JP3188375B2 - 層流素子 - Google Patents
層流素子Info
- Publication number
- JP3188375B2 JP3188375B2 JP07757695A JP7757695A JP3188375B2 JP 3188375 B2 JP3188375 B2 JP 3188375B2 JP 07757695 A JP07757695 A JP 07757695A JP 7757695 A JP7757695 A JP 7757695A JP 3188375 B2 JP3188375 B2 JP 3188375B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- disk
- type
- laminar flow
- flow element
- spacer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F5/00—Measuring a proportion of the volume flow
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/68—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using thermal effects
- G01F1/684—Structural arrangements; Mounting of elements, e.g. in relation to fluid flow
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/68—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using thermal effects
- G01F1/684—Structural arrangements; Mounting of elements, e.g. in relation to fluid flow
- G01F1/6842—Structural arrangements; Mounting of elements, e.g. in relation to fluid flow with means for influencing the fluid flow
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F5/00—Measuring a proportion of the volume flow
- G01F5/005—Measuring a proportion of the volume flow by measuring pressure or differential pressure, created by the use of flow constriction
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、流量センサのバイパ
ス部等に用いられる層流素子に関するものである。
ス部等に用いられる層流素子に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の層流素子としては、米国特許第３
８５１５２６号公報に示されるものが知られている。こ
の層流素子は、流体がディスク表面に形成した極細の溝
を流れるように構成したものである。このため、流体中
のパーティクル等が詰まりやすく、圧損による測定誤差
の原因となることがある。また、ディスクが複数枚積層
された構成を採るため、ディスク間において流体流路と
なる部分以外の表面積が大きく、ディスク間の隙間に侵
入した流体のパージを行い難く、半導体製造工程に用い
た場合には、コンタミネーションの原因となる。更に、
ディスクが腐食したり汚れたりした場合に、極細の溝の
部分は洗浄し難いという問題点がある。
８５１５２６号公報に示されるものが知られている。こ
