２）と同様の
方法により精製し、目的物を油状物として得た。 収量；1.83g （62％）
【００２８】（２）２−ヒドロキシ−４−〔２′−（β
−Ｄ−セロビオシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノンの
合成：（１）で得られた２−ヒドロキシ−４−〔２′−
（テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−セロビオシロキシ）
エトキシ〕ベンゾフェノン（１．４８ｇ，１．８mmol）
をメタノール（２０ml）に懸濁し、２規定水酸化ナトリ
ウム（８．６ml）を加え、実施例１（３）と同様の操作
により、目的物をアモルファスソリッドとして得た。１
０ppm 水溶液の分光特性を図３に示す。 収量；0.70g （67％） 融点；96−98℃ λmax；285,324nm logε；4.18, 3.99 元素分析値； 計算値 C,55.66; H,5.88 測定値 C,55.54; H,5.91
−Ｄ−セロビオシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノンの
合成：（１）で得られた２−ヒドロキシ−４−〔２′−
（テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−セロビオシロキシ）
エトキシ〕ベンゾフェノン（１．４８ｇ，１．８mmol）
をメタノール（２０ml）に懸濁し、２規定水酸化ナトリ
ウム（８．６ml）を加え、実施例１（３）と同様の操作
により、目的物をアモルファスソリッドとして得た。１
０ppm 水溶液の分光特性を図３に示す。 収量；0.70g （67％） 融点；96−98℃ λmax；285,324nm logε；4.18, 3.99 元素分析値； 計算値 C,55.66; H,5.88 測定値 C,55.54; H,5.91
【００２９】実施例３ （１）２−ヒドロキシ−４−〔２′−（ヘプタ−Ｏ−ア
セチル−β−Ｄ−マルトシロキシ）エトキシ〕ベンゾフ
ェノンの合成：オクタ−Ｏ−アセチル−Ｄ−マルトース
（３．０９ｇ，５mmol）を実施例２（１）と同様に処理
し、ヘプタ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−マンノシルブロミ
ドの無色のシロップを得た。このものを１，２−ジクロ
ロエタン（２０ml）に溶解し、実施例１（１）で得た２
−ヒドロキシ−４−（２′−ヒドロキシエトキシ）ベン
ゾフェノン（１．２９ｇ，５mmol）と酸化銀（１．２２
ｇ）を加え、室温にて一夜攪拌した。実施例２（１）と
同様な精製を行い、目的物を淡黄色のフイルムとして得
た。 収量；2.04g （オクタ−Ｏ−アセチル−α−マルトース
より50％）
セチル−β−Ｄ−マルトシロキシ）エトキシ〕ベンゾフ
ェノンの合成：オクタ−Ｏ−アセチル−Ｄ−マルトース
（３．０９ｇ，５mmol）を実施例２（１）と同様に処理
し、ヘプタ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−マンノシルブロミ
ドの無色のシロップを得た。このものを１，２−ジクロ
ロエタン（２０ml）に溶解し、実施例１（１）で得た２
−ヒドロキシ−４−（２′−ヒドロキシエトキシ）ベン
ゾフェノン（１．２９ｇ，５mmol）と酸化銀（１．２２
ｇ）を加え、室温にて一夜攪拌した。実施例２（１）と
同様な精製を行い、目的物を淡黄色のフイルムとして得
た。 収量；2.04g （オクタ−Ｏ−アセチル−α−マルトース
より50％）
【００３０】（２）２−ヒドロキシ−４−〔２′−（β
−Ｄ−マルトシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノンの合
成：（１）で得られた２−ヒドロキシ−４−〔２′−
（テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−マルトシロキシ）エ
トキシ〕ベンゾフェノン（１．８２ｇ，２．２mmol）を
メタノール（２０ml）に懸濁し、２規定水酸化ナトリウ
ム（１２ml）を加え、実施例１（３）と同様の操作によ
り、目的物をアモルファスソリッドとして得た。１０pp
