JP3192998B2 - セラミドとスルホン酸のｕｖ遮蔽剤を含む組成物の使用 - Google Patents
セラミドとスルホン酸のｕｖ遮蔽剤を含む組成物の使用Info
- Publication number
- JP3192998B2 JP3192998B2 JP35145097A JP35145097A JP3192998B2 JP 3192998 B2 JP3192998 B2 JP 3192998B2 JP 35145097 A JP35145097 A JP 35145097A JP 35145097 A JP35145097 A JP 35145097A JP 3192998 B2 JP3192998 B2 JP 3192998B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- hydrogen atom
- formula
- branched
- sulfonic acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/68—Sphingolipids, e.g. ceramides, cerebrosides, gangliosides
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/46—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing sulfur
- A61K8/466—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing sulfur containing sulfonic acid derivatives; Salts
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/49—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds
- A61K8/494—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds with more than one nitrogen as the only hetero atom
- A61K8/4946—Imidazoles or their condensed derivatives, e.g. benzimidazoles
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/72—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic macromolecular compounds
- A61K8/84—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic macromolecular compounds obtained by reactions otherwise than those involving only carbon-carbon unsaturated bonds
- A61K8/89—Polysiloxanes
- A61K8/896—Polysiloxanes containing atoms other than silicon, carbon, oxygen and hydrogen, e.g. dimethicone copolyol phosphate
- A61K8/898—Polysiloxanes containing atoms other than silicon, carbon, oxygen and hydrogen, e.g. dimethicone copolyol phosphate containing nitrogen, e.g. amodimethicone, trimethyl silyl amodimethicone or dimethicone propyl PG-betaine
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q17/00—Barrier preparations; Preparations brought into direct contact with the skin for affording protection against external influences, e.g. sunlight, X-rays or other harmful rays, corrosive materials, bacteria or insect stings
- A61Q17/04—Topical preparations for affording protection against sunlight or other radiation; Topical sun tanning preparations
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Birds (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Dermatology (AREA)
- Biophysics (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Cosmetics (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、少なくとも１つの
スルホン酸基を含むＵＶ遮蔽剤を少なくとも１つ含む髪
用組成物中の、あるいはその製造における、セラミドタ
イプ化合物の使用に関する。この組成物は髪の保護を意
図したものである。
スルホン酸基を含むＵＶ遮蔽剤を少なくとも１つ含む髪
用組成物中の、あるいはその製造における、セラミドタ
イプ化合物の使用に関する。この組成物は髪の保護を意
図したものである。
【０００２】
【従来の技術】光、特に紫外線光が、髪の美容および／
または機械的特性を損なうことが長い間知られてきた。
髪は次第に色が鈍く、粗く、もろくなる。皮膚とは異な
り、髪は色が薄くなっていく。髪を、光や熱などの外的
破壊因子による質の低下から保護できる物質が、化粧品
業界で長い間探索されてきた。
または機械的特性を損なうことが長い間知られてきた。
髪は次第に色が鈍く、粗く、もろくなる。皮膚とは異な
り、髪は色が薄くなっていく。髪を、光や熱などの外的
破壊因子による質の低下から保護できる物質が、化粧品
業界で長い間探索されてきた。
【０００３】このような目的で、すでに、皮膚の光保護
のために用いられるサンスクリーンの使用が提案されて
きた。しかしながら、皮膚の構造と髪の構造は、非常に
異なり、出願人は、皮膚用組成物に用いられる遮蔽剤の
多くが、髪の保護には有効でないことを知見した。出願
人はすでに、髪の機械的特性を保護するために、スルホ
ン基を有するＵＶ遮蔽剤を使用することを、仏国特許第
２，６２７，０８５号で提案した。
のために用いられるサンスクリーンの使用が提案されて
きた。しかしながら、皮膚の構造と髪の構造は、非常に
異なり、出願人は、皮膚用組成物に用いられる遮蔽剤の
多くが、髪の保護には有効でないことを知見した。出願
人はすでに、髪の機械的特性を保護するために、スルホ
ン基を有するＵＶ遮蔽剤を使用することを、仏国特許第
２，６２７，０８５号で提案した。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の遮蔽剤は、濃度が濃い場合にのみ有効であるが、これ
らの濃度では、これらの遮蔽剤で処理された髪は、粗
く、帯電された感じとなる。さらに処理された髪は、非
常にときほぐしが困難である。
の遮蔽剤は、濃度が濃い場合にのみ有効であるが、これ
らの濃度では、これらの遮蔽剤で処理された髪は、粗
く、帯電された感じとなる。さらに処理された髪は、非
常にときほぐしが困難である。
【０００５】
【課題を解決するための手段】出願人は驚くべきこと
に、かつ予想外にも、スルホン基含有遮蔽剤を含む組成
物中のセラミドタイプ化合物との組み合わせが、髪に適
用される遮蔽剤の量を増加させ、これにより保護を増加
させることを見いだした。この適用量の増加は、柔軟性
またはときほぐし性の減少を導かない。対照的に、髪
は、非常に良好な柔軟性と、ときほぐし性を有する。本
発明の主題は、少なくとも１つのセラミドタイプ化合物
と、少なくとも１つのスルホン酸基を含むＵＶ遮蔽剤を
少なくとも１つ含む髪用組成物である。本発明の主題
は、少なくとも１つのスルホン酸基を含むＵＶ遮蔽剤を
少なくとも１つ含む髪用組成物中の、あるいはその製造
における、セラミドタイプ化合物の使用であり、この組
成物は髪の保護を意図したものである。本発明の主題
は、ＵＶ遮蔽剤の髪への適用および／または定着を増進
するための、少なくとも１つのスルホン酸基を含むＵＶ
遮蔽剤を含む髪化粧用組成物中のセラミドタイプ化合物
の使用である。
に、かつ予想外にも、スルホン基含有遮蔽剤を含む組成
物中のセラミドタイプ化合物との組み合わせが、髪に適
用される遮蔽剤の量を増加させ、これにより保護を増加
させることを見いだした。この適用量の増加は、柔軟性
またはときほぐし性の減少を導かない。対照的に、髪
は、非常に良好な柔軟性と、ときほぐし性を有する。本
発明の主題は、少なくとも１つのセラミドタイプ化合物
と、少なくとも１つのスルホン酸基を含むＵＶ遮蔽剤を
少なくとも１つ含む髪用組成物である。本発明の主題
は、少なくとも１つのスルホン酸基を含むＵＶ遮蔽剤を
少なくとも１つ含む髪用組成物中の、あるいはその製造
における、セラミドタイプ化合物の使用であり、この組
成物は髪の保護を意図したものである。本発明の主題
は、ＵＶ遮蔽剤の髪への適用および／または定着を増進
するための、少なくとも１つのスルホン酸基を含むＵＶ
遮蔽剤を含む髪化粧用組成物中のセラミドタイプ化合物
の使用である。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明によれば、髪使用（ヘアユ
ーズ）とは、髪の洗浄および／または処理のために、組
