JP3203917B2 - プロジェクタ用アクティブマトリクス液晶表示パネル - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光源が位置する入射側
と、投影光学系が位置する出射側との間に組み込まれる
プロジェクタ用アクティブマトリクス液晶表示パネルに
関する。より詳しくは、アクティブマトリクス液晶表示
パネルに形成される薄膜トランジスタ等からなるスイッ
チング素子の光リーク電流防止構造に関する。

【０００２】

【従来の技術】アクティブマトリクス液晶表示パネルは
その応用範囲が拡大されており、例えば投射型の液晶プ
ロジェクタに応用されている。図１１を参照して従来の
液晶プロジェクタの一般的な構成を簡潔に説明する。液
晶プロジェクタは、光軸１１０に沿って光源１０１と透
過型の液晶表示パネル１０２と投影光学系１０３とを順
に配列した構造を有する。光源１０１を構成するランプ
１０４から発した入射光はリフレクタ１０５によって、
後方に放射される成分が前方に集められ、コンデンサレ
ンズ１０６に入射する。コンデンサレンズ１０６は光を
さらに集中して入射側偏光板１０７を介し液晶表示パネ
ル１０２へ導光する。導かれた光はシャッタあるいはラ
イトバルブの機能を有する液晶表示パネル１０２及び出
射側偏光板１０８により画像に変換される。表示された
画像は投影光学系１０３を介してスクリーン１０９上に
拡大投影される。なお、光源１０１とコンデンサレンズ
１０６の間にはフィルタ１１４が挿入されており、光源
光に含まれる不要な赤外線及び紫外線を除去する。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】図１２を参照してプロ
ジェクタ用アクティブマトリクス液晶表示パネル１０２
の構造を簡潔に説明する。この表示パネルは入射側の透
明対向基板２０１と、出射側の透明駆動基板２０２と、
両基板の間に保持された液晶２０３とからなる積層構造
を有する。透明駆動基板２０２の内表面には透明画素電
極２０４とスイッチング素子２０５とが集積的に形成さ
れている。スイッチング素子２０５は薄膜トランジスタ
からなりシールド膜２１３により入射光２０６から遮光
されている。一方透明対向基板２０１の内表面にはブラ
ックマスク２０７が形成されており、透明駆動基板２０
２側の画素電極２０４に整合した開口２０８を有してい
る。ブラックマスク２０７の上には絶縁膜２０９を介し
て対向電極２１０が形成されている。

【０００４】一般に液晶プロジェクタでは十分に輝度の
高い投影画像を得る為、光源１０１は１００万LUX 程度
の光量を放射する。ここで液晶表示パネルがスイッチン
グ素子２０５として薄膜トランジスタを使用している場
合、強度の極めて高い入射光２０６により光リーク電流
が発生し、クロストークやコントラストの低下が生じる
という課題がある。薄膜トランジスタ２０５は光に対し
て敏感な半導体薄膜２１１を素子領域として用いてい
る。この素子領域は入射側に対してシールド膜２１３に
より光学的に遮閉されている。しかしながら、透明駆動
基板２０２の外表面２１２で反射される成分は裏側から
半導体薄膜２１１に入射するのでシールド膜２１３だけ
では光リーク電流を抑制できない。この裏面反射は透明
駆動基板２０２と空気との屈折率の相異により生じる。
又、従来のプロジェクタ用アクティブマトリクス液晶表
示パネルでは、入射側に位置する透明対向基板２０１の
内表面にブラックマスク２０７を設けている。光の入射
角度を考慮してブラックマスク２０７の開口２０８を狭
くする事により、スイッチング素子２０５には極力入射
光が直接照射されない様にして光リークを防止してい
る。しかしながら高輝度画像を得る為、大光量の光を入
射すると、ブラックマスク２０７の開口部２０８を通過
した光が、前述した様に透明駆動基板２０２の外表面２
１２で反射され、薄膜トランジスタに光が回り込みリー
ク電流が発生して十分なコントラストが得られなかっ
た。