m 水溶液の分光特性を図４に示す。 収量；0.87g （68％） 融点；74−73℃ λmax；287,318nm logε；4.21, 4.06 元素分析値； 計算値 C,55.66; H,5.88 測定値 C,55.56; H,5.93
−Ｄ−マルトシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノンの合
成：（１）で得られた２−ヒドロキシ−４−〔２′−
（テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−マルトシロキシ）エ
トキシ〕ベンゾフェノン（１．８２ｇ，２．２mmol）を
メタノール（２０ml）に懸濁し、２規定水酸化ナトリウ
ム（１２ml）を加え、実施例１（３）と同様の操作によ
り、目的物をアモルファスソリッドとして得た。１０pp
m 水溶液の分光特性を図４に示す。 収量；0.87g （68％） 融点；74−73℃ λmax；287,318nm logε；4.21, 4.06 元素分析値； 計算値 C,55.66; H,5.88 測定値 C,55.56; H,5.93
【００３１】実施例４ （１）２−ヒドロキシ−４−〔２′−（ヘプタ−Ｏ−ア
セチル−β−Ｄ−ラクトシロキシ）エトキシ〕ベンゾフ
ェノンの合成：オクタ−Ｏ−アセチル−Ｄ−ラクトース
（３．０９ｇ，５mmol）を実施例２（１）と同様に処理
し、ヘプタ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−ラクトシルブロミ
ドの無色のシロップを得た。このものを１，２−ジクロ
ロエタン（２０ml）に溶解し、実施例１（１）で得た２
−ヒドロキシ−４−（２′−ヒドロキシエトキシ）ベン
ゾフェノン（１．２９ｇ，５mmol）と酸化銀（１．２２
ｇ）を加え、室温にて一夜攪拌した。実施例２（１）と
同様な精製を行い、目的物を淡黄色のフイルムとして得
た。 収量；2.07g （オクタ−Ｏ−アセチル−Ｄ−ラクトース
より51％）
セチル−β−Ｄ−ラクトシロキシ）エトキシ〕ベンゾフ
ェノンの合成：オクタ−Ｏ−アセチル−Ｄ−ラクトース
（３．０９ｇ，５mmol）を実施例２（１）と同様に処理
し、ヘプタ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−ラクトシルブロミ
ドの無色のシロップを得た。このものを１，２−ジクロ
ロエタン（２０ml）に溶解し、実施例１（１）で得た２
−ヒドロキシ−４−（２′−ヒドロキシエトキシ）ベン
ゾフェノン（１．２９ｇ，５mmol）と酸化銀（１．２２
ｇ）を加え、室温にて一夜攪拌した。実施例２（１）と
同様な精製を行い、目的物を淡黄色のフイルムとして得
た。 収量；2.07g （オクタ−Ｏ−アセチル−Ｄ−ラクトース
より51％）
【００３２】（２）２−ヒドロキシ−４−〔２′−（β
−Ｄ−ラクトシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノンの合
成：（１）で得られた２−ヒドロキシ−４−〔２′−
（テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ラクトシロキシ）エ
トキシ〕ベンゾフェノン（１．９３ｇ，２．４mmol）を
メタノール（２０ml）に懸濁し、２規定水酸化ナトリウ
ム（１２ml）を加え、実施例１（３）と同様の操作によ
り、目的物をアモルファスソリッドとして得た。１０pp
m 水溶液の分光特性を図５に示す。 収量；0.84g （60％） 融点；216−220℃ λmax；289,318nm logε；4.10, 3.94 元素分析値； 計算値 C,55.66; H,5.88 測定値 C,55.61; H,5.91
−Ｄ−ラクトシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノンの合
成：（１）で得られた２−ヒドロキシ−４−〔２′−
（テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ラクトシロキシ）エ
トキシ〕ベンゾフェノン（１．９３ｇ，２．４mmol）を
メタノール（２０ml）に懸濁し、２規定水酸化ナトリウ
ム（１２ml）を加え、実施例１（３）と同様の操作によ
り、目的物をアモルファスソリッドとして得た。１０pp