の層流素子は、流体がディスク表面に形成した極細の溝
を流れるように構成したものである。このため、流体中
のパーティクル等が詰まりやすく、圧損による測定誤差
の原因となることがある。また、ディスクが複数枚積層
された構成を採るため、ディスク間において流体流路と
なる部分以外の表面積が大きく、ディスク間の隙間に侵
入した流体のパージを行い難く、半導体製造工程に用い
た場合には、コンタミネーションの原因となる。更に、
ディスクが腐食したり汚れたりした場合に、極細の溝の
部分は洗浄し難いという問題点がある。
【０００３】また、米国特許第４４９７２０２号公報に
示される層流素子についても、上記とほぼ同様の問題点
がある上、ディスクの加工が難しいという問題点があ
る。そこで、米国特許第５０４４１９９号公報に示され
る層流素子が提供されている。この層流素子は、流体が
重管の内表面を流れる構造である点で、流体が極細溝を
流れる前記層流素子の問題点をある程度改善する。
示される層流素子についても、上記とほぼ同様の問題点
がある上、ディスクの加工が難しいという問題点があ
る。そこで、米国特許第５０４４１９９号公報に示され
る層流素子が提供されている。この層流素子は、流体が
重管の内表面を流れる構造である点で、流体が極細溝を
流れる前記層流素子の問題点をある程度改善する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この層
流素子は筒状のフロー・スプリッターの挿入度合いによ
り圧損を調整する構成であるため、圧損の調整が難し
い。また、一度設定した圧損が、機械的衝撃により容易
に変化する問題点がある。更に、構造が複雑であり、作
成に手間がかかり、コストも上昇するという問題点があ
った。
流素子は筒状のフロー・スプリッターの挿入度合いによ
り圧損を調整する構成であるため、圧損の調整が難し
い。また、一度設定した圧損が、機械的衝撃により容易
に変化する問題点がある。更に、構造が複雑であり、作
成に手間がかかり、コストも上昇するという問題点があ
った。
【０００５】本発明は上記の従来例に係る層流素子の問
題点を解決せんとしてなされたもので、その目的は、構
造が簡単であり、作成が容易であり、しかも、適切に圧
損を調整することの容易な層流素子を提供することであ
る。また、他の目的は、パーティクルが詰まり難く、か
つ、洗浄の容易な層流素子を提供することである。
題点を解決せんとしてなされたもので、その目的は、構
造が簡単であり、作成が容易であり、しかも、適切に圧
損を調整することの容易な層流素子を提供することであ
る。また、他の目的は、パーティクルが詰まり難く、か
つ、洗浄の容易な層流素子を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本願の請求項１に記載の
層流素子は、複数のディスクとスペーサとを交互に重ね
て構成した層流素子であって、前記ディスクは、中央部
に穴が穿設された第１の種類のディスクと、周縁部側に
複数の穴が穿設された第２の種類のディスクとからな
り、前記第１の種類のディスクと前記第２の種類のディ
スクとが、前記スペーサを介して交互に配置されている
ことを特徴とする。
層流素子は、複数のディスクとスペーサとを交互に重ね
て構成した層流素子であって、前記ディスクは、中央部
に穴が穿設された第１の種類のディスクと、周縁部側に
複数の穴が穿設された第２の種類のディスクとからな
り、前記第１の種類のディスクと前記第２の種類のディ
スクとが、前記スペーサを介して交互に配置されている
ことを特徴とする。
【０００７】本願の請求項２に記載の層流素子は、複数
のディスクとスペーサとを交互に重ねて構成した層流素
子であって、前記ディスクは、中央部に穴が穿設された
第１の種類のディスクと、周縁部に略半円状の複数の切
欠部が形成された第２の種類のディスクとからなり、前
記第１の種類のディスクと前記第２の種類のディスクと
が、前記スペーサを介して交互に配置されていることを
特徴とする。
のディスクとスペーサとを交互に重ねて構成した層流素
子であって、前記ディスクは、中央部に穴が穿設された
