JP3205921B2 - Magneto-optical recording medium - Google Patents

Magneto-optical recording medium

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JP3205921B2
JP3205921B2 JP25248293A JP25248293A JP3205921B2 JP 3205921 B2 JP3205921 B2 JP 3205921B2 JP 25248293 A JP25248293 A JP 25248293A JP 25248293 A JP25248293 A JP 25248293A JP 3205921 B2 JP3205921 B2 JP 3205921B2
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裕治郎 金子
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は光磁気記録媒体に関し、
特に寿命を向上させた光磁気記録媒体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magneto-optical recording medium,
In particular, it relates to a magneto-optical recording medium having an improved life.

【0002】[0002]

【従来の技術】光磁気ディスクは、レーザ光を用いて情
報の記録、再生および消去を行うため、従来からの光デ
ィスクと同様に記憶容量が大きく、しかも記録層に磁性
体を用いているため書き換えが可能である。また、非接
触で記録および再生ができ、塵埃の影響も受けないこと
から信頼性にも優れている。また、数年前に商品化され
て以来、光ファイルシステム等への展開が急速に進んで
おり、より高い性能への向上を目指して活発な研究が行
われている。
2. Description of the Related Art Magneto-optical disks use a laser beam for recording, reproducing and erasing information, so that they have a large storage capacity like conventional optical disks, and are rewritten because a magnetic material is used for the recording layer. Is possible. In addition, recording and reproduction can be performed in a non-contact manner, and since there is no influence from dust, the reliability is excellent. Further, since it was commercialized several years ago, the development to an optical file system and the like has been rapidly progressing, and active research is being conducted with the aim of improving performance.

【0003】この光磁気記録媒体の基板がガラスの場
合、破損しやすく、かつ、高価であることやプリブルー
ブの形成が容易でないため、射出成形によって得られる
ポリカーボネート(PC)やアモルファスポリオレフィ
ン(APO)等のプラスチック基板が一般に用いられて
いる。
When the substrate of the magneto-optical recording medium is glass, it is easily broken, is expensive, and it is not easy to form a pre-blue. Therefore, polycarbonate (PC), amorphous polyolefin (APO), etc. obtained by injection molding are used. Plastic substrates are generally used.

【0004】また、光磁気記録層(以下、記録層と略記
す)の材料としては、例えばTbFeCo、NdDyF
eCo、TbDyFeCo等の希土類−遷移金属(以
下、RE−TMと略記す)非晶質合金が粒界ノイズが無
く、スパッタリングを用いることによって容易に垂直磁
化膜が得られることから現在最も多く用いられている。
[0004] Materials for the magneto-optical recording layer (hereinafter abbreviated as recording layer) include, for example, TbFeCo and NdDyF.
Rare earth-transition metal (hereinafter abbreviated as RE-TM) amorphous alloys such as eCo and TbDyFeCo are currently most frequently used because they have no grain boundary noise and a perpendicular magnetization film can be easily obtained by using sputtering. ing.

【0005】しかしながら、このRE−TM非晶質合金
の特に希土類(以下、REと略記す)成分は酸化腐食を
受けやすく、経時とともに膜の保磁力や垂直磁気異方性
等の磁気特性が劣化するという欠点がある。この酸化腐
食は記録層の形成時に真空槽内に残存する酸素、プラス
チック基板の表面に吸着した酸素や水、真空槽内のター
ゲット材中に含有されている酸素、大気中の酸素や水等
によるものであるが、特に大きな影響を及ぼすのは基板
および大気からの酸素や水の侵入である。そこで酸素や
水の侵入を防止する手段としてSiN膜等の誘電体膜で
記録層を両面から被覆する方法が採用されている。
[0005] However, particularly the rare earth (hereinafter abbreviated as RE) component of this RE-TM amorphous alloy is susceptible to oxidative corrosion, and the magnetic properties such as the coercive force and perpendicular magnetic anisotropy of the film deteriorate with time. There is a disadvantage of doing so. This oxidative corrosion is caused by oxygen remaining in the vacuum chamber when the recording layer is formed, oxygen or water adsorbed on the surface of the plastic substrate, oxygen contained in the target material in the vacuum chamber, oxygen or water in the atmosphere, etc. However, a particularly significant effect is the intrusion of oxygen and water from the substrate and the atmosphere. Therefore, a method of covering the recording layer from both sides with a dielectric film such as a SiN film has been adopted as means for preventing intrusion of oxygen or water.