【０００５】なお、特開昭５８−２０９７２０号公報に
は液晶表示パネルの外表面に反射防止膜を形成する技術
が開示されている。この反射防止膜はガラス基板の外表
面又は偏光板の外表面に成膜される。しかしながら、こ
の反射防止膜は単に外光反射の防止を目的としており、
直視型液晶表示パネルの視認性を改善する為のものであ
る。従って、プロジェクタ用アクティブマトリクス液晶
表示パネルに固有の戻り反射に起因する光リーク抑制と
は何ら関連していない。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上述した従来の技術の課
題を解決する為以下の手段を講じた。即ち、本発明は一
般的に光源が位置する入射側と、投影光学系が位置する
出射側との間に組み込まれるプロジェクタ用アクティブ
マトリクス液晶表示パネルに適用される。本液晶表示パ
ネルは入射側の透明対向基板と、出射側の透明駆動基板
と、両基板の間に保持された液晶とからなる積層構造を
有する。透明駆動基板の内表面には透明画素電極と、入
射光に対し遮光されたスイッチング素子とが集積的に形
成されている。本発明の特徴事項として、透明駆動基板
の外表面側には入射光の戻り反射を制限する反射抑制層
が配置している。前記反射抑制層は、該透明駆動基板の
外表面に直接形成された反射抑制膜からなる。その屈折
率は透明駆動基板の屈折率よりも小さい。前記反射抑制
膜は、可視光波長領域に渡って反射を抑制する為厚みを
制御した三層の膜を重ねた多層構造を採用している。前
記反射抑制膜は透明有機膜からなる。透明有機膜は浸漬
により形成された塗布膜からなり透明駆動基板及び透明
対向基板からなる積層構造全体を被覆し、その保護膜と
して機能する。この場合前記塗布膜は透明駆動基板の外
表面に沿って一部切り欠かれており搬送の便に供してい
る。又、前記塗布膜は該透明駆動基板に取り付けた外部
接続用のフレキシブルケーブルの少なくとも取付け部を
被覆している。

【０００７】前記反射抑制層は透明駆動基板の外表面に
直接形成する代わりに、透明駆動基板の外表面に貼着さ
れた偏光板の表面に形成された反射抑制膜としても良
い。反射抑制膜の形成される偏光板は場合によってプリ
ポラライザであっても良い。

【０００８】

【作用】本発明によれば、出射側に位置する透明駆動基
板の外表面側に反射抑制層を設け、透明駆動基板内で発
生する入射光の戻り反射を防ぐ様にしている。これによ
り、薄膜トランジスタの光リーク電流を抑制でき、プロ
ジェクタ用アクティブマトリクス液晶表示パネルのクロ
ストークやコントラスト低下を防止している。反射抑制
層の屈折率をＤ１とし、透明駆動基板の屈折率をＤ２と
し、空気の屈折率をＤ３とすると、（Ｄ１）² ＝Ｄ２×
Ｄ３の関係を持つ時無反射状態に近い条件が得られる。
又反射抑制層の厚みｄは、Ｄ１×ｄ＝（λ／４）×ｎの
関係を満たす時無反射状態に近い条件が得られる。但し
λは入射光波長であり、ｎは奇数を表わし通常１に設定
される。

【０００９】

【実施例】以下図面を参照して本発明の好適な実施例を
詳細に説明する。図１は本発明にかかるプロジェクタ用
アクティブマトリクス液晶表示パネルの第１実施例を示
す模式的な部分断面図である。本液晶表示パネルは透過
型であり、入射側の透明対向基板１と、出射側の透明駆
動基板２と、両基板の間に保持された液晶３とからなる
積層構造を有する。透明駆動基板２の内表面には透明画
素電極４と、入射光に対し遮光されたスイッチング素子
５とが集積的に形成されている。本例ではスイッチング
素子５は薄膜トランジスタからなり、ポリシリコン等の
半導体薄膜６を素子領域として用いている。半導体薄膜
６の上にはゲート絶縁膜７を介してゲート電極Ｇがパタ
ニング形成されている。ゲート電極Ｇの直下にはチャネ
ル領域Ｃｈが設けられ、その両側にはドレイン領域Ｄと
ソース領域Ｓが設けられる。かかる構成を有する薄膜ト
ランジスタは第１層間絶縁膜８により被覆されている。
第１層間絶縁膜８の上には金属アルミニウム等からなる
配線電極９がパタニング形成されており、薄膜トランジ
スタのソース領域Ｓと電気接続している。この配線電極
９はシールド膜も兼ねており、薄膜トランジスタの素子
領域を入射光から遮閉している。配線電極９の表面は第
２層間絶縁膜１０により被覆されている。前述した透明
画素電極４は第２層間絶縁膜１０の上に形成されてお
り、コンタクトホールを介して薄膜トランジスタのドレ
イン領域Ｄに電気接続している。透明画素電極４の表面
は配向膜１１により被覆されている。