成物を髪へ適用することをさすと理解される。本発明に
よれば、少なくとも１つのスルホン酸基を含むＵＶ遮蔽
剤が、特に３−ベンジリデン−２−カンファーのスルホ
ン酸誘導体、および特に以下の式（Ｉ）（II）（III）
（IV）および（Ｖ）のいずれかであってもよい：
ーズ）とは、髪の洗浄および／または処理のために、組
成物を髪へ適用することをさすと理解される。本発明に
よれば、少なくとも１つのスルホン酸基を含むＵＶ遮蔽
剤が、特に３−ベンジリデン−２−カンファーのスルホ
ン酸誘導体、および特に以下の式（Ｉ）（II）（III）
（IV）および（Ｖ）のいずれかであってもよい：
【０００７】式（Ｉ）：
【化１１】
【０００８】式（Ｉ）中、 −Ｚは以下の式で表される基を表し
【化１２】
【０００９】−ｎは０または１と４の間の整数（０≦ｎ
≦４）、 −Ｒ1は１以上の同一または相違する、直線状あるいは
分岐した、約１から４までの炭素原子を有するアルキル
またはアルコキシ基を表す。 式（Ｉ）の化合物で特に好ましくは、ｎ＝０、すなわち
ベンゼン−１，４−［ジ（３−メチリデンカンファー−
１０−スルホン酸）］である。
≦４）、 −Ｒ1は１以上の同一または相違する、直線状あるいは
分岐した、約１から４までの炭素原子を有するアルキル
またはアルコキシ基を表す。 式（Ｉ）の化合物で特に好ましくは、ｎ＝０、すなわち
ベンゼン−１，４−［ジ（３−メチリデンカンファー−
１０−スルホン酸）］である。
【００１０】式（II）：
【化１３】
【００１１】式（II）中、 −Ｒ2は水素原子、ハロゲン原子、約１から４の炭素原
子を含むアルキル基、または−ＳＯ3Ｈ基を表し、 −Ｒ3とＲ4は、水素原子、または−ＳＯ3Ｈ基を表す
が、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4基のうちの少なくとも１つが−ＳＯ3
Ｈ基を表す。
子を含むアルキル基、または−ＳＯ3Ｈ基を表し、 −Ｒ3とＲ4は、水素原子、または−ＳＯ3Ｈ基を表す
が、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4基のうちの少なくとも１つが−ＳＯ3
Ｈ基を表す。
【００１２】式（II）の化合物を特に例示すれば： ・Ｒ2は、ベンジリデンカンファーのパラ位での−ＳＯ3
Ｈ基を表し、Ｒ3とＲ4は、各々、水素原子を表す、すな
わち４−（３−メチリデンカンファー）ベンゼンスルホ
ン酸、 ・Ｒ2とＲ4は各々水素原子を表し、Ｒ3が−ＳＯ3Ｈ基を
表す、すなわち３−ベンジリデンカンファー−１０−ス
ルホン酸、 ・Ｒ2は、ベンジリデンカンファーのパラ位でのメチル
基を表し、Ｒ4は−ＳＯ3Ｈ基を表し、Ｒ3は水素原子を
表す、すなわち２−メチル−５−（３−メチリデンカン
ファー）ベンゼンスルホン酸、 ・Ｒ2は、ベンジリデンカンファーのパラ位での塩素原
子を表し、Ｒ4は−ＳＯ3Ｈ基を表し、Ｒ3は水素原子を
表す、すなわち２−クロロ−５−（３−メチリデンカン
ファー）ベンゼンスルホン酸、 ・Ｒ2は、ベンジリデンカンファーのパラ位でのメチル
基を表し、Ｒ4は水素原子を表し、Ｒ3は−ＳＯ3Ｈ基を
表す、すなわち３−（４−メチル）ベンジリデンカンフ
ァー−１０−スルホン酸。
Ｈ基を表し、Ｒ3とＲ4は、各々、水素原子を表す、すな
わち４−（３−メチリデンカンファー）ベンゼンスルホ
ン酸、 ・Ｒ2とＲ4は各々水素原子を表し、Ｒ3が−ＳＯ3Ｈ基を
表す、すなわち３−ベンジリデンカンファー−１０−ス
ルホン酸、 ・Ｒ2は、ベンジリデンカンファーのパラ位でのメチル
基を表し、Ｒ4は−ＳＯ3Ｈ基を表し、Ｒ3は水素原子を
表す、すなわち２−メチル−５−（３−メチリデンカン
ファー）ベンゼンスルホン酸、 ・Ｒ2は、ベンジリデンカンファーのパラ位での塩素原
子を表し、Ｒ4は−ＳＯ3Ｈ基を表し、Ｒ3は水素原子を
表す、すなわち２−クロロ−５−（３−メチリデンカン
ファー）ベンゼンスルホン酸、 ・Ｒ2は、ベンジリデンカンファーのパラ位でのメチル
基を表し、Ｒ4は水素原子を表し、Ｒ3は−ＳＯ3Ｈ基を
表す、すなわち３−（４−メチル）ベンジリデンカンフ
ァー−１０−スルホン酸。
【００１３】式（III）：
【化１４】
【００１４】式（III）中、Ｒ5とＲ7は、水素原子、ヒ
ドロキシル基、直線状あるいは分岐した、約１から８ま
での炭素原子を含むアルキル基、またはアルコキシ基を
表すが、Ｒ5とＲ7のうちの少なくとも１つがヒドロキシ
ル、アルキル、またはアルコキシ基を表し、Ｒ6とＲ
8は、水素原子またはヒドロキシル基を表すが、Ｒ6とＲ
8の少なくとも１つがヒドロキシル基を表す。
ドロキシル基、直線状あるいは分岐した、約１から８ま
での炭素原子を含むアルキル基、またはアルコキシ基を
表すが、Ｒ5とＲ7のうちの少なくとも１つがヒドロキシ
ル、アルキル、またはアルコキシ基を表し、Ｒ6とＲ
8は、水素原子またはヒドロキシル基を表すが、Ｒ6とＲ
8の少なくとも１つがヒドロキシル基を表す。
【００１５】式（III）の化合物を特に例示すれば、 ・Ｒ5がメチル基、Ｒ6が水素原子、Ｒ7がtert−ブチル
基およびＲ8がヒドロキシル基、すなわち（３−ｔ−ブ
チル−２−ヒドロキシ−５−メチル）ベンジリデンカン
ファー−１０−スルホン酸。 ・Ｒ5がメトキシ基、Ｒ6が水素原子、Ｒ7がtertーブチ
ル基およびＲ8がヒドロキシル基、すなわち（３−ｔ−
ブチル−２−ヒドロキシ−５−メトキシ）ベンジリデン
カンファー−１０−スルホン酸、 ・Ｒ5とＲ7が各々tert−ブチル基、Ｒ6がヒドロキシル
基およびＲ8が水素原子、すなわち（３，５−ジ−tert
−ブチル−４−ヒドロキシ）ベンジリデンカンファー−
１０−スルホン酸。
基およびＲ8がヒドロキシル基、すなわち（３−ｔ−ブ
チル−２−ヒドロキシ−５−メチル）ベンジリデンカン
ファー−１０−スルホン酸。 ・Ｒ5がメトキシ基、Ｒ6が水素原子、Ｒ7がtertーブチ
ル基およびＲ8がヒドロキシル基、すなわち（３−ｔ−
ブチル−２−ヒドロキシ−５−メトキシ）ベンジリデン
カンファー−１０−スルホン酸、 ・Ｒ5とＲ7が各々tert−ブチル基、Ｒ6がヒドロキシル
基およびＲ8が水素原子、すなわち（３，５−ジ−tert
−ブチル−４−ヒドロキシ）ベンジリデンカンファー−
１０−スルホン酸。
【００１６】式（IV）：
【化１５】
【００１７】式(IV)中、 −Ｒ9は、水素原子、直線状あるいは分岐した、約１か
ら１８までの炭素原子を含むアルキル基、直線状あるい
は分岐した、約３から１８までの炭素原子を含むアルケ
ニル基、以下のものから選ばれる基： ただしｎは１と６の間の整数（１≦ｎ≦６）で、ｍは１
と１０の間の整数（１≦ｍ≦１０）を表し −Ｒ10は、水素原子、約１から４までの炭素原子を含む
アルコキシ基、またはＲ9が２価のときＲ9基と−Ｏ−連
結された２価の基を表し、 −ｑは１または２に等しい整数で、もしｑが２に等しい
と、Ｒ9は２価の基でなければならないと理解され、 −ＹとＹ’は水素原子またはＳＯ3Ｈ基を表すが、Ｙと
Ｙ’のうちの少なくとも一方は水素ではない。
ら１８までの炭素原子を含むアルキル基、直線状あるい
は分岐した、約３から１８までの炭素原子を含むアルケ
ニル基、以下のものから選ばれる基： ただしｎは１と６の間の整数（１≦ｎ≦６）で、ｍは１
と１０の間の整数（１≦ｍ≦１０）を表し −Ｒ10は、水素原子、約１から４までの炭素原子を含む
アルコキシ基、またはＲ9が２価のときＲ9基と−Ｏ−連
結された２価の基を表し、 −ｑは１または２に等しい整数で、もしｑが２に等しい
と、Ｒ9は２価の基でなければならないと理解され、 −ＹとＹ’は水素原子またはＳＯ3Ｈ基を表すが、Ｙと
Ｙ’のうちの少なくとも一方は水素ではない。
【００１８】式（IV）の化合物を特に例示すれば、 −ｑが１に等しく、ＹとＲ10が各々水素原子、Ｒ9がメ
チル基、および３位のＹ’が−ＳＯ3Ｈ基、すなわち２
−メトキシ−５−（３−メチリデンカンファー）ベンゼ
ンスルホン酸、 −ｑが１に等しく、Ｙが−ＳＯ3Ｈ基、Ｙ’が水素原
子、Ｒ10が、メチレン基表すＲ9基と−Ｏ−連結された
２価の基を表し、すなわち３−（４，５−メチレンジオ
キシ）ベンジリデンカンファー−１０−スルホン酸、 −ｑが１に等しく、Ｙが−ＳＯ3Ｈ基、Ｙ’とＲ10が共
に水素原子を表し、Ｒ9がメチル基を表し、すなわち３
−（４−メトキシ）ベンジリデンカンファー−１０−ス
ルホン酸、 −ｑが１に等しく、Ｙが−ＳＯ3Ｈ基を表し、Ｙ’が水
素原子を表し、Ｒ9がメチル基を表し、Ｒ10がメトキシ
基を表し、すなわち３−（４，５−ジメトキシ）ベンジ
リデンカンファー−１０−スルホン酸、 −ｑが１に等しく、Ｙが−ＳＯ3Ｈ基を表し、Ｙ’とＲ
10が共に水素原子を表し、Ｒ9がｎ−ブチル基を表し、
すなわち３−（４−ｎ−ブトキシ）ベンジリデンカンフ
ァー−１０−スルホン酸、 −ｑが１に等しく、Ｙが−ＳＯ3Ｈ基を表し、Ｙ’が水
素原子を表し、Ｒ9がｎ−ブチル基を表し、Ｒ10がメト
キシ基を表し、すなわち３−（４−ｎ−ブトキシ−５−
メトキシ）ベンジリデンカンファー−１０−スルホン
酸。
チル基、および３位のＹ’が−ＳＯ3Ｈ基、すなわち２
−メトキシ−５−（３−メチリデンカンファー）ベンゼ
ンスルホン酸、 −ｑが１に等しく、Ｙが−ＳＯ3Ｈ基、Ｙ’が水素原
子、Ｒ10が、メチレン基表すＲ9基と−Ｏ−連結された
２価の基を表し、すなわち３−（４，５−メチレンジオ
キシ）ベンジリデンカンファー−１０−スルホン酸、 −ｑが１に等しく、Ｙが−ＳＯ3Ｈ基、Ｙ’とＲ10が共
に水素原子を表し、Ｒ9がメチル基を表し、すなわち３
−（４−メトキシ）ベンジリデンカンファー−１０−ス
ルホン酸、 −ｑが１に等しく、Ｙが−ＳＯ3Ｈ基を表し、Ｙ’が水
素原子を表し、Ｒ9がメチル基を表し、Ｒ10がメトキシ
基を表し、すなわち３−（４，５−ジメトキシ）ベンジ
リデンカンファー−１０−スルホン酸、 −ｑが１に等しく、Ｙが−ＳＯ3Ｈ基を表し、Ｙ’とＲ
10が共に水素原子を表し、Ｒ9がｎ−ブチル基を表し、
すなわち３−（４−ｎ−ブトキシ）ベンジリデンカンフ
ァー−１０−スルホン酸、 −ｑが１に等しく、Ｙが−ＳＯ3Ｈ基を表し、Ｙ’が水
素原子を表し、Ｒ9がｎ−ブチル基を表し、Ｒ10がメト
キシ基を表し、すなわち３−（４−ｎ−ブトキシ−５−
メトキシ）ベンジリデンカンファー−１０−スルホン