【0006】一方、高温高湿あるいは急激な温湿度変化
等の過酷な環境条件に対しては、プラスチック基板を用
いた光磁気記録媒体は、基板と各層との線膨張係数の違
いによって局部的に膜にクラックや剥離が生じ、これを
核として膜全体に腐食が進行し、寿命が低下するといっ
た問題点が存在する。
On the other hand, under severe environmental conditions such as high temperature and high humidity or a rapid change in temperature and humidity, a magneto-optical recording medium using a plastic substrate is locally localized due to the difference in linear expansion coefficient between the substrate and each layer. There is a problem that cracks and peeling occur in the film, and the nucleus causes corrosion to progress throughout the film, thereby shortening the service life.

【0007】この問題に対して、例えばプラスチック基
板の成膜面に逆スパッタリングを施し、基板表面を改変
させることによって基板と各層間の密着性向上を図り、
クラックや剥離の発生を防止するといった手段が提案さ
れている。
[0007] To solve this problem, for example, reverse sputtering is performed on the film formation surface of the plastic substrate to modify the substrate surface, thereby improving the adhesion between the substrate and each layer.
Means for preventing the occurrence of cracks and peeling have been proposed.

【0008】しかしながら、逆スパッタリングは弱過ぎ
ると効果が無く、又、強く行うと基板温度が上昇して基
板の機械特性(反り、面振れ)が悪化したり、基板表面
の凹凸が大きくなって再生信号のノイズレベルが高くな
ってしまうといった不具合がある。
[0008] However, reverse sputtering has no effect if it is too weak, and if it is performed too strongly, the substrate temperature rises to deteriorate the mechanical properties (warpage and surface runout) of the substrate, or the unevenness of the substrate surface becomes large, resulting in reproduction. There is a problem that the noise level of the signal becomes high.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】そこで、クラックや剥
離を防止するためには、プラスチック基板と記録層との
間にプラスチック基板との密着力の強い材料からなる干
渉層を設けることが考えられる。また、この干渉層には
屈折率の高い(通常1.8以上)誘電体を用いることが
必要であり、この干渉層での再生光の多重反射を利用し
て、見かけのカー回転角(θk)を増大させ、それによ
ってC(キャリア)レベルを上げ、また、反射率を小さ
くすることでN(ノイズ)レベルを下げ、トータルでC
/Nを向上させるようにする。
Therefore, in order to prevent cracks and peeling, it is conceivable to provide an interference layer made of a material having strong adhesion to the plastic substrate between the plastic substrate and the recording layer. Further, it is necessary to use a dielectric material having a high refractive index (usually 1.8 or more) for this interference layer, and the apparent Kerr rotation angle (θk ) Is increased, thereby increasing the C (carrier) level, and decreasing the reflectivity, thereby lowering the N (noise) level.
/ N is to be improved.

【0010】さらに、前述のようにRE−TM非晶質合
金のような酸化等による腐食を起こしやすい材料を記録
層に用いた場合、この干渉層は記録層の腐食を防止する
役割も兼ね備えていなければならない。それには基板か
らの水や酸素の侵入を防ぎ、それ自身の耐食性が高く、
かつ記録層との反応性が小さいことが必要である。
Further, as described above, when a material which is susceptible to corrosion due to oxidation or the like, such as an RE-TM amorphous alloy, is used for the recording layer, the interference layer also has a role of preventing corrosion of the recording layer. There must be. It prevents water and oxygen from penetrating from the substrate, has high corrosion resistance of itself,
In addition, it is necessary that the reactivity with the recording layer is small.

【0011】このような具体的な材料としては、Si
O、SiO2、Al23、Ta25等の酸化物が挙げら
れる。これら酸化物はプラスチック基板として一般に用
いられているポリカーボネート(PC)との密着力が強
く、しかも前述した干渉層としての条件を備えている。
As such a specific material, Si
Oxides such as O, SiO 2 , Al 2 O 3 , and Ta 2 O 5 are mentioned. These oxides have strong adhesion to polycarbonate (PC) which is generally used as a plastic substrate, and have the above-described conditions as an interference layer.