【００１０】一方透明対向基板１の内表面にはブラック
マスク１２が形成されており、透明画素電極４と整合す
る開口１３を有している。ブラックマスク１２は金属材
料からなる。その上には絶縁膜１５を介して対向電極１
４が全面的に形成されている。場合によってはカラーフ
ィルタ膜が設けられておりカラー表示が可能になってい
る。対向電極１４は配向膜１１により被覆されている。

【００１１】本発明の特徴事項として透明駆動基板２の
外表面側には入射光１６の戻り反射を制限する反射抑制
層１７が配置している。本例では反射抑制層１７は、透
明駆動基板２の外表面に直接形成された反射抑制膜から
なり、その屈折率が透明駆動基板２の屈折率よりも小さ
い。なお同一の組成を有する反射抑制膜１８が、透明対
向基板１の外表面にも直接形成されている。反射抑制層
１７を設ける事により、入射光１６は殆ど無反射状態で
出射光１９となる。透明駆動基板２の外表面によって戻
り反射される成分２０は殆ど皆無であり、薄膜トランジ
スタの素子領域が背面から照明を受ける惧れはない。こ
れにより薄膜トランジスタの光リークが抑制でき、液晶
表示パネルのコントラスト低下やクロストークを防ぐ事
ができる。

【００１２】次に図２を参照して反射抑制膜の成膜方法
を説明する。本例では反射抑制膜は透明有機膜からな
る。この透明有機膜は浸漬により形成された塗布膜であ
る。図２は浸漬処理を行なう前の液晶表示パネルを表わ
しており、理解を容易にする為平面形状並びに側面形状
を同時に示している。液晶表示パネルは透明対向基板１
と透明駆動基板２をシール材２５により貼り合わせた積
層構造を有している。液晶表示パネルの中央部は表示領
域となり、これを囲む様にシール材２５が配設される。
又、透明駆動基板２の露出した端部には熱圧接部２１を
介して外部接続用のフレキシブルケーブル２２が取り付
けられている。このフレキシブルケーブル２２は浸漬処
理の際液晶表示パネルの搬送に用いる事ができる。

【００１３】一方浸漬用容器２３には液状の透明有機材
料２４が収容されている。この透明有機材料２４中に液
晶表示パネルの全体を浸漬する。所定時間経過後液晶表
示パネルを空気中に引き出し焼成処理を行なう。これに
より反射抑制膜となる有機材料の固体化を図る。

【００１４】図３は浸漬処理及び焼成処理の後における
液晶表示パネルの平面形状並びに側面形状を表わしてい
る。図示する様に透明駆動基板２及び透明対向基板１か
らなる積層構造全体が塗布膜により被覆されている。こ
の塗布膜は焼成処理により所望の硬度が得られ、機械的
なストレスに耐えられる様になる。塗布膜のうち透明駆
動基板２の外表面に成膜された部分が反射抑制層１７に
なる。同時に透明対向基板１の外表面にも反射抑制膜１
８が設けられる事になる。好ましくは、塗布膜は透明駆
動基板２の外表面に沿って一部切り欠かれている。後工
程における取り扱いでは、この切り欠き部を使って液晶
表示パネルの搬送を行なう。この為、透明駆動基板の外
表面に対して機械的な損傷を与える惧れは殆どない。