酸。
【００１９】式（Ｖ）：
【化１６】
【００２０】式（Ｖ）中、 −Ｒ11は、水素原子、直線状あるいは分岐した、約１か
ら６までの炭素原子を含むアルキル基またはアルコキシ
基、または−ＳＯ3Ｈ基を表し、 −Ｒ12は、水素原子、直線状あるいは分岐した、約１か
ら６までの炭素原子を含むアルキル基またはアルコキシ
基を表し、 −Ｒ13は、水素原子または−ＳＯ3Ｈ基を表し、 −Ｒ11とＲ13のうちの少なくとも一方が−ＳＯ3Ｈ基を
表し、 −Ｘは、酸素または硫黄原子または−ＮＲ−基で、Ｒが
水素原子、直線状あるいは分岐した、約１から６までの
炭素原子を含むアルキル基を表す。
ら６までの炭素原子を含むアルキル基またはアルコキシ
基、または−ＳＯ3Ｈ基を表し、 −Ｒ12は、水素原子、直線状あるいは分岐した、約１か
ら６までの炭素原子を含むアルキル基またはアルコキシ
基を表し、 −Ｒ13は、水素原子または−ＳＯ3Ｈ基を表し、 −Ｒ11とＲ13のうちの少なくとも一方が−ＳＯ3Ｈ基を
表し、 −Ｘは、酸素または硫黄原子または−ＮＲ−基で、Ｒが
水素原子、直線状あるいは分岐した、約１から６までの
炭素原子を含むアルキル基を表す。
【００２１】式（Ｖ）の化合物を例示すれば、Ｘが−Ｎ
Ｈ−基、Ｒ11が−ＳＯ3Ｈ基およびＲ12とＲ13が共に水
素原子、すなわち２−［４−（カンファーメチリデン）
フェニル］ベンジミダゾール−５−スルホン酸。
Ｈ−基、Ｒ11が−ＳＯ3Ｈ基およびＲ12とＲ13が共に水
素原子、すなわち２−［４−（カンファーメチリデン）
フェニル］ベンジミダゾール−５−スルホン酸。
【００２２】上記式（Ｉ）（II）（III）（IV）および
（Ｖ）の化合物は、各々米国特許４，５８５，５９７号
および仏国特許出願２，２３６，５１５、２，２８２，
４２６、２，６４５，１４８、２，４３０，９３８、
２，５９２，３８０号に記載されている。スルホン基を
含有する紫外線照射遮蔽剤は、下記式（VI）のベンゾフ
ェノンのスルホン酸誘導体でもよい。
（Ｖ）の化合物は、各々米国特許４，５８５，５９７号
および仏国特許出願２，２３６，５１５、２，２８２，
４２６、２，６４５，１４８、２，４３０，９３８、
２，５９２，３８０号に記載されている。スルホン基を
含有する紫外線照射遮蔽剤は、下記式（VI）のベンゾフ
ェノンのスルホン酸誘導体でもよい。
【００２３】
【化１７】 式（VI）中、 −Ｒ14は、水素原子、または、直線状あるいは分岐し
た、１から８までの炭素原子を含むアルコキシ基のいず
れかを表し、 −Ｒ15は、水素原子または、直線状あるいは分岐した、
１から８までの炭素原子を含むアルキル基のいずれかを
表し、 −Ｒ16は、水素原子またはＳＯ3Ｈ基を表し、 −Ｒ17は、水素原子またはヒドロキシル基を表す。 式（VI）の化合物を例示すれば、２−ヒドロキシ−４−
メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸であり、ａ，
ｂおよびｃがゼロに等しく、Ｒ15はメチル基を表す。ス
ルホン基を含有する遮蔽剤が、下記式（VII）の化合物
のスルホン酸誘導体であってもよい。
た、１から８までの炭素原子を含むアルコキシ基のいず
れかを表し、 −Ｒ15は、水素原子または、直線状あるいは分岐した、
１から８までの炭素原子を含むアルキル基のいずれかを
表し、 −Ｒ16は、水素原子またはＳＯ3Ｈ基を表し、 −Ｒ17は、水素原子またはヒドロキシル基を表す。 式（VI）の化合物を例示すれば、２−ヒドロキシ−４−
メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸であり、ａ，
ｂおよびｃがゼロに等しく、Ｒ15はメチル基を表す。ス
ルホン基を含有する遮蔽剤が、下記式（VII）の化合物
のスルホン酸誘導体であってもよい。
【００２４】
【化１８】
【００２５】式（VII）中、 −Ｘは、酸素原子または−ＮＨ−基を表し、 −Ｒ18は、水素原子または、直線状あるいは分岐した、
１から８までの炭素原子を含むアルキル基またはアルコ
キシ基、または式（VIII）の化合物を表す。
１から８までの炭素原子を含むアルキル基またはアルコ
キシ基、または式（VIII）の化合物を表す。
【００２６】
【化１９】
【００２７】式（VIII）中、Ｘ’は、Ｘとは独立に、酸
素または−ＮＨ−基を表す。式（VII）の化合物を例示
すれば： −Ｘが−ＮＨ−基を表し、Ｒ18が水素原子を表し：２−
フェニルベンジミダゾール−５−スルホン酸、 −Ｘが−ＮＨ−基を表し、Ｒ18が式（VIII）の基を表
し、Ｘ’が−ＮＨ−基を表す：ベンゼン−１，４−ジ
（ベンジイミダゾール−２−イル−５−スルホン酸） −Ｘが酸素原子を表し、Ｒ18が式（VIII）の基を表し、
Ｘ’が酸素原子を表す：ベンゼン−１，４−ジ（ベンゾ
キサゾール−２−イル−５−スルホン酸）。 式（VI）と（VII）の化合物は、従来技術で述べた標準
的な方法で調製されることができる周知の化合物であ
る。
素または−ＮＨ−基を表す。式（VII）の化合物を例示
すれば： −Ｘが−ＮＨ−基を表し、Ｒ18が水素原子を表し：２−
フェニルベンジミダゾール−５−スルホン酸、 −Ｘが−ＮＨ−基を表し、Ｒ18が式（VIII）の基を表
し、Ｘ’が−ＮＨ−基を表す：ベンゼン−１，４−ジ
（ベンジイミダゾール−２−イル−５−スルホン酸） −Ｘが酸素原子を表し、Ｒ18が式（VIII）の基を表し、
Ｘ’が酸素原子を表す：ベンゼン−１，４−ジ（ベンゾ
キサゾール−２−イル−５−スルホン酸）。 式（VI）と（VII）の化合物は、従来技術で述べた標準
的な方法で調製されることができる周知の化合物であ
る。
【００２８】本発明で好ましい遮蔽化粧用組成物の例
は、酸性、親水性ＵＶ遮蔽剤である： −ｎ＝０の式（Ｉ）の３−ベニリデン−２−カンファー
のスルホン酸誘導体（１，４−（ジ（３−メチリデンカ
ンファー−１０−スルホン酸）） −式（IV）のベンゾフェノンのスルホン酸誘導体で、
ａ，ｂおよびｃが０に等しく、Ｒ15はメチル基を表す
（２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−
スルホン酸、特に、ＢＡＳＦによりＵｖｉｎｕｌ ＭＳ
４０の名で市販されている）。 −式（VII）のベンジミダゾールのスルホン酸誘導体
で、Ｘが−ＮＨ−基を表し、Ｒ16が水素原子を表す。
（２−フェニルベンジミダゾール−５−スルホン酸、特
に、メルクによりＥｕｓｏｌｅｘ２３２の名で市販され
ている）。
は、酸性、親水性ＵＶ遮蔽剤である： −ｎ＝０の式（Ｉ）の３−ベニリデン−２−カンファー
のスルホン酸誘導体（１，４−（ジ（３−メチリデンカ
ンファー−１０−スルホン酸）） −式（IV）のベンゾフェノンのスルホン酸誘導体で、
ａ，ｂおよびｃが０に等しく、Ｒ15はメチル基を表す
（２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−
スルホン酸、特に、ＢＡＳＦによりＵｖｉｎｕｌ ＭＳ
４０の名で市販されている）。 −式（VII）のベンジミダゾールのスルホン酸誘導体
で、Ｘが−ＮＨ−基を表し、Ｒ16が水素原子を表す。
（２−フェニルベンジミダゾール−５−スルホン酸、特
に、メルクによりＥｕｓｏｌｅｘ２３２の名で市販され
ている）。
【００２９】少なくとも１つのスルホン酸基を含む親水
性ＵＶ遮蔽剤は、通常、本発明の組成物中に、組成物全
重量に対し、約０．０５〜１０重量％、好ましくは約
０．２５〜６重量％含まれる。
性ＵＶ遮蔽剤は、通常、本発明の組成物中に、組成物全
重量に対し、約０．０５〜１０重量％、好ましくは約
０．２５〜６重量％含まれる。
【００３０】本発明において、セラミドタイプ化合物と
は、セラミドおよび／またはグリコセラミドおよび／ま
たはシュードセラミドおよび／またはネオセラミドをさ
し、天然のものあるいは合成されたものをさすと理解さ
れる。セラミドタイプ化合物については、例えば、特許
出願DE4,424,530, DE4,424,533, DE4,402,929, DE4,42
0,736, WO95/23807, WO94/07844 EP-A-0646572, WO95/1
6665, FR-2,673,179, EP-A-0227994およびＷＯ９４／０
７８４４，ＷＯ９４／２４０９７， ＷＯ９４／１０１
３１に記載されており、これらの記載は、ここに参照と
して取り込まれるものとする。本発明において用いられ
るセラミドタイプ化合物は、好ましくは下記一般式（Ｉ
Ｘ）で表されるものである：
は、セラミドおよび／またはグリコセラミドおよび／ま
たはシュードセラミドおよび／またはネオセラミドをさ
し、天然のものあるいは合成されたものをさすと理解さ
れる。セラミドタイプ化合物については、例えば、特許
出願DE4,424,530, DE4,424,533, DE4,402,929, DE4,42
0,736, WO95/23807, WO94/07844 EP-A-0646572, WO95/1
6665, FR-2,673,179, EP-A-0227994およびＷＯ９４／０
７８４４，ＷＯ９４／２４０９７， ＷＯ９４／１０１
３１に記載されており、これらの記載は、ここに参照と
して取り込まれるものとする。本発明において用いられ
るセラミドタイプ化合物は、好ましくは下記一般式（Ｉ
Ｘ）で表されるものである：
【００３１】
【化２０】
【００３２】式（IX）中、 −Ｒ1は以下のものを表す： −直線状あるいは分岐した、飽和あるいは不飽和のＣ1
−Ｃ50、好ましくはＣ5−Ｃ50、炭化水素基で、この基
は、１またはそれ以上のヒドロキシル基で置換されるこ
とが可能であり、任意にＲ7ＣＯＯＨ酸でエステル化さ
れることが可能であり、Ｒ7は飽和または不飽和、直線
状または分岐した、任意にモノ−、またはポリヒドロキ
シル化されたＣ1−Ｃ35炭化水素基で、このＲ7基のヒド
ロキシルは、飽和または不飽和の、直線状または分岐し
た、任意にモノ−あるいはポリヒドロキシル化されたＣ
1−Ｃ35脂肪酸でエステル化されることが可能であるも
の； −またはＲ”−（ＮＲ−ＣＯ）−Ｒ’基、Ｒは、水素原
子あるいはモノ−またはポリヒドロキシル化された、好
ましくはモノヒドロキシル化されたＣ1−Ｃ20炭化水素
基、Ｒ’とＲ”は、炭素原子の合計が９〜３０、Ｒ’が