m 水溶液の分光特性を図５に示す。 収量；0.84g （60％） 融点；216−220℃ λmax；289,318nm logε；4.10, 3.94 元素分析値； 計算値 C,55.66; H,5.88 測定値 C,55.61; H,5.91
【００３３】実施例５ ４−（Ｄ−グルコシロキシ）−２−ヒドロキシベンゾフ
ェノンの合成：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
（１．４７ｇ，６．８mmol）をメタノール（２０ml）に
溶解し、２８％ナトリウムメチラートのメタノール溶液
（１．３１ｇ）を徐々に滴下した。無水炭酸ナトリウム
（１．８０ｇ，１７mmol）を加えた後、実施例１（２）
と同様にして調製したテトラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−
グルコピラノシルブロミド（２．３５ｇ，５．７mmol）
を加え、８０℃で一夜攪拌した。反応液を放冷し、不溶
物を濾去後減圧濃縮した。残渣に水を加え、次いで４規
定塩酸でpH４に調節した。酢酸エチルで二度抽出し、酢
酸エチル層を併せて飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナト
リウム上で乾燥させた。減圧濃縮後、ヘキサンより目的
物を結晶化させた。１０ppm 水溶液の分光特性を図６に
示す。 収量；0.53g （25％） 融点；166−168℃ λmax；282,327nm logε；4.20, 3.91 元素分析値； 計算値 C,60.63; H,5.36 測定値 C,60.56; H,5.39
ェノンの合成：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
（１．４７ｇ，６．８mmol）をメタノール（２０ml）に
溶解し、２８％ナトリウムメチラートのメタノール溶液
（１．３１ｇ）を徐々に滴下した。無水炭酸ナトリウム
（１．８０ｇ，１７mmol）を加えた後、実施例１（２）
と同様にして調製したテトラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−
グルコピラノシルブロミド（２．３５ｇ，５．７mmol）
を加え、８０℃で一夜攪拌した。反応液を放冷し、不溶
物を濾去後減圧濃縮した。残渣に水を加え、次いで４規
定塩酸でpH４に調節した。酢酸エチルで二度抽出し、酢
酸エチル層を併せて飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナト
リウム上で乾燥させた。減圧濃縮後、ヘキサンより目的
物を結晶化させた。１０ppm 水溶液の分光特性を図６に
示す。 収量；0.53g （25％） 融点；166−168℃ λmax；282,327nm logε；4.20, 3.91 元素分析値； 計算値 C,60.63; H,5.36 測定値 C,60.56; H,5.39
【００３４】実施例６ ４−（Ｄ−セロビオシロキシ）−２−ヒドロキシベンゾ
フェノンの合成：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
（４．２８ｇ，２０mmol）をメタノール（５０ml）に溶
解し、２８％ナトリウムメチラートのメタノール溶液
（２．９０ｇ）を滴下した。無水炭酸ナトリウム（５．
６２ｇ）を加えた後、実施例２（１）と同様に調製した
ヘプタ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−セロビオシルブロミド
（５．５２ｇ，７．９mmol）を加え、８０℃にて一夜攪
拌した。不溶物を濾去後、濃塩酸を加えてpHを４に調節
し、減圧濃縮した。残渣に再び少量のメタノールを加
え、不溶物を濾去し、濾液を再び減圧濃縮した。残渣を
ごく少量のメタノールに溶解した後、シリカゲルカラム
にアプライし、クロロホルム−メタノール（５：１ｖ／
ｖ）を用いてフラッシュカラムクロマトグラフィーを行
った。目的物を含むフラクションを集め、減圧濃縮し、
目的物をアモルファスソリッドとして得た。１０ppm 水
溶液の分光特性を図７に示す。 収量；1.18g （28％） 融点；184−189℃（分解） λmax；281,324nm logε；4.10, 3.81 元素分析値； 計算値 C,55.76; H,5.62 測定値 C,55.67; H,5.67
