JP3212030B2 - 半導体集積回路装置 - Google Patents

半導体集積回路装置

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JP3212030B2
JP3212030B2 JP13024598A JP13024598A JP3212030B2 JP 3212030 B2 JP3212030 B2 JP 3212030B2 JP 13024598 A JP13024598 A JP 13024598A JP 13024598 A JP13024598 A JP 13024598A JP 3212030 B2 JP3212030 B2 JP 3212030B2
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semiconductor integrated
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浩一 山崎
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セイコーインスツルメンツ株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路装
置内部の論理回路の出力を、半導体集積回路装置のウエ
ハー製造後に変更できるようにした半導体集積回路装置
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の一例を図2に示す。101,10
3,105はPchMOSFETで、102,104,
106はNchMOSFETである。111,112,
113はPchMOSFETとNchMOSFETから
なるインバータ論理回路で、入力に対し反対の論理が出
力される。120,123は入力および出力で、半導体
集積回路装置内の他の回路、場合によっては外部の他の
回路に接続されることもある。
【0003】入力120に対する出力123は、インバ
ータ論理回路111の出力122あるいはインバータ論
理回路112の出力121のうちどちらかを、インバー
タ論理回路113の入力124に接続することにより論
理を変更できる。図2の場合、インバータ論理回路11
1の出力122をインバータ論理回路113の入力12
4に接続すると、入力120に対し出力123は同じ論
理を出力する。インバータ論理回路112の出力121
をインバータ論理回路113の入力124に接続する
と、入力120に対し出力123は逆の論理を出力す
る。
【0004】これらを半導体集積回路装置内で達成する
には、あらかじめ別々に配線用のマスクを準備して、半
導体集積回路装置のウエハー製造にて、それぞれ違う論
理の半導体集積回路装置を製造していた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うにあらかじめ別々に配線用のマスクを準備して、半導
体集積回路装置のウエハー製造にて、それぞれ違う論理
の半導体集積回路装置を製造した場合、配線マスクをあ
らかじめ別に準備するコストがかかるという課題があっ
た。またチップ製造後には変更できないため、受注後の
ウエハー製造では時間がかかるという課題があった。さ
らに受注後迅速に製品を納入するには、あらかじめそれ
ぞれの論理の違う製品を作成しておく必要があり、管理
上あるいは売れ残り等の発生の問題があった。
【0006】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明の目的は
従来のこのような課題を解決するため、要求される入出
力の状態により、半導体集積回路装置内部の論理回路の
出力を、半導体集積回路装置のウエハー製造後に変更で
きるような回路構成にした。
【0007】
【発明の実施の形態】回路上、半導体集積回路装置のウ
エハー製造後に配線のダイオードザッピング等でショー
ト、またはレーザーカット等によるオープンで論理を変
更できるようにした。ここでダイオードザッピングと
は、ダイオードの電流の流れない方向に高い電圧をかけ
て強制的に電流を流し、ダイオードをショート破壊させ
ることである。
【0008】
【実施例】図1は本発明の実施例である。以下にこの発
明の実施例を図1に基づいて説明する。201,20
3,205はPchMOSFETで、202,204,
206はNchMOSFETである。211,212,
213はPchMOSFETとNchMOSFETから
なるインバータ論理回路で、入力に対し反対の論理が出
力される。220,223は入力および出力で、半導体
集積回路装置内の他の回路、場合によっては外部の他の
回路に接続されることもある。232はカット用の配線
パターンで、ここをレーザーカット等でオープンにする
ことにより、論理を変更できる。231はカット用の配
線パターン232をオープンにしない場合に、入力22