【0012】しかしながら、干渉層が酸化物の場合、干
渉層中に含有されている酸素が記録層中の酸化されやす
いRE(希土類)等に悪影響を及ぼすために、経時的な
変化を起こしやすく寿命の点で問題がある。
However, when the interference layer is an oxide, the oxygen contained in the interference layer adversely affects the oxidizable RE (rare earth) or the like in the recording layer, so that it is liable to change with time and has a long life. There is a problem in the point.

【0013】本発明の目的は、PC等のプラスチック基
板との密着力が強く、かつ記録層の保護機能に優れた干
渉層を採用することによって過酷な環境条件下において
もクラックや剥離のない高寿命、高信頼性の光磁気記録
媒体を得ることである。
An object of the present invention is to use an interference layer having a strong adhesion to a plastic substrate such as a PC and an excellent protective function of a recording layer, thereby preventing cracks and peeling even under severe environmental conditions. An object is to obtain a magneto-optical recording medium having a long life and high reliability.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明によれば、プラスチック基板上に少なくとも
干渉層、記録層、保護層を順次設けた光磁気記録媒体に
おいて、前記干渉層が0.5〜3原子%のArを含有す
る酸化物の薄膜からなることを特徴とする光磁気記録媒
体が提供される。
According to the present invention, there is provided a magneto-optical recording medium having at least an interference layer, a recording layer, and a protective layer sequentially provided on a plastic substrate. A magneto-optical recording medium comprising a thin film of an oxide containing 0.5 to 3 atomic% of Ar is provided.

【0015】以下に本発明の光磁気記録媒体の構成を図
1の構成例に基いて説明する。図1において、1はプリ
グルーブ付きのプラスチック基板、2は干渉層、3は記
録層、4は保護層、5は反射層である。
Hereinafter, the configuration of the magneto-optical recording medium of the present invention will be described based on the configuration example of FIG. In FIG. 1, 1 is a plastic substrate with a pregroove, 2 is an interference layer, 3 is a recording layer, 4 is a protective layer, and 5 is a reflective layer.

【0016】プラスチック基板1としては、ポリカーボ
ネート(PC)、ポリメチルメタクリレート(PMM
A)、アモルファスポリオレフィン(APO)等の樹脂
からなる基板が挙げられる。これら基板はディスク形状
で、厚みは0.6〜1.2mm程度である。
As the plastic substrate 1, polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMM)
A) and a substrate made of a resin such as amorphous polyolefin (APO). These substrates are disk-shaped and have a thickness of about 0.6 to 1.2 mm.

【0017】本発明においては、前記プラスチック基板
1と記録層3との間に干渉層2が設けられる。干渉層2
には前述したように屈折率の高い(1.8以上)透明な
膜を用い、この層における再生光の多重反射を利用して
見かけのカー回転角(θk)を増大させ、それによって
C(キャリアレベル)を上げ、また、反射率を小さくす
ることでN(ノイズ)レベルを下げ、トータルでC/N
を向上させる。さらに、記録層3を腐食させないための
保護層としての役割も果たす必要がある。なおかつ、プ
ラスチック基板1との強い密着力を有する材料を用いる
必要がある。表1に各種酸化物等を干渉層2に用いてデ
ィスクを作製し、温湿度サイクル試験(Z/AD試験、
図2参照)を行った結果を示す。
In the present invention, an interference layer 2 is provided between the plastic substrate 1 and the recording layer 3. Interference layer 2
As described above, a transparent film having a high refractive index (1.8 or more) is used as described above, and the apparent Kerr rotation angle (θk) is increased by using multiple reflection of the reproduction light in this layer, whereby C ( Carrier level), and by lowering the reflectivity, the N (noise) level is lowered.
Improve. Further, the recording layer 3 must also serve as a protective layer for preventing corrosion. In addition, it is necessary to use a material having a strong adhesion to the plastic substrate 1. Disks were prepared using various oxides and the like for the interference layer 2 in Table 1 and subjected to a temperature / humidity cycle test (Z / AD test,
2 (see FIG. 2).