第１の種類のディスクと、周縁部に略半円状の複数の切
欠部が形成された第２の種類のディスクとからなり、前
記第１の種類のディスクと前記第２の種類のディスクと
が、前記スペーサを介して交互に配置されていることを
特徴とする。
【０００８】本願の請求項３に記載の層流素子は、複数
のディスクとスペーサとを交互に重ねて構成した層流素
子であって、前記ディスクは、ディスク面の所定径の円
周上に穴が穿設された１種類のディスクであり、このデ
ィスクが前記スペーサを介して重ねられ、前記スペーサ
を介して配置されたそれぞれのディスクの前記穴が不一
致の位置に配されていることを特徴とする。
のディスクとスペーサとを交互に重ねて構成した層流素
子であって、前記ディスクは、ディスク面の所定径の円
周上に穴が穿設された１種類のディスクであり、このデ
ィスクが前記スペーサを介して重ねられ、前記スペーサ
を介して配置されたそれぞれのディスクの前記穴が不一
致の位置に配されていることを特徴とする。
【０００９】本願の請求項４に記載の層流素子は、複数
のディスクとスペーサとを交互に重ねて構成した層流素
子であって、前記ディスクは、中央部に穴が穿設された
第１の種類のディスクと、周縁部側に複数の穴が穿設さ
れた第２の種類のディスクと、周縁部側に複数の穴が穿
設されると共に中央部にも穴が穿設された第３の種類の
ディスクとからなり、前記第１の種類のディスクと前記
第２の種類のディスクとにより入口側と出口側との端面
が構成され、これら前記第１の種類のディスクと前記第
２の種類のディスクとの間に、前記スペーサを介して第
３の種類のディスクが複数交互に配置されていることを
特徴とする層流素子。
のディスクとスペーサとを交互に重ねて構成した層流素
子であって、前記ディスクは、中央部に穴が穿設された
第１の種類のディスクと、周縁部側に複数の穴が穿設さ
れた第２の種類のディスクと、周縁部側に複数の穴が穿
設されると共に中央部にも穴が穿設された第３の種類の
ディスクとからなり、前記第１の種類のディスクと前記
第２の種類のディスクとにより入口側と出口側との端面
が構成され、これら前記第１の種類のディスクと前記第
２の種類のディスクとの間に、前記スペーサを介して第
３の種類のディスクが複数交互に配置されていることを
特徴とする層流素子。
【００１０】本願の請求項５に記載の層流素子は、スペ
ーサが薄肉の幅狭リングにより構成されていることを特
徴とする。
ーサが薄肉の幅狭リングにより構成されていることを特
徴とする。
【００１１】本願の請求項６に記載の層流素子は、スペ
ーサがスター状に延びる脚部を有する薄肉部材からな
り、各ディスクの穴を前記スペーサの脚部が塞がぬよう
に配置されていることを特徴とする。
ーサがスター状に延びる脚部を有する薄肉部材からな
り、各ディスクの穴を前記スペーサの脚部が塞がぬよう
に配置されていることを特徴とする。
【００１２】本願の請求項７に記載の層流素子は、重ね
合わせ方により、穿設された穴のパターンが不一致とな
る複数のディスクを、スペーサを介して前後のディスク
間の穴のパターンが不一致となるように重ね合わせて構
成したことを特徴とする。
合わせ方により、穿設された穴のパターンが不一致とな
る複数のディスクを、スペーサを介して前後のディスク
間の穴のパターンが不一致となるように重ね合わせて構
成したことを特徴とする。
【００１３】
【作用】本願の請求項１に記載の層流素子は、上記のよ
うに構成されるので、流体が、第１の種類のディスクの
中央部に穿設された穴から、スペーサによる間隙を介し
て第２の種類のディスクの表面に広がり、この第２の種
類のディスクの周縁部側に穿設された複数の穴へ到りこ
の穴からスペーサによる間隙を介して更に第１の種類の
ディスクの表面に広がる経路を通るようにし、この間に
流体を層流にするように働く。
うに構成されるので、流体が、第１の種類のディスクの
中央部に穿設された穴から、スペーサによる間隙を介し
て第２の種類のディスクの表面に広がり、この第２の種
類のディスクの周縁部側に穿設された複数の穴へ到りこ
の穴からスペーサによる間隙を介して更に第１の種類の
