JP3190354B2 - 改良された疲労抵抗性のホトクロミックナフトピラン組成物 - Google Patents
改良された疲労抵抗性のホトクロミックナフトピラン組成物Info
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Description
【発明の詳細な説明】 発明の説明 本発明は改良された疲労抵抗性のホトクロミックナフ
トピラン化合物、およびホトクロミックナフトピラン化
合物の疲労抵抗性を改良する方法に関する。より詳しく
は、本発明は(1)ホトクロミックナフトピラン化合物
と(2)有機抗酸化材料、紫外光吸収材料および立体障
害アミン光安定材料の組み合わせを包含するそのような
化合物のための安定剤系を含む有機ホトクロミックナフ
トピラン組成物に関する。この安定剤系はホトクロミッ
クナフトピラン化合物の疲労抵抗性を改良するのに充分
な量で用いられる。さらに詳細には、本発明は、ホトク
ロミックナフトピラン化合物および上記安定剤系を含む
ホトクロミック物品、例えば、眼用レンズに関する。
トピラン化合物、およびホトクロミックナフトピラン化
合物の疲労抵抗性を改良する方法に関する。より詳しく
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と(2)有機抗酸化材料、紫外光吸収材料および立体障
害アミン光安定材料の組み合わせを包含するそのような
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トピラン組成物に関する。この安定剤系はホトクロミッ
クナフトピラン化合物の疲労抵抗性を改良するのに充分
な量で用いられる。さらに詳細には、本発明は、ホトク
ロミックナフトピラン化合物および上記安定剤系を含む
ホトクロミック物品、例えば、眼用レンズに関する。
ホトクロミック化合物は、日光または水銀灯の光の中
の紫外線のような紫外線を含む光照射に曝されたとき
に、可逆的な変色を示す。種々のホトクロミック化合物
が、合成されており、日光に誘発される可逆的変色また
は暗色化が所望される用途における使用が提案されてい
る。最も広義の種類は、オキサジン、ナフトピラン、お
よびフルギドである。
の紫外線のような紫外線を含む光照射に曝されたとき
に、可逆的な変色を示す。種々のホトクロミック化合物
が、合成されており、日光に誘発される可逆的変色また
は暗色化が所望される用途における使用が提案されてい
る。最も広義の種類は、オキサジン、ナフトピラン、お
よびフルギドである。
可視スペクトルにおける吸収を有する有機ホトクロミ
ック化合物の組み合わせの使用が、米国特許第4968454
号に開示されている。この特許において、590ナノメー
トルを上回る可視吸収を有するオキサジンが、400〜590
ナノメートルの可視範囲において少なくとも1つの活性
吸収極大を有する第二オキサジンと混合される。ドイツ
特許第4325154 C1号は、その中の少なくとも1つがスピ
ロオキサジンでない多数のホトクロミック着色料を含有
する重合性混合物を開示している。米国特許第5,066,81
8号は、近中間灰色を得るための、ジアリール−3H−ナ
フト(2,1−b)ピランと、ナフトオキサジンまたはベ
ンゾオキサジンとの混合物を開示している。
ック化合物の組み合わせの使用が、米国特許第4968454
号に開示されている。この特許において、590ナノメー
トルを上回る可視吸収を有するオキサジンが、400〜590
ナノメートルの可視範囲において少なくとも1つの活性
吸収極大を有する第二オキサジンと混合される。ドイツ
特許第4325154 C1号は、その中の少なくとも1つがスピ
ロオキサジンでない多数のホトクロミック着色料を含有
する重合性混合物を開示している。米国特許第5,066,81
8号は、近中間灰色を得るための、ジアリール−3H−ナ
フト(2,1−b)ピランと、ナフトオキサジンまたはベ
ンゾオキサジンとの混合物を開示している。
広範囲に市場で用いられている有機ホトクロミック化
合物についての欠点は、長期間の繰り返しの紫外(UV)
光に対する露出の結果として、色の可逆的な変化を示す
それらの能力が失われることである。すなわち、有機ホ
トクロミック化合物がそれらのホトクロミズム(つま
り、UV光に応答して色を変え、そしてその後それら本来
の無色状態に復帰する能力)を失うのである。この現象
は有機ホトクロミック化合物の不可逆的分解の結果であ
ると考えられており、疲労または光疲労と呼ばれる。
合物についての欠点は、長期間の繰り返しの紫外(UV)
光に対する露出の結果として、色の可逆的な変化を示す
それらの能力が失われることである。すなわち、有機ホ
トクロミック化合物がそれらのホトクロミズム(つま
り、UV光に応答して色を変え、そしてその後それら本来
の無色状態に復帰する能力)を失うのである。この現象
は有機ホトクロミック化合物の不可逆的分解の結果であ
ると考えられており、疲労または光疲労と呼ばれる。
米国特許第5,391,327号には、ある種の非対象ジアリ
ールオキサルアミド(オキサニリド)化合物と立体障害
アミン光安定剤(HALS)化合物との一定割合の組み合わ
せを一定量で用いることにより、オキサジンとピランと
の組み合わせの疲労抵抗性を改良することが記載されて
いる。日本国特許公報3−282445号には、プラスチック
類に通常用いられるUV安定剤を、耐久性を増大させるた
めにホトクロミック成形物中に組み込むことが記載され
ている。列挙されたUV安定剤の部類の例には、一重項酸
素失活剤、立体障害アミン光安定剤、立体障害フェノー
ル性抗酸化剤、およびイオウ含有抗酸化剤がある。日本
国特許公報7−48363号には、使用中にそれらを酸素お
よび水から遮断することによりクロメンベースのホトク
ロミック材料の耐久性を一般的に改良することが記載さ
れている。さらに、この公報には、ニッケル塩、ニトロ
キシラジカル化合物、立体障害アミン化合物またはそれ
らのポリマーに代表される一重項酸素失活剤、および他
の抗酸化剤、紫外光吸収剤および三重項状態失活剤を用
いて耐久性を改良することが記載されている。
ールオキサルアミド(オキサニリド)化合物と立体障害
アミン光安定剤(HALS)化合物との一定割合の組み合わ
せを一定量で用いることにより、オキサジンとピランと
の組み合わせの疲労抵抗性を改良することが記載されて
いる。日本国特許公報3−282445号には、プラスチック
類に通常用いられるUV安定剤を、耐久性を増大させるた
めにホトクロミック成形物中に組み込むことが記載され
ている。列挙されたUV安定剤の部類の例には、一重項酸
素失活剤、立体障害アミン光安定剤、立体障害フェノー
ル性抗酸化剤、およびイオウ含有抗酸化剤がある。日本
国特許公報7−48363号には、使用中にそれらを酸素お
よび水から遮断することによりクロメンベースのホトク
ロミック材料の耐久性を一般的に改良することが記載さ
れている。さらに、この公報には、ニッケル塩、ニトロ
キシラジカル化合物、立体障害アミン化合物またはそれ
らのポリマーに代表される一重項酸素失活剤、および他
の抗酸化剤、紫外光吸収剤および三重項状態失活剤を用
いて耐久性を改良することが記載されている。
ホトクロミック材料の疲労抵抗性を改良するための幾
らかの向上がなされているけれども、ホトクロミック材
料の疲労抵抗性における更なる改良が未だ求められてい
る。したがって、そのような改良を得るための努力が継
続されている。
らかの向上がなされているけれども、ホトクロミック材
料の疲労抵抗性における更なる改良が未だ求められてい
る。したがって、そのような改良を得るための努力が継
続されている。
少なくとも1種のポリフェノール性抗酸化剤、少なく
とも1種の有機紫外光吸収剤、および少なくとも1種の
HALS化合物の組合せの安定剤系が、ホトクロミックナフ
トピラン化合物、特に中間色もしくは実質的に中間色、
例えば、灰色または褐色、を提供するホトクロミックナ
フトピランの組み合わせ、より好ましくは、(i)400
ナノメートル〜525ナノメートルの可視λmaxを有する少
なくとも1種の有機ホトクロミックナフトピラン材料と
(ii)525ナノメートル〜650ナノメートルの可視λmax
を有する少なくとも1種の有機ホトクロミックナフトピ
ラン材料との組み合わせの光疲労抵抗性を改良すること
が見出だされた。
とも1種の有機紫外光吸収剤、および少なくとも1種の
HALS化合物の組合せの安定剤系が、ホトクロミックナフ
トピラン化合物、特に中間色もしくは実質的に中間色、
例えば、灰色または褐色、を提供するホトクロミックナ
フトピランの組み合わせ、より好ましくは、(i)400
ナノメートル〜525ナノメートルの可視λmaxを有する少
なくとも1種の有機ホトクロミックナフトピラン材料と
(ii)525ナノメートル〜650ナノメートルの可視λmax
を有する少なくとも1種の有機ホトクロミックナフトピ
ラン材料との組み合わせの光疲労抵抗性を改良すること
が見出だされた。
発明の詳細な説明 本発明の実施に用いうるポリフェノール性抗酸化剤は
式I: [式中、Aは、C1〜C4アルキルおよびC1〜C4アルケニル
のような飽和もしくは不飽和C1〜C4脂肪族炭化水素から
誘導される基;モノもしくはジ−シクロ(C3〜C7)アル
キル、およびモノもしくはジ−シクロ(C3〜C4)アルケ
ニルのような飽和もしくは不飽和モノもしくはジ−シク
ロ−(C3〜C7)炭化水素から誘導される基;モノもしく
はジ−シクロ(C4〜C7)アルキニル;モノもしくはジ−
シクロ(C5〜C7)ジエニル;イソシアネート;s−トリア
ジン−2,4,6−(1H,3H,5H)トリオン;からなる群から
選択されるものである。] で示される化合物、および以下の式II: [式中、各R1はヒドロキシまたはC1〜C4アルキルであ
り、そしてdは0〜3の整数である。] で示される化合物である。
式I: [式中、Aは、C1〜C4アルキルおよびC1〜C4アルケニル
のような飽和もしくは不飽和C1〜C4脂肪族炭化水素から
誘導される基;モノもしくはジ−シクロ(C3〜C7)アル
キル、およびモノもしくはジ−シクロ(C3〜C4)アルケ
ニルのような飽和もしくは不飽和モノもしくはジ−シク
ロ−(C3〜C7)炭化水素から誘導される基;モノもしく
はジ−シクロ(C4〜C7)アルキニル;モノもしくはジ−
シクロ(C5〜C7)ジエニル;イソシアネート;s−トリア
ジン−2,4,6−(1H,3H,5H)トリオン;からなる群から
選択されるものである。] で示される化合物、および以下の式II: [式中、各R1はヒドロキシまたはC1〜C4アルキルであ
り、そしてdは0〜3の整数である。] で示される化合物である。
式Iにおいて、Xは式III、III A、およびIV: [式中、各R2はヒドロキシまたはC1〜C4アルキルであ
り、eは0〜5の整数、好ましくは3であり、R2′は
C1〜C4アルキレンであり、R3およびR4はそれぞれC1〜C4
アルキルであり、R5はC1〜C4アルキレンのようなC1〜C4
脂肪族炭化水素から誘導される二価の材料であり、そし
てbは3または4の整数である。] で示される化合物からなる群から選択される。式Iで示
される化合物には、p−クレゾールおよびジシクロペン
タジエンのブチル化反応生成物、および3−メチル−6
−t−ブチルフェノールとクロトンアルデヒドとの3:1
縮合物が含まれる。
り、eは0〜5の整数、好ましくは3であり、R2′は
C1〜C4アルキレンであり、R3およびR4はそれぞれC1〜C4
アルキルであり、R5はC1〜C4アルキレンのようなC1〜C4
脂肪族炭化水素から誘導される二価の材料であり、そし
てbは3または4の整数である。] で示される化合物からなる群から選択される。式Iで示
される化合物には、p−クレゾールおよびジシクロペン
タジエンのブチル化反応生成物、および3−メチル−6
−t−ブチルフェノールとクロトンアルデヒドとの3:1
縮合物が含まれる。
好ましくは、ポリフェノール性抗酸化剤は、テトラキ
ス[メチレン(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキ
シヒドロシンナメート)]メタン;1,3,5−トリメチル−
2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4′−ヒドロ
キシベンジル)ベンゼン;1,3,5−トリス(3,5−ジ−ter
t−ブチル−4′−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレ
ート;3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシヒドロケ
イ皮酸トリエステルおよび1,3,5−トリス(2−ヒドロ
キシエチル)s−トリアジン−2,4,6−(1H,3H,5H)−
トリオン;1,3,5−トリス(4−tert−ブチル−3−ヒド
ロキシ−2,6−ジメチルベンジル)s−トリアジン−2,
4,6−(1H,3H,5H)−トリオン;およびこのようなポリ
フェノール性抗酸化剤の混合物からなる群から選択され
る。より好ましくは、ポリフェノール性抗酸化剤は、1,
3,5−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4′−ヒドロキ
シベンジル)イソシアヌレート;3,5−ジ−tert−ブチル
−4−ヒドロキシヒドロケイ皮酸トリエステルおよび1,
3,5−トリス(2−ヒドロキシエチル)s−トリアジン
−2,4,6−(1H,3H,5H)−トリオン;およびこれらの混
合物からなる群から選択される。もっとも好ましくは、
ポリフェノール性抗酸化剤は1,3,5−トリス(3,5−ジ−
tert−ブチル−4′−ヒドロキシベンジル)イソシアヌ
レートである。