【0018】[0018]

【表1】 [Table 1]

【0019】表1のごとくSiOやTa25等の酸化物
の薄膜は、他の窒化物薄膜等に比べてポリカーボネート
基板(PC)との密着力が強いため試験後のディスクに
膜のクラックや剥離が見られない。
As shown in Table 1, a thin film of an oxide such as SiO or Ta 2 O 5 has a stronger adhesion to a polycarbonate substrate (PC) than other nitride thin films and the like. And peeling are not seen.

【0020】しかしながら、干渉層2が酸化物の場合、
干渉層2中に含有されている酸素が記録層3を酸化しや
すい。そこで本発明においては干渉層2を形成するこれ
ら酸化物にArを含有させ、その含有率を0.5〜3原
子%とすることによりプラスチック基板1との密着力を
損なうことなく記録層3に悪影響を及ぼさない干渉層2
が得られることを見出したもので、中でもArを含有し
たTa25、殊に下記一般式(I)の酸化物によれば優
れた特性が得られる。
However, when the interference layer 2 is an oxide,
Oxygen contained in the interference layer 2 easily oxidizes the recording layer 3. Therefore, in the present invention, Ar is contained in these oxides forming the interference layer 2 and the content thereof is set to 0.5 to 3 atomic%, so that the recording layer 3 can be formed without impairing the adhesion to the plastic substrate 1. Interference layer 2 that does not adversely affect
Are obtained. Among them, Ta 2 O 5 containing Ar, in particular, an oxide represented by the following general formula (I) provides excellent characteristics.

【化1】 〔TaX100_XYAr100_Y …(I) (式中、XおよびYの値は、20≦X≦40、97≦Y
≦99.5である。)上記干渉層2中のAr含有量は、
各スパッタ条件により膜形成速度を変えることでコント
ロールできる(図3参照)。この干渉層2は、2層構成
の薄膜であってもよく、膜厚は屈折率によっても異なる
が、通常トータルで500〜1200Å、好ましくは8
00〜1200Åである。干渉層2が2層構成からなる
場合は、上記特定の酸化物の薄膜はプラスチック基板1
側に設ける。
Embedded image [Ta X O 100 — X ] Y Ar 100 — Y (I) (wherein the values of X and Y are 20 ≦ X ≦ 40, 97 ≦ Y
≤ 99.5. ) The Ar content in the interference layer 2 is:
It can be controlled by changing the film formation speed depending on each sputtering condition (see FIG. 3). The interference layer 2 may be a thin film having a two-layer structure, and the thickness varies depending on the refractive index, but is generally 500 to 1200 °, preferably 8 °.
It is 00-1200 °. When the interference layer 2 has a two-layer structure, the specific oxide thin film is formed on the plastic substrate 1.
On the side.

【0021】次に記録層3としては、TbFeCo、N
dDyFeCo、TbDyFeCoなどのRE−TMの
非晶質合金薄膜、BaFe1219、CoFe24、(B
i、Y)3Fe512等の酸化物薄膜、MnBi、CoP
t等の多結晶合金薄膜が挙げられ、中でもRE−TM非
晶質合金薄膜が粒界ノイズがなく、また、作製しやすい
ことから記録層3に適している。さらに、これらはいず
れも膜面に垂直な方向に磁化容易軸を有している。厚み
は合金薄膜の場合、好ましくは200〜1000Å、酸
化物薄膜の場合、多くは記録再生光に対して透光性が大
きいので特に厚みに制約はないが1000〜5000Å
が好ましい。また、記録層3は、単層膜に限らず多層膜
でもよい。
Next, as the recording layer 3, TbFeCo, N
RE-TM amorphous alloy thin films such as dDyFeCo and TbDyFeCo, BaFe 12 O 19 , CoFe 2 O 4 , (B
i, Y) 3 Fe 5 oxide thin film O 12, etc., MnBi, CoP
and polycrystalline alloy thin films such as t. Among them, the RE-TM amorphous alloy thin film is suitable for the recording layer 3 because it has no grain boundary noise and is easy to produce. Further, each of them has an easy axis of magnetization in a direction perpendicular to the film surface. The thickness of the alloy thin film is preferably from 200 to 1000 °, and the thickness of the oxide thin film is not particularly limited, since most of them have a large light-transmitting property with respect to recording / reproducing light.
Is preferred. Further, the recording layer 3 is not limited to a single-layer film, but may be a multilayer film.