ディスクの表面に広がる経路を通るようにし、この間に
流体を層流にするように働く。
【００１４】本願の請求項２に記載の層流素子は、上記
のように構成されるので、流体が、第１の種類のディス
クの中央部に穿設された穴から、スペーサによる間隙を
介して第２の種類のディスクの表面に広がり、この第２
の種類のディスクの周縁部に形成された略半円状の複数
の切欠部へ到りこの切欠部からスペーサによる間隙を介
して更に第１の種類のディスクの表面に広がる経路を通
るようにし、この間に流体を層流にするように働く。
のように構成されるので、流体が、第１の種類のディス
クの中央部に穿設された穴から、スペーサによる間隙を
介して第２の種類のディスクの表面に広がり、この第２
の種類のディスクの周縁部に形成された略半円状の複数
の切欠部へ到りこの切欠部からスペーサによる間隙を介
して更に第１の種類のディスクの表面に広がる経路を通
るようにし、この間に流体を層流にするように働く。
【００１５】本願の請求項３に記載の層流素子は、上記
のように構成されるので、流体が、ディスク面の所定径
の円周上に穿設された穴から、スペーサによる間隙を介
して次のディスクの表面に広がり、このディスクの面の
所定径の円周上に穿設された穴に向かい、この穴からス
ペーサによる間隙を介して更に次のディスクの表面に広
がる経路を通るようにし、この間に流体を層流にするよ
うに働く。
のように構成されるので、流体が、ディスク面の所定径
の円周上に穿設された穴から、スペーサによる間隙を介
して次のディスクの表面に広がり、このディスクの面の
所定径の円周上に穿設された穴に向かい、この穴からス
ペーサによる間隙を介して更に次のディスクの表面に広
がる経路を通るようにし、この間に流体を層流にするよ
うに働く。
【００１６】本願の請求項４に記載の層流素子は、第１
の種類のディスクと前記第２の種類のディスクとにより
構成された入口側と出口側との端面の間において、第３
の種類のディスクの周縁部側に穿設されている複数の穴
から中央部に穿設された穴へ向かうように、流体が流
れ、この間に流体が層流となって行く。
の種類のディスクと前記第２の種類のディスクとにより
構成された入口側と出口側との端面の間において、第３
の種類のディスクの周縁部側に穿設されている複数の穴
から中央部に穿設された穴へ向かうように、流体が流
れ、この間に流体が層流となって行く。
【００１７】本願の請求項５に記載の層流素子は、上記
のように構成されるので、流体が薄肉の幅狭リングによ
り構成されているスペーサによる間隙を介して、次のデ
ィスクの表面に広がって流れ、ディスクの表面を有効に
流路に転換させる。
のように構成されるので、流体が薄肉の幅狭リングによ
り構成されているスペーサによる間隙を介して、次のデ
ィスクの表面に広がって流れ、ディスクの表面を有効に
流路に転換させる。
【００１８】本願の請求項６に記載の層流素子は、上記
のように構成されるので、スター状の脚部を有するスペ
ーサにより、各ディスク間でそれぞれの穴を連通する間
隙を形成し、流体がこの間隙を介して、次のディスクの
表面に広がって流れ、ディスクの表面を有効に流路に転
換させる。
のように構成されるので、スター状の脚部を有するスペ
ーサにより、各ディスク間でそれぞれの穴を連通する間
隙を形成し、流体がこの間隙を介して、次のディスクの
表面に広がって流れ、ディスクの表面を有効に流路に転
換させる。
【００１９】本願の請求項７に記載の層流素子は、上記
のように構成されるので、１のディスクの穴から流出し
た流体が、スペーサにより構成される間隙を介して次の
ディスクの穴に直接に入り込むことなく、当該ディスク
面上で広がり、穴へ向かう。この繰り返しにより流体が
層流となる。
のように構成されるので、１のディスクの穴から流出し
た流体が、スペーサにより構成される間隙を介して次の
ディスクの穴に直接に入り込むことなく、当該ディスク
面上で広がり、穴へ向かう。この繰り返しにより流体が
層流となる。
【００２０】
【実施例】以下添付図面を参照して、本発明の実施例に
係る層流素子を説明する。各図において、同一の構成要
素には同一の符号を付して重複する説明を省略する。図
１には、本発明の実施例に係る層流素子の分解斜視図が
示されている。本実施例に係る層流素子は、ディスク１
と、これとは種類の異なるディスク３と、ディスク間に
介装されるスペーサ２とにより構成される。図１に示す
２枚のディスク１ー１、１−２と１枚のディスク３とこ
れらディスク間に介装される２枚のスペーサ２ー１、２
−２で基本的な１単位を構成している。ディスク１の面
中央にはやや大径の穴４が穿設され、一方、ディスク３
の面の周縁部側の所定円周上部分には、上記穴４より小
径の４個の穴６ａ〜６ｄが一定間隔で穿設されている。
スペーサ２は0.05mm〜0.3mm の薄肉の幅狭リングにより
構成されている。
係る層流素子を説明する。各図において、同一の構成要
素には同一の符号を付して重複する説明を省略する。図
１には、本発明の実施例に係る層流素子の分解斜視図が
示されている。本実施例に係る層流素子は、ディスク１
と、これとは種類の異なるディスク３と、ディスク間に
介装されるスペーサ２とにより構成される。図１に示す
２枚のディスク１ー１、１−２と１枚のディスク３とこ
れらディスク間に介装される２枚のスペーサ２ー１、２
−２で基本的な１単位を構成している。ディスク１の面
中央にはやや大径の穴４が穿設され、一方、ディスク３
の面の周縁部側の所定円周上部分には、上記穴４より小
径の４個の穴６ａ〜６ｄが一定間隔で穿設されている。
スペーサ２は0.05mm〜0.3mm の薄肉の幅狭リングにより
構成されている。
【００２１】図２は、上記ディスク１−１、１−２、デ
ィスク３、スペーサ２−１、２−２を重ねたときの、各
穴４−１、４−２、６ａ〜６ｄの位置関係を示す断面図
である。この図２及び図１には、矢印により流体の流れ
が示されている。すなわち、流体はディスク１−１の中
央の穴４−１を通りスペーサ２−１により生じる間隙を
介してディスク３の表面に到り、ここで表面を流れて穴
６ａ〜６ｄに到る。この穴６ａ〜６ｄを通った流体はス
ペーサ２−２により生じる間隙を介してディスク１−２
の表面周縁部側に到達し、ここから中央部に穿設されて
いる穴４−２へ収束するように流れる。これを１単位と
して、必要な単位の素子間で上記の流れが繰り返され
る。
ィスク３、スペーサ２−１、２−２を重ねたときの、各
穴４−１、４−２、６ａ〜６ｄの位置関係を示す断面図
である。この図２及び図１には、矢印により流体の流れ
が示されている。すなわち、流体はディスク１−１の中
央の穴４−１を通りスペーサ２−１により生じる間隙を
介してディスク３の表面に到り、ここで表面を流れて穴
６ａ〜６ｄに到る。この穴６ａ〜６ｄを通った流体はス
ペーサ２−２により生じる間隙を介してディスク１−２
の表面周縁部側に到達し、ここから中央部に穿設されて
いる穴４−２へ収束するように流れる。これを１単位と
して、必要な単位の素子間で上記の流れが繰り返され
る。
【００２２】一般的に、流体が層流素子を流れるとき、
流れが層流であれば、流体素子の両端間の差圧は流体の
体積流量に比例する。そして、レイノルズ数が２０００
以下では流れは層流を保つことが知られており、通常は
細いチューブを束ねて層流素子とすることが多い。これ
に対して、本実施例では、スペーサ２により生じる間隙
（0.05mm〜0.3mm ）に流体を流して上記細いチューブを
束ねたものの代わりの役割を果たさせている。
流れが層流であれば、流体素子の両端間の差圧は流体の
体積流量に比例する。そして、レイノルズ数が２０００
以下では流れは層流を保つことが知られており、通常は
細いチューブを束ねて層流素子とすることが多い。これ
に対して、本実施例では、スペーサ２により生じる間隙
（0.05mm〜0.3mm ）に流体を流して上記細いチューブを
束ねたものの代わりの役割を果たさせている。
【００２３】本実施例の上記層流素子のスペーサ２は、
流体の流量に応じてその厚さを変更する。つまり、小流
量の場合には、薄いスペーサを用い、大流量の場合は厚
手のスペーサを用いるか更にスペーサを重ねて間隙を大
きくとる。スペーサによる間隙を大きくとると、大流量
に対応できるが、乱流を生じ易くなる。したがって、ス
ペーサにより間隙を大きくとったときには、図１の単位
を多く積層して用いることにより流体流路の長さを長く
し、大きい流量の流体を層流とすることが可能である。
流体の流量に応じてその厚さを変更する。つまり、小流
量の場合には、薄いスペーサを用い、大流量の場合は厚
手のスペーサを用いるか更にスペーサを重ねて間隙を大
きくとる。スペーサによる間隙を大きくとると、大流量
に対応できるが、乱流を生じ易くなる。したがって、ス
ペーサにより間隙を大きくとったときには、図１の単位
を多く積層して用いることにより流体流路の長さを長く
し、大きい流量の流体を層流とすることが可能である。
【００２４】図３には上記の層流素子が適用される質量
流量センサの構成が示されている。質量流量センサはベ
ース１０にセンサ室の筐体１１を載置し固定して構成さ
れる。ベースにはバイパス穴１２が穿設され、その入口
側では、大径の穴の内壁にネジ１３が形成されている。
バイパス穴１２の中央部１４では、その穴径はディスク
１等の外径に等しく形成され、出口側の径との差により
段部１９を生じる。この中央部１４に図１の単位を数単
位まとめた層流素子２０をセットし、固定ナット１５の
ネジ２４により層流素子２０を押し付け、段部１９との
間で固定する。バイパス穴１２の入口側から筐体１１に
向って連絡穴２２が形成され、バイパス穴１２の出口側
から筐体１１に向かって連絡穴２３が形成されている。
流量センサの構成が示されている。質量流量センサはベ
ース１０にセンサ室の筐体１１を載置し固定して構成さ
れる。ベースにはバイパス穴１２が穿設され、その入口
側では、大径の穴の内壁にネジ１３が形成されている。
バイパス穴１２の中央部１４では、その穴径はディスク
１等の外径に等しく形成され、出口側の径との差により
段部１９を生じる。この中央部１４に図１の単位を数単
位まとめた層流素子２０をセットし、固定ナット１５の
ネジ２４により層流素子２０を押し付け、段部１９との
間で固定する。バイパス穴１２の入口側から筐体１１に
向って連絡穴２２が形成され、バイパス穴１２の出口側
から筐体１１に向かって連絡穴２３が形成されている。
【００２５】連絡穴２２、２３は筐体に設けられたフラ
ンジ１６の装填用の穴に到る。フランジとベース１０と
の間はＯリング１７によりシールされている。フランジ
１６にはセンサ管１８が貫通固定され、センサ管１８は
センサ室１９へ至る。センサ室１９のセンサ管１８の中
央部付近には１対の発熱抵抗体２０Ａ、２０Ｂが巻回さ
れ、図示せぬ抵抗とブリッジ回路を構成し、ブリッジ回
路の平衡不平衡に応じて質量流量が検出される。
ンジ１６の装填用の穴に到る。フランジとベース１０と
の間はＯリング１７によりシールされている。フランジ
１６にはセンサ管１８が貫通固定され、センサ管１８は
センサ室１９へ至る。センサ室１９のセンサ管１８の中
央部付近には１対の発熱抵抗体２０Ａ、２０Ｂが巻回さ
れ、図示せぬ抵抗とブリッジ回路を構成し、ブリッジ回
路の平衡不平衡に応じて質量流量が検出される。
【００２６】上記のように、本実施例の層流素子２０
は、各部品であるディスク１、スペーサ２、ディスク
３、スペーサ２、ディスク１を順次にバイパス穴１２に
投入し、固定ナット１５により固定することで容易に構
成できる。
は、各部品であるディスク１、スペーサ２、ディスク
３、スペーサ２、ディスク１を順次にバイパス穴１２に
投入し、固定ナット１５により固定することで容易に構
成できる。
【００２７】図４には、他の実施例に係る層流素子の分
解斜視図が示されている。この実施例は、図１の実施例
におけるディスク３に代えてディスク７を採用したもの
である。ディスク７の周縁部には等間隔で４カ所に、略
半円状の切欠部８ａ〜８ｄが形成されている。この実施
例においては、流体はディスク１−１の中央の穴４−１
を通りスペーサ２−１により生じる間隙を介してディス
ク７の表面に到り、ここで表面を流れて周縁部の切欠部
８ａ〜８ｄに到る。この穴８ａ〜８ｄを通った流体はス
ペーサ２−２により生じる間隙を介してディスク１−２
の表面周縁部に到達し、ここから中央部の穴４−２へ収
束するように流れる。これを１単位として、必要な単位
の素子間で上記の流れが繰り返される。
解斜視図が示されている。この実施例は、図１の実施例
におけるディスク３に代えてディスク７を採用したもの
である。ディスク７の周縁部には等間隔で４カ所に、略
半円状の切欠部８ａ〜８ｄが形成されている。この実施
例においては、流体はディスク１−１の中央の穴４−１
を通りスペーサ２−１により生じる間隙を介してディス
ク７の表面に到り、ここで表面を流れて周縁部の切欠部
８ａ〜８ｄに到る。この穴８ａ〜８ｄを通った流体はス
ペーサ２−２により生じる間隙を介してディスク１−２
の表面周縁部に到達し、ここから中央部の穴４−２へ収
束するように流れる。これを１単位として、必要な単位
の素子間で上記の流れが繰り返される。
【００２８】図５には、第３の実施例に係る層流素子の
分解斜視図が示されている。この実施例では、ディスク
３０の間にスペーサ２を介装する。ディスク３０には、
周縁部であって直径上の位置に２個の穴３１ａ、３０ｂ
が穿設されている。このディスク３０を交互に９０度ず
つ回転させてずらし、その間にスペーサ２を介装する。
これを繰り返して層流素子とする。この実施例によって
も、流体はディスク３０の表面を流れ層流となる。
分解斜視図が示されている。この実施例では、ディスク
３０の間にスペーサ２を介装する。ディスク３０には、
周縁部であって直径上の位置に２個の穴３１ａ、３０ｂ
が穿設されている。このディスク３０を交互に９０度ず
つ回転させてずらし、その間にスペーサ２を介装する。
これを繰り返して層流素子とする。この実施例によって
も、流体はディスク３０の表面を流れ層流となる。
【００２９】図６には、第４の実施例に係る層流素子の
分解斜視図が示されている。この実施例は、図１のディ
スク３に代えてディスク５０を用い、またスペーサ２に
代えてスペーサ４０を用いる。ディスク５０には周縁部
に３個の穴が等間隔で穿設されている。スペーサ４０は
芯部４２からそれぞれ１２０度の角度をなす脚部４１ａ
〜４１ｃがスター状に延びる。芯部４２の中心から各脚
部４１の先端までの長さはディスク１、５０の半径に等
しい。芯部４２の大きさはディスク１の穴４を塞ぐ大き
さはない。ディスク５０にスペーサ４０を重ねるとき、
脚部４１ａ〜４１ｃが穴５１ａ〜５１ｃに重ならぬよう
に配置する。これを繰り返して層流素子とする。この実
施例によっても流体はスペーサにより生じる間隙により
ディスクの表面を流れ、層流となって行く。
分解斜視図が示されている。この実施例は、図１のディ
スク３に代えてディスク５０を用い、またスペーサ２に
代えてスペーサ４０を用いる。ディスク５０には周縁部
に３個の穴が等間隔で穿設されている。スペーサ４０は
芯部４２からそれぞれ１２０度の角度をなす脚部４１ａ
〜４１ｃがスター状に延びる。芯部４２の中心から各脚
部４１の先端までの長さはディスク１、５０の半径に等
しい。芯部４２の大きさはディスク１の穴４を塞ぐ大き
さはない。ディスク５０にスペーサ４０を重ねるとき、
脚部４１ａ〜４１ｃが穴５１ａ〜５１ｃに重ならぬよう
に配置する。これを繰り返して層流素子とする。この実
施例によっても流体はスペーサにより生じる間隙により
ディスクの表面を流れ、層流となって行く。
【００３０】図７には、第５の実施例に係る層流素子の
分解斜視図が示されている。本実施例に係る層流素子
は、中央部に穴４−１が穿設された第１の種類のディス
ク１と、周縁部側に複数の穴７１ａ、７１ｂ、７１ｃ、
・・・が穿設された第２の種類のディスク７０と、周縁
部側に複数の穴６１ａ、６１ｂ、６１ｃ、・・・が穿設
されると共に中央部にも穴６１が穿設された第３の種類
のディスク６０とを用いて構成される。ディスク１とデ
ィスク７０とにより、層流素子の入口側と出口側との端
面が構成され、これらディスク１とディスク７０との間
に、夫々スペーサ２−１、２−２、２−３を介して上記
第３の種類のディスク６０−１、６０−２が配置され
る。図の８０により示されるディスク６０−１、６０−
２とスペーサ２−２との組を必要数重ねることにより所
望の厚さの層流素子を得ることができる。上記におい
て、ディスク１の穴４−１の径は、ディスク６０の穴６
１の径と等しいかやや小さく形成されている。また、デ
ィスク６０の周縁部側の複数の穴６１ａ、６１ｂ、６１
ｃ、・・・、ディスク７０の周縁部側の複数の穴７１
ａ、７１ｂ、７１ｃ、・・・は、スペーサ２のリングの
内側に円弧状に複数形成された条溝である。
分解斜視図が示されている。本実施例に係る層流素子
は、中央部に穴４−１が穿設された第１の種類のディス
ク１と、周縁部側に複数の穴７１ａ、７１ｂ、７１ｃ、
・・・が穿設された第２の種類のディスク７０と、周縁
部側に複数の穴６１ａ、６１ｂ、６１ｃ、・・・が穿設
されると共に中央部にも穴６１が穿設された第３の種類
のディスク６０とを用いて構成される。ディスク１とデ
ィスク７０とにより、層流素子の入口側と出口側との端
面が構成され、これらディスク１とディスク７０との間
に、夫々スペーサ２−１、２−２、２−３を介して上記
第３の種類のディスク６０−１、６０−２が配置され
る。図の８０により示されるディスク６０−１、６０−
２とスペーサ２−２との組を必要数重ねることにより所
望の厚さの層流素子を得ることができる。上記におい
て、ディスク１の穴４−１の径は、ディスク６０の穴６
１の径と等しいかやや小さく形成されている。また、デ
ィスク６０の周縁部側の複数の穴６１ａ、６１ｂ、６１
ｃ、・・・、ディスク７０の周縁部側の複数の穴７１
ａ、７１ｂ、７１ｃ、・・・は、スペーサ２のリングの
内側に円弧状に複数形成された条溝である。
【００３１】図８には、上記ディスク１、ディスク６０
−１、６０−２、ディスク７０、スペーサ２−１〜２−
３を重ねて構成した層流素子の断面図が示されている。
この図８には、矢印により流体の流れが示されている。
すなわち、流体はディスク１の中央の穴４−１を通り直
進するが、ディスク７０の表面に当たりスペーサ２−３
により生じる間隙を介してディスク７０の穴７１ａ、７
１ｂ、７１ｃ、・・・から流れ出る。また、流体がディ
スク７０の表面に当たることによってスペーサスペーサ
２−２により生じる間隙を介してディスク６０−２の周
縁部側の複数の穴６１ａ−２、６１ｂ−２、６１ｃ−
２、・・・を、また、同様に、スペーサ２−１により生
じる間隙を介してディスク６０−１の周縁部側の複数の
穴６１ａ−１、６１ｂ−１、６１ｃ−１、・・・を流
れ、層流が実現される。
−１、６０−２、ディスク７０、スペーサ２−１〜２−
３を重ねて構成した層流素子の断面図が示されている。
この図８には、矢印により流体の流れが示されている。
すなわち、流体はディスク１の中央の穴４−１を通り直
進するが、ディスク７０の表面に当たりスペーサ２−３
により生じる間隙を介してディスク７０の穴７１ａ、７
１ｂ、７１ｃ、・・・から流れ出る。また、流体がディ
スク７０の表面に当たることによってスペーサスペーサ
２−２により生じる間隙を介してディスク６０−２の周
縁部側の複数の穴６１ａ−２、６１ｂ−２、６１ｃ−
２、・・・を、また、同様に、スペーサ２−１により生
じる間隙を介してディスク６０−１の周縁部側の複数の
穴６１ａ−１、６１ｂ−１、６１ｃ−１、・・・を流
れ、層流が実現される。
【００３２】上記において、スペーサ２−１〜２−３の
厚みは、０．１mm以下とする。これにより、ディスク１
の中央の穴４−１から、ディスク６０−１の周縁部側の
複数の穴６１ａ−１、６１ｂ−１、６１ｃ−１、・・・
までの距離、ディスク６０−２の周縁部側の複数の穴６
１ａ−２、６１ｂ−２、６１ｃ−２、・・・までの距
離、ディスク７０の穴７１ａ、７１ｂ、７１ｃ、・・・
までの距離を、スペーサ２−１〜２−３による間隙幅に
対して十分長くとることができ、良好な層流が実現され
る。
厚みは、０．１mm以下とする。これにより、ディスク１
の中央の穴４−１から、ディスク６０−１の周縁部側の
複数の穴６１ａ−１、６１ｂ−１、６１ｃ−１、・・・
までの距離、ディスク６０−２の周縁部側の複数の穴６
１ａ−２、