ス[メチレン(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキ
シヒドロシンナメート)]メタン;1,3,5−トリメチル−
2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4′−ヒドロ
キシベンジル)ベンゼン;1,3,5−トリス(3,5−ジ−ter
t−ブチル−4′−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレ
ート;3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシヒドロケ
イ皮酸トリエステルおよび1,3,5−トリス(2−ヒドロ
キシエチル)s−トリアジン−2,4,6−(1H,3H,5H)−
トリオン;1,3,5−トリス(4−tert−ブチル−3−ヒド
ロキシ−2,6−ジメチルベンジル)s−トリアジン−2,
4,6−(1H,3H,5H)−トリオン;およびこのようなポリ
フェノール性抗酸化剤の混合物からなる群から選択され
る。より好ましくは、ポリフェノール性抗酸化剤は、1,
3,5−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4′−ヒドロキ
シベンジル)イソシアヌレート;3,5−ジ−tert−ブチル
−4−ヒドロキシヒドロケイ皮酸トリエステルおよび1,
3,5−トリス(2−ヒドロキシエチル)s−トリアジン
−2,4,6−(1H,3H,5H)−トリオン;およびこれらの混
合物からなる群から選択される。もっとも好ましくは、
ポリフェノール性抗酸化剤は1,3,5−トリス(3,5−ジ−
tert−ブチル−4′−ヒドロキシベンジル)イソシアヌ
レートである。
本発明の有機紫外光吸収剤には、UV−A紫外線照射、
すなわち、320〜400ナノメートル、より好ましくは350
〜400ナノメートルの範囲の波長、を吸収可能な有機材
料が含まれる。本発明の有機紫外光吸収剤の特定の群に
は、2−ヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシフ
ェニルベンゾトリアゾール、オキサルアニリド、2−ヒ
ドロキシフェニルトリアジン、シンナメート、サリチレ
ート、ホルムアミジンおよびこれらの混合物が含まれ
る。本発明の有機紫外光吸収剤に含まれるオキサルアニ
リドの詳細な説明は米国特許第5,391,327号第2欄第37
行から第3欄第60行、および米国特許第3,906,041号に
記載されており、これらの開示はここに参照として組み
入れる。
すなわち、320〜400ナノメートル、より好ましくは350
〜400ナノメートルの範囲の波長、を吸収可能な有機材
料が含まれる。本発明の有機紫外光吸収剤の特定の群に
は、2−ヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシフ
ェニルベンゾトリアゾール、オキサルアニリド、2−ヒ
ドロキシフェニルトリアジン、シンナメート、サリチレ
ート、ホルムアミジンおよびこれらの混合物が含まれ
る。本発明の有機紫外光吸収剤に含まれるオキサルアニ
リドの詳細な説明は米国特許第5,391,327号第2欄第37
行から第3欄第60行、および米国特許第3,906,041号に
記載されており、これらの開示はここに参照として組み
入れる。
米国特許第3,906,041号に記載されている非対象ジア
リールオキサルアミド化合物は以下の式 [式中、mは1〜8の整数であり、nは1〜4の整数で
あり、そしてR1〜R8は水素、クロロ、ブロモ、C1〜C12
アルキル、C1〜C4アルケニル、C1〜C4アルコキシ、C6〜
C8アリール、C6〜C8アリールオキシおよびフェニル(C1
〜C4)アルキルからなる群から選択される。好ましく
は、R1、R2、R4、R5、R7およびR8はメチル、エチル、プ
ロピル、n−ブチル、sec−ブチル、t−ブチル、より
好ましくはC1〜C2アルキルであり、mは1〜4の整数で
あり、そしてnは0〜2、例えば、1〜2の整数であ
る。] で示される。
リールオキサルアミド化合物は以下の式 [式中、mは1〜8の整数であり、nは1〜4の整数で
あり、そしてR1〜R8は水素、クロロ、ブロモ、C1〜C12
アルキル、C1〜C4アルケニル、C1〜C4アルコキシ、C6〜
C8アリール、C6〜C8アリールオキシおよびフェニル(C1
〜C4)アルキルからなる群から選択される。好ましく
は、R1、R2、R4、R5、R7およびR8はメチル、エチル、プ
ロピル、n−ブチル、sec−ブチル、t−ブチル、より
好ましくはC1〜C2アルキルであり、mは1〜4の整数で
あり、そしてnは0〜2、例えば、1〜2の整数であ
る。] で示される。
好ましくは、有機紫外光吸収剤は、2,4−ビス(2,4−
ジメチルフェニル)−6−(2−ヒドロキシ−4−イソ
−オクチルフェニル)−1,3,5−トリアジン;o−エトキ
シ−o′エチルシュウ酸ビスアニリド;2−(2H−ベンゾ
トリアゾール−2−イル)−4,6−ビス(1,1−ジメチル
プロピル)フェノール;N−(2−エトキシフェニル)−
N′−(4−イソドデシルフェニル)エタンジアミド;2
−シアノ−3,3−ジフェニル−2−プロペノン酸、エチ
ルエステル;およびこれらの混合物からなる群から選択
される。より好ましくは、紫外光安定剤は、2,4−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−6−(2−ヒドロキシ−
4−イソ−オクチルフェニル)−1,3,5−オリアジン;N
−(2−エトキシフェニル)−N′−(4−イソドデシ
ルフェニル)エタン−ジアミド;およびこれらの混合物
から選択される。もっとも好ましくは、有機紫外光吸収
剤は2,4−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−6−(2−
ヒドロキシ−4−イソ−オクチルフェニル)−1,3,5−
トリアジンである。
ジメチルフェニル)−6−(2−ヒドロキシ−4−イソ
−オクチルフェニル)−1,3,5−トリアジン;o−エトキ
シ−o′エチルシュウ酸ビスアニリド;2−(2H−ベンゾ
トリアゾール−2−イル)−4,6−ビス(1,1−ジメチル
プロピル)フェノール;N−(2−エトキシフェニル)−
N′−(4−イソドデシルフェニル)エタンジアミド;2
−シアノ−3,3−ジフェニル−2−プロペノン酸、エチ
ルエステル;およびこれらの混合物からなる群から選択
される。より好ましくは、紫外光安定剤は、2,4−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−6−(2−ヒドロキシ−
4−イソ−オクチルフェニル)−1,3,5−オリアジン;N
−(2−エトキシフェニル)−N′−(4−イソドデシ
ルフェニル)エタン−ジアミド;およびこれらの混合物
から選択される。もっとも好ましくは、有機紫外光吸収
剤は2,4−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−6−(2−
ヒドロキシ−4−イソ−オクチルフェニル)−1,3,5−
トリアジンである。
本発明で使用しうる立体障害アミン光安定剤(HALS)
には、ラジカル捕そく剤として機能すると報告されてい
るようなHALS材料が含まれ、そのような化合物は2,2,6,
6−テトラメチルピペルペリジン環または2,2,6,6−テト
ラメチル−ピペルペラジノンを有するものである。好ま
しくは、HALS材料はビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−
4−ピペリジニル)[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル
−4−ヒドロキシフェニル)メチル]ブチルプロパンジ
オエート;ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリ
ジニル)デカンジオエート;1−アセチル−4−(3−ド
デシル−2,5−ジオキソ−1−ピロリジニル)−2,2,6,6
−テトラメチル−ピペリジン;N−無置換HALS化合物、例
えば、サンジュボア(SANDUVOR)3051、3052、および30
55;N−メチル化HALS化合物、例えば、サンジュボア305
6;およびこれらの混合物;からなる群から選択される。
より好ましくは、HALS材料は、ビス(2,2,6,6−テトラ
メチル−4−ピペリジニル)デカンジオエート;1−アセ
チル−4−(3−ドデシル−2,5−ジオキソ−1−ピロ
リジニル)−2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジン;N−
無置換HALS化合物およびこれらの混合物からなる群から
選択される。
には、ラジカル捕そく剤として機能すると報告されてい
るようなHALS材料が含まれ、そのような化合物は2,2,6,
6−テトラメチルピペルペリジン環または2,2,6,6−テト
ラメチル−ピペルペラジノンを有するものである。好ま
しくは、HALS材料はビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−
4−ピペリジニル)[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル
−4−ヒドロキシフェニル)メチル]ブチルプロパンジ
オエート;ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリ
ジニル)デカンジオエート;1−アセチル−4−(3−ド
デシル−2,5−ジオキソ−1−ピロリジニル)−2,2,6,6
−テトラメチル−ピペリジン;N−無置換HALS化合物、例
えば、サンジュボア(SANDUVOR)3051、3052、および30
55;N−メチル化HALS化合物、例えば、サンジュボア305
6;およびこれらの混合物;からなる群から選択される。
より好ましくは、HALS材料は、ビス(2,2,6,6−テトラ
メチル−4−ピペリジニル)デカンジオエート;1−アセ
チル−4−(3−ドデシル−2,5−ジオキソ−1−ピロ
リジニル)−2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジン;N−
無置換HALS化合物およびこれらの混合物からなる群から
選択される。
本発明によれば、担体中においてナフトピランを効果
的な量の安定剤系と組み合わせることにより有機ホトク
ロミックナフトピラン材料の光疲労に対する抵抗性が改
良される。より好ましくは、ここで説明する安定剤系、
つまり、ポリフェノール性抗酸化剤、有機紫外光吸収剤
および立体障害アミン光安定剤のそれぞれの少なくとも
一種の組み合わせは、ここで説明するホトクロミックナ
フトピラン化合物について(安定剤を用いない%明所疲
労と比較して)%明所疲労(Photopic Fatigue)の30%
以上の低減を提供するような量で用いられる。例えば、
担体、例えばレンズにおけるホトクロミックナフトピラ
ン材料についての%明所疲労が40%である場合は、この
ホトクロミックナフトピランと組み合わせて用いる安定
剤系の量は28%以下の%明所疲労を提供するのに十分な
量となる。
的な量の安定剤系と組み合わせることにより有機ホトク
ロミックナフトピラン材料の光疲労に対する抵抗性が改
良される。より好ましくは、ここで説明する安定剤系、
つまり、ポリフェノール性抗酸化剤、有機紫外光吸収剤
および立体障害アミン光安定剤のそれぞれの少なくとも
一種の組み合わせは、ここで説明するホトクロミックナ
フトピラン化合物について(安定剤を用いない%明所疲
労と比較して)%明所疲労(Photopic Fatigue)の30%
以上の低減を提供するような量で用いられる。例えば、
担体、例えばレンズにおけるホトクロミックナフトピラ
ン材料についての%明所疲労が40%である場合は、この
ホトクロミックナフトピランと組み合わせて用いる安定
剤系の量は28%以下の%明所疲労を提供するのに十分な
量となる。
担体が、光学物品、例えば、眼用レンズ、として用い
ることを意図するポリマーホストである場合は、最終製
品の許容性に関連して安定剤系の有効性を判断するため
に(%明所疲労の低減に加えて)他の基準が用いられ
る。このような他の基準には以下のものが含まれる。初
期b★(Ib★)、最終b★(Fb★)および△b★、これ
は黄色の生成に関係し、CIELABシステムにより測定され
る;470ナノメートル(nm)、570nmにおける%疲労、お
よび(570nmにおける%疲労/470nmにおける%疲労)の
商、これはホトクロミックナフトピランの活性化された
色の波長に対応する特定の波長における%疲労、および
上記商の値が1.0よりも大きいか、または小さいかによ
って決定されるこれらの値の間の差に関係する。
ることを意図するポリマーホストである場合は、最終製
品の許容性に関連して安定剤系の有効性を判断するため
に(%明所疲労の低減に加えて)他の基準が用いられ
る。このような他の基準には以下のものが含まれる。初
期b★(Ib★)、最終b★(Fb★)および△b★、これ
は黄色の生成に関係し、CIELABシステムにより測定され
る;470ナノメートル(nm)、570nmにおける%疲労、お
よび(570nmにおける%疲労/470nmにおける%疲労)の
商、これはホトクロミックナフトピランの活性化された
色の波長に対応する特定の波長における%疲労、および
上記商の値が1.0よりも大きいか、または小さいかによ
って決定されるこれらの値の間の差に関係する。
ホトクロミックナフトピラン材料とポリフェノール性
抗酸化剤、有機紫外光吸収剤および立体障害アミン光安
定剤の組み合わせの安定剤系との重量比は、2.5:1〜1.