【0022】通常、記録層3の上には保護層4が設けら
れる。保護層3は設けなくても本発明の効果が損なわれ
ることはない。この保護層4は空気中(片面仕様の場
合)、また、接着剤(両面仕様の場合)からの水分や酸
素またはハロゲン元素のように記録層3に有害な物質の
侵入を防止し、記録層3を保護する目的で設けられるた
め、干渉層2同様、それ自身の耐食性が高く、記録層3
との反応性が小さいことが必要である。具体的な材料は
表1に挙げたもの等と同様である。ただ、その内でも作
りやすさや熱伝導率の点からSi、B、O、Nのうちか
ら選択される2種以上の原子からなる化合物で、少なく
ともSiとNを含む化合物(SiN、SiON、SiB
N SiBON)で適している。この保護層4の膜厚は
C/Nや記録感度にも大きな影響を及ぼすが、通常0〜
600Åが好ましい。
Usually, a protective layer 4 is provided on the recording layer 3. Even if the protective layer 3 is not provided, the effect of the present invention is not impaired. This protective layer 4 prevents invasion of harmful substances such as moisture, oxygen or halogen elements into the recording layer 3 from the air (in the case of single-sided specification) or from the adhesive (in the case of double-sided specification). 3 is provided for the purpose of protecting the recording layer 3.
It is necessary that the reactivity with is small. Specific materials are the same as those shown in Table 1. However, among them, compounds composed of two or more atoms selected from Si, B, O, and N in terms of ease of production and thermal conductivity, and compounds containing at least Si and N (SiN, SiON, SiB
N SiBON). The thickness of the protective layer 4 has a great influence on the C / N and the recording sensitivity.
600 ° is preferred.

【0023】反射層5の記録層3の上に直接もしくは保
護層4を介して設けてもよい。記録媒体の高C/N、高
感度化のために、この反射層5は再生光に対して反射率
が高く、熱伝導率は小さい方がよい。また、当然、耐食
性がなければならない。具体的な材料としてSi、T
i、Cr、Zr、Mo、Pd、Pt、Taの1種以上を
含むAl合金、特に下記一般式(II)からなるAl合金
が好ましい。
The reflective layer 5 may be provided directly on the recording layer 3 or via the protective layer 4. In order to increase the C / N and the sensitivity of the recording medium, it is preferable that the reflection layer 5 has a high reflectance with respect to the reproduction light and a low thermal conductivity. Also, of course, it must have corrosion resistance. Specific materials such as Si and T
An Al alloy containing at least one of i, Cr, Zr, Mo, Pd, Pt, and Ta, particularly an Al alloy represented by the following general formula (II) is preferable.

【化2】AlX Me100_X …(II) (式中、MeはTi、Ta、Cr、Zr、Si、Mo、
PdまたはPtを表す。また、Xの値は、95≦X≦1
00である。)反射層5の膜厚は薄過ぎるとC/Nが低
下し、厚過ぎると記録感度が悪くなるため300〜60
0Åが適当である。
Embedded image Al x Me 100 — X (II) (wherein Me is Ti, Ta, Cr, Zr, Si, Mo,
Represents Pd or Pt. The value of X is 95 ≦ X ≦ 1.
00. If the thickness of the reflective layer 5 is too small, the C / N ratio is reduced, and if the thickness is too large, the recording sensitivity deteriorates.
0 ° is appropriate.

【0024】基板上に各層を形成する手段としては、ス
パッタリング、イオンプレーティング等の物理蒸着法、
プラズマCVDのような化学蒸着法等が用いられる。
Means for forming each layer on the substrate include physical vapor deposition methods such as sputtering and ion plating,
A chemical vapor deposition method such as plasma CVD is used.

【0025】[0025]

【実施例】以下の実施例を挙げ、本発明をさらに具体的
に説明する。
The present invention will be described more specifically with reference to the following examples.