【００１５】上記の様にして成膜された塗布膜は同時に
保護膜及び補強膜としての機能を有する。液晶表示パネ
ルに接続されたフレキシブルケーブル２２は塗布膜によ
り熱圧接部分２１が覆われる事になる。これにより接続
箇所の機械的強度が向上し、且つ接続箇所からの水分の
侵入を防ぐ事もできる。結果的に液晶表示パネルの信頼
性の向上につながる。液晶表示パネルの端面においても
塗布膜が薄い層を形成しておりシール部の防水性を確保
する事ができる。なお浸漬処理により成膜可能な透明有
機材料としては、例えば日本合成ゴムの製品であるＪＳ
Ｓを用いる事ができる。これはアクリル系の有機材料で
ある。同じく日本合成ゴムの製品であるＨＲＣを用いる
事ができる。これは感光性を有するアクリル系の有機材
料である。感光性を有する場合には焼成処理に代えて露
光処理により塗布膜の硬化が可能になる。さらには東ソ
ーの製品であるＳ００１，Ｓ０１０を用いる事もでき
る。これらは感光性を有するスチレン系の有機材料であ
る。

【００１６】図４を参照して反射抑制層の他の成膜方法
を説明する。本例では、薄膜トランジスタや透明画素電
極を集積的に形成した後、透明駆動基板の裏面側に真空
蒸着法により透明無機膜からなる反射抑制層を形成して
いる。なお、本例では、多数個どりを行なう為、透明駆
動基板は大判のウエハ３１を用いている。このウエハ３
１は固定治具３２により支持された状態で、裏面側に透
明無機膜が真空蒸着される。しかしながらウエハ３１を
取り外す際裏面側にきず３６が発生する惧れがある。こ
れに対して前述した浸漬法により透明有機膜を形成する
場合にはきずが発生する惧れが少ない。

【００１７】図５はウエハ３１の搬送状態を表わす模式
図である。一般にウエハ３１は搬送ローラ３３により搬
送される。この時反射抑制膜が形成されたウエハ３１の
裏面に搬送ローラが当接する為きず３４が発生する惧れ
がある。これに対して前述した浸漬法ではフレキシブル
ケーブルを接続した後反射抑制膜を形成している。従っ
て後工程ではフレキシブルケーブルを搬送用に用いる事
ができ、きず発生の惧れが少ない。

【００１８】図６はウエハ３１を個々の透明駆動基板に
分離する切断工程を表わしている。基板切断時に治具の
バリや基板の破片が発生しきず３５の原因となる。これ
に対し前述した浸漬法では、液晶表示パネルを組み立て
た後反射抑制層を形成するのできずが発生する惧れが少
ない。

【００１９】図７は入射光波長と反射率との関係を示す
グラフである。なお、反射率は透明駆動基板の裏面から
戻り反射される光量を出射光に対する比率で表わしたも
のである。即ち、反射率が０％の時は入射光は完全に無
反射の状態で出射光となる。透明駆動基板の裏面に透明
有機膜からなる反射抑制膜を形成した場合には、カーブ
Ａに示す様に戻り光反射率は可視光波長領域（４００nm
〜７００nm）に渡って０．５％程度であり、戻り反射は
略完全に抑制されている事がわかる。なお本例では透明
有機膜として日本合成ゴムの製品であるＪＳＳ−４５１
を用いた。この有機材料の屈折率は１．３であり、反射
抑制膜の膜厚は１０６nmに設定した。一方何ら反射抑制
層を設けない場合にはカーブＢで示す様に可視光波長領
域に渡って反射率が３．５％程度である。液晶プロジェ
クタの場合には強い入射光が用いられるので、３．５％
程度の戻り反射であっても画像品位に影響を与える薄膜
トランジスタの光リーク電流が発生する。又カーブＣは
ＳｉＮを透明駆動基板の裏面に直接成膜した場合におけ
る戻り反射率を示している。なおＳｉＮの屈折率は２．
０程度であり膜厚は７０nmに設定した。この場合には戻
り反射率は２０％程度に達し何ら反射抑制効果が得られ
ない。以上の説明から理解される様に、透明駆動基板の
屈折率（例えば石英ガラスを用いた場合１．５程度）よ
りも低い屈折率を有する透明材料を用いて反射抑制膜を
形成すれば良い。グラフに示した例では屈折率が１．３
程度の透明有機膜ＪＳＳを用いる事により、従来に比し
７分の１程度に戻り光反射率が減少し、これに対応して
薄膜トランジスタの光リーク電流も減少する。