5:1の範囲、より好ましくは2:1〜1.6:1の範囲である。
安定剤系の個々の化合物の重量%は、安定剤系の合計重
量を基準にして、ポリフェノール性抗酸化剤(AO)5〜
5.0%、紫外光吸収剤(ULA)5〜5.0%、及びHALS10〜9
0%;好ましくは、AO10〜40%、ULA10〜40%、およびHA
LS20〜80%;より好ましくは、AO10〜30%、ULA10〜30
%、およびHALS20〜70%である。安定剤系を構成する三
成分の量は100%となるまで加える。
抗酸化剤、有機紫外光吸収剤および立体障害アミン光安
定剤の組み合わせの安定剤系との重量比は、2.5:1〜1.
5:1の範囲、より好ましくは2:1〜1.6:1の範囲である。
安定剤系の個々の化合物の重量%は、安定剤系の合計重
量を基準にして、ポリフェノール性抗酸化剤(AO)5〜
5.0%、紫外光吸収剤(ULA)5〜5.0%、及びHALS10〜9
0%;好ましくは、AO10〜40%、ULA10〜40%、およびHA
LS20〜80%;より好ましくは、AO10〜30%、ULA10〜30
%、およびHALS20〜70%である。安定剤系を構成する三
成分の量は100%となるまで加える。
安定剤系を構成するそれぞれの成分の量、およびポリ
フェノール性抗酸化剤、紫外線吸収剤および立体障害ア
ミン光安定剤の具体的な選択は、安定化される特定のホ
トクロミックナフトピラン化合物(単一又は複数)、お
よび数種のナフトピラン化合物が組み合わせて用いられ
る場合はその組み合わせに用いられるそれぞれのナフト
ピラン化合物の相対量に依存して変化する。本発明が属
する技術分野の当業者は、実施例で説明するように、選
択されたホトクロミックナフトピラン化合物と選択され
た安定剤系とを組み合わせてナフトピラン化合物を疲労
させることにより、安定剤系を構成するそれぞれの成分
の量を決定できる。好ましくは、実施例で説明するよう
に、安定剤系は%明所疲労の30%以上の低減、および
(570nmにおける%疲労/470nmにおける%疲労)の商に
ついての1.0に近い値を示す。さらに、ナフトピラン化
合物をポリマーホスト材料に吸収させる場合は、吸収の
後のポリマーホストの表面の状態を考慮に入れて安定剤
系の選択を行う。表面における欠陥としては、オレンジ
ピール、すなわち、レンズの表面が多数の窪を有するオ
レンジまたはバスケットボールの外面の外観を有するこ
と;結晶、すなわち、結晶状材料が存在すること;黄色
着色、すなわち、知覚できる黄色;窪、すなわち、レン
ズ表面において微小な穴や窪があること;ビーズ、すな
わち、表面上に液体が残り、微小なビーズ状滴が形成さ
れること;たまり、すなわち、表面上に液体が残り、材
料の平坦な滴やたまりが形成されること;および額縁、
すなわち、吸収処方がレンズの境界に蓄積すること;等
がある。
フェノール性抗酸化剤、紫外線吸収剤および立体障害ア
ミン光安定剤の具体的な選択は、安定化される特定のホ
トクロミックナフトピラン化合物(単一又は複数)、お
よび数種のナフトピラン化合物が組み合わせて用いられ
る場合はその組み合わせに用いられるそれぞれのナフト
ピラン化合物の相対量に依存して変化する。本発明が属
する技術分野の当業者は、実施例で説明するように、選
択されたホトクロミックナフトピラン化合物と選択され
た安定剤系とを組み合わせてナフトピラン化合物を疲労
させることにより、安定剤系を構成するそれぞれの成分
の量を決定できる。好ましくは、実施例で説明するよう
に、安定剤系は%明所疲労の30%以上の低減、および
(570nmにおける%疲労/470nmにおける%疲労)の商に
ついての1.0に近い値を示す。さらに、ナフトピラン化
合物をポリマーホスト材料に吸収させる場合は、吸収の
後のポリマーホストの表面の状態を考慮に入れて安定剤
系の選択を行う。表面における欠陥としては、オレンジ
ピール、すなわち、レンズの表面が多数の窪を有するオ
レンジまたはバスケットボールの外面の外観を有するこ
と;結晶、すなわち、結晶状材料が存在すること;黄色
着色、すなわち、知覚できる黄色;窪、すなわち、レン
ズ表面において微小な穴や窪があること;ビーズ、すな
わち、表面上に液体が残り、微小なビーズ状滴が形成さ
れること;たまり、すなわち、表面上に液体が残り、材
料の平坦な滴やたまりが形成されること;および額縁、
すなわち、吸収処方がレンズの境界に蓄積すること;等
がある。
本発明のホトクロミックナフトピラン組成物は担体、
安定剤系、および少なくとも1種のホトクロミックナフ
トピランの組み合わせを含む。本発明で使用しうるホト
クロミックナフトピラン化合物は3[H]−ナフト[2,
1−b]ピランおよび2[H]−ナフト[1,2−b]ピラ
ンからなる群から選択される。このようなナフトピラン
は、それぞれ以下の式VおよびVIで表される。
安定剤系、および少なくとも1種のホトクロミックナフ
トピランの組み合わせを含む。本発明で使用しうるホト
クロミックナフトピラン化合物は3[H]−ナフト[2,
1−b]ピランおよび2[H]−ナフト[1,2−b]ピラ
ンからなる群から選択される。このようなナフトピラン
は、それぞれ以下の式VおよびVIで表される。
(R)m、(R′)m′、B、およびB′で示される
置換基および式VおよびVIのその他の変形は以下の特許
および特許出願に記載されており、このような化合物の
式に関する開示はここに参照として組み入れる。
置換基および式VおよびVIのその他の変形は以下の特許
および特許出願に記載されており、このような化合物の
式に関する開示はここに参照として組み入れる。
米国特許第4,818,096号;同第4,826,977号;同第4,93
1,221号;同第4,980,089号;同第5,066,818号;同第5,2
00,116号;同第5,238,981号、同第5,244,602号;同第5,
274,132号;同第5,384,077号;同第5,395,567号;同第
5,451,344号;同第5,458,814号、同第5,464,567号;同
第5,466,398号;および1995年10月13日に提出された米
国出願第08/542,993号;1995年10月13日に提出された同
第08/542,999号;1995年6月14日に提出された同第08/49
0、189号;1995年6月14日に提出された同第08/490,188
号;19995年6月14日に提出された同第08/490,258号;199
5年6月14日に提出された同第08/490,190号;1994年12月
20日に提出された同第08/359,773号;1994年11月28日に
提出された同第08/345,095号;および1994年4月4日に
提出された同第08/286,039号。
1,221号;同第4,980,089号;同第5,066,818号;同第5,2
00,116号;同第5,238,981号、同第5,244,602号;同第5,
274,132号;同第5,384,077号;同第5,395,567号;同第
5,451,344号;同第5,458,814号、同第5,464,567号;同
第5,466,398号;および1995年10月13日に提出された米
国出願第08/542,993号;1995年10月13日に提出された同
第08/542,999号;1995年6月14日に提出された同第08/49
0、189号;1995年6月14日に提出された同第08/490,188
号;19995年6月14日に提出された同第08/490,258号;199
5年6月14日に提出された同第08/490,190号;1994年12月
20日に提出された同第08/359,773号;1994年11月28日に
提出された同第08/345,095号;および1994年4月4日に
提出された同第08/286,039号。
特に、有機ポリマーホスト担体に組み込まれて太陽紫
外線照射に露出された場合に活性化された中間色もしく
は近中間色である灰色または褐色を示すようなホトクロ
ミックナフトピラン材料の組み合わせが本発明において
意図される。より詳しくは、ホトクロミックナフトピラ
ン化合物の組み合わせは、 (a)400ナノメートル〜525ナノメートルの可視λmax
を有する少なくとも1種のホトクロミック有機ナフトピ
ラン化合物;および (b)525ナノメートル〜650ナノメートルの可視λmax
を有する少なくとも1種のホトクロミック有機ナフトピ
ラン化合物を包含する。
外線照射に露出された場合に活性化された中間色もしく
は近中間色である灰色または褐色を示すようなホトクロ
ミックナフトピラン材料の組み合わせが本発明において
意図される。より詳しくは、ホトクロミックナフトピラ
ン化合物の組み合わせは、 (a)400ナノメートル〜525ナノメートルの可視λmax
を有する少なくとも1種のホトクロミック有機ナフトピ
ラン化合物;および (b)525ナノメートル〜650ナノメートルの可視λmax
を有する少なくとも1種のホトクロミック有機ナフトピ
ラン化合物を包含する。
上述の群(a)のホトクロミックナフトピランには、
(1)2,2−ジフェニル−5−ヒドロキシメチル−6−
メチル−9−メトキシ−2H−ナフト[1,2−b]ピラ
ン;(2)2,2,−ジフェニル−5−ヒドロキシメチル−
6−フェニル−2H−ナフト[1,2−b]ピラン;(3)
2,2−ジフェニル−5−(2−エトキシ−2−オキソ−
エトキシカルボニル)−8−メチル−2H−ナフト[1,2
−b]ピラン;(4)2,2−ジフェニル−5−メトキシ
カルボニル−8−メチル−2H−ナフト[1,2−b]ピラ
ン;(5)3−(2−フルオロフェニル)−3−(4−
メトキシフェニル)−8−メトキシ−9−メトキシカル
ボニル−3H−ナフト[2,1−b]ピラン;(6)3,3−ジ
(4−メトキシフェニル)−6−モルホリノ−3H−ナフ
ト[2,1−b]ピラン;(7)3−(2−メチル−2,3−
ジヒドロベンゾフラン−5−イル)−3−(4−メトキ
シフェニル)−6−モルホリノ−3H−ナフト[2,1−
b]ピラン;(8)3,3−ジフェニル−8−メトキシ−3
H−ナフト[2,1−b]ピラン;(9)2,2−ジフェニル
−4−メトキシカルボニル−5−(2−メチルプロピオ
ニルオキシ)−2H−ナフト[1,2−b]ピラン;及び(1
0)上記ナフトピランの混合物;からなる群から選択さ
れるものが含まれる。
(1)2,2−ジフェニル−5−ヒドロキシメチル−6−
メチル−9−メトキシ−2H−ナフト[1,2−b]ピラ
ン;(2)2,2,−ジフェニル−5−ヒドロキシメチル−
6−フェニル−2H−ナフト[1,2−b]ピラン;(3)
2,2−ジフェニル−5−(2−エトキシ−2−オキソ−
エトキシカルボニル)−8−メチル−2H−ナフト[1,2
−b]ピラン;(4)2,2−ジフェニル−5−メトキシ
カルボニル−8−メチル−2H−ナフト[1,2−b]ピラ
ン;(5)3−(2−フルオロフェニル)−3−(4−
メトキシフェニル)−8−メトキシ−9−メトキシカル
ボニル−3H−ナフト[2,1−b]ピラン;(6)3,3−ジ
(4−メトキシフェニル)−6−モルホリノ−3H−ナフ
ト[2,1−b]ピラン;(7)3−(2−メチル−2,3−
ジヒドロベンゾフラン−5−イル)−3−(4−メトキ
シフェニル)−6−モルホリノ−3H−ナフト[2,1−
b]ピラン;(8)3,3−ジフェニル−8−メトキシ−3
H−ナフト[2,1−b]ピラン;(9)2,2−ジフェニル
−4−メトキシカルボニル−5−(2−メチルプロピオ
ニルオキシ)−2H−ナフト[1,2−b]ピラン;及び(1
0)上記ナフトピランの混合物;からなる群から選択さ
れるものが含まれる。
上述の群(b)のホトクロミックナフトピランには、
(1)3−(4−メトキシフェニル)−3−(3−メチ
ル−4−メトキシフェニル)−13−ヒドロキシ−インデ
ノ[2,1−f]ナフト[1,2−b]ピラン;(2)3,3−
ジ(4−メトキシフェニル)−13−ヒドロキシ−13−メ
チル−インデノ[2,1−f]ナフト[1,2−b]ピラン;
(3)3,3−ジ(4−メトキシフェニル)−6,11−ジメ
チル−13−(1−メチルエチル)−13−ヒドロキシ−イ
ンデノ[2,1−f]ナフト[1,2−b]ピラン;(4)3
−(4−メトキシフェニル)−3−(3,4−ジメトキシ
フェニル)−6,11−ジメチル−13,13−ジプロピル−イ
ンデノ[2,1−f]ナフト[1,2−b]ピラン;および
(5)該ナフトピランの混合物;からなる群から選択さ
れるものが含まれる。
(1)3−(4−メトキシフェニル)−3−(3−メチ
ル−4−メトキシフェニル)−13−ヒドロキシ−インデ
ノ[2,1−f]ナフト[1,2−b]ピラン;(2)3,3−
ジ(4−メトキシフェニル)−13−ヒドロキシ−13−メ
チル−インデノ[2,1−f]ナフト[1,2−b]ピラン;