【0026】実施例1 直径86mm、厚さ1.2mmのプリグルーブ付きPC
成形基板を予め大気中にて90℃、2時間でプリベーク
した後、スパッタ装置の真空槽内にセットし、真空圧が
5×10-7Torr以下になるまで真空排気した。その
後、真空槽内にArとO2の混合ガスを導入し、圧力を
5×10-2Torrに調節し、金属Taをターゲットと
してRFマグネトロンスパッタリングによってTa25
(Ar)膜を1100Åの厚さに形成し干渉層とした。
次いで記録層としてTb21Fe70Co9膜を200Å、
保護層としてSi34膜を250Å、反射層としてAl
99Ti1膜を500Åに形成した後、真空槽から大気中
へ搬出して本発明の光磁気記録媒体を得た。この媒体を
RBS(ラザフォード・後方散乱法)によって深さ方向
の組成分布を調べた結果を図4に示す。
Example 1 PC with a pregroove having a diameter of 86 mm and a thickness of 1.2 mm
After pre-baking the molded substrate in the air at 90 ° C. for 2 hours in advance, the substrate was set in a vacuum chamber of a sputtering apparatus and evacuated until the vacuum pressure became 5 × 10 −7 Torr or less. Thereafter, a mixed gas of Ar and O 2 was introduced into the vacuum chamber, the pressure was adjusted to 5 × 10 −2 Torr, and Ta 2 O 5 was formed by RF magnetron sputtering using metal Ta as a target.
An (Ar) film was formed to a thickness of 1100 ° to form an interference layer.
Next, a Tb 21 Fe 70 Co 9 film was formed as a recording layer by 200 °,
250 ° Si 3 N 4 film as protective layer, Al as reflective layer
After forming a 99 Ti 1 film at 500 ° C., it was carried out from the vacuum chamber to the atmosphere to obtain the magneto-optical recording medium of the present invention. FIG. 4 shows the result of examining the composition distribution in the depth direction of this medium by RBS (Rutherford backscattering method).

【0027】実施例2〜5 干渉層の材料および膜厚を表2に示すとおりとし、その
他は実施例1と同様にして実施例2〜5の光磁気記録媒
体を得た。
Examples 2 to 5 The magneto-optical recording media of Examples 2 to 5 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the material and thickness of the interference layer were as shown in Table 2.

【0028】比較例1〜4 干渉層にArが含有されていない他は実施例1〜4と同
様にして比較例1〜4の光磁気記録媒体を得た。
Comparative Examples 1 to 4 Magneto-optical recording media of Comparative Examples 1 to 4 were obtained in the same manner as in Examples 1 to 4 except that the interference layer did not contain Ar.

【0029】なお、実施例1〜5、比較例1〜4の光磁
気記録媒体の反射層上にはアクリル系紫外線硬化樹脂か
らなるカバー層をスピナーによって5〜10μm塗布し
た。その後、各媒体を80℃、85%RHの環境下で2
000時間放置し、寿命加速試験を行った。試験前後の
ビットエラーレート(BER)を表2に示す。
A cover layer made of an acrylic UV-curable resin was applied on the reflective layers of the magneto-optical recording media of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 4 by a spinner to a thickness of 5 to 10 μm. Then, each medium was placed in an environment of 80 ° C. and 85% RH for 2 hours.
After leaving for 000 hours, a life acceleration test was performed. Table 2 shows the bit error rates (BER) before and after the test.

【0030】[0030]

【表2】 [Table 2]

【0031】表2より明らかにように、比較例の光磁気
記録媒体は、80℃、85%RH環境下で2000時間
放置した場合、初期に比べてBERが一桁以上増加して
いる。一方、本発明による実施例の方はほとんどBER
の増加が見られない。
As is evident from Table 2, the BER of the magneto-optical recording medium of the comparative example is increased by one digit or more compared to the initial state when left for 2000 hours in an environment of 80 ° C. and 85% RH. On the other hand, the embodiment according to the present invention has almost the BER
No increase is seen.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、プラスチ
ック基板と記録層との間にArを特定の量含有する酸化
物の薄膜からなる干渉層を介在させることによってプラ
スチック基板と各層との密着性が向上し過酷な環境下に
おいてもクラックや剥離が発生ぜず、しかも記録層の酸
化など経時的な変化のない高寿命、高信頼性の光磁気記
録媒体が得られる。
As described above, according to the present invention, an interference layer composed of a thin film of an oxide containing a specific amount of Ar is interposed between a plastic substrate and a recording layer, whereby the plastic substrate and each layer can be separated. A magneto-optical recording medium having a long life and high reliability with improved adhesion, no cracking or peeling even under a severe environment, and no change over time such as oxidation of the recording layer can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明にかかわる光磁気記録媒体の断面図であ
る。
FIG. 1 is a sectional view of a magneto-optical recording medium according to the present invention.