フェノンの合成：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
（４．２８ｇ，２０mmol）をメタノール（５０ml）に溶
解し、２８％ナトリウムメチラートのメタノール溶液
（２．９０ｇ）を滴下した。無水炭酸ナトリウム（５．
６２ｇ）を加えた後、実施例２（１）と同様に調製した
ヘプタ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−セロビオシルブロミド
（５．５２ｇ，７．９mmol）を加え、８０℃にて一夜攪
拌した。不溶物を濾去後、濃塩酸を加えてpHを４に調節
し、減圧濃縮した。残渣に再び少量のメタノールを加
え、不溶物を濾去し、濾液を再び減圧濃縮した。残渣を
ごく少量のメタノールに溶解した後、シリカゲルカラム
にアプライし、クロロホルム−メタノール（５：１ｖ／
ｖ）を用いてフラッシュカラムクロマトグラフィーを行
った。目的物を含むフラクションを集め、減圧濃縮し、
目的物をアモルファスソリッドとして得た。１０ppm 水
溶液の分光特性を図７に示す。 収量；1.18g （28％） 融点；184−189℃（分解） λmax；281,324nm logε；4.10, 3.81 元素分析値； 計算値 C,55.76; H,5.62 測定値 C,55.67; H,5.67
【００３５】実施例７ ４−（Ｄ−マルトシロキシ）−２−ヒドロキシベンゾフ
ェノンの合成：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
（２．１４ｇ，１０mmol）、２８％ナトリウムメチラー
トのメタノール溶液（１．９５ｇ）、無水炭酸ナトリウ
ム（２．８１ｇ）、実施例３（１）と同様に調製したヘ
プタ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−マルトシルブロミド
（２．４５ｇ，３．５mmol）を実施例６と同様の方法で
処理し、目的物を吸湿性のアモルファスソリッドとして
得た。１０ppm 水溶液の分光特性を図８に示す。 収量；0.24g （13％） λmax；280,326nm logε；4.06, 3.78 元素分析値； 計算値 C,55.76; H,5.62 測定値 C,55.64; H,5.69
ェノンの合成：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
（２．１４ｇ，１０mmol）、２８％ナトリウムメチラー
トのメタノール溶液（１．９５ｇ）、無水炭酸ナトリウ
ム（２．８１ｇ）、実施例３（１）と同様に調製したヘ
プタ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−マルトシルブロミド
（２．４５ｇ，３．５mmol）を実施例６と同様の方法で
処理し、目的物を吸湿性のアモルファスソリッドとして
得た。１０ppm 水溶液の分光特性を図８に示す。 収量；0.24g （13％） λmax；280,326nm logε；4.06, 3.78 元素分析値； 計算値 C,55.76; H,5.62 測定値 C,55.64; H,5.69
【００３６】実施例８ ４−（Ｄ−ラクトシロキシ）−２−ヒドロキシベンゾフ
ェノンの合成：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
（２．１４ｇ，１０mmol）、２８％ナトリウムメチラー
トのメタノール溶液（１．９５ｇ）、無水炭酸ナトリウ
ム（２．８１ｇ）、実施例４（１）と同様に調製したヘ
プタ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−ラクトシルブロミド
（２．４５ｇ，３．５mmol）を実施例６と同様の方法で
処理し、目的物を結晶として得た。１０ppm 水溶液の分
光特性を図９に示す。 収量；0.40g （21％） 融点；171−175℃ λmax；282,324nm logε；4.11, 3.83 元素分析値； 計算値 C,55.76; H,5.62 測定値 C,55.71; H,5.62
ェノンの合成：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
（２．１４ｇ，１０mmol）、２８％ナトリウムメチラー