(3)3,3−ジ(4−メトキシフェニル)−6,11−ジメ
チル−13−(1−メチルエチル)−13−ヒドロキシ−イ
ンデノ[2,1−f]ナフト[1,2−b]ピラン;(4)3
−(4−メトキシフェニル)−3−(3,4−ジメトキシ
フェニル)−6,11−ジメチル−13,13−ジプロピル−イ
ンデノ[2,1−f]ナフト[1,2−b]ピラン;および
(5)該ナフトピランの混合物;からなる群から選択さ
れるものが含まれる。
より好ましくは、群(a)のホトクロミックナフトピ
ラン化合物は、(1)2,2−ジフェニル−5−(2−エ
トキシ−2−オキソ−エトキシカルボニル)−8−メチ
ル−2H−ナフト[1,2−b]ピラン;(2)2,2−ジフェ
ニル−5−メトキシカルボニル−8−メチル−2H−ナフ
ト[1,2−b]ピラン;および(3)上記ナフトピラン
の混合物;からなる群から選択される。また、より好ま
しくは、群(b)のホトクロミックナフトピラン化合物
は3,3−ジ(4−メトキシフェニル)−6,11−ジメチル
−13−(1−メチルエチル−13−ヒドロキシ−インデノ
[2,1−f]ナフト[1,2−b]ピランである。
ラン化合物は、(1)2,2−ジフェニル−5−(2−エ
トキシ−2−オキソ−エトキシカルボニル)−8−メチ
ル−2H−ナフト[1,2−b]ピラン;(2)2,2−ジフェ
ニル−5−メトキシカルボニル−8−メチル−2H−ナフ
ト[1,2−b]ピラン;および(3)上記ナフトピラン
の混合物;からなる群から選択される。また、より好ま
しくは、群(b)のホトクロミックナフトピラン化合物
は3,3−ジ(4−メトキシフェニル)−6,11−ジメチル
−13−(1−メチルエチル−13−ヒドロキシ−インデノ
[2,1−f]ナフト[1,2−b]ピランである。
実際に行う実施例や特に断らない場合は、波長、成分
の量、反応条件の範囲を表すような、本明細書で用い請
求の範囲に示した数値には「約」の文言を付して理解さ
れるべきである。
の量、反応条件の範囲を表すような、本明細書で用い請
求の範囲に示した数値には「約」の文言を付して理解さ
れるべきである。
有機ポリマーホストに塗布されるが組み込まれるホト
クロミックナフトピランの量は、活性化した状態で裸眼
により識別できるホトクロミック効果を提供できるのに
十分な量で用いるという条件で厳密ではない。一般には
このような量がホトクロミック量と表現されている。具
体的な使用量はホトクロミック化合物の照射において望
まれる色の強度およびホトクロミック化合物を組み込む
かまたは塗布するかという使用方法にしばしば依存す
る。典型的には、塗布されるか組み込まれるホトクロミ
ック化合物の量が多くなるほど色強度は一定限界まで大
きくなる。
クロミックナフトピランの量は、活性化した状態で裸眼
により識別できるホトクロミック効果を提供できるのに
十分な量で用いるという条件で厳密ではない。一般には
このような量がホトクロミック量と表現されている。具
体的な使用量はホトクロミック化合物の照射において望
まれる色の強度およびホトクロミック化合物を組み込む
かまたは塗布するかという使用方法にしばしば依存す
る。典型的には、塗布されるか組み込まれるホトクロミ
ック化合物の量が多くなるほど色強度は一定限界まで大
きくなる。
好ましくは、ここで説明されるホトクロミック有機ナ
フトピランは、ホトクロミック化合物または化合物の混
合物が塗布されるかその中にそれらが組み込まれる有機
担体、例えば、固体ポリマーホストが所望の生成色、例
えば、フィルターされていない太陽光で活性化された場
合の実質的な中間色、すなわち、活性化されたホトクロ
ミック化合物の中間色にできるだけ近い中間色を示すよ
うな量(および割合)で用いられる。
フトピランは、ホトクロミック化合物または化合物の混
合物が塗布されるかその中にそれらが組み込まれる有機
担体、例えば、固体ポリマーホストが所望の生成色、例
えば、フィルターされていない太陽光で活性化された場
合の実質的な中間色、すなわち、活性化されたホトクロ
ミック化合物の中間色にできるだけ近い中間色を示すよ
うな量(および割合)で用いられる。
中間灰色は、400〜700ナノメートルの可視範囲におい
て、比較的等しい吸収を有するスペクトルを示す。中間
褐色は、400〜550ナノメートルの範囲における吸収が、
550〜700ナノメートルの範囲におけるよりも適度に大き
いスペクトルを示す。色を記述する選択的方法は、輝度
要素(luminance factor)に加えて色の質、即ち色度を
記述する色度座標である。CIEシステムにおいては、三
刺激値のそれらの合計に対する比を求めることによっ
て、色度座標が得られる。例えば、x=X/(X+Y+
Z)およびy=Y/(X+Y+Z)である。CIEシステム
において記述される色を、色度図にプロットすることが
でき、通常は色度座標xおよびyのプロットである。F.
W.Billmeyer,Jr.およびMax Saltzmanによる、Principle
s of Color Technology、第47〜52頁、第2版、John Wi
ley and Sons、ニューヨーク、1981年、を参照のこと。
同様の条件下での近中間色の以前の定義、例えば米国特
許第4968454号、第3欄、第24〜30頁は、色度座標x
(0.260〜0.400)およびy(0.280〜0.400)に関する特
定の範囲を設定している。これらの範囲は、a★に関し
ては−43.6〜54.0であり、b★に関しては−22.5〜33.1
である、CIELABカラーシステムにおけるa★およびb★
の範囲に対応する。好ましくは、本明細書に使用される
近中間色とは、その色に関する「x」および「y」の色
度座標値が、D65発光体および10度観測装置において、
下記の範囲内にある色を意味する。太陽照射(気団1ま
たは2)に露出することによって40%視感透過に活性化
後に、x=0.274〜0.355、y=0.300〜0.365。CIELAB色
空間において表すと、中間色は、「a★」および
「b★」の色度座標値が、前記と同じ条件下において、
a★に関して−10〜+10であり、b★に関して−10〜+
10である色を意味する。
て、比較的等しい吸収を有するスペクトルを示す。中間
褐色は、400〜550ナノメートルの範囲における吸収が、
550〜700ナノメートルの範囲におけるよりも適度に大き
いスペクトルを示す。色を記述する選択的方法は、輝度
要素(luminance factor)に加えて色の質、即ち色度を
記述する色度座標である。CIEシステムにおいては、三
刺激値のそれらの合計に対する比を求めることによっ
て、色度座標が得られる。例えば、x=X/(X+Y+
Z)およびy=Y/(X+Y+Z)である。CIEシステム
において記述される色を、色度図にプロットすることが
でき、通常は色度座標xおよびyのプロットである。F.
W.Billmeyer,Jr.およびMax Saltzmanによる、Principle
s of Color Technology、第47〜52頁、第2版、John Wi
ley and Sons、ニューヨーク、1981年、を参照のこと。
同様の条件下での近中間色の以前の定義、例えば米国特
許第4968454号、第3欄、第24〜30頁は、色度座標x
(0.260〜0.400)およびy(0.280〜0.400)に関する特
定の範囲を設定している。これらの範囲は、a★に関し
ては−43.6〜54.0であり、b★に関しては−22.5〜33.1
である、CIELABカラーシステムにおけるa★およびb★
の範囲に対応する。好ましくは、本明細書に使用される
近中間色とは、その色に関する「x」および「y」の色
度座標値が、D65発光体および10度観測装置において、
下記の範囲内にある色を意味する。太陽照射(気団1ま
たは2)に露出することによって40%視感透過に活性化
後に、x=0.274〜0.355、y=0.300〜0.365。CIELAB色
空間において表すと、中間色は、「a★」および
「b★」の色度座標値が、前記と同じ条件下において、
a★に関して−10〜+10であり、b★に関して−10〜+
10である色を意味する。
使用されるホトクロミックナフトピラン化合物の相対
量はこれら化合物の活性種の色の相対強度、および望ま
れる最終的な色に一部依存して変化する。一般に、選択
された担体と組み合わせて使用されるホトクロミック化
合物の合計量は、ホトクロミック化合物(単一または複
数)が組み込まれるか塗布される体積または表面の1cm2
あたり約0.05〜約1.0、例えば0.1〜約0.45の範囲であり
うる。
量はこれら化合物の活性種の色の相対強度、および望ま
れる最終的な色に一部依存して変化する。一般に、選択
された担体と組み合わせて使用されるホトクロミック化
合物の合計量は、ホトクロミック化合物(単一または複
数)が組み込まれるか塗布される体積または表面の1cm2
あたり約0.05〜約1.0、例えば0.1〜約0.45の範囲であり
うる。
本発明の方法では、効果量の安定剤系はホトクロミッ
クナフトピランの前、後または同時に担体に添加され
る。安定剤系の個々の材料は別々の材料は別々にまたは
同時に担体に添加されてよい。安定剤系の成分およびホ
トクロミックナフトピランは当業界で知られている種々
の方法により担体に塗布されるかまたは組み込まれる。
このような方法には、安定剤成分および/またはナフト
ピラン化合物(添加剤)を有機溶媒または有機ポリマー
ホスト材料中に溶解または分散させる方法、例えば、重
合の前にモノマーホスト材料に添加剤を加えることによ
りその場で注型する方法;添加剤の熱溶液中にホスト材
料を浸漬するか、または熱移動により添加剤をホスト材
料に吸収させる方法;ホスト材料の隣接層の間の分離
層、例えば、ポリマーフィルムの一部として添加剤を提
供する方法;ホスト材料の表面上に設けられた被覆の一
部として添加剤を塗布する方法;および安定剤系の個々
の材料を塗布するためにこれらの方法の組み合わせを用
いる方法;等がある。「吸収」または「吸収する」とい
う語は、フォトクロミック化合物単独でのホスト材料へ
の浸透、多孔質ポリマーへのフォトクロミック化合物の
溶媒補助移動、蒸気相移動、および他のそのような移動
機構を意味し包含する。
クナフトピランの前、後または同時に担体に添加され
る。安定剤系の個々の材料は別々の材料は別々にまたは
同時に担体に添加されてよい。安定剤系の成分およびホ
トクロミックナフトピランは当業界で知られている種々
の方法により担体に塗布されるかまたは組み込まれる。
このような方法には、安定剤成分および/またはナフト
ピラン化合物(添加剤)を有機溶媒または有機ポリマー
ホスト材料中に溶解または分散させる方法、例えば、重
合の前にモノマーホスト材料に添加剤を加えることによ
りその場で注型する方法;添加剤の熱溶液中にホスト材
料を浸漬するか、または熱移動により添加剤をホスト材
料に吸収させる方法;ホスト材料の隣接層の間の分離
層、例えば、ポリマーフィルムの一部として添加剤を提
供する方法;ホスト材料の表面上に設けられた被覆の一
部として添加剤を塗布する方法;および安定剤系の個々
の材料を塗布するためにこれらの方法の組み合わせを用
いる方法;等がある。「吸収」または「吸収する」とい
う語は、フォトクロミック化合物単独でのホスト材料へ
の浸透、多孔質ポリマーへのフォトクロミック化合物の
溶媒補助移動、蒸気相移動、および他のそのような移動
機構を意味し包含する。
適合性(化学的および色的に)の色、即ち染料を、ホ
スト材料に適用して、医学的理由から、またはファッシ
ョン的理由から、より審美的な結果を得ることができ
る。選択される特定の染料は、前記の必要性および得る
べき結果に依存して変化する。1つの実施態様において
は、活性フォトクロミック化合物から生じる色を補うよ
うに、例えば、より中間色が得られるように、または入
射光の特定の波長を吸収するように、染料を選択するこ
とができる。他の実施態様においては、フォトクロミッ
ク化合物が不活性状態にあるときに、ホストマトリック
スに所望の色相を与えるように、染料を選択することが
できる。
スト材料に適用して、医学的理由から、またはファッシ
ョン的理由から、より審美的な結果を得ることができ
る。選択される特定の染料は、前記の必要性および得る
べき結果に依存して変化する。1つの実施態様において
は、活性フォトクロミック化合物から生じる色を補うよ
うに、例えば、より中間色が得られるように、または入
射光の特定の波長を吸収するように、染料を選択するこ
とができる。他の実施態様においては、フォトクロミッ
ク化合物が不活性状態にあるときに、ホストマトリック
スに所望の色相を与えるように、染料を選択することが
できる。
ポリマーホスト担体は通常、透明であるが、半透明さ
らには不透明であってもよい。フォトクロミック材料を