【００２０】図８は反射抑制層１７の他の例を示す模式
的な断面図である。本例では反射抑制層１７は多層構造
を有しており三層の透明有機膜１７１，１７２，１７３
を重ねた構成となっている。各透明有機膜１７１，１７
２，１７３の厚みを適切に設定する事により可視光波長
領域全体に渡って戻り反射光を均一に抑える事が可能に
なる。即ち単層構造を採用した場合には戻り反射率に膜
厚依存性が生じＤ１×ｄ＝（λ／４）×ｎの関係を満た
す条件で無反射状態に近くなる。膜厚ｄを一定に制御す
ると波長λも特定されてしまう。これに対して多層構造
を採用した場合には全可視光域で戻り反射を効果的に抑
える事が可能になる。例えば透明駆動基板２の屈折率を
Ｄ０とし、第１透明有機膜１７１の屈折率をＤ１とし、
第２透明有機膜１７２の屈折率をＤ２とし、第３透明有
機膜１７３の屈折率をＤ３とすると、以下の条件を満た
す時全可視光域で戻り反射を略抑える事が可能である。
例えばＤ０＞Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３で且つ、Ｄ１＜Ｄ２，Ｄ
２＞Ｄ３の条件を満たす様にすれば良い。もしくはＤ０
＞Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３で且つ、Ｄ１＞Ｄ２，Ｄ２＜Ｄ３の
関係でも良い。もしくはＤ０＞Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３で且
つ、Ｄ１＞Ｄ２＞Ｄ３の関係を満たす様にしても良い。
あるいはＤ０＞Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３で且つ、Ｄ１＜Ｄ２＜
Ｄ３の関係であっても良い。

【００２１】図９は本発明にかかるプロジェクタ用アク
ティブマトリクス液晶表示パネルの他の実施例を示す模
式的な部分断面図である。透明駆動基板５１と透明対向
基板５２は所定の間隙を介して互いに貼着されており、
該間隙内に液晶５３が封入充填されている。透明駆動基
板５１の内表面には画素電極５４と、これを駆動する薄
膜トランジスタ５５が集積的に形成されている。一方透
明対向基板５２の内表面にはブラックマスク５６と対向
電極５７が形成されている。入射光はブラックマスク５
６に設けられた開口を介して画素電極５４を通過し出射
側に進行する。

【００２２】本実施例では透明駆動基板５１の外表面
（裏面）に偏光板５８が貼着されている。この偏光板５
８の外表面に反射抑制膜５９が成膜されている。反射抑
制膜５９を設ける事により、強い光源光がブラックマス
ク５６の開口より入射し透明駆動基板５１の裏面にて反
射し薄膜トランジスタ５５に照射される光量を大幅に低
減可能とした。これにより光リーク電流に起因したコン
トラストの低下及びクロストークを抑制する事が可能に
なった。即ち薄膜トランジスタの光リーク電流を低減す
る事により液晶に印加される実効電圧が大きくなる為画
素選択時と非選択時におけるコントラスト比が向上す
る。又、他の非選択画素への画像信号の侵入による異常
表示が発生しなくなるのでクロストークが除かれる。通
常透明駆動基板５１と空気との界面にて約４％の裏面反
射が発生する。例えば３００万LUX の光源光が入射した
場合、約４％に相当する１２万LUX の光が透明駆動基板
と空気との界面で戻り反射し、その光が薄膜トランジス
タに回り込み光リークを発生していた。これに対し偏光
板５８の外表面に反射抑制膜５９を設ける事により、上
述した界面反射は約１０分の１の０．４％程度に抑えら
れ、光リークとしては殆ど問題のないレベルに低減化さ
れる。