トのメタノール溶液（１．９５ｇ）、無水炭酸ナトリウ
ム（２．８１ｇ）、実施例４（１）と同様に調製したヘ
プタ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−ラクトシルブロミド
（２．４５ｇ，３．５mmol）を実施例６と同様の方法で
処理し、目的物を結晶として得た。１０ppm 水溶液の分
光特性を図９に示す。 収量；0.40g （21％） 融点；171−175℃ λmax；282,324nm logε；4.11, 3.83 元素分析値； 計算値 C,55.76; H,5.62 測定値 C,55.71; H,5.62
【００３７】試験例１ 実施例で製造した以下の化合物１〜６、及び従来紫外線
吸収剤として使用されている化合物７〜８について、そ
れぞれの親水性を調べた。すなわち、各化合物につい
て、１０重量％水溶液ができるものを○、できないもの
を×、加熱すればできるものを△として評価した。この
結果を表１に示す。
吸収剤として使用されている化合物７〜８について、そ
れぞれの親水性を調べた。すなわち、各化合物につい
て、１０重量％水溶液ができるものを○、できないもの
を×、加熱すればできるものを△として評価した。この
結果を表１に示す。
【００３８】
【化４】
【００３９】
【化５】
【００４０】
【表１】
【００４１】参考例１ ２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）５ｇ
に対し、重合開始剤アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩ
ＢＮ）を０．１重量％、及び実施例１で得た２−ヒドロ
キシ−４−（２′−（β−Ｄ−グルコピラノシロキシ）
エトキシ）ベンゾフェノンメタクリレートを０〜５重量
％添加したものを、厚さ０．５mmのスペーサーの入った
スライドグラスの間に入れ、これを更に試験管に入れ、
窒素置換・脱気後、５０℃７２時間、７０℃４８時間重
合した。得られた試料の分光特性を図１０に示す。この
試料は、紫外線を有効に除去するため、眼内レンズ材料
として使用することができる。
に対し、重合開始剤アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩ
ＢＮ）を０．１重量％、及び実施例１で得た２−ヒドロ
キシ−４−（２′−（β−Ｄ−グルコピラノシロキシ）
エトキシ）ベンゾフェノンメタクリレートを０〜５重量
％添加したものを、厚さ０．５mmのスペーサーの入った
スライドグラスの間に入れ、これを更に試験管に入れ、
窒素置換・脱気後、５０℃７２時間、７０℃４８時間重
合した。得られた試料の分光特性を図１０に示す。この
試料は、紫外線を有効に除去するため、眼内レンズ材料
として使用することができる。
【００４２】参考例２ ＨＥＭＡ１当量に対し、２−グルコシルエチルメタクリ
レート（ＧＥＭＡ）の５０％水溶液を０．５当量混合し
た混合モノマー５ｇに、ＡＩＢＮ０．１重量％、及び実
施例１で得た２−ヒドロキシ−４−（２′−（β−Ｄ−
グルコピラノシロキシ）エトキシ）ベンゾフェノンメタ
クリレートを０〜５重量％添加し、参考例１と同様にし
て重合した。得られた試料の分光特性を図１１に示す。
この試料は、紫外線を有効に除去するため、眼内レンズ
材料として使用することができる。
レート（ＧＥＭＡ）の５０％水溶液を０．５当量混合し
た混合モノマー５ｇに、ＡＩＢＮ０．１重量％、及び実
施例１で得た２−ヒドロキシ−４−（２′−（β−Ｄ−
グルコピラノシロキシ）エトキシ）ベンゾフェノンメタ
クリレートを０〜５重量％添加し、参考例１と同様にし
て重合した。得られた試料の分光特性を図１１に示す。
この試料は、紫外線を有効に除去するため、眼内レンズ
材料として使用することができる。
【図１】実施例１（３）で得られた２−ヒドロキシ−４
−〔２′−（β−Ｄ−グルコピラノシロキシ）エトキ
シ〕ベンゾフェノンの分光特性を示す図である。
−〔２′−（β−Ｄ−グルコピラノシロキシ）エトキ
シ〕ベンゾフェノンの分光特性を示す図である。
【図２】実施例１（４）で得られた２−ヒドロキシ−４
−〔２′−（β−Ｄ−グルコピラノシロキシ）エトキ
シ〕ベンゾフェノンメタクリレートの分光特性を示す図
である。
−〔２′−（β−Ｄ−グルコピラノシロキシ）エトキ
シ〕ベンゾフェノンメタクリレートの分光特性を示す図