活性化させる電磁スペクトルの部分、即ち、該材料の開
放(open)または着色状態を生じる紫外(UV)線の波
長、およびUV活性状態、即ち開放状態の該材料の吸収極
大波長を含む可視スペクトルの部分に対してのみ、担体
が透過性(pervious)であることが要求される。好まし
くは、担体の色は、フォトクロミック化合物の活性状態
の色を遮断する(mask)ような色であってはならない。
即ち、従って、色の変化は観察者に非常に明白である。
らには不透明であってもよい。フォトクロミック材料を
活性化させる電磁スペクトルの部分、即ち、該材料の開
放(open)または着色状態を生じる紫外(UV)線の波
長、およびUV活性状態、即ち開放状態の該材料の吸収極
大波長を含む可視スペクトルの部分に対してのみ、担体
が透過性(pervious)であることが要求される。好まし
くは、担体の色は、フォトクロミック化合物の活性状態
の色を遮断する(mask)ような色であってはならない。
即ち、従って、色の変化は観察者に非常に明白である。
本発明の担体は、有機溶媒または有機ポリマーホスト
であってもよい。有機溶媒は、ベンゼン、トルエン、メ
チルエチルケトン、アセトン、エタノール、テトラヒド
ロフルフリルアルコール、N−メチルピロリジノン、2
−メトキシエチルエーテル、キシレン、シクロヘキサ
ン、3−メチルシクロヘキサノン、エチルアセテート、
テトラヒドロフラン、メタノール、メチルプロピオネー
ト、エチレングルコール、およびそれらの混合物から成
る群から選択することができる。好ましくは、有機溶媒
は、アセトン、エタノール、テトラヒドロフルフリルア
ルコール、2−メトキシエチルエーテル、3−メチルシ
クロヘキサノン、N−メチルピロリジノン、およびそれ
らの混合物から成る群から選択されるのが好ましい。
であってもよい。有機溶媒は、ベンゼン、トルエン、メ
チルエチルケトン、アセトン、エタノール、テトラヒド
ロフルフリルアルコール、N−メチルピロリジノン、2
−メトキシエチルエーテル、キシレン、シクロヘキサ
ン、3−メチルシクロヘキサノン、エチルアセテート、
テトラヒドロフラン、メタノール、メチルプロピオネー
ト、エチレングルコール、およびそれらの混合物から成
る群から選択することができる。好ましくは、有機溶媒
は、アセトン、エタノール、テトラヒドロフルフリルア
ルコール、2−メトキシエチルエーテル、3−メチルシ
クロヘキサノン、N−メチルピロリジノン、およびそれ
らの混合物から成る群から選択されるのが好ましい。
好ましくは、担体は、有機固体ホスト材料である固体
透明または光学的透明材料であり、例えば、平面および
眼用レンズ、窓、自動車透明物、例えば、フロントガラ
ス、航空機透明物、プラスチックシート、ポリマーフィ
ルムなどのような光学用途に適した材料である。
透明または光学的透明材料であり、例えば、平面および
眼用レンズ、窓、自動車透明物、例えば、フロントガラ
ス、航空機透明物、プラスチックシート、ポリマーフィ
ルムなどのような光学用途に適した材料である。
ポリマー有機ホスト材料の例は、下記の群: (a)式VII: [式中、R6およびR7は、同じかまたは異なっていてもよ
く、水素またはメチルであり、nは1〜20、好ましくは
1〜10の整数である。] で示されるジアクリレートまたはジメタクリレート化合
物; (b)式VIII: [式中、pは1〜50、好ましくは1〜10の整数であ
る。] で示されるジアクリレートまたはジメタクリレート化合
物;および (c)式IX: [式中、R8は水素またはメチルである。] で示されるアクリレートまたはメタクリレート化合物; から選択される個々のモノマーまたはモノマーの混合物
から製造されるポリマーである。
く、水素またはメチルであり、nは1〜20、好ましくは
1〜10の整数である。] で示されるジアクリレートまたはジメタクリレート化合
物; (b)式VIII: [式中、pは1〜50、好ましくは1〜10の整数であ
る。] で示されるジアクリレートまたはジメタクリレート化合
物;および (c)式IX: [式中、R8は水素またはメチルである。] で示されるアクリレートまたはメタクリレート化合物; から選択される個々のモノマーまたはモノマーの混合物
から製造されるポリマーである。
式VII、VIII、およびIXにおいて、種々の置換基の定
義に関して使用される同じ文字は、同じ意味を有する。
義に関して使用される同じ文字は、同じ意味を有する。
式VIIおよびVIIIで示されるジアクリレートまたはジ
メタクリレート化合物の例は、ジエチレングリコールジ
メタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレ
ートなど、ブタンジオールジメタクリレートおよびポリ
(オキシアルキレンジメタクリレート)、例えばポリエ
チレングリコール(600)ジメタクリレートを包含す
る。式IXで示されるアクリレートまたはメタクリレート
化合物の例は、グリシジルアクリレートおよびグリシジ
ルメタクリレートを包含する。
メタクリレート化合物の例は、ジエチレングリコールジ
メタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレ
ートなど、ブタンジオールジメタクリレートおよびポリ
(オキシアルキレンジメタクリレート)、例えばポリエ
チレングリコール(600)ジメタクリレートを包含す
る。式IXで示されるアクリレートまたはメタクリレート
化合物の例は、グリシジルアクリレートおよびグリシジ
ルメタクリレートを包含する。
本発明の担体として使用することができるポリマー有
機ホスト材料の他の例は、下記のものを包含する: 式VII、VIIIおよびIXで示されるモノマーおよびモノマ
ーの混合物、ビス(アリルカーボネート)モノマー、ジ
イソプロペニルベンゼンモノマー、エトキシル化ビスフ
ェノールAジメタクリレートモノマー、エチレングリコ
ールビスメタクリレートモノマー、ポリ(エチレングリ
コール)ビスメタクリレートモノマー、エトキシル化フ
ェノールビスメタクリレートモノマー、アルコキシル化
多値アルコールポリアクリレートモノマー、例えば、エ
トキシル化トリメチロールプロパントリアクリレートモ
ノマー、米国特許第5373033号に記載のようなウレタン
アクリレートモノマー、米国特許第5475074号に記載の
ようなビニルベンゼンモノマー、およびスチレン;ポリ
マー、すなわち、多官能性、例えば、モノ−、ジ−、ま
たはマルチ−官能性、アクリレートおよび/またはメタ
クリレートモノマーのホモポリマーおよびコポリマー、
ポリ(C1〜C12アルキルメタクリレート)、例えば、ポ
リ(メチルメタクリレート)、ポリ(アルコキシル化フ
ェノールメタクリレート)、セルロースアセテート、セ
ルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピ
オネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ(ビ
ニルアセテート)、ポリ(ビニルアルコール)、ポリ
(ピニルクロリド)、ポリ(ビニリデンクロリド)、ポ
リウレタン、熱可塑性ポリカーボネート、ポリエステ
ル、ポリ(エチレンテレフタレート)、ポリスチレン、
ポリ(α−メチルスチレン)、コポリ(スチレン−メチ
ルメタクリレート)、コポリ(スチレン−アクリロニト
リル)、ポリビニルブチラールおよびシアリリデンペン
タエリトリトールのポリマー、即ち、ホモポリマーおよ
びコポリマー、特に、ポリオール(アリルカーボネー
ト)モノマー、例えば、ジエチレングリコールビス(ア
リルカーボネート)、およびアクリレートモノマー、例
えば、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、との
コポリマー;を包含する。
機ホスト材料の他の例は、下記のものを包含する: 式VII、VIIIおよびIXで示されるモノマーおよびモノマ
ーの混合物、ビス(アリルカーボネート)モノマー、ジ
イソプロペニルベンゼンモノマー、エトキシル化ビスフ
ェノールAジメタクリレートモノマー、エチレングリコ
ールビスメタクリレートモノマー、ポリ(エチレングリ
コール)ビスメタクリレートモノマー、エトキシル化フ
ェノールビスメタクリレートモノマー、アルコキシル化
多値アルコールポリアクリレートモノマー、例えば、エ
トキシル化トリメチロールプロパントリアクリレートモ
ノマー、米国特許第5373033号に記載のようなウレタン
アクリレートモノマー、米国特許第5475074号に記載の
ようなビニルベンゼンモノマー、およびスチレン;ポリ
マー、すなわち、多官能性、例えば、モノ−、ジ−、ま
たはマルチ−官能性、アクリレートおよび/またはメタ
クリレートモノマーのホモポリマーおよびコポリマー、
ポリ(C1〜C12アルキルメタクリレート)、例えば、ポ
リ(メチルメタクリレート)、ポリ(アルコキシル化フ
ェノールメタクリレート)、セルロースアセテート、セ
ルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピ
オネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ(ビ
ニルアセテート)、ポリ(ビニルアルコール)、ポリ
(ピニルクロリド)、ポリ(ビニリデンクロリド)、ポ
リウレタン、熱可塑性ポリカーボネート、ポリエステ
ル、ポリ(エチレンテレフタレート)、ポリスチレン、
ポリ(α−メチルスチレン)、コポリ(スチレン−メチ
ルメタクリレート)、コポリ(スチレン−アクリロニト
リル)、ポリビニルブチラールおよびシアリリデンペン
タエリトリトールのポリマー、即ち、ホモポリマーおよ
びコポリマー、特に、ポリオール(アリルカーボネー
ト)モノマー、例えば、ジエチレングリコールビス(ア
リルカーボネート)、およびアクリレートモノマー、例
えば、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、との
コポリマー;を包含する。
透明コポリマーおよび透明ポリマーのブレンドも、ポ
リマー担体ホスト材料として好適である。好ましくは、
ホスト材料は、 熱可塑性ポリカーボネート樹脂、例えば、商標レクサン
(LEXAN)として市販されている、ビスフェノールAお
よびホスゲンから誘導されるカーボネート結合樹脂; 商標マイラー(MYLAR)として市販されている材料のよ
うなポリエステル; 商品名プレキシガラス(PLEXIGLAS)として市販されて
いる材料のようなポリ(メチルメタクリレート); ポリオール(アリルカーボネート)モノマーの重合体、
特に、商標CR−39として市販されているジエチレングリ
コールビス(アリルカーボネート)モノマーの重合体、
および、 ポリオール(アリルカーボネート)、例えばジエチレン
グリコールビス(アリルカーボネート)と、他の共重合
性モノマー材料とのコポリマー、例えば、ビニルアセテ
ートとのコポリマー、例えば、80〜90%ジエチレングリ
コールビス(アリルカーボネート)と10〜20%ビニルア
セテートとのコポリマー、特に、80〜85%ビス(アリル
カーボネート)と15〜20%ビニルアセテートとのコポリ
マー、および、米国特許第4,360,653号および第4,994,2
08号に記載されている末端ジアクリレート官能価を有す
るポリウレタンとのコポリマーの、重合体; 米国特許第5,200,483号に記載されている末端部分がア
リルまたはアクリル官能基を有する脂肪族ウレタンとの
コポリマー; ポリ(ビニルアセテート)、ポリビニルブチラール、ポ
リウレタン、ジエチレングリコールジメタクリレートモ
ノマー、ジイソプロペニルベンゼンモノマー、エトキシ
ル化ビスフェノールAジメタクリレートモノマー、エチ
レングリコールビスメタクリレートモノマー、ポリ(エ
チレングリコール)ビスメタクリレートモノマー、エト
キシル化フェノールビスメタクリレートモノマーおよび
エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート
モノマーから成る群から選択されるモノマーのポリマ
ー; セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セ
ルロースブチレート、セルロースアセテートブチレー
ト、ポリスチレン、並びに、スチレンと、メチルメタク
リレート、ビニルアセテートおよびアクリロニトリルと
のコポリマー; から製造される光学的に透明な重合有機材料である。
リマー担体ホスト材料として好適である。好ましくは、
ホスト材料は、 熱可塑性ポリカーボネート樹脂、例えば、商標レクサン
(LEXAN)として市販されている、ビスフェノールAお