【図2】干渉層の温湿度サイクル試験における保持時間
−温度、保持時間−湿度を示すグラフである。
FIG. 2 is a graph showing retention time-temperature and retention time-humidity in a temperature-humidity cycle test of an interference layer.

【図3】スパッタリングによる膜形成速度と干渉層中の
Ar含有量の関係を示すグラフである。
FIG. 3 is a graph showing a relationship between a film formation speed by sputtering and an Ar content in an interference layer.

【図4】本光磁気記録媒体の深さ方向の組成分布を示す
グラフである。
FIG. 4 is a graph showing a composition distribution in a depth direction of the magneto-optical recording medium.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透明基板(プラスチック基板) 2 干渉層 3 記録層 4 保護層 5 反射層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent substrate (plastic substrate) 2 Interference layer 3 Recording layer 4 Protective layer 5 Reflective layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11B 11/105 526 G11B 11/105 531 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G11B 11/105 526 G11B 11/105 531

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 プラスチック基板上に少なくとも干渉
層、記録層、保護層を順次設けた光磁気記録媒体におい
て、前記干渉層が0.5〜3原子%のArを含有する酸
化物の薄膜からなることを特徴とする光磁気記録媒体。
1. A magneto-optical recording medium in which at least an interference layer, a recording layer, and a protective layer are sequentially provided on a plastic substrate, wherein the interference layer comprises a thin film of an oxide containing 0.5 to 3 atomic% of Ar. A magneto-optical recording medium characterized by the above-mentioned.
【請求項2】 前記干渉層が下記一般式(I)で表され
る酸化物の薄膜からなることを特徴とする請求項1に記
載の光磁気記録媒体。 【化1】 〔TaX100_XYAr100_Y …(I) (式中、XおよびYの値は、20≦X≦40、97≦Y
≦99.5である。)
2. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the interference layer is made of an oxide thin film represented by the following general formula (I). Embedded image [Ta X O 100 — X ] Y Ar 100 — Y (I) (wherein the values of X and Y are 20 ≦ X ≦ 40, 97 ≦ Y
≤ 99.5. )
【請求項3】 前記干渉層が2層構成の薄膜であって、
そのうちの基板側の層が前記酸化物の薄膜からなること
を特徴とする請求項1又は2に記載の光磁気記録媒体。
3. The method according to claim 1, wherein the interference layer is a thin film having a two-layer structure,
3. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein a layer on the substrate side is made of the oxide thin film.
【請求項4】 前記記録層が希土類−遷移金属非晶質合
金薄膜からなることを特徴とする請求項1〜3のいずれ
か一項に記載の光磁気記録媒体。
4. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein said recording layer comprises a rare earth-transition metal amorphous alloy thin film.
【請求項5】 前記保護層がSi、B、O、Nのうちか
ら選択される2種以上の原子からなる化合物であって少
なくともSiとNを含む化合物薄膜からなり、かつ該保
護層上に下記一般式(II)で表されるAl合金の薄膜か
らなる反射層を設けたことを特徴とする請求項1〜4の
いずれか一項に記載の光磁気記録媒体。 【化2】AlX Me100_X …(II) (式中、MeはTi、Ta、Cr、Zr、Si、Mo、
PdまたはPtを表し、また、Xの値は、95≦X≦1
00である)
5. The protective layer is a compound comprising at least two kinds of atoms selected from Si, B, O, and N, and is formed of a compound thin film containing at least Si and N. The magneto-optical recording medium according to any one of claims 1 to 4, wherein a reflection layer made of a thin film of an Al alloy represented by the following general formula (II) is provided. Embedded image Al x Me 100 — X (II) (wherein Me is Ti, Ta, Cr, Zr, Si, Mo,
Represents Pd or Pt, and the value of X is 95 ≦ X ≦ 1
00)
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102194467B1 (en) * 2019-05-28 2020-12-24 성화기술산업 주식회사 Sap bottle hanger for Emergency vehicle

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