である。
【図３】実施例２で得られた２−ヒドロキシ−４−
〔２′−（β−Ｄ−セロビオシロキシ）エトキシ〕ベン
ゾフェノンの分光特性を示す図である。
〔２′−（β−Ｄ−セロビオシロキシ）エトキシ〕ベン
ゾフェノンの分光特性を示す図である。
【図４】実施例３で得られた２−ヒドロキシ−４−
〔２′−（β−Ｄ−マルトシロキシ）エトキシ〕ベンゾ
フェノンの分光特性を示す図である。
〔２′−（β−Ｄ−マルトシロキシ）エトキシ〕ベンゾ
フェノンの分光特性を示す図である。
【図５】実施例４で得られた２−ヒドロキシ−４−
〔２′−（β−Ｄ−ラクトシロキシ）エトキシ〕ベンゾ
フェノンの分光特性を示す図である。
〔２′−（β−Ｄ−ラクトシロキシ）エトキシ〕ベンゾ
フェノンの分光特性を示す図である。
【図６】実施例５で得られた４−（Ｄ−グルコシロキ
シ）−２−ヒドロキシベンゾフェノンの分光特性を示す
図である。
シ）−２−ヒドロキシベンゾフェノンの分光特性を示す
図である。
【図７】実施例６で得られた４−（Ｄ−セロビオシロキ
シ）−２−ヒドロキシベンゾフェノンの分光特性を示す
図である。
シ）−２−ヒドロキシベンゾフェノンの分光特性を示す
図である。
【図８】実施例７で得られた４−（Ｄ−マルトシロキ
シ）−２−ヒドロキシベンゾフェノンの分光特性を示す
図である。
シ）−２−ヒドロキシベンゾフェノンの分光特性を示す
図である。
【図９】実施例８で得られた４−（Ｄ−ラクトシロキ
シ）−２−ヒドロキシベンゾフェノンの分光特性を示す
図である。
シ）−２−ヒドロキシベンゾフェノンの分光特性を示す
図である。
【図１０】参考例１で得た試料の分光特性を示す図であ
る。
る。
【図１１】参考例２で得た試料の分光特性を示す図であ
る。
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07H 15/04 C09K 3/00 A61F 2/16 A61K 7/00 A61K 7/42 ＣＡ（ＳＴＮ) ＥＭＢＡＳＥ（ＳＴＮ) ＭＥＤＬＩＮＥ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (2)
- 【請求項１】 一般式（１） 【化１】 （式中、Ａは水素原子又は（メタ）アクリロイル基を示
し、Ｇは保護基を有さない糖残基を示し、Ｒ1は水素原
子又はメチル基を示し、Ｒ2は水素原子、メチル基又は
炭素数１〜８のアルコキシ基を示す）で表わされるベン
ゾフェノン誘導体。 - 【請求項２】 請求項１記載のベンゾフェノン誘導体を
含有する紫外線吸収剤。
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Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP28620892A JP3217873B2 (ja) | 1992-10-23 | 1992-10-23 | ベンゾフェノン誘導体及びこれを含有する紫外線吸収剤 |
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|---|---|
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| JP3217873B2 true JP3217873B2 (ja) | 2001-10-15 |
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ID=17701372
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP28620892A Expired - Fee Related JP3217873B2 (ja) | 1992-10-23 | 1992-10-23 | ベンゾフェノン誘導体及びこれを含有する紫外線吸収剤 |
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-
1992
- 1992-10-23 JP JP28620892A patent/JP3217873B2/ja not_active Expired - Fee Related
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