【００２３】図１０は、図９に示した実施例の変形例を
示す模式的な部分断面図である。基本的には同一の構造
を有しており、理解を容易にする為対応する部分には対
応する参照番号を付してある。異なる点は、透明駆動基
板５１と偏光板５８との間にプリポラライザ６０が介在
している事である。本例ではこのプリポラライザ６０の
外表面に反射抑制膜５９が成膜されている。一般に液晶
プロジェクタでは強い光源光を用いる為液晶表示パネル
の温度が上昇する。通常の偏光板は７０℃程度の耐熱性
しかなく、透明駆動基板５１に直接貼着した場合には熱
変形の惧れがある。そこで本例では耐熱性に優れたプリ
ポラライザ６０を介在させその外表面に反射抑制膜５９
を形成している。なおプリポラライザ６０は低偏光度偏
光板であり、その外側に貼り付けられた偏光板５８は高
偏光度を有している。

【００２４】図９及び図１０に示した実施例において形
成された反射抑制膜の材料としては、例えば屈折率が
１．３８のフッ化マグネシウム、屈折率が１．４３のフ
ッ化カルシウム、屈折率が１．３５の低屈折率フッ素樹
脂等を用いる事ができる。フッ化マグネシウムやフッ化
カルシウム等の無機材料を用いる場合には、真空蒸着に
より偏光板表面に成膜する。低屈折率フッ素樹脂を用い
る場合にはスピナー等により偏光板表面にコーティング
する。膜厚は０．１μｍ〜１μｍ程度である。多層構造
とする事により反射抑制効果を高める事が可能である。

【００２５】

【発明の効果】以上説明した様に、本発明によれば、透
明駆動基板の裏面側における界面反射が大幅に低減化さ
れ薄膜トランジスタの光リーク発生を抑える事が可能に
なる。これにより光リークに起因したコントラストの低
下やクロストークが大幅に軽減される。又浸漬法を用い
て透明有機膜を液晶表示パネル全体に塗布する事により
反射抑制膜を形成でき、製造工程の短縮化及び取り扱い
の簡素化が可能になるという効果がある。液晶表示パネ
ル全体を有機材料で被覆する事により、接続部位の機械
的強度が向上するとともに、防水性も強化される為信頼
性の向上が図れるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかるプロジェクタ用アクティブマト
リクス液晶表示パネルの一実施例を示す部分断面図であ
る。

【図２】図１に示したプロジェクタ用アクティブマトリ
クス液晶表示パネルの反射抑制膜の形成方法を示す模式
図である。

【図３】同じく反射抑制膜の形成方法を示す説明図であ
る。

【図４】同じく反射抑制膜の他の形成方法を示す説明図
である。

【図５】反射抑制膜が形成されたウエハの搬送状態を示
す説明図である。

【図６】同じく反射抑制膜が形成されたウエハの切断工
程を示す模式図である。

【図７】反射抑制膜の入射光波長に対する特性を示すグ
ラフである。

【図８】反射抑制膜の多層構造を示す模式図である。

【図９】本発明にかかるプロジェクタ用アクティブマト
リクス液晶表示パネルの他の実施例を示す部分断面図で
ある。

【図１０】図９に示した実施例の変形を表わす部分断面
図である。

【図１１】アクティブマトリクス液晶表示パネルが組み
込まれたプロジェクタの一般的な構成を示す概念図であ
る。

【図１２】従来のプロジェクタ用アクティブマトリクス
液晶表示パネルの一例を示す部分断面図である。

【符号の説明】

１ 透明対向基板 ２ 透明駆動基板 ３ 液晶 ４ 透明画素電極 ５ スイッチング素子 ６ 半導体薄膜 ７ ゲート絶縁膜 ９ シールド膜 １２ ブラックマスク １３ 開口 １４ 対向電極 １６ 入射光 １７ 反射抑制層 １９ 出射光 ２０ 戻り反射光

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小林 三輝也 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソ ニー株式会社内 (56)参考文献 特開 平４−52623（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−616（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−209720（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−191122（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−261047（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G02F 1/1335 - 1/13357 G02F 1/13 505