よびホスゲンから誘導されるカーボネート結合樹脂; 商標マイラー(MYLAR)として市販されている材料のよ
うなポリエステル; 商品名プレキシガラス(PLEXIGLAS)として市販されて
いる材料のようなポリ(メチルメタクリレート); ポリオール(アリルカーボネート)モノマーの重合体、
特に、商標CR−39として市販されているジエチレングリ
コールビス(アリルカーボネート)モノマーの重合体、
および、 ポリオール(アリルカーボネート)、例えばジエチレン
グリコールビス(アリルカーボネート)と、他の共重合
性モノマー材料とのコポリマー、例えば、ビニルアセテ
ートとのコポリマー、例えば、80〜90%ジエチレングリ
コールビス(アリルカーボネート)と10〜20%ビニルア
セテートとのコポリマー、特に、80〜85%ビス(アリル
カーボネート)と15〜20%ビニルアセテートとのコポリ
マー、および、米国特許第4,360,653号および第4,994,2
08号に記載されている末端ジアクリレート官能価を有す
るポリウレタンとのコポリマーの、重合体; 米国特許第5,200,483号に記載されている末端部分がア
リルまたはアクリル官能基を有する脂肪族ウレタンとの
コポリマー; ポリ(ビニルアセテート)、ポリビニルブチラール、ポ
リウレタン、ジエチレングリコールジメタクリレートモ
ノマー、ジイソプロペニルベンゼンモノマー、エトキシ
ル化ビスフェノールAジメタクリレートモノマー、エチ
レングリコールビスメタクリレートモノマー、ポリ(エ
チレングリコール)ビスメタクリレートモノマー、エト
キシル化フェノールビスメタクリレートモノマーおよび
エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート
モノマーから成る群から選択されるモノマーのポリマ
ー; セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セ
ルロースブチレート、セルロースアセテートブチレー
ト、ポリスチレン、並びに、スチレンと、メチルメタク
リレート、ビニルアセテートおよびアクリロニトリルと
のコポリマー; から製造される光学的に透明な重合有機材料である。
特に、本発明のフォトクロミックナフトピランと、光
学的に透明な重合体、即ち、平面または眼用レンズ、
窓、並びに自動車透明物のような光学用途に適した材
料、を製造するために使用される光学有機樹脂モノマー
との組み合わせを使用することが考えられる。そのよう
な光学的に透明な重合体は、約1.48〜約1.75、例えば約
1.495〜約1.66の屈折率を有する。特に、PPGインダスト
リーズ社(PPG Industries,Inc.)によって商品名CR−
307およびCR−407で市販されている光学樹脂が考えられ
る。
学的に透明な重合体、即ち、平面または眼用レンズ、
窓、並びに自動車透明物のような光学用途に適した材
料、を製造するために使用される光学有機樹脂モノマー
との組み合わせを使用することが考えられる。そのよう
な光学的に透明な重合体は、約1.48〜約1.75、例えば約
1.495〜約1.66の屈折率を有する。特に、PPGインダスト
リーズ社(PPG Industries,Inc.)によって商品名CR−
307およびCR−407で市販されている光学樹脂が考えられ
る。
本発明を下記実施例においてより詳しく説明するが、
本発明において多くの改質および変更が当業者に明らか
であるので、該実施例は単に例示的なものに過ぎない。
実施例において、「P−C」の表示はホトクロミック化
合物を意味し、「AO−C」は抗酸化剤化合物を意味し;
「HALS−C」は立体障害アミン光安定化化合物を意味
し;そして「ULA−C」は紫外光吸収化合物を意味し;
「P−C1」は400ナノメートル〜525ナノメートルの範囲
内に可視λmaxを有するナフトピランを意味する。「P
−C1」は2,2−ジフェニル−5−(2−エトキシ−2−
オキソ−エトキシカルボニル)−8−メチル−2H−ナフ
ト[1,2−b]である。化合物「P−C1」は1995年6月1
4日に提出された米国特許出願第08/490,190号に記載の
方法により調製される。
本発明において多くの改質および変更が当業者に明らか
であるので、該実施例は単に例示的なものに過ぎない。
実施例において、「P−C」の表示はホトクロミック化
合物を意味し、「AO−C」は抗酸化剤化合物を意味し;
「HALS−C」は立体障害アミン光安定化化合物を意味
し;そして「ULA−C」は紫外光吸収化合物を意味し;
「P−C1」は400ナノメートル〜525ナノメートルの範囲
内に可視λmaxを有するナフトピランを意味する。「P
−C1」は2,2−ジフェニル−5−(2−エトキシ−2−
オキソ−エトキシカルボニル)−8−メチル−2H−ナフ
ト[1,2−b]である。化合物「P−C1」は1995年6月1
4日に提出された米国特許出願第08/490,190号に記載の
方法により調製される。
「P−C3」は525ナノメートル〜650ナノメートルの範
囲内に可視λmaxを有するナフトピランを意味する。
「P−C3」は3,3−ジ(4−メトキシフェニル)−6,11
−ジメチル−13−(1−メチルエチル)−13−ヒドロキ
シ−インデノ[2,1−f]ナフト[1,2−b]ピランであ
り、これは1995年10月13日に提出された米国特許出願第
08/542,993号に記載の方法により調製される。
囲内に可視λmaxを有するナフトピランを意味する。
「P−C3」は3,3−ジ(4−メトキシフェニル)−6,11
−ジメチル−13−(1−メチルエチル)−13−ヒドロキ
シ−インデノ[2,1−f]ナフト[1,2−b]ピランであ
り、これは1995年10月13日に提出された米国特許出願第
08/542,993号に記載の方法により調製される。
ポリフェノール性抗酸化化合物「AO−C1」は1,3,5−
トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4′−ヒドロキシベ
ンジル)イソシアヌレートであり、チバ−ガイギー社に
より「イルガノックス(IRGANOX)3114」として販売さ
れている。
トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4′−ヒドロキシベ
ンジル)イソシアヌレートであり、チバ−ガイギー社に
より「イルガノックス(IRGANOX)3114」として販売さ
れている。
立体障害アミン光安定剤化合物「HALS−C1」はN−無
置換HALS化合物として報告されており、サンド化学社
(Sandoz Chemicals Corporation)により「サンジュ
ボア3051」としては販売されている。「HALS−C2」は式
XのN−無置換HALS化合物として報告されており、サン
ド化学社により「サンジュボア3052」として販売されて
いる。
置換HALS化合物として報告されており、サンド化学社
(Sandoz Chemicals Corporation)により「サンジュ
ボア3051」としては販売されている。「HALS−C2」は式
XのN−無置換HALS化合物として報告されており、サン
ド化学社により「サンジュボア3052」として販売されて
いる。
「HALS−C3」は式XIのN−無置換HALS化合物として報
告されており、サンド化学社より「サンジュボア3055」
として販売されている。
告されており、サンド化学社より「サンジュボア3055」
として販売されている。
「HALS−C4」は式XIIのN−メチル化HALS化合物とし
て報告されており、サンド化学社より「サンジュボア30
56」として販売されている。
て報告されており、サンド化学社より「サンジュボア30
56」として販売されている。
「HALS−C5」は1−アセチル−4−(3−ドデシル−
2,5−ジオキソ−1−ピロリジニル)−2,2,6,6−テトラ
メチル−ピペリジンと報告されており、サンド化学社よ
り「サンジュボア3058」として販売されている。「HALS
−C6」はビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ニル)デカンジオエートと報告されており、チバ−ガイ
ギー社より「チヌビン(TINUVIN)770」として販売され
ている。
2,5−ジオキソ−1−ピロリジニル)−2,2,6,6−テトラ
メチル−ピペリジンと報告されており、サンド化学社よ
り「サンジュボア3058」として販売されている。「HALS
−C6」はビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ニル)デカンジオエートと報告されており、チバ−ガイ
ギー社より「チヌビン(TINUVIN)770」として販売され
ている。
紫外光吸収(UAL)化合物1は2,4−ビス(2,4−ジメ
チルフェニル)−6−(2−ヒドロキシ−4−イソ−オ
クチルフェニル)−1,3,5−トリアジンであり、アメリ
カン・シアナミド社より「シアガード(CYAGARD)UV−1
164L」として販売されている。「ULA−C2」はo−エト
キシ−o′エチルシュウ酸ビスアニリドであり、サンド
化学社より「サンジュボアVSU」として販売されてい
る。「ULA−C3」は2−シアノ−3,3−ジフェニル−2−
プロペノン酸エチルエステルであり、BASF社より「ユビ
ナル(UVINUL)3035」として販売されている。「ULA−C
4」は2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4,6
−ビス(1,1−ジメチルプロピル)フェノールであり、
チバ−ガイギー社より「チヌビン328」として販売され
ている。
チルフェニル)−6−(2−ヒドロキシ−4−イソ−オ
クチルフェニル)−1,3,5−トリアジンであり、アメリ
カン・シアナミド社より「シアガード(CYAGARD)UV−1
164L」として販売されている。「ULA−C2」はo−エト
キシ−o′エチルシュウ酸ビスアニリドであり、サンド
化学社より「サンジュボアVSU」として販売されてい
る。「ULA−C3」は2−シアノ−3,3−ジフェニル−2−
プロペノン酸エチルエステルであり、BASF社より「ユビ
ナル(UVINUL)3035」として販売されている。「ULA−C
4」は2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4,6
−ビス(1,1−ジメチルプロピル)フェノールであり、
チバ−ガイギー社より「チヌビン328」として販売され
ている。
実施例1 パートA 上述のホトクロミック化合物(P−C)、ポリフェノ
ール性抗酸化剤(AO−C)、HALS(HALS−C)およびUV
光安定剤(ULA−C)で試験を行った。安定剤系の化合
物はここでは実施例添加剤と総称する。担体は光学レン
ズとした。試験試料のレンズは直径76mmであり、「CR−
407」の名称でPPGインダストリーズ社より販売されてい
る光学樹脂から注型した。試験に供するホトクロミック
化合物および実施例添加剤化合物を試料をレンズに吸収
させ、その際、5〜10重量%のホトクロミック化合物、
このホトクロミック化合物の重量%の約0.56倍と等しい
量の添加剤、レンズの上にP−Cおよび添加剤を含有す
るフィルムを形成するのに十分な量のヒドロキシプロピ
ルセルロース樹脂、および100重量%を得るのに十分な
有機溶媒を含む処方を用いた。有機溶媒としてはn−メ
チルピロリドン、2−メトキシエチルエーテル、および
テトラヒドロフルフリルアルコールの重量比20:50:30混
合物を用いた。表1から6に、用いた添加剤化合物また
はホトクロミック化合物の具体的な重量比を列挙する。
吸収処方のフィルムを試験レンズの表面上にスピンコー
ティングし、乾燥させた。ついで、レンズを熱風オーブ
ン中で135〜155℃で十分な時間加熱してホトクロミック
化合物および添加剤をレンズ中に熱移動させた。冷却
後、水およびアセトンで洗浄することにより樹脂フィル
ムを試験試料から除去した。吸収前の樹脂フィルムの平
均乾燥重量は70〜90ミリグラムの範囲であった。試験試
料をオーブン中に保持しておく時間はホトクロミック化
合物が所定量吸収されるように調節した。
ール性抗酸化剤(AO−C)、HALS(HALS−C)およびUV
光安定剤(ULA−C)で試験を行った。安定剤系の化合
物はここでは実施例添加剤と総称する。担体は光学レン
ズとした。試験試料のレンズは直径76mmであり、「CR−
407」の名称でPPGインダストリーズ社より販売されてい
る光学樹脂から注型した。試験に供するホトクロミック
化合物および実施例添加剤化合物を試料をレンズに吸収
させ、その際、5〜10重量%のホトクロミック化合物、
このホトクロミック化合物の重量%の約0.56倍と等しい