0に対し出力223を正常に動作させるための論理確定
用の抵抗である。
【0009】まず、カット用の配線パターン232をオ
ープンにしない場合について説明する。インバータ論理
回路211の出力によって次段のインバータ論理回路2
12が制御され、インバータ論理回路211とインバー
タ論理回路212は逆の論理が出力される。インバータ
論理回路211とインバータ論理回路212両方の出力
が、インバータ論理回路213に接続されることになる
が、抵抗231がインバータ論理回路211とインバー
タ論理回路213との間にはいるため、212の出力が
優先されることになる。すなわちインバータ論理回路2
12の出力でインバータ論理回路213は制御されるた
め、入力220に対し出力223は反対の論理が出力さ
れる。
【0010】次に、カット用の配線パターン232をオ
ープンにした場合について説明する。インバータ論理回
路212の出力は何も接続されていないので、インバー
タ論理回路211の出力でインバータ論理回路213は
制御される。よって入力220に対し出力223は、同
じ論理が出力される。以上、カット用の配線パターン2
32の状態によって論理を変更できる。
【0011】図3は、ダイオードザッピングを用いた場
合の、実施例を示している。301,303,305は
PchMOSFETで、302,304,306はNc
hMOSFETである。311,312,313はPc
hMOSFETとNchMOSFETからなるインバー
タ論理回路で、入力に対し反対の論理が出力される。3
20,323は入力および出力で、半導体集積回路装置
内の他の回路、場合によっては外部の他の回路に接続さ
れることもある。332はショート用のダイオードで、
半導体集積回路装置の内部から外部に接続される端子3
21,322から強制的に電流を流し、端子321,3
22間をショートすることにより論理を変更できる。3
31はショート用ダイオード332をショートした場合
に、入力320に対し出力323を正常に動作させるた
めの論理確定用の抵抗である。
【0012】ここではまず、ショート用ダイオード33
2をショートした場合について説明する。インバータ論
理回路311の出力によって次段のインバータ論理回路
312が制御され、インバータ論理回路311とインバ
ータ論理回路312は逆の論理が出力される。インバー
タ論理回路311とインバータ論理回路312両方の出
力が、インバータ論理回路313に接続されることにな
るが、抵抗331がインバータ論理回路311ととイン
バータ論理回路313の間にはいるため、312の出力
が優先されることになる。すなわちインバータ論理回路
312の出力でインバータ論理回路313は制御される
ため、入力320に対し出力323は反対の論理が出力
される。
【0013】次に、ショート用ダイオード332をショ
ートしない場合について説明する。インバータ論理回路
312の出力は何も接続されていないことになるので、
インバータ論理回路311の出力でインバータ論理回路
313は制御される。よって入力320に対し出力32
3は、同じ論理が出力される。以上、ショート用ダイオ
ード332の状態によって論理を変更できる。
【0014】図4は、本発明の半導体集積回路装置を用
いた応用回路例である。401は本発明の半導体集積回
路装置で、半導体集積回路装置の外部から内部への入力
端子410,411,412,413の状態により、半
導体集積回路装置の内部から外部への出力端子414を
HIGH/LOWに制御し、半導体集積回路装置の外部
のPchMOSFET405あるいは半導体集積回路装
置の外部のNchMOSFET406をON/OFFす
ることにより、半導体集積回路装置の外部のその他の回
路404への電源を制御できる。ここで403は半導体
集積回路装置の内部の回路で図1または図3の回路で構
成されており、402は半導体集積回路装置の内部のそ
の他の回路で、半導体集積回路装置の外部から内部への
入力端子410,411,412,413の状態による
論理出力を、半導体集積回路装置の内部の回路403に
出力する。
【0015】半導体集積回路装置の外部のPchMOS
FET405を用いて、半導体集積回路装置の外部から
内部への入力端子410,411,412,413の状
態により半導体集積回路装置の外部のその他の回路40
4に電源を供給するには、半導体集積回路装置の内部か
ら外部への出力端子414をLOWレベルにする必要が
ある。つぎに半導体集積回路装置の外部のNchMOS
FET406を用いて、半導体集積回路装置の外部から
内部への入力端子410,411,412,413の状
態により半導体集積回路装置の外部のその他の回路40
4に電源を供給するには、半導体集積回路装置の内部か
ら外部への出力端子414をHIGHレベルにする必要
がある。
【0016】本応用回路例では、半導体集積回路装置の
ウエハー製造後に、半導体集積回路装置の内部の回路4