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光源が位置する入射側と、投影光学系が
   位置する出射側との間に組み込まれるプロジェクタ用ア
   クティブマトリクス液晶表示パネルであって、 入射側の透明対向基板と、出射側の透明駆動基板と、両
   基板の間に保持された液晶とからなる積層構造を有し、 該透明駆動基板の内表面には透明画素電極と、入射光に
   対し遮光されたスイッチング素子とが集積的に形成され
   ており、 該透明駆動基板の外表面側には入射光の戻り反射を制限
   する反射抑制層が配置されており、 前記反射抑制層は、該透明駆動基板の外表面に直接形成
   された反射抑制膜からなり且つその屈折率が該透明駆動
   基板の屈折率よりも小さく、 前記反射抑制膜は厚みを制御した三層の膜を重ねた多層
   構造を有しており、可視光波長領域に渡って戻り反射を
   抑えるものであり、 前記反射抑制膜は透明有機膜からなり、 前記透明有機膜は浸漬により形成された塗布膜からな
   り、該透明駆動基板及び透明対向基板からなる積層構造
   全体を被覆してその保護膜として機能する 事を特徴とす
   るプロジェクタ用アクティブマトリクス液晶表示パネ
   ル。
2. 【請求項２】 前記塗布膜は該透明駆動基板の外表面に
   沿って一部切り欠かれている事を特徴とする請求項１記
   載のプロジェクタ用アクティブマトリクス液晶表示パネ
   ル。
3. 【請求項３】 前記反射抑制層は、該透明駆動基板の外
   表面に貼着された偏光板の表面に形成された反射抑制膜
   からなる事を特徴とする請求項１記載のプロジェクタ用
   アクティブマトリクス液晶表示パネル。
4. 【請求項４】 前記偏光板はプリポラライザである事を
   特徴とする請求項３記載のプロジェクタ用アクティブマ
   トリクス液晶表示パネル。
5. 【請求項５】 前記透明駆動基板には外部接続用のフレ
   キシブルケーブルが取り付けてあり、前記塗布膜は少な
   くとも該フレキシブルケーブルの取付け部を被覆してい
   る事を特徴とする請求項１記載のプロジェクタ用アクテ
   ィブマトリク ス液晶表示パネル。
6. 【請求項６】 光源が位置する入射側と、投影光学系が
   位置する出射側との間に組み込まれるプロジェクタ用ア
   クティブマトリクス液晶表示パネルであって、 入射側の透明対向基板と、出射側の透明駆動基板と、該
   透明駆動基板に取り付けられた外部接続用のフレキシブ
   ルケーブルと、両基板の間に保持された液晶とからなる
   積層構造を有し、 該透明駆動基板の内表面には透明画素電極と、入射光に
   対し遮光されたスイッチング素子とが集積的に形成され
   ており、 該透明駆動基板の外表面側には入射光の戻り反射を制限
   する反射抑制層が配置されており、 前記反射抑制層は、該透明駆動基板の外表面に直接形成
   された反射抑制膜からなり、 前記反射抑制膜は透明有機膜からなり、 前記透明有機膜は浸漬により形成された塗布膜からな
   り、該透明駆動基板及び透明対向基板からなる積層構造
   全体を被覆しているとともに、少なくとも該フレキシブ
   ルケーブルの取付け部を被覆している事を特徴とするプ
   ロジェクタ用アクティブマトリクス液晶表示パネル。
7. 【請求項７】 光源と、投影光学系と、液晶表示パネル
   とを有する液晶プロジェクタであって、 前記液晶表示パネルは、 入射側の透明対向基板と、出射側の透明駆動基板と、両
   基板の間に保持された液晶とからなる積層構造を有し、 該透明駆動基板の内表面には透明画素電極と、入射光に
   対し遮光されたスイッチング素子とが集積的に形成され
   ており、 該透明駆動基板の外表面側には入射光の戻り反射を制限
   する反射抑制層が配置されており、 前記反射抑制層は、該透明駆動基板の外表面に直接形成
   された反射抑制膜からなり且つその屈折率が該透明駆動
   基板の屈折率よりも小さく、 前記反射抑制膜は厚みを制御した三層の膜を重ねた多層
   構造を有しており、可視光波長領域に渡って戻り反射を
   抑えるものであり、 前記反射抑制膜は透明有機膜からなり、 前記透明有機膜は浸漬により形成された塗布膜からな
   り、該透明駆動基板及び透明対向基板からなる積層構造
   全体を被覆してその保護膜として機能する 事を特徴とす
   る液晶プロジェクタ。