量の添加剤、レンズの上にP−Cおよび添加剤を含有す
るフィルムを形成するのに十分な量のヒドロキシプロピ
ルセルロース樹脂、および100重量%を得るのに十分な
有機溶媒を含む処方を用いた。有機溶媒としてはn−メ
チルピロリドン、2−メトキシエチルエーテル、および
テトラヒドロフルフリルアルコールの重量比20:50:30混
合物を用いた。表1から6に、用いた添加剤化合物また
はホトクロミック化合物の具体的な重量比を列挙する。
吸収処方のフィルムを試験レンズの表面上にスピンコー
ティングし、乾燥させた。ついで、レンズを熱風オーブ
ン中で135〜155℃で十分な時間加熱してホトクロミック
化合物および添加剤をレンズ中に熱移動させた。冷却
後、水およびアセトンで洗浄することにより樹脂フィル
ムを試験試料から除去した。吸収前の樹脂フィルムの平
均乾燥重量は70〜90ミリグラムの範囲であった。試験試
料をオーブン中に保持しておく時間はホトクロミック化
合物が所定量吸収されるように調節した。
パートB パートAで製造したフォトクロミック四角片を光学台
(optical bench)上でフォトクロミック応答に関して
試験した。光学台での試験の前に、フォトクロミック試
験四角片を365ナノメートルの紫外線に約15分間露出し
てフォトクロミック化合物を活性化し、次に、76℃の炉
に約15分間入れてフォトクロミック化合物を消色または
不活性化した。次に試験四角片を室温に冷まし、100゜F
(37.8℃)に維持した光学台での試験の前に、室温蛍光
灯に少なくとも2時間露出し、次に少なくとも2時間覆
ったままにした。
(optical bench)上でフォトクロミック応答に関して
試験した。光学台での試験の前に、フォトクロミック試
験四角片を365ナノメートルの紫外線に約15分間露出し
てフォトクロミック化合物を活性化し、次に、76℃の炉
に約15分間入れてフォトクロミック化合物を消色または
不活性化した。次に試験四角片を室温に冷まし、100゜F
(37.8℃)に維持した光学台での試験の前に、室温蛍光
灯に少なくとも2時間露出し、次に少なくとも2時間覆
ったままにした。
300Wキセノンアーク灯、遠隔制御シャッター、アーク
灯の放熱子として機能する硫酸銅浴、短波輻射線を除去
するスコット(Schott)WG−320nmカットオフフィルタ
ー、中間色濃度フィルター、およびその中に試験片が挿
入されるサンプルホルダーを、光学台に取り付けた。タ
ングステン灯からの平行光線が、試験片に対して小角
(約15゜)標準(normal)で、試験片を通過するように
した。キセノンアーク灯で活性化されたレンズ領域を通
過した後、タングステン灯からの光は、470nm及び570nm
の2つの狭いバンドパスフィルター及び明所フィルター
(photopic filter)を通過させるビーム分割により検
出器に向けられた。検出器からのアウトプットシグナル
を、ラジオメーターによって処理した。それぞれの試験
においてラジオメーターにより一定量の光エネルギーが
測定されることを確実にするめにキセノン灯のワット数
および中密度フィルターの変更を行った。
灯の放熱子として機能する硫酸銅浴、短波輻射線を除去
するスコット(Schott)WG−320nmカットオフフィルタ
ー、中間色濃度フィルター、およびその中に試験片が挿
入されるサンプルホルダーを、光学台に取り付けた。タ
ングステン灯からの平行光線が、試験片に対して小角
(約15゜)標準(normal)で、試験片を通過するように
した。キセノンアーク灯で活性化されたレンズ領域を通
過した後、タングステン灯からの光は、470nm及び570nm
の2つの狭いバンドパスフィルター及び明所フィルター
(photopic filter)を通過させるビーム分割により検
出器に向けられた。検出器からのアウトプットシグナル
を、ラジオメーターによって処理した。それぞれの試験
においてラジオメーターにより一定量の光エネルギーが
測定されることを確実にするめにキセノン灯のワット数
および中密度フィルターの変更を行った。
CIELAB色空間のb★色値を、スペクトロガード(SPEC
TROGARD)IIカラー分光光度計を用いてD65発光および10
度観測の条件で収集した。試験条件の調節およびデータ
の収集はラブテック・ノートブック・プロ・ソフトウエ
ア(Labtech Notebook Pro software)および推奨さ
れるI/Oボードを用いて行った。
TROGARD)IIカラー分光光度計を用いてD65発光および10
度観測の条件で収集した。試験条件の調節およびデータ
の収集はラブテック・ノートブック・プロ・ソフトウエ
ア(Labtech Notebook Pro software)および推奨さ
れるI/Oボードを用いて行った。
ホトクロミック応答性の測定の後に、太陽模擬照射に
露出することにより試験レンズを疲労させた。模擬太陽
照射促進天候試験を行うためにヘロイス・サンテスト
(Heraeus Suntest)CPSを用いた。表1〜6に示され
た資料の結果は、ヘロイス・サンテストCPS中のキセノ
ン灯出力に100時間露出した後に得られたものである。
レンズを疲労処理した後、露出前と同じ条件において光
学台を用いてそれらを調製および測定した。
露出することにより試験レンズを疲労させた。模擬太陽
照射促進天候試験を行うためにヘロイス・サンテスト
(Heraeus Suntest)CPSを用いた。表1〜6に示され
た資料の結果は、ヘロイス・サンテストCPS中のキセノ
ン灯出力に100時間露出した後に得られたものである。
レンズを疲労処理した後、露出前と同じ条件において光
学台を用いてそれらを調製および測定した。
促進天候試験の前後の光学濃度(ΔOD)の変化の差異
を測定し、その差異を示す光学濃度の低減%を計算する
ことにより、疲労パーセント(%疲労)を決定した。光
学濃度の変化(ΔOD)は、消色状態の試験レンズを試料
ホルダーに挿入し、透過度(TB)を測定し、キセノンラ
ンプからのシャッターを明けて太陽模擬照射を提供する
ことにより試験試料を消色状態から活性(すなわち、暗
色化)状態に変化させ、活性化状態における透過度
(TA)を測定し、そして式ΔOD=log(TB/TA)(ロガリ
ズムの底は10である。) に従って光学濃度の変化を測定することにより、決定し
た。
を測定し、その差異を示す光学濃度の低減%を計算する
ことにより、疲労パーセント(%疲労)を決定した。光
学濃度の変化(ΔOD)は、消色状態の試験レンズを試料
ホルダーに挿入し、透過度(TB)を測定し、キセノンラ
ンプからのシャッターを明けて太陽模擬照射を提供する
ことにより試験試料を消色状態から活性(すなわち、暗
色化)状態に変化させ、活性化状態における透過度
(TA)を測定し、そして式ΔOD=log(TB/TA)(ロガリ
ズムの底は10である。) に従って光学濃度の変化を測定することにより、決定し
た。
疲労パーセントは、測定されるホトクロミック化合物
の可視λmax、すなわち、470nmおよび570nmの約±15ナ
ノメートル以内の波長に対応するバンドパスフィルター
を用いた特定波長、及び人間に目によって知覚される可
視光オートに密接に対応する明所フィルター(Photopic
filter)により透過される波長について測定した。表
1〜6には、また、(570nmにおける%疲労/470nmにお
ける%疲労)の商を示した。1.0に最も近い値のものが
好ましい。その理由は、そのことはホトクロミック化合
物が同じ速度で疲労することを示し、そしてレンズの寿
命中において安定した活性化色を提供することを示すか
らである。
の可視λmax、すなわち、470nmおよび570nmの約±15ナ
ノメートル以内の波長に対応するバンドパスフィルター
を用いた特定波長、及び人間に目によって知覚される可
視光オートに密接に対応する明所フィルター(Photopic
filter)により透過される波長について測定した。表
1〜6には、また、(570nmにおける%疲労/470nmにお
ける%疲労)の商を示した。1.0に最も近い値のものが
好ましい。その理由は、そのことはホトクロミック化合
物が同じ速度で疲労することを示し、そしてレンズの寿
命中において安定した活性化色を提供することを示すか
らである。
表1の結果は、本発明の安定剤系、特に、実行9およ
び11がホトクロミックナフトピラン化合物「P−C3」/
「P−C1」の60/40混合物について改良された光疲労抵
抗性および許容しうるΔb★値を提供することを示す。
実行9および11について(570nmにおける%疲労/470nm
における%疲労)の商はほぼ1.0である。
び11がホトクロミックナフトピラン化合物「P−C3」/
「P−C1」の60/40混合物について改良された光疲労抵
抗性および許容しうるΔb★値を提供することを示す。
実行9および11について(570nmにおける%疲労/470nm
における%疲労)の商はほぼ1.0である。
表2の結果は、「P−C3」/「P−C1」の割合を表1
のものと変化させ、しかしながら同一の安定剤系を用い
た場合を示す。試験実行9および11について%疲労(明
所)は実質的に同一に保たれるが、Δb★は低減し、
(570nmにおける%疲労/470nmにおける%疲労)の比率
は低下した。
のものと変化させ、しかしながら同一の安定剤系を用い
た場合を示す。試験実行9および11について%疲労(明
所)は実質的に同一に保たれるが、Δb★は低減し、
(570nmにおける%疲労/470nmにおける%疲労)の比率
は低下した。
表3の結果は、安定剤系の成分の量を変化させること
により(570nmにおける%疲労/470nmにおける%疲労)
の商について1.0の値が得られることを示す(実行
6)。しかしながら、%疲労(明所)およびΔb★は、
例えば表1の試験実行11のように低くない。
により(570nmにおける%疲労/470nmにおける%疲労)
の商について1.0の値が得られることを示す(実行
6)。しかしながら、%疲労(明所)およびΔb★は、
例えば表1の試験実行11のように低くない。
表4の結果は、表3の結果と比較して、ホトクロミッ
ク化合物の割合が変化した場合は、疲労の結果も変化す
ることを示す。
ク化合物の割合が変化した場合は、疲労の結果も変化す
ることを示す。
表5の結果は、HALS化合物の組み合わせをフェノール
性抗酸化剤および紫外光吸収剤化合物と組み合わて使用
することによりホトクロミックナフトピラン化合物の光
疲労抵抗性を改良することができることを示す。
性抗酸化剤および紫外光吸収剤化合物と組み合わて使用
することによりホトクロミックナフトピラン化合物の光
疲労抵抗性を改良することができることを示す。
表6の結果も、HALS化合物の組み合わせを(フェノー
ル性抗酸化剤および紫外光吸収剤化合物と組み合わ
て)、ホトクロミックナフトピランの光疲労抵抗性を改
良するために用いうることを示す。
ル性抗酸化剤および紫外光吸収剤化合物と組み合わ
て)、ホトクロミックナフトピランの光疲労抵抗性を改
良するために用いうることを示す。
本発明を、特定の実施態様の特定の詳細に関して説明
した。そのような詳細は、請求の範囲に含まれる限り
は、本発明の範囲を制限するものであると見なすべきで
はない。
した。そのような詳細は、請求の範囲に含まれる限り
は、本発明の範囲を制限するものであると見なすべきで
はない。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI G02C 7/10 G02C 7/10 // C07D 311/92 101 C07D 311/92 101 (56)参考文献 特開 平4−291302(JP,A) 特開 昭52−128156(JP,A) 特開 平3−282445(JP,A) 特開 平3−115385(JP,A) 特開 平3−121188(JP,A) 特開 平3−252493(JP,A) 特開 平5−32965(JP,A) 米国特許5391327(US,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C09K 9/02 G02B 5/23 G02C 7/10
Claims (23)
- 【請求項1】担体、ホトクロミック量の有機ホトクロミ
ックナフトピラン材料、および (a)5〜50重量%の少なくとも1種のポリフェノール
性抗酸化剤、 (b)5〜50重量%の有機紫外光吸収剤、および (c)10〜90重量%の少なくとも1種の立体障害アミン
光安定剤、 の組み合わせを包含する実質量の安定剤系の組み合わせ
を含有する組成物であって、 該安定剤系が該ナフトピラン材料の%明所疲労における
少なくとも30%の低減を提供するのに充分であり、ホト
クロミックナフトピラン材料と安定剤系との重量比が2.