２価の基である、炭化水素基を表す； −またはＲ8−Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ2）p基、Ｒ8はＣ1−Ｃ
20炭化水素基を表し、ｐは１から１２までの整数であ
る； −Ｒ2は、水素原子、サッカライドタイプの基、特に
（グリコシル）n、（ガラクトシル）mまたはスルホガラ
クトシル基、サルフェートまたはホスフェート残基、ホ
スホリルエチルアミン基およびホスホリルエチルアンモ
ニウム基で、ｎは１から４までの整数、ｍは１から８ま
での整数、から選ばれ； −Ｒ3は、水素原子、または、飽和あるいは不飽和、ヒ
ドロキシル化されあるいは非ヒドロキシル化のＣ1−Ｃ
33炭化水素基で、このヒドロキシルは、無機酸またはＲ
7ＣＯＯＨ酸でエステル化されることが可能であり、Ｒ7
は上記と同じ意味を有し、このヒドロキシルは、（グリ
コシル）n、（ガラクトシル）m、スルホガラクトシル、
ホスホリルエチルアミンまたはホスホリルエチルアンモ
ニウム基でエステル化されることが可能であり、Ｒ3も
また、１つまたはそれ以上のＣ1−Ｃ14アルキル基で置
換されることが可能であるものを表し；好ましくは、Ｒ
3はＣ15−Ｃ26のαヒドロキシアルキル基で、ヒドロキ
シル基は任意にＣ16−Ｃ30のαヒドロキシ酸でエステル
化され； −Ｒ4は、水素原子、メチルまたはエチル基、飽和また
は不飽和の、直線状または分岐した、任意にヒドロキシ
ル化されたＣ3−Ｃ50炭化水素基または−ＣＨ2−ＣＨＯ
Ｈ−ＣＨ2−Ｏ−Ｒ6基、ここでＲ6はＣ10−Ｃ26炭化水
素基またはＲ8−Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ2）p、Ｒ8はＣ1−Ｃ
20炭化水素基でｐは１から１２の範囲の整数で、 −Ｒ5は、水素原子、または飽和または不飽和の、直線
状または分岐した、任意にモノ−またはポリヒドロキシ
ル化Ｃ1−Ｃ30炭化水素基で、このヒドロキシルは、
（グリコシル）n、（ガラクトシル）m、スルホガラクト
シル、ホスホリルエチルアミンまたはホスホリルエチル
アンモニウム基でエステル化されることが可能であり、
ただしＲ3とＲ5が水素のとき、またはＲ3が水素でＲ5が
メチルのとき、Ｒ4は水素原子またはメチルまたはエチ
ル基ではない。
−Ｃ50、好ましくはＣ5−Ｃ50、炭化水素基で、この基
は、１またはそれ以上のヒドロキシル基で置換されるこ
とが可能であり、任意にＲ7ＣＯＯＨ酸でエステル化さ
れることが可能であり、Ｒ7は飽和または不飽和、直線
状または分岐した、任意にモノ−、またはポリヒドロキ
シル化されたＣ1−Ｃ35炭化水素基で、このＲ7基のヒド
ロキシルは、飽和または不飽和の、直線状または分岐し
た、任意にモノ−あるいはポリヒドロキシル化されたＣ
1−Ｃ35脂肪酸でエステル化されることが可能であるも
の； −またはＲ”−（ＮＲ−ＣＯ）−Ｒ’基、Ｒは、水素原
子あるいはモノ−またはポリヒドロキシル化された、好
ましくはモノヒドロキシル化されたＣ1−Ｃ20炭化水素
基、Ｒ’とＲ”は、炭素原子の合計が９〜３０、Ｒ’が
２価の基である、炭化水素基を表す； −またはＲ8−Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ2）p基、Ｒ8はＣ1−Ｃ
20炭化水素基を表し、ｐは１から１２までの整数であ
る； −Ｒ2は、水素原子、サッカライドタイプの基、特に
（グリコシル）n、（ガラクトシル）mまたはスルホガラ
クトシル基、サルフェートまたはホスフェート残基、ホ
スホリルエチルアミン基およびホスホリルエチルアンモ
ニウム基で、ｎは１から４までの整数、ｍは１から８ま
での整数、から選ばれ； −Ｒ3は、水素原子、または、飽和あるいは不飽和、ヒ
ドロキシル化されあるいは非ヒドロキシル化のＣ1−Ｃ
33炭化水素基で、このヒドロキシルは、無機酸またはＲ
7ＣＯＯＨ酸でエステル化されることが可能であり、Ｒ7
は上記と同じ意味を有し、このヒドロキシルは、（グリ
コシル）n、（ガラクトシル）m、スルホガラクトシル、
ホスホリルエチルアミンまたはホスホリルエチルアンモ
ニウム基でエステル化されることが可能であり、Ｒ3も
また、１つまたはそれ以上のＣ1−Ｃ14アルキル基で置
換されることが可能であるものを表し；好ましくは、Ｒ
3はＣ15−Ｃ26のαヒドロキシアルキル基で、ヒドロキ
シル基は任意にＣ16−Ｃ30のαヒドロキシ酸でエステル
化され； −Ｒ4は、水素原子、メチルまたはエチル基、飽和また
は不飽和の、直線状または分岐した、任意にヒドロキシ
ル化されたＣ3−Ｃ50炭化水素基または−ＣＨ2−ＣＨＯ
Ｈ−ＣＨ2−Ｏ−Ｒ6基、ここでＲ6はＣ10−Ｃ26炭化水
素基またはＲ8−Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ2）p、Ｒ8はＣ1−Ｃ
20炭化水素基でｐは１から１２の範囲の整数で、 −Ｒ5は、水素原子、または飽和または不飽和の、直線
状または分岐した、任意にモノ−またはポリヒドロキシ
ル化Ｃ1−Ｃ30炭化水素基で、このヒドロキシルは、
（グリコシル）n、（ガラクトシル）m、スルホガラクト
シル、ホスホリルエチルアミンまたはホスホリルエチル
アンモニウム基でエステル化されることが可能であり、
ただしＲ3とＲ5が水素のとき、またはＲ3が水素でＲ5が
メチルのとき、Ｒ4は水素原子またはメチルまたはエチ
ル基ではない。
【００３３】式（Ｉ）の化合物の中で、その構造がJour
nal of Lipid Research 35巻 2060-2068,1994中でDowni
ngにより、または仏国特許出願FR-2,673,179に記載され
ているセラミドおよび／またはグリコセラミドは、ここ
に参照として取り込まれるものとし、好ましく用いられ
るものである。本発明においてセラミドタイプ化合物の
より好ましいものは、式（Ｉ）の化合物でＲ1が飽和ま
たは不飽和の、任意にヒドロキシル化された、Ｃ14−Ｃ
22脂肪酸由来のアルキルであり；Ｒ2は水素原子を表
し；およびＲ3は直線状の、任意にヒドロキシル化され
たＣ11-17、好ましくはＣ13-15基を表す。
nal of Lipid Research 35巻 2060-2068,1994中でDowni
ngにより、または仏国特許出願FR-2,673,179に記載され
ているセラミドおよび／またはグリコセラミドは、ここ
に参照として取り込まれるものとし、好ましく用いられ
るものである。本発明においてセラミドタイプ化合物の
より好ましいものは、式（Ｉ）の化合物でＲ1が飽和ま
たは不飽和の、任意にヒドロキシル化された、Ｃ14−Ｃ
22脂肪酸由来のアルキルであり；Ｒ2は水素原子を表
し；およびＲ3は直線状の、任意にヒドロキシル化され
たＣ11-17、好ましくはＣ13-15基を表す。
【００３４】そのような化合物としては、例えば、２−
Ｎ−リノレオイルアミノオクタデカン−１，３−ジオー
ル、２−Ｎ−オレオイルアミノオクタデカン−１，３−
ジオール、２−Ｎ−パルミトイルアミノオクタデカン−
１，３−ジオール、２−Ｎ−ステアロイルアミノオクタ
デカン−１，３−ジオール、２−Ｎ−ベヘノイル（）ア
ミノオクタデカン−１，３−ジオール、２−Ｎ−［２−
ヒドロキシパルミトイル］アミノオクタデカン−１，３
−ジオール、２−Ｎ−ステアロイルアミノオクタデカン
−１，３，４−ジオール、特にＮ−ステアロイルフィト
スフィンゴシン、２−Ｎ−パルミトイルアミノヘキサデ
カン−１，３−ジオール、およびこれらの化合物の混合
物である。
Ｎ−リノレオイルアミノオクタデカン−１，３−ジオー
ル、２−Ｎ−オレオイルアミノオクタデカン−１，３−
ジオール、２−Ｎ−パルミトイルアミノオクタデカン−
１，３−ジオール、２−Ｎ−ステアロイルアミノオクタ
デカン−１，３−ジオール、２−Ｎ−ベヘノイル（）ア
ミノオクタデカン−１，３−ジオール、２−Ｎ−［２−
ヒドロキシパルミトイル］アミノオクタデカン−１，３
−ジオール、２−Ｎ−ステアロイルアミノオクタデカン
−１，３，４−ジオール、特にＮ−ステアロイルフィト
スフィンゴシン、２−Ｎ−パルミトイルアミノヘキサデ
カン−１，３−ジオール、およびこれらの化合物の混合
物である。
【００３５】特定の混合物、例えば、ダウニング分類に
よるセラミド２とセラミド５の混合物を用いることもま
た可能である。Ｒ1が飽和または不飽和のＣ12−Ｃ22脂
肪酸由来のアルキル基；Ｒ2がガラクトシルまたはスル
ホガラクトシル基；Ｒ3が飽和または不飽和のＣ12−Ｃ
22炭化水素基、好ましくは−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ2）12
−ＣＨ3基である式（Ｉ）の化合物を用いることもまた
可能である。
よるセラミド２とセラミド５の混合物を用いることもま
た可能である。Ｒ1が飽和または不飽和のＣ12−Ｃ22脂
肪酸由来のアルキル基；Ｒ2がガラクトシルまたはスル
ホガラクトシル基；Ｒ3が飽和または不飽和のＣ12−Ｃ
22炭化水素基、好ましくは−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ2）12
−ＣＨ3基である式（Ｉ）の化合物を用いることもまた
可能である。
【００３６】グリコセラミドの混合物からなる製品の例
示として、商品名Ｇｌｙｃｏｃｅｒの名でワイタキ・イ
ンターナショナル・バイオサイエンス社より市販されて
いるものが挙げられる。特許出願EP-A-0,227,994 EP-A-
0,647,617, EP-A-0,736,522およびWO94/07844に記載さ
れた式（Ｉ）の化合物を使用することも又可能である。
そのような化合物としては、例えば、クエスト社より市
販されている、クエスタミドＨ（ビス−（Ｎ−ヒドロキ
シエチル−Ｎ−セチル）マロンアミドや、セチル酸Ｎ−
（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−（３−セチルオキシ−
２−ヒドロキシプロピル）アミドがある。
示として、商品名Ｇｌｙｃｏｃｅｒの名でワイタキ・イ
ンターナショナル・バイオサイエンス社より市販されて
いるものが挙げられる。特許出願EP-A-0,227,994 EP-A-
0,647,617, EP-A-0,736,522およびWO94/07844に記載さ
れた式（Ｉ）の化合物を使用することも又可能である。
そのような化合物としては、例えば、クエスト社より市
販されている、クエスタミドＨ（ビス−（Ｎ−ヒドロキ
シエチル−Ｎ−セチル）マロンアミドや、セチル酸Ｎ−
（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−（３−セチルオキシ−
２−ヒドロキシプロピル）アミドがある。
【００３７】特許出願WO94/24097に記載されたＮ−ドコ
サノイル−Ｎ−メチル−Ｄ−グルカミンもまた使用でき
る。セラミドタイプ化合物の濃度は、組成物全重量に対
し、約０．０００１〜２０重量％、好ましくは約０．０
０１〜１０重量％、より好ましくは０．００５〜３重量
％にわたることができる。
サノイル−Ｎ−メチル−Ｄ−グルカミンもまた使用でき
る。セラミドタイプ化合物の濃度は、組成物全重量に対
し、約０．０００１〜２０重量％、好ましくは約０．０
０１〜１０重量％、より好ましくは０．００５〜３重量
％にわたることができる。
【００３８】本発明の組成物は、シャンプー、ローショ
ン、ゲル、エマルジョン、非イオン性ビヒクル分散物、
または髪のつやだし（lacquer）の形態としてよく、シ
ャンプーの前または後に、染色または脱色の前または後
に、あるいは、髪のパーマネントウェーブまたはストレ
ート処理の前／その間／または後に適用されるリンス組
成物、スタイリングまたはトリートメントローションま
たはゲル、ブロー乾燥またはヘアセットローションまた
はゲル、または髪のパーマネントウェーブ、ストレート
化、脱色または染色組成物などを構成してもよい。これ
らの組成物は、通常のヘアケアの分野で用いられる添加
物を含み、当業者により通常の方法で調製されることが
できる。
ン、ゲル、エマルジョン、非イオン性ビヒクル分散物、
または髪のつやだし（lacquer）の形態としてよく、シ
ャンプーの前または後に、染色または脱色の前または後
に、あるいは、髪のパーマネントウェーブまたはストレ
ート処理の前／その間／または後に適用されるリンス組
成物、スタイリングまたはトリートメントローションま
たはゲル、ブロー乾燥またはヘアセットローションまた
はゲル、または髪のパーマネントウェーブ、ストレート
化、脱色または染色組成物などを構成してもよい。これ
らの組成物は、通常のヘアケアの分野で用いられる添加
物を含み、当業者により通常の方法で調製されることが
できる。
【００３９】さらに組成物は、脂質物質、有機溶剤、シ
リコン、増粘剤、柔軟剤、界面活性剤、アニオン性、カ
チオン性、非イオン性、または両性のポリマー、抗発泡
剤、ヘアコンディショナー、例えばタンパク質、ビタミ
ン、トリートメント剤（髪損失に対抗するための薬剤、
抗ふけ剤）、染料、香料、保存剤、および推進剤（prop
ellants）から選択される従来の化粧品添加物を含む。
本発明の別の主題は、上記化粧品組成物の有効量の髪へ
の適用からなるＵＶ光線効果に対する保護を意図する髪
の美容療法である。制限的ではなく、本発明を説明する
特定する実施例を挙げる。
リコン、増粘剤、柔軟剤、界面活性剤、アニオン性、カ
チオン性、非イオン性、または両性のポリマー、抗発泡
剤、ヘアコンディショナー、例えばタンパク質、ビタミ
ン、トリートメント剤（髪損失に対抗するための薬剤、
抗ふけ剤）、染料、香料、保存剤、および推進剤（prop
ellants）から選択される従来の化粧品添加物を含む。
本発明の別の主題は、上記化粧品組成物の有効量の髪へ
の適用からなるＵＶ光線効果に対する保護を意図する髪
の美容療法である。制限的ではなく、本発明を説明する
特定する実施例を挙げる。
【００４０】
［実施例１］以下の組成のシャンプーを調製した： −２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５− スルホン酸、Rhone Poulenc社により Rhodialux Sの名 で市販されているもの ０．５ｇＡＭ −２−Ｎ−オレオイルアミノオクタデカン−１，３−ジオール ０．５ｇ −２．２モルのエチレンオキサイドを含むスルホン酸ラウリル エステルナトリウム２８％ＡＭ含む水性溶液として、 １３．８ｇＡＭ −ココイルベタイン、３０％ＡＭ含む水性溶液として （ヘンケルよりDehyton AB 30） ２．５ｇＭＡ −水 合計で１００ｇとなる量 ｐＨは、水酸化ナトリウムで５に調整した。 このシャンプーは髪をＵＶ照射から保護し、この組成物
で洗った髪は、ときほぐしが容易である。
で洗った髪は、ときほぐしが容易である。
【００４１】［実施例２］以下の組成のリンス組成物を
調製した： −ベンゼン−１，４−［ジ（３−メチリデンカンファー −１０−スルホン酸）］ １ｇＡＭ −２−Ｎ−オレオイルアミノオクタデカン−１，３−ジオール １ｇ −ポリアクリルアミド（SeppicよりSepigel 305） ２ｇＡＭ −ジメチコノールとシクロメチコン（ダウコーニングよりQ2-1401） 混合物（重量で１３／８７） １０ｇ −保存料、香料 適量 −水 合計で１００ｇとなる量 ｐＨは、水酸化ナトリウムで５に調整した。
調製した： −ベンゼン−１，４−［ジ（３−メチリデンカンファー −１０−スルホン酸）］ １ｇＡＭ −２−Ｎ−オレオイルアミノオクタデカン−１，３−ジオール １ｇ −ポリアクリルアミド（SeppicよりSepigel 305） ２ｇＡＭ −ジメチコノールとシクロメチコン（ダウコーニングよりQ2-1401） 混合物（重量で１３／８７） １０ｇ −保存料、香料 適量 −水 合計で１００ｇとなる量 ｐＨは、水酸化ナトリウムで５に調整した。
【００４２】このコンディショナーは洗髪され、タオル
で乾燥された髪に適用される。髪をある期間放置した
後、髪は水でリンスされる。この組成物は髪をＵＶ照射
から保護し、この組成物で洗った髪は、柔軟でときほぐ
しが容易である。
で乾燥された髪に適用される。髪をある期間放置した
後、髪は水でリンスされる。この組成物は髪をＵＶ照射
から保護し、この組成物で洗った髪は、柔軟でときほぐ
しが容易である。
【００４３】［実施例３］以下の組成のローションＡを
調製した： −ベンゼン−１，４−［ジ（３−メチリデンカンファー −１０−スルホン酸）］、ＡＭ３３％を含む水性溶液として ０．５ｇＡＭ −２−Ｎ−オレオイルアミノオクタデカン−１，３−ジオール ０．５ｇ −ココイルベタイン、３０％ＡＭ含む水性溶液として （ヘンケルよりDehyton AB 30） ３ｇＡＭ −保存料、 適量 −水 合計で１００ｇとなる量 ｐＨは、水酸化ナトリウムで５に調整した。
調製した： −ベンゼン−１，４−［ジ（３−メチリデンカンファー −１０−スルホン酸）］、ＡＭ３３％を含む水性溶液として ０．５ｇＡＭ −２−Ｎ−オレオイルアミノオクタデカン−１，３−ジオール ０．５ｇ −ココイルベタイン、３０％ＡＭ含む水性溶液として （ヘンケルよりDehyton AB 30） ３ｇＡＭ −保存料、 適量 −水 合計で１００ｇとなる量 ｐＨは、水酸化ナトリウムで５に調整した。
【００４４】このローションは洗髪され、タオルで乾燥
された髪に適用される。髪をある期間放置した後、髪は
水でリンスされる。この組成物は髪をＵＶ照射から保護
し、この組成物で洗った髪は、柔軟でときほぐしが容易
である。
された髪に適用される。髪をある期間放置した後、髪は
水でリンスされる。この組成物は髪をＵＶ照射から保護
し、この組成物で洗った髪は、柔軟でときほぐしが容易
である。
【００４５】
【表１】
【００４６】組成物Ａ，Ｂ，およびＣを２．５ｇの髪の
束に適用した。１０分間放置後、水道水で洗浄した。１
０人のパネリストが濡れた髪のときほぐし性と柔軟性を
評価した。１０人のパネリストは、一致して、本発明の
組成物Ａで処理した髪の束を好んだ。組成物Ａで処理し
た髪は、組成物ＢまたはＣで処理した髪よりも、より容
易にときほぐしでき、柔軟であった。これら３つの組成
物で処理した髪に定着したＵＶ遮蔽剤の量も比較した。
束に適用した。１０分間放置後、水道水で洗浄した。１
０人のパネリストが濡れた髪のときほぐし性と柔軟性を
評価した。１０人のパネリストは、一致して、本発明の
組成物Ａで処理した髪の束を好んだ。組成物Ａで処理し
た髪は、組成物ＢまたはＣで処理した髪よりも、より容
易にときほぐしでき、柔軟であった。これら３つの組成
物で処理した髪に定着したＵＶ遮蔽剤の量も比較した。
【００４７】
【表２】
【００４８】本発明の組成物Ａが適用されたとき定着量
は、同じ濃度のＵＶ遮蔽剤を含みセラミドタイプ化合物
を含まない組成物Ｂを適用したときの定着量の２倍であ
ることがわかる。
は、同じ濃度のＵＶ遮蔽剤を含みセラミドタイプ化合物
を含まない組成物Ｂを適用したときの定着量の２倍であ
ることがわかる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平６−227948（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−289542（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−206652（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−327563（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−270617（ＪＰ，Ａ) 特表 平７−506596（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) A61K 7/00 - 7/50
Claims (14)
- 【請求項１】 化粧用に許容される媒体中に、少なくと
も１つの紫外線照射遮蔽剤と、髪に適用される該紫外線
照射遮蔽剤の量を増加させる少なくとも１つのセラミド
タイプ化合物を含む組成物であって、該遮蔽剤は、少な
くとも１つのスルホン酸基を含み、かつ上記セラミドタ
イプ化合物が下記一般式（IX）： 【化１】 （式（IX）中、 −Ｒ 1 は以下のものを表す： −直線状あるいは分岐した、飽和あるいは不飽和のＣ 1
−Ｃ 50 炭化水素基で、この基は、１またはそれ以上のヒ
ドロキシル基で置換されることが可能であり、任意にＲ
7 ＣＯＯＨ酸でエステル化されることが可能であり、Ｒ 7
は飽和または不飽和、直線状または分岐した、任意にモ
ノ−、または ポリヒドロキシル化されたＣ 1 −Ｃ 35 炭化
水素基で、 このＲ 7 基のヒドロキシルは、飽和または不飽和の、直
線状または分岐した、任意にモノ−あるいはポリヒドロ
キシル化されたＣ 1 −Ｃ 35 脂肪酸でエステル化されるこ
とが可能であるもの； −またはＲ”−（ＮＲ−ＣＯ）−Ｒ’基、Ｒは、水素原
子あるいはモノ−またはポリヒドロキシル化されたＣ 1
−Ｃ 20 炭化水素基、Ｒ’とＲ”は、炭素原子の合計が
９〜３０、Ｒ’が２価の基である炭化水素基を表す； −またはＲ 8 −Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ 2 ） p 基、Ｒ 8 はＣ 1 −Ｃ
20 炭化水素基を表し、 ｐは１から１２までの整数である； −Ｒ 2 は、水素原子、 （グリコシル） n 、（ガラクトシ
ル） m またはスルホガラクトシル基から選ばれるサッカ
ライドタイプの基、サルフェートまたはホスフェート残
基 、ホスホリルエチルアミン基およびホスホリルエチ
ルアンモニウム基 （ｎは１から４までの整数、ｍは１か
ら８までの整数）から選ばれ； −Ｒ 3 は、水素原子、または、飽和あるいは不飽和、ヒ
ドロキシル化されあるいは非ヒドロキシル化のＣ 1 −Ｃ
33 炭化水素基で、 このヒドロキシルは、無機酸またはＲ 7 ＣＯＯＨ酸でエ
ステル化されることが可能であり、Ｒ 7 は上記と同じ意
味を有し、 このヒドロキシルは、（グリコシル） n 、（ガラクトシ
ル） m 、スルホガラクトシル、ホスホリルエチルアミン
またはホスホリルエチルアンモニウム基でエーテル化さ
れることが可能であり、 Ｒ 3 もまた、１つまたはそれ以上のＣ 1 −Ｃ 14 アルキル基
で置換されることが可能であるものを表し； −Ｒ 4 は、水素原子、メチルまたはエチル基、飽和また
は不飽和の、直線状または分岐した、任意にヒドロキシ
ル化されたＣ 3 −Ｃ 50 炭化水素基または−ＣＨ 2 −ＣＨＯ
Ｈ−ＣＨ 2 −Ｏ−Ｒ 6 基、ここでＲ 6 はＣ 10 −Ｃ 26 炭化水
素基またはＲ 8 −Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ 2 ） p 、Ｒ 8 はＣ 1 −Ｃ
20 炭化水素基（ｐは１から１２の範囲の整数）で、 −Ｒ 5 は、水素原子、または飽和または不飽和の、直線
状または分岐した、任意にモノ−またはポリヒドロキシ
ル化Ｃ 1 −Ｃ 30 炭化水素基で、このヒドロキシルは、
（グリコシル） n 、（ガラクトシル） m 、スルホガラクト
シル、ホスホリルエチルアミンまたはホスホリルエチル
アンモニウム基でエーテル化されることが可能であり、 ただしＲ 3 とＲ 5 が水素のとき、またはＲ 3 が水素でＲ 5 が
メチルのとき、Ｒ 4 は水素原子またはメチルまたはエチ
ル基ではない。）で表され ることを特徴とする髪の化粧
用組成物。 - 【請求項２】 紫外線照射遮蔽剤が、３−ベンジリデン
−２−カンファー構造の化合物であることを特徴とする
請求項１記載の組成物。 - 【請求項３】 紫外線照射遮蔽剤が、 以下の式（Ｉ）〜（Ｖ）のいずれかに相当するものであ
ることを特徴とする請求項２記載の組成物： 【化２】 （式（Ｉ）中、 −Ｚは以下の式で表される基を表し、 【化３】 −ｎは０または１以上４以下の整数、 −Ｒ1は１以上の同一または相違する、直線状あるいは
分岐した、１から４までの炭素原子を有するアルキルま
たはアルコキシ基を表す） 【化４】 （式（II）中、 −Ｒ2は水素原子、ハロゲン原子、１から４の炭素原子
を含むアルキル基、または−ＳＯ3Ｈ基を表し、 −Ｒ3とＲ4は、水素原子、または−ＳＯ3Ｈ基を表す
が、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4基のうちの少なくとも１つが−ＳＯ3
Ｈ基を表す） 【化５】 （式（III）中、 Ｒ5とＲ7は、同一でも相違していてもよく、水素原子、
ヒドロキシル基、直線状あるいは分岐した、１から８ま
での炭素原子を含むアルキル基、または直線状あるいは
分岐した、１から８までの炭素原子を含むアルコキシ基
を表すが、Ｒ5とＲ7のうちの少なくとも１つがヒドロキ
シル、アルキル、またはアルコキシ基を表し、 Ｒ6とＲ8は、同一でも相違してもよく、水素原子または
ヒドロキシル基を表すが、Ｒ6とＲ8の少なくとも１つが
ヒドロキシル基を表す） 【化６】 式(IV)中、 −Ｒ9は、水素原子、直線状あるいは分岐した、１から
１８までの炭素原子を含むアルキル基、または直線状あ
るいは分岐した、３から１８までの炭素原子を含むアル
ケニル基、以下のものから選ばれる基： −ＣＨ2−ＣＨＯＨ−ＣＨ3 または −（ＣＨ2）m−
または −ＣＨ2−ＣＨＯＨ−ＣＨ2− （ただしｎは１と６の間の整数（１≦ｎ≦６）で、ｍは
１と１０の間の整数（１≦ｍ≦１０）を表し、 −Ｒ10は、水素原子、１から４までの炭素原子を含むア
ルコキシ基、またはＲ9が２価のときＲ9基と−Ｏ−連結
された２価の基を表し、 −ｑは１または２に等しい整数で、もしｑが２に等しい
と、Ｒ9は２価の基でなければならないと理解され、 −ＹとＹ’は水素原子またはＳＯ3Ｈ基を表すが、Ｙと
Ｙ’のうちの少なくとも一方は水素ではない） 【化７】 （式（Ｖ）中、 −Ｒ11は、水素原子、直線状あるいは分岐した、１から
６までの炭素原子を含むアルキル基またはアルコキシ
基、または−ＳＯ3Ｈ基を表し、 −Ｒ12は、水素原子、直線状あるいは分岐した、１から
６までの炭素原子を含むアルキル基またはアルコキシ基
を表し、 −Ｒ13は、水素原子または−ＳＯ3Ｈ基を表し、 −Ｒ11とＲ13のうちの少なくとも一方が−ＳＯ3Ｈ基を
表し、 −Ｘは、酸素または硫黄原子または−ＮＲ−基で、Ｒが
水素原子、直線状あるいは分岐した、１から６までの炭
素原子を含むアルキル基を表す）。 - 【請求項４】 式（Ｉ）の化合物がベンゼン−１、４−
［ジ（３−メチリデンカンファー−１０−スルホン
酸）］で、 式(II）の化合物が、４−（３−メチリデンカンファ
ー）ベンゼンスルホン酸、３−ベンジリデンカンファー
−１０−スルホン酸、２−メチル−５−（３−メチリデ
ンカンファー）ベンゼンスルホン酸、２−クロロ−５−
（３−メチリデンカンファー）ベンゼンスルホン酸、３
−（４−メチル）ベンジリデンカンファー−１０−スル
ホン酸から選ばれ、 式(III）の化合物が、（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキ
シ−５−メチル）ベンジリデンカンファー−１０−スル
ホン酸、（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メト
キシ）ベンジリデンカンファー−１０−スルホン酸、
（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ）ベ
ンジリデンカンファー−１０−スルホン酸から選ばれ、 式（IV）の化合物が、２−メトキシ−５−（３−メチリ
デンカンファー）ベンゼンスルホン酸、３−（４，５−
メチレンジオキシ）ベンジリデンカンファー−１０−ス
ルホン酸、３−（４−メトキシ）ベンジリデンカンファ
ー−１０−スルホン酸、３−（４，５−ジメトキシ）ベ
ンジリデンカンファー−１０−スルホン酸、３−（４−
ｎ−ブトキシ）ベンジリデンカンファー−１０−スルホ
ン酸、３−（４−ｎ−ブトキシ−５−メトキシ）ベンジ
リデンカンファー−１０−スルホン酸から選ばれ、 式（Ｖ）の化合物が２−［４−（カンファーメチリデ
ン）フェニル］ベンジミダゾール−５−スルホン酸であ
ることを特徴とする請求項３記載の組成物。 - 【請求項５】 紫外線照射遮蔽剤が式（VI） 【化８】 （式（VI）中、 −Ｒ14は、水素原子、または、直線状あるいは分岐し
た、１から８までの炭素原子を含むアルコキシ基のいず
れかを表し、 −Ｒ15は、水素原子または、直線状あるいは分岐した、
１から８までの炭素原子を含むアルキル基のいずれかを
表し、 −Ｒ16は、水素原子またはＳＯ3Ｈ基を表し、 −Ｒ17は、水素原子またはヒドロキシル基を表す）の化
合物であることを特徴とする請求項１記載の組成物。 - 【請求項６】 式（VI）の化合物が、２−ヒドロキシ−
４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸であるこ
とを特徴とする請求項５記載の組成物。 - 【請求項７】 紫外線照射遮蔽剤が式（VII）の化合物
であることを特徴とする請求項１記載の組成物： 【化９】 （式（VII）中、 −Ｘは、酸素原子または−ＮＨ−基を表し、 −Ｒ18は、水素原子または、直線状あるいは分岐した、
１から８までの炭素原子を含むアルキル基またはアルコ
キシ基、または式（VIII）の化合物を表す 【化１０】 （式（VIII）中、Ｘ’は、Ｘとは独立に、酸素または−
ＮＨ−基を表す））。 - 【請求項８】 式（VII）の化合物が、２−フェニルベ
ンジミダゾール−５−スルホン酸、ベンゼン−１，４−
ジ（ベンジイミダゾール−２−イル−５−スルホン
酸）、およびベンゼン−１，４−ジ（ベンゾキサゾール
−２−イル−５−スルホン酸）から選ばれることを特徴
とする請求項７記載の組成物。 - 【請求項９】 セラミドタイプ化合物が２−Ｎ−リノレ
オイルアミノオクタデカン−１，３−ジオール、２−Ｎ
−オレオイルアミノオクタデカン−１，３−ジオール、
２−Ｎ−パルミトイルアミノオクタデカン−１，３−ジ
オール、２−Ｎ−ステアロイルアミノオクタデカン−
１，３−ジオール、２−Ｎ−ベヘノイルアミノオクタデ
カン−１，３−ジオール、２−Ｎ−［２−ヒドロキシ−
パルミトイル］アミノオクタデカン−１，３−ジオー
ル、２−Ｎ−ステアロイルアミノオクタデカン−１，
３，４−ジオール、２−Ｎ−パルミトイルアミノヘキサ
デカン−１，３−ジオール、またはこれらの化合物の混
合物からなる群から選ばれることを特徴とする請求項１
ないし８のいずれか１項に記載の組成物。 - 【請求項１０】 セラミドタイプ化合物がビス−（Ｎ−
ヒドロキシエチル−Ｎ−セチル）マロンアミド、セチル
酸Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−（３−セチルオ
キシ−２−ヒドロキシプロピル）アミドおよびＮ−ドコ
サノイル−Ｎ−メチル−Ｄ−グルカミンから選ばれるこ
とを特徴とする請求項１ないし８のいずれか１項に記載
の組成物。 - 【請求項１１】 組成物全重量に対し、０．０５〜１０
重量％の紫外線照射遮蔽剤を含むことを特徴とする請求
項１ないし１０のいずれか１項に記載の組成物。 - 【請求項１２】 紫外線照射に対する髪の保護のため
の、請求項１ないし１１のいずれか１項に記載の組成物
の使用。 - 【請求項１３】 請求項１ないし１１のいずれか１項に
記載の組成物の有効量の髪への適用からなることを特徴
とする、髪を紫外線照射から保護するための美容処理方
法。 - 【請求項１４】 ＵＶ遮蔽剤の髪への定着を改善するた
めの、少なくとも１つのスルホン酸基を含む親水性ＵＶ
遮蔽剤を含む髪化粧用組成物中の、セラミドタイプ化合
物の使用であって、該セラミドタイプ化合物が一般式
（IX）： 【化１１】 （式（IX）中、 −Ｒ 1 は以下のものを表す： −直線状あるいは分岐した、飽和あるいは不飽和のＣ 1
−Ｃ 50 炭化水素基で、この基は、１またはそれ以上のヒ
ドロキシル基で置換されることが可能であり、任意にＲ
7 ＣＯＯＨ酸でエステル化されることが可能であり、Ｒ 7
は飽和または不飽和、直線状または分岐した、任意にモ
ノ−、または ポリヒドロキシル化されたＣ 1 −Ｃ 35 炭化
水素基で、 このＲ 7 基のヒドロキシルは、飽和または不飽和の、直
線状または分岐した、任意にモノ−あるいはポリヒドロ
キシル化されたＣ 1 −Ｃ 35 脂肪酸でエステル化されるこ
とが可能であるもの； −またはＲ”−（ＮＲ−ＣＯ）−Ｒ’基、Ｒは、水素原
子あるいはモノ−またはポリヒドロキシル化されたＣ 1
−Ｃ 20 炭化水素基、Ｒ’とＲ”は、炭素原子の 合計が
９〜３０、Ｒ’が２価の基である炭化水素基を表す； −またはＲ 8 −Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ 2 ） p 基、Ｒ 8 はＣ 1 −Ｃ
20 炭化水素基を表し、 ｐは１から１２までの整数である； −Ｒ 2 は、水素原子、 （グリコシル） n 、（ガラクトシ
ル） m またはスルホガラクトシル基から選ばれるサッカ
ライドタイプの基、サルフェートまたはホスフェート残
基 、ホスホリルエチルアミン基およびホスホリルエチ
ルアンモニウム基（ｎは１から４までの整数、ｍは１か
ら８までの整数）から選ばれ； −Ｒ 3 は、水素原子、または、飽和あるいは不飽和、ヒ
ドロキシル化されあるいは非ヒドロキシル化のＣ 1 −Ｃ
33 炭化水素基で、 このヒドロキシルは、無機酸またはＲ 7 ＣＯＯＨ酸でエ
ステル化されることが可能であり、Ｒ 7 は上記と同じ意
味を有し、 このヒドロキシルは、（グリコシル） n 、（ガラクトシ
ル） m 、スルホガラクトシル、ホスホリルエチルアミン
またはホスホリルエチルアンモニウム基でエーテル化さ
れることが可能であり、 Ｒ 3 もまた、１つまたはそれ以上のＣ 1 −Ｃ 14 アルキル基
で置換されることが可能であるものを表し； −Ｒ 4 は、水素原子、メチルまたはエチル基、飽和また
は不飽和の、直線状または分岐した、任意にヒドロキシ
ル化されたＣ 3 −Ｃ 50 炭化水素基または−ＣＨ 2 −ＣＨＯ
Ｈ−ＣＨ 2 −Ｏ−Ｒ 6 基、ここでＲ 6 はＣ 10 −Ｃ 26 炭化水
素基またはＲ 8 −Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ 2 ） p 、Ｒ 8 はＣ 1 −Ｃ
20 炭化水素基（ｐは１から１２の範囲の整数）で、 −Ｒ 5 は、水素原子、または飽和または不飽和の、直線
状または分岐した、任意にモノ−またはポリヒドロキシ
ル化Ｃ 1 −Ｃ 30 炭化水素基で、このヒドロキシルは、
（グリコシル） n 、（ガラクトシル） m 、スルホガラクト
シル、ホスホリルエチルアミンまたはホスホリルエチル
アンモニウム基でエーテル化されることが可能であり、 ただしＲ 3 とＲ 5 が水素のとき、またはＲ 3 が水素でＲ 5 が
メチルのとき、Ｒ 4 は水素原子またはメチルまたはエチ
ル基ではない。）で表されることを特徴とする使用。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9615762 | 1996-12-20 | ||
| FR9615762A FR2757382B1 (fr) | 1996-12-20 | 1996-12-20 | Utilisation d'une composition comprenant un ceramide et un filtre uv sulfonique |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10182364A JPH10182364A (ja) | 1998-07-07 |
| JP3192998B2 true JP3192998B2 (ja) | 2001-07-30 |
Family
ID=9498933
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35145097A Expired - Fee Related JP3192998B2 (ja) | 1996-12-20 | 1997-12-19 | セラミドとスルホン酸のｕｖ遮蔽剤を含む組成物の使用 |
Country Status (17)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6190676B1 (ja) |
| EP (1) | EP0852134B1 (ja) |
| JP (1) | JP3192998B2 (ja) |
| KR (1) | KR100291818B1 (ja) |
| CN (1) | CN1104879C (ja) |
| AT (1) | ATE209889T1 (ja) |
| AU (1) | AU703469B2 (ja) |
| BR (1) | BR9706297A (ja) |
| CA (1) | CA2222861C (ja) |
| DE (1) | DE69708830T2 (ja) |
| DK (1) | DK0852134T3 (ja) |
| ES (1) | ES2169339T3 (ja) |
| FR (1) | FR2757382B1 (ja) |
| HU (1) | HUP9702514A1 (ja) |
| PL (1) | PL188203B1 (ja) |
| PT (1) | PT852134E (ja) |
| RU (1) | RU2141307C1 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001049822A2 (fr) | 1999-12-29 | 2001-07-12 | Sergei Mikhailovich Zenovich | Agents physiologiquement actifs contenant dithioglyols et leur application dans differentes secteurs |
| GB0204133D0 (en) * | 2002-02-22 | 2002-04-10 | Quest Int | Improvements in or relating to hair care compositions |
| US20040219177A1 (en) * | 2003-04-29 | 2004-11-04 | Jacobs Randy J. | Depleted skin barrier replenishing skin creams composition and method of application |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2528420A1 (fr) * | 1982-06-15 | 1983-12-16 | Oreal | Nouveaux 3-benzylidene camphres, leur procede de preparation et leur utilisation pour la protection contre les rayons uv |
| FR2706766B1 (fr) * | 1993-06-21 | 1995-08-18 | Oreal | Compositions cosmetiques filtrantes contenant un agent hydrophile comportant au moins un radical acide |
| KR100314101B1 (ko) * | 1993-09-17 | 2001-12-28 | 라오우프에이.기르구이스 | 분석장치 |
| US5368857A (en) * | 1993-11-15 | 1994-11-29 | Elizabeth Arden Company, Division Of Conopco, Inc. | Ceramide cosmetic compositions |
| FR2718960B1 (fr) * | 1994-04-22 | 1996-06-07 | Oreal | Compositions pour le traitement et la protection des cheveux, à base de céramide et de polymères à groupements cationiques. |
| FR2731152B1 (fr) * | 1995-03-03 | 1997-05-30 | Roussel Uclaf | Compositions cosmetiques pour la protection solaire |
-
1996
- 1996-12-20 FR FR9615762A patent/FR2757382B1/fr not_active Expired - Lifetime
-
1997
- 1997-12-05 AT AT97402952T patent/ATE209889T1/de not_active IP Right Cessation
- 1997-12-05 EP EP97402952A patent/EP0852134B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1997-12-05 DK DK97402952T patent/DK0852134T3/da active
- 1997-12-05 ES ES97402952T patent/ES2169339T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1997-12-05 DE DE69708830T patent/DE69708830T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-12-05 PT PT97402952T patent/PT852134E/pt unknown
- 1997-12-08 AU AU46914/97A patent/AU703469B2/en not_active Ceased
- 1997-12-12 PL PL97323702A patent/PL188203B1/pl not_active IP Right Cessation
- 1997-12-18 BR BR9706297A patent/BR9706297A/pt not_active Application Discontinuation
- 1997-12-18 US US08/993,313 patent/US6190676B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-12-19 HU HU9702514A patent/HUP9702514A1/hu unknown
- 1997-12-19 KR KR1019970070791A patent/KR100291818B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1997-12-19 JP JP35145097A patent/JP3192998B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1997-12-19 CA CA002222861A patent/CA2222861C/fr not_active Expired - Fee Related
- 1997-12-19 CN CN97129724A patent/CN1104879C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1997-12-19 RU RU97121236A patent/RU2141307C1/ru not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA2222861C (fr) | 2002-12-03 |
| FR2757382B1 (fr) | 1999-02-05 |
| CN1196924A (zh) | 1998-10-28 |
| CN1104879C (zh) | 2003-04-09 |
| US6190676B1 (en) | 2001-02-20 |
| MX9710345A (es) | 1998-08-30 |
| ES2169339T3 (es) | 2002-07-01 |
| JPH10182364A (ja) | 1998-07-07 |
| ATE209889T1 (de) | 2001-12-15 |
| PL323702A1 (en) | 1998-06-22 |
| KR100291818B1 (ko) | 2001-10-24 |
| FR2757382A1 (fr) | 1998-06-26 |
| HUP9702514A1 (hu) | 1999-01-28 |
| DE69708830T2 (de) | 2002-04-18 |
| RU2141307C1 (ru) | 1999-11-20 |
| PT852134E (pt) | 2002-05-31 |
| KR19980064377A (ko) | 1998-10-07 |
| EP0852134A1 (fr) | 1998-07-08 |
| DK0852134T3 (da) | 2002-03-04 |
| EP0852134B1 (fr) | 2001-12-05 |
| PL188203B1 (pl) | 2004-12-31 |
| HU9702514D0 (en) | 1998-03-02 |
| BR9706297A (pt) | 1999-05-04 |
| AU4691497A (en) | 1998-06-25 |
| AU703469B2 (en) | 1999-03-25 |
| DE69708830D1 (de) | 2002-01-17 |
| CA2222861A1 (fr) | 1998-06-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE602005002489T2 (de) | Kosmetisches Haarpflegemittel | |
| JPH04173719A (ja) | 毛髪化粧料 | |
| JP3053650B2 (ja) | 新規な酸化組成物および新規な髪のパーマネント変形またはブリーチ方法 | |
| DE602004006794T2 (de) | Haarbehandlungsverfahren und dessen Einsatz zum Glätten der Haare | |
| EP1656184A1 (de) | Verfahren zur glättung keratinhaltiger fasern | |
| EP0743058B1 (en) | Hair care product containing a fatty acid derivative | |
| JP2781156B2 (ja) | ケラチン物質のパーマネント形成の処理方法 | |
| EP1357884B1 (fr) | Composition de traitement des matieres keratiniques comprenant un polymere poly(alkyl) vinyllactame cationique et un agent conditionneur | |
| EP1093805B1 (fr) | Compositions cosmétiques contenant une émulsion d'un copolymère vinyldiméthicone/diméthicone et un tensioactif cationique et leurs utilisations | |
| US8313737B2 (en) | Hair treatment process for smoothing the hair | |
| JPH0699285B2 (ja) | 毛髪化粧料 | |
| EP1093787B1 (fr) | Composition de traitement antipelliculaire à base d'un sel de pyridinethione, d'un agent de conditionnement insoluble et d'un terpolymère acrylique | |
| EP1752130A1 (en) | Hair style control agent | |
| US5939077A (en) | Cosmetic composition comprising a combination of ceramides and use thereof | |
| JP3192998B2 (ja) | セラミドとスルホン酸のｕｖ遮蔽剤を含む組成物の使用 | |
| DE102004018017A1 (de) | Kosmetische Zusammensetzung für die Haarpflege | |
| EP1786520A1 (de) | Zusammensetzung und verfahren zur glättung keratinhaltiger fasern | |
| EP1430871B1 (fr) | Compositions cosmétiques contenant un tensioactif amphotère et un céramide et leurs utilisations | |
| JP2567316B2 (ja) | 毛髪化粧料 | |
| KR20030066458A (ko) | 화장료 조성물 | |
| JP2521605B2 (ja) | 毛髪化粧料 | |
| MXPA97010345A (en) | Use of a composition comprising a ceramid and a uv sulfon filter | |
| JPH09175981A (ja) | α−アルキルフェネチル変性シリコーン含有化粧料 | |
| WO2000028966A1 (fr) | Compositions cosmetiques contenant un tensioactif ester d'alkylpolyglycoside anionique et un ceramide et leurs utilisations | |
| FR2795951A1 (fr) | Compositions cosmetiques contenant un fructane cationique et un agent protecteur des matieres keratiniques et leurs utilisations |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |