JP3214942U - ガスの処理装置及びガスの処理カートリッジ - Google Patents
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Abstract
【課題】優れた処理能力を有するガスの処理装置を提供する。【解決手段】処理装置1は、容器21を備える。容器21は、導入口22と、排出口23と、処理室24とを有する。導入口22からは、被処理ガスが導入される。排出口23からは、処理済みのガスが排出される。処理室24は、導入口22と排出口23とに接続されている。処理室24は、第1の処理部24aと、第2の処理部24bとを有する。第2の処理部24bは、第1の処理部24aよりも排出口23側に位置している。第1の処理部24aには、金属の酸化物、金属の水酸化物及び金属の炭酸塩から選ばれた少なくとも一種の無機化合物と、硫黄原子を有する還元剤とが配されている。第2の処理部24bには、酸化硫黄と反応する反応剤が配されている。【選択図】図1
Description
本発明は、ガスの処理装置及びガスの処理カートリッジに関する。
近年、排気ガスによる環境負荷を低減するために、排気ガスに対する規制が厳しくなってきている。これに伴い、排気ガスの処理方法が種々提案されている。例えば、特許文献1では、半導体装置においてエッチングが行われたときに排出される排気ガスを処理する方法が提案されている。具体的には、排気ガスを、充填塔内に充填された除害剤及び吸着剤としての活性炭を通過させることにより処理する方法が提案されている。
具体的には、特許文献1に記載の処理装置では、充填塔の上流側に、鉄化合物とマンガン化合物とを含む除害剤が配されており、下流側に、活性炭が配されている。
ガスの処理装置の処理能力をさらに高めたいという要望がある。
本発明の主な目的は、優れた処理能力を有するガスの処理装置を提供することにある。
本発明に係るガスの処理装置は、容器を備える。容器は、導入口と、排出口と、処理室とを有する。導入口からは、被処理ガスが導入される。排出口からは、処理済みのガスが排出される。処理室は、導入口と排出口とに接続されている。処理室は、第1の処理部と、第2の処理部とを有する。第2の処理部は、第1の処理部よりも排出口側に位置している。第1の処理部には、金属の酸化物、金属の水酸化物及び金属の炭酸塩から選ばれた少なくとも一種の無機化合物と、硫黄原子を有する還元剤とが配されている。第2の処理部には、酸化硫黄と反応する反応剤が配されている。
本発明に係るガスの処理カートリッジは、容器を備える。容器は、導入口と、排出口と、処理室とを有する。導入口からは、被処理ガスが導入される。排出口からは、処理済みのガスが排出される。処理室は、導入口と排出口とに接続されている。処理室は、第1の処理部と、第2の処理部とを有する。第2の処理部は、第1の処理部よりも排出口側に位置している。第1の処理部には、金属の酸化物、金属の水酸化物及び金属の炭酸塩から選ばれた少なくとも一種の無機化合物と、硫黄原子を有する還元剤とが配されている。第2の処理部には、酸化硫黄と反応する反応剤が配されている。
本発明によれば、優れた処理能力を有するガスの処理装置を提供することができる。
以下、本発明を実施した好ましい形態の一例について説明する。但し、下記の実施形態は、単なる例示である。本発明は、下記の実施形態に何ら限定されない。
また、実施形態等において参照する各図面において、実質的に同一の機能を有する部材は同一の符号で参照することとする。また、実施形態等において参照する図面は、模式的に記載されたものである。図面に描画された物体の寸法の比率などは、現実の物体の寸法の比率などとは異なる場合がある。図面相互間においても、物体の寸法比率等が異なる場合がある。具体的な物体の寸法比率等は、以下の説明を参酌して判断されるべきである。
(第1の実施形態)
図1は、本実施形態に係るガスの処理装置の模式的断面図である。
図1は、本実施形態に係るガスの処理装置の模式的断面図である。
図1に示される処理装置1は、より具体的には、例えば、アルミニウム膜等のドライエッチング装置から排出される、三塩化ホウ素などのハロゲン化合物と、塩素ガスなどのハロゲンガスとの両方を含むガスを処理するために好適に用いられる。
図1に示されるように、処理装置1は、筐体10を備えている。筐体10内には、処理カートリッジ20が配されている。この処理カートリッジ20によりガスの処理が行われる。
処理カートリッジ20は、容器21を有する。容器21は、導入口22と、排出口23と、処理室24とを有する。導入口22及び排出口23は、それぞれ、処理室24に接続されている。処理対象である被処理ガスは、導入口22から処理室24に導入される。被処理ガスは、処理室24において処理される。処理済みのガスは、排出口23から排出される。本実施形態では、導入口22は、容器21の下部に設けられている。排出口23は、容器21の上部に設けられている。もっとも、本発明は、この構成に限定されない。容器の上部に導入口が設けられており、下部に排出口が設けられていてもよい。
処理室24は、第1の処理部24aと、第2の処理部24bとを有する。第1の処理部24aは、導入口22に接続されている。第2の処理部24bは、第1の処理部24aよりも排出口23側に配されている。このため、導入口22から導入されたガスは、第1の処理部24aと、第2の処理部24bとをこの順番で経由して排出口23に到る。
第1の処理部24aには、第1の処理剤31が配されている。第1の処理剤31は、第1の処理部24aに充填されている。第1の処理剤31は、金属の酸化物、金属の水酸化物及び金属の炭酸塩から選ばれた少なくとも一種の無機化合物と、硫黄原子を有する還元剤とを含む。
金属の酸化物、金属の水酸化物及び金属の炭酸塩から選ばれた少なくとも一種の無機化合物は、例えばハロゲン化合物等の、被処理ガスに含まれる処理しようとする成分、又は処理しようとする成分から生成した成分と反応する。
金属の酸化物、金属の水酸化物及び金属の炭酸塩から選ばれた少なくとも一種の無機化合物の具体例としては、例えば、鉄、亜鉛、銅及びマンガンからなる群から選ばれた少なくとも一種の金属の酸化物、水酸化物又は炭酸塩等が挙げられる。これらのうちの1種のみを用いてもよいし、複数種類を混合して用いてもよい。なかでも、金属の酸化物、金属の水酸化物及び金属の炭酸塩から選ばれた少なくとも一種の無機化合物としては、鉄及び亜鉛の少なくとも一方を含む酸化物が好ましく用いられる。
硫黄原子を有する還元剤は、被処理ガスに含まれる処理しようとする成分、又は処理しようとする成分から生成した成分と反応する。
硫黄原子を有する還元剤の具体例としては、例えば、亜硫酸塩、亜二チオン酸塩、四チオン酸塩、チオ硫酸塩等が挙げられる。好ましく用いられる亜硫酸塩の具体例としては、例えば、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸アンモニウム等が挙げられる。好ましく用いられる亜二チオン酸塩の具体例としては、亜二チオン酸ナトリウム、亜二チオン酸カリウム等が挙げられる。好ましく用いられる四チオン酸塩の具体例としては、四チオン酸ナトリウム、四チオン酸カリウム等が挙げられる。好ましく用いられるチオ硫酸塩の具体例としては、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸カリウム、チオ硫酸アンモニウム等が挙げられる。これらの還元剤の1種のみを用いてもよいし、複数種類を混合して用いてもよい。
硫黄原子を有する還元剤は、Na2S2O3・5H2Oなどの水和物であることが好ましい。
第2の処理部24bには、第2の処理剤32が配されている。第2の処理剤32は、第2の処理部24bに充填されている。第2の処理剤32は、酸化硫黄(SOX)と反応する反応剤を含む。酸化硫黄と反応する反応剤の具体例としては、重曹、消石灰、水酸化マグネシウムが挙げられる。これらのうちの1種のみを反応剤として用いてもよいし、複数種類を反応剤として用いてもよい。
処理装置1の作用について、三塩化ホウ素ガスと、塩素ガスとを含む被処理ガスが処理装置1に導入された場合を例に挙げて説明する。なお、ここでは、第1の処理剤31が酸化亜鉛又は酸化鉄とチオ硫酸ナトリウムとを含むものとする。
第1の処理剤31が酸化亜鉛を含む場合は、被処理ガスに含まれる三塩化ホウ素ガスは、以下の反応式(1)及び反応式(2)により、第1の処理剤31によって処理される。
BCl3+3H2O=3HCl+H3BO3 ……… (1)
2HCl+ZnO=ZnCl2+H2O ……… (2)
一方、第1の処理剤31が酸化鉄を含む場合は、被処理ガスに含まれる三塩化ホウ素ガスは、以下の反応式(1)、反応式(3)及び反応式(4)により、第1の処理剤31によって処理される。
2HCl+ZnO=ZnCl2+H2O ……… (2)
一方、第1の処理剤31が酸化鉄を含む場合は、被処理ガスに含まれる三塩化ホウ素ガスは、以下の反応式(1)、反応式(3)及び反応式(4)により、第1の処理剤31によって処理される。
BCl3+3H2O=3HCl+H3BO3 ……… (1)
6HCl+Fe2O3=2FeCl3+3H2O ……… (3)
2BCl3+Fe2O3=2FeCl3+B2O3 ……… (4)
第1の処理剤31が酸化亜鉛を含む場合は、被処理ガスに含まれる塩素ガスは、以下の反応式(5)により、第1の処理剤31により処理される。
6HCl+Fe2O3=2FeCl3+3H2O ……… (3)
2BCl3+Fe2O3=2FeCl3+B2O3 ……… (4)
第1の処理剤31が酸化亜鉛を含む場合は、被処理ガスに含まれる塩素ガスは、以下の反応式(5)により、第1の処理剤31により処理される。
4Cl2+Na2S2O3・5H2O+5ZnO=2NaCl+3ZnCl2+2ZnSO4+5H2O ……… (5)
特許文献1に記載の処理装置では、上流側に配された鉄化合物等により、三塩化ホウ素ガス等のハロゲン化物が処理される。一方、塩素ガス等のハロゲンガスは、上流側に配された鉄化合物等によっては処理されない。ハロゲンガスは、活性炭により吸着される。ここで、鉄化合物とハロゲン化物との反応は発熱反応である。このため、鉄化合物とハロゲン化物との反応により活性炭の吸着能が低下する。さらに、鉄化合物とハロゲン化物との反応により生じた水が活性炭に吸着されることにより、活性炭のハロゲン化物の吸着可能量が少なくなる。従って、特許文献1に記載の処理装置の、ハロゲン化物とハロゲンガスとを含む被処理ガスに対する処理能力は、必ずしも十分に高いとはいえない場合もある。
特許文献1に記載の処理装置では、上流側に配された鉄化合物等により、三塩化ホウ素ガス等のハロゲン化物が処理される。一方、塩素ガス等のハロゲンガスは、上流側に配された鉄化合物等によっては処理されない。ハロゲンガスは、活性炭により吸着される。ここで、鉄化合物とハロゲン化物との反応は発熱反応である。このため、鉄化合物とハロゲン化物との反応により活性炭の吸着能が低下する。さらに、鉄化合物とハロゲン化物との反応により生じた水が活性炭に吸着されることにより、活性炭のハロゲン化物の吸着可能量が少なくなる。従って、特許文献1に記載の処理装置の、ハロゲン化物とハロゲンガスとを含む被処理ガスに対する処理能力は、必ずしも十分に高いとはいえない場合もある。
本実施形態の処理装置1における第1の処理剤31とハロゲン化物との反応も発熱反応である。また、第1の処理剤31とハロゲンガスとの反応も発熱反応である。第1の処理剤31と、ハロゲンガスとの反応は、高温になるほど進行しやすくなる。同様に、第1の処理剤31と、ハロゲン化物との反応は、高温になるほど進行しやすくなる。このため、第1の処理剤31とハロゲン化物との発熱反応と、第1の処理剤31とハロゲンガスとの発熱反応とが、それぞれ、他方の反応の進行を促進させる。従って、処理装置1では、ハロゲン化物とハロゲンガスとの両方が好適に処理される。
上記観点からは、処理装置の処理能力をさらに向上させるために、第2の処理剤を設けず、第1の処理剤のみを設けることも考えられる。しかしながら、本発明者らは、鋭意研究の結果、第1の処理剤のみを設けた場合は、排出口23や排出口23に接続された配管が腐食することがあることを見出した。排出口23等が腐食する原因としては、定かではないが、被処理ガスの処理時に、硫黄原子を有する還元剤から酸化硫黄(SOX)が発生していることが考えられる。
本発明者らは、上記知見に基づき、第1の処理剤31の下流側に、酸化硫黄と反応する第2の処理剤32を配することに想到した。第2の処理剤32を配することにより、第1の処理剤31において酸化硫黄が発生した場合であっても、その酸化硫黄は第2の処理剤32により処理される。従って、排出口23や、排出口23に接続された配管等に腐食性のガスや液体が流入することが抑制される。
以下、本発明の好ましい実施形態の他の例について説明する。以下の説明において、上記第1の実施形態と実質的に共通の機能を有する部材を共通の符号で参照し、説明を省略する。
(第2の実施形態)
図2は、第2の実施形態に係るガスの処理装置の模式的断面図である。
図2は、第2の実施形態に係るガスの処理装置の模式的断面図である。
本実施形態に係る処理装置2は、処理室24が、第1及び第2の処理部24a、24bに加えて、第3の処理部24cを有する点で第1の実施形態に係る処理装置1と異なる。第3の処理部24cは、第1の処理部24aよりも導入口22側に配されている。従って、処理装置3では、ガスは、第3の処理部24c、第1の処理部24a及び第2の処理部24bをこの順番で通過する。
第3の処理部24cには、第3の処理剤33が配されている。第3の処理剤33は、第3の処理部24cに充填されている。第3の処理剤33は、金属の酸化物、金属の水酸化物及び金属の炭酸塩から選ばれた少なくとも一種の無機化合物を含む。本実施形態では、第3の処理剤33は、硫黄原子を有する還元剤を含まない。
第3の処理剤33に含まれる、金属の酸化物、金属の水酸化物及び金属の炭酸塩から選ばれた少なくとも一種の無機化合物の好ましい例は、上述した、第1の処理剤31に含まれる、金属の酸化物、金属の水酸化物及び金属の炭酸塩から選ばれた少なくとも一種の無機化合物の好ましい例と同様である。第3の処理剤33に含まれる無機化合物が酸化鉄であり、第1の処理剤31に含まれる無機化合物が酸化亜鉛であることがより好ましい。
本実施形態のように、金属の酸化物、金属の水酸化物及び金属の炭酸塩から選ばれた少なくとも一種の無機化合物を含む一方、硫黄原子を含む還元剤を含まない処理剤をさらに配してもよい。
1,2:処理装置
10:筐体
20:処理カートリッジ
21:容器
22:導入口
23:排出口
24:処理室
24a:第1の処理部
24b:第2の処理部
24c:第3の処理部
31:第1の処理剤
32:第2の処理剤
33:第3の処理剤
10:筐体
20:処理カートリッジ
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23:排出口
24:処理室
24a:第1の処理部
24b:第2の処理部
24c:第3の処理部
31:第1の処理剤
32:第2の処理剤
33:第3の処理剤
Claims (6)
- 被処理ガスが導入される導入口と、処理済みのガスが排出される排出口と、前記導入口と前記排出口とに接続された処理室とを有する容器を備え、
前記処理室は、
第1の処理部と、
前記第1の処理部よりも前記排出口側に位置する第2の処理部と、
を有し、
前記第1の処理部には、金属の酸化物、金属の水酸化物及び金属の炭酸塩から選ばれた少なくとも一種の無機化合物と、硫黄原子を有する還元剤とが配されており、
前記第2の処理部には、酸化硫黄と反応する反応剤が配されている、ガスの処理装置。 - 前記無機化合物が、鉄及び亜鉛の少なくとも一方を含む酸化物である、請求項1に記載のガスの処理装置。
- 前記硫黄原子を有する還元剤は、亜硫酸塩、亜二チオン酸塩、四チオン酸塩及びチオ硫酸塩から選ばれた少なくとも一種である、請求項1又は2に記載のガスの処理装置。
- 前記反応剤が、重曹、消石灰及び水酸化マグネシウムからなる群から選ばれた少なくとも一種である、請求項1〜3のいずれか一項に記載のガスの処理装置。
- ハロゲン化物と、ハロゲンガスとを含む被処理ガスが導入される、請求項1〜4のいずれか一項に記載のガスの処理装置。
- 被処理ガスが導入される導入口と、処理済みのガスが排出される排出口と、前記導入口と前記排出口とに接続された処理室とを有する容器を備え、
前記処理室は、
第1の処理部と、
前記第1の処理部よりも前記排出口側に位置する第2の処理部と、
を有し、
前記第1の処理部には、金属の酸化物、金属の水酸化物及び金属の炭酸塩から選ばれた少なくとも一種の無機化合物と、硫黄原子を有する還元剤とが配されており、
前記第2の処理部には、酸化硫黄と反応する反応剤が配されている、ガスの処理カートリッジ。
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