5:1〜1.5:1である組成物。 - 【請求項2】前記安定剤系が、 (a)10〜40重量%のポリフェノール性抗酸化剤であっ
て、該抗酸化剤が、テトラキス[メチレン(3,5−ジ−t
ert−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナメート)]
メタン;1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−
tert−ブチル−4′−ヒドロキシベンジル)ベンゼン;
1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4′−ヒドロ
キシベンジル)イソシアヌレート;3,5−ジ−tert−ブチ
ル−4−ヒドロキシヒドロケイ皮酸トリエステルおよび
1,3,5−トリス(2−ヒドロキシエチル)s−トリアジ
ン−2,4,6−(1H,3H,5H)−トリオン;1,3,5−トリス
(4−tert−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチル
ベンジル)s−トリアジン−2,4,6−(1H,3H,5H)−ト
リオンおよびこれらの混合物からなる群から選択される
もの; (b)10〜40重量%の有機紫外光吸収剤であって、該紫
外光吸収剤が、2−ヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒ
ドロキシフェニルベンゾトリアゾール、オキサルアニリ
ド、2−ヒドロキシフェニル−トリアジン、シンナメー
ト、サリチレート、ホルムアミジン、およびこれらの混
合物からなる群から選択されるもの;および (c)20〜80重量%の立体障害アミン光安定剤であっ
て、該立体障害アミン光安定剤が、ビス(1,2,2,6,6−
ペンタメチル−4−ピペリジニル)[3,5−ビス(1,1−
ジメチルエチル−4−ヒドロキシフェニル)メチル]ブ
チルプロパンジオエート;ビス(2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジニル)デカンジオエート;1−アセチル
−4−(3−ドデシル−2,5−ジオキソ−1−ピロリジ
ニル)−2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジン、および
N−無置換立体障害アミン光安定剤化合物、N−メチル
化立体障害アミン光安定剤化合物およびこれらの混合物
からなる群から選択されるもの; を包含し、ホトクロミックナフトピラン材料と安定剤系
との重量比が2:1〜1.6:1である請求項1記載の組成物。 - 【請求項3】前記安定剤系が、 (a)10〜30重量%の1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−
ブチル−4′−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレー
ト; (b)10〜30重量%の2,4−ビス(2,4−ジメチルフェニ
ル)−6−(2−ヒドロキシ−4−イソ−オクチルフェ
ニル)−1,3,5−トリアジン;および (c)20〜70重量%の1−アセチル−4−(3−ドデシ
ル−2,5−ジオキソ−1−ピロリジニル)−2,2,6,6−テ
トラメチル−ピペリジン、N−無置換立体障害アミン光
安定剤化合物またはこれらの混合物; を包含する請求項2記載の組成物。 - 【請求項4】前記担体が有機溶媒、または有機ポリマー
ホスト材料である請求項1記載の組成物。 - 【請求項5】前記有機溶媒が、ベンゼン、トルエン、メ
チルエチルケトン、アセトン、エタノール、テトラヒド
ロフルフリルアルコール、N−メチルピロリジノン、2
−メトキシエチルエーテル、キシレン、シクロヘキサ
ン、3−メチルシクロヘキサノン、エチルアセテート、
テトラヒドロフラン、メタノール、メチルプロピオネー
ト、エチレングリコールおよびこれらの混合物から成る
群から選択される請求項4記載の組成物。 - 【請求項6】前記有機ポリマーホスト材料が、ポリ
[(C1〜C12)アルキルメタクリレート]、ポリ(オキ
シアルキレンジメタクリレート)、ポリ(アルコキシル
化フェノールメタクリレート)、セルロースアセテー
ト、セルローストリアセテート、セルロースアセテート
プロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ポ
リ(ビニルアセテート)、ポリ(ビニルアルコール)、
ポリ(ビニルクロリド)、ポリ(ビニリデンクロリ
ド)、熱可塑性ポリカーボネート、ポリエステル、ポリ
ウレタン、ポリ(エチレンテレフタレート)、ポリスチ
レン、ポリ(α−メチルスチレン)、コポリ(スチレン
−メチルメタクリレート)、コポリ(スチレン−アクリ
ロニトリル)、ポリビニルブチラール、及びビス(アリ
ルカーボネート)モノマー、多官能性アクリレートモノ
マー、多官能性メタクリレートモノマー、ジエチレング
リコールジメタクリレートモノマー、ジイソプロペニル
ベンゼンモノマー、エトキシル化ビスフェノールAジメ
タクリレートモノマー、エチレングリコールビスメタク
リレートモノマー、ポリ(エチレングリコール)ビスメ
タクリレートモノマー、エトキシル化フェノールビスメ
タクリレートモノマー、アルコキシル化多価アルコール
ポリアクリレートモノマー、スチレンモノマー、ウレタ
ンアクリレートモノマー、グリシジルアクリレートモノ
マー、グリシジルメタクリレートモノマーおよびジアリ
リデンペンタエリスリトールモノマーからなるポリマ
ー、からなる群から選択される請求項4記載の組成物。 - 【請求項7】前記ポリマー有機ホスト材料が、ポリ(メ
チルメタクリレート)、ポリ(エチレングリコールビス
メタクリレート)、ポリ(エトキシル化ビスフェノール
Aジメタクリレート)、熱可塑性ポリカーボネート、ポ
リ(ビニルアセテート)、ポリビニルブチラール、ポリ
ウレタン、およびジエチレングリコールビス(アリルカ
ーボネート)モノマー、ジエチレングリコールジメタク
リレートモノマー、エトキシル化フェノールビスメタク
リレートモノマー、ジイソプロペニルベンゼンモノマー
およびエトキシル化トリメチロールプロパントリアクリ
レートモノマーからなるポリマー、からなる群から選択
される固体透明ポリマーである請求項6記載の組成物。 - 【請求項8】前記安定剤系が、 (a)10〜30重量%の1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−
ブチル−4′−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレー
ト; (b)10〜30重量%の2,4−ビス(2,4−ジメチルフェニ
ル)−6−(2−ヒドロキシ−4−イソ−オクチルフェ
ニル)−1,3,5−トリアジン;および (c)20〜70重量%の1−アセチル−4−(3−ドデシ
ル−2,5−ジオキソ−1−ピロリジニル)−2,2,6,6−テ
トラメチル−ピペリジン、N−無置換立体障害アミン光
安定剤化合物またはこれらの混合物; を包含する請求項7記載の組成物。 - 【請求項9】前記固体透明ポリマーがレンズの形態であ
る請求項8記載の組成物。 - 【請求項10】前記ホトクロミックナフトピラン材料
が、担体中に組み込まれた太陽紫外線照射に露出された
場合に、活性化された実質的に中間灰色もしくは褐色を
示すホトクロミックナフトピランの組み合わせを含む請
求項1記載の組成物。 - 【請求項11】前記ホトクロミックナフトピラン材料
が、 (i)400ナノメートル〜525ナノメートルの可視λmax
を有する少なくとも1種の有機ホトクロミックナフトピ
ラン材料、および (ii)525ナノメートル〜650ナノメートルの可視λmax
を有する少なくとも1種の有機ホトクロミックナフトピ
ラン材料、 を含む組み合わせである請求項10記載の組成物。 - 【請求項12】(a)前記ホトクロミックナフトピラン
材料(i)が、 (1)2,2−ジフェニル−5−ヒドロキシメチル−6−
メチル−9−メトキシ−2H−ナフト[1,2−b]ピラ
ン;(2)2,2−ジフェニル−5−ヒドロキシメチル−
6−フェニル−2H−ナフト[1,2−b]ピラン;(3)
2,2−ジフェニル−5−(2−エトキシ−2−オキソ−
エトキシカルボニル)−8−メチル−2H−ナフト[1,2
−b]ピラン;(4)2,2−ジフェニル−5−メトキシ
カルボニル−8−メチル−2H−ナフト[1,2−b]ピラ
ン;(5)3−(2−フルオロフェニル)−3−(4−
メトキシフェニル)−8−メトキシ−9−メトキシカル
ボニル−3H−ナフト[2,1−b]ピラン;(6)2,2−ジ
フェニル−4−メトキシカルボニル−5−(2−メチル
プロピオニルオキシ)−2H−ナフト[1,2−b]ピラ
ン;および(7)該ナフトピランの混合物からなる群か
ら選択され; (b)前記ホトクロミックナフトピラン材料(ii)が、
(1)3−(4−メトキシフェニル)−3−(3−メチ
ル−4−メトキシフェニル)−13−ヒドロキシ−インデ
ノ[2,1−f]ナフト[1,2−b]ピラン;(2)3,3−
ジ(4−メトキシフェニル)−13−ヒドロキシ−13−メ
チル−インデノ[2,1−f]ナフト[1,2−b]ピラン;
(3)3,3−ジ(4−メトキシフェニル)−6,11−ジメ
チル−13−(1−メチルエチル)−13−ヒドロキシ−イ
ンデノ[2,1−f]ナフト[1,2−b]ピラン;(4)3
−(4−メトキシフェニル)−3−(3,4−ジメトキシ
フェニル)−6,11−ジメチル−13,13−ジプロピル−イ
ンデノ[2,1−f]ナフト[1,2−b]ピラン;および
(5)該ナフトピランの混合物からなる群から選択され
る、請求項11記載の組成物。 - 【請求項13】前記安定剤系が、 (a)10〜30重量%の1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−
ブチル−4′−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレー
ト; (b)10〜30重量%の2,4−ビス(2,4−ジメチルフェニ
ル)−6−(2−ヒドロキシ−4−イソ−オクチルフェ
ニル)−1,3,5−トリアジン;および (c)20〜70重量%の1−アセチル−4−(3−ドデシ
ル−2,5−ジオキソ−1−ピロリジニル)−2,2,6,6−テ
トラメチル−ピペリジン、N−無置換立体障害アミン光
安定剤化合物またはこれらの混合物; を含有する請求項12記載の組成物。 - 【請求項14】前記担体がレンズである請求項13記載の
組成物。 - 【請求項15】(a)5〜50重量%の少なくとも1種の
ポリフェノール性抗酸化剤、 (b)5〜50重量%の有機紫外光吸収剤、および (c)10〜90重量%の少なくとも1種の立体障害アミン
光安定剤、 の組み合わせの実質的な量の安定剤系をホトクロミック
組成物中に組み込む工程を包含する、有機ホトクロミッ
クナフトピラン材料と担体とを含有するホトクロミック
組成物の光疲労抵抗性を改良するための方法であって、 該安定剤系が該ナフトピラン材料の%明所疲労における
少なくとも30%の低減を提供するのに充分であり、ホト
クロミックナフトピラン材料と安定剤系との重量比が2.
5:1〜1.5:1である方法。 - 【請求項16】前記安定剤系が、 (a)10〜40重量%のポリフェノール性抗酸化剤であっ
て、該抗酸化剤が、テトラキス[メチレン(3,5−ジ−t
ert−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナメート)]
メタン;1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−
tert−ブチル−4′−ヒドロキシベンジル)ベンゼン;
1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4′−ヒドロ
キシベンジル)イソシアヌレート;3,5−ジ−tert−ブチ
ル−4−ヒドロキシヒドロケイ皮酸トリエステルおよび
1,3,5−トリス(2−ヒドロキシエチル)s−トリアジ
ン−2,4,6−(1H,3H,5H)−トリオン;1,3,5−トリス
(4−tert−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチル
ベンジル)s−トリアジン−2,4,6−(1H,3H,5H)−ト
リオンおよびこれらの混合物からなる群から選択される
もの; (b)10〜40重量%の有機紫外光吸収剤であって、該紫
外光吸収剤が、2−ヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒ
ドロキシフェニルベンゾトリアゾール、オキサルアニリ
ド、2−ヒドロキシフェニル−トリアジン、シンナメー
ト、サリチレート、ホルムアミジン、およびこれらの混
合物からなる群から選択されるもの;および (c)20〜80重量%の立体障害アミン光安定剤であっ
て、該立体障害アミン光安定剤が、ビス(1,2,2,6,6−
ペンタメチル−4−ピペリジニル)[3,5−ビス(1,1−
ジメチルエチル−4−ヒドロキシフェニル)メチル]ブ
チルプロパンジオエート;ビス(2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジニル)デカンジオエート;1−アセチル
−4−(3−ドデシル−2,5−ジオキソ−1−ピロリジ
ニル)−2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジン、および
N−無置換立体障害アミン光安定剤化合物、N−メチル
化立体障害アミン光安定剤化合物およびこれらの混合物
からなる群から選択されるもの; を包含し、ホトクロミックナフトピラン材料と安定剤系
との重量比が2:1〜1.6:1である請求項15記載の方法。 - 【請求項17】前記安定剤系が、 (a)10〜30重量%の1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−
ブチル−4′−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレー
ト; (b)10〜30重量%の2,4−ビス(2,4−ジメチルフェニ
ル)−6−(2−ヒドロキシ−4−イソ−オクチルフェ
ニル)−1,3,5−トリアジン;および (c)20〜70重量%の1−アセチル−4−(3−ドデシ
ル−2,5−ジオキソ−1−ピロリジニル)−2,2,6,6−テ
トラメチル−ピペリジン、N−無置換立体障害アミン光
安定剤化合物またはこれらの混合物; を包含する請求項16記載の方法。 - 【請求項18】前記担体が有機溶媒、または有機ポリマ
ーホストである請求項17記載の方法。 - 【請求項19】前記有機溶媒が、ベンゼン、トルエン、
メチルエチルケトン、アセトン、エタノール、テトラヒ
ドロフルフリルアルコール、N−メチルピロリジノン、
2−メトキシエチルエーテル、キシレン、シクロヘキサ
ン、3−メチルシクロヘキサノン、エチルアセテート、
テトラヒドロフラン、メタノール、メチルプロピオネー
ト、エチレングリコールおよびこれらの混合物から成る
群から選択される請求項18記載の方法。 - 【請求項20】前記ポリマー有機ホスト材料が、ポリ
(メチルメタクリレート)、ポリ(エチレングリコール
ビスメタクリレート)、ポリ(エトキシル化ビスフェノ
ールAジメタクリレート)、熱可塑性ポリカーボネー
ト、ポリ(ビニルアセテート)、ポリビニルブチラー
ル、ポリウレタン、およびジエチレングリコールビス
(アリルカーボネート)モノマー、ジエチレングリコー
ルジメタクリレートモノマー、エトキシル化フェノール
ビスメタクリレートモノマー、ジイソプロペニルベンゼ
ンモノマーおよびエトキシル化トリメチロールプロパン
トリアクリレートモノマーからなるポリマー、からなる
群から選択される固体透明ポリマーである請求項18記載
の方法。 - 【請求項21】前記ホトクロミックナフトピラン材料
が、担体中に組み込まれ太陽紫外線照射に露出された場
合に、活性化された実質的に中間灰色もしくは褐色を示
すホトクロミックナフトピランの組み合わせを含む請求
項20記載の方法。 - 【請求項22】前記ホトクロミックナフトピラン材料
が、 (i)400ナノメートル〜525ナノメートルの可視λmax
を有する少なくとも1種の有機ホトクロミックナフトピ
ラン材料、および (ii)525ナノメートル〜650ナノメートルの可視λmax
を有する少なくとも1種の有機ホトクロミックナフトピ
ラン材料、 を含む組み合わせである請求項21記載の方法。 - 【請求項23】前記固体透明ポリマーがレンズの形態で
ある請求項22記載の方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/639,855 | 1996-04-19 | ||
US639,855 | 1996-04-19 | ||
US08/639,855 US5770115A (en) | 1996-04-19 | 1996-04-19 | Photochromic naphthopyran compositions of improved fatigue resistance |
PCT/US1997/006209 WO1997040409A1 (en) | 1996-04-19 | 1997-04-14 | Photochromic naphthopyran compositions of improved fatigue resistance |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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