03の内部をレーザーカットやダイオードザッピングす
ることで、半導体集積回路装置の外部のPchMOSF
ET405,半導体集積回路装置の外部のNchMOS
FET406どちらでも使用することができる。図1及
び図3に示した実施例では、レーザーカットやダイオー
ドザッピングで半導体集積回路装置内部の論理回路の出
力を、半導体集積回路装置のウエハー製造後に変更でき
るようにしたが、これは1例であり、本発明の構成をこ
れに限定する趣旨ではなく、半導体集積回路装置内部の
論理回路の出力を、半導体集積回路装置のウエハー製造
後に変更できれば、本発明は有効である。
【0017】図1及び図3に示した実施例では、半導体
集積回路装置内部の論理回路の出力を、半導体集積回路
装置のウエハー製造後に変更できるように、論理確定用
の抵抗231または331を用いたが、これは1例であ
り、本発明の構成をこれに限定する趣旨ではなく、半導
体集積回路装置内部の論理回路の出力を、半導体集積回
路装置のウエハー製造後に変更できように回路が構成さ
れていれば、本発明は有効である。
【0018】図4に示した応用回路例では、半導体集積
回路装置内部の論理回路の出力を、半導体集積回路装置
のウエハー製造後に変更できるように、レーザーカット
やダイオードザッピングで変更する部分が、半導体集積
回路装置の出力の部分であったが、これは1例であり、
本発明の構成をこれに限定する趣旨ではなく、半導体集
積回路装置の内部であればどこでも有効である。
【0019】本発明は、半導体集積回路装置内部の論理
回路の出力を、半導体集積回路装置のウエハー製造後に
変更できれば有効で、応用回路にこだわる必要はない。
本実施例では、C−MOS(Complemental
y Metal Oxide Semiconducte
r)回路で半導体集積回路装置内部を構成したが、バイ
ポーラトランジスタなどいかなるデバイスで構成するこ
とも可能であり、実現は容易である。
【0020】
【発明の効果】要求される入出力の形態により、半導体
集積回路装置内部の論理回路の出力を、半導体集積回路
装置のウエハー製造後に変更できるような回路構成にす
ることにより、あらかじめ別々に配線用のマスクを準備
するコストがかからない。またチップ製造後に変更でき
るため、受注前にウエハーを製造しておき受注からの製
造時間を短縮できる。さらに受注後迅速に製品を納入す
るために、あらかじめそれぞれの論理の違う製品を作成
しておく必要がないので、管理上あるいは売れ残り等の
発生の問題がない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体集積回路装置の実施例を示した
説明図である。
【図2】従来の半導体集積回路装置を示した説明図であ
る。
【図3】本発明の半導体集積回路装置の他の例を示した
説明図である。
【図4】本発明の半導体集積回路装置を用いた応用回路
の実施例を示した説明図である。
【符号の説明】
101, 103,105,201,203,205,
301,303,305 PchMOSF
ET 102,104,106,202,204,206,3
02,304,306NchMOSFET 111, 112,113,211,212,213,
311,312,313 インバータ論理
回路 120,124,220,320 入力 121,122,123,223,323 出力 321,322 半導体集
積回路装置の内部から外部に接続される端子 410,411,412,413 半導体集
積回路装置の外部から内部への入力端子 414 半導体集積回路装置の内部か
ら外部への出力端子 232 カット用の配線パターン 332 ショート用ダイオード 231,331 論理確定用の抵抗 401 半導体集積回路装置 402,403 半導体集積回路装置の内部回
路 404 半導体集積回路装置の外部の
その他の回路 405 半導体集積回路装置の外部の
PchMOSFET 406 半導体集積回路装置の外部の
NchMOSFET

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも二つの回路ブロックと、 該回路ブロックの間に設けられ、二つのダイオードが一
    方の同一極性端子同士接続されたダイオードであり、前
    記二つのダイオードの他の極性の端子には、それぞれ外
    部から信号を入力するための制御電極を設けられた、外
    部からの操作によって任意に切断可能な接続回路とを有
    し、 該制御電極に電圧が印加されることによって、該ダイオ
    ードは短絡されるように構成され、 外部からの操作によって該接続回路が切断されたときに
    は、前記二つの回路ブロック間の接続が切断されること
    を特徴とする半導体集積回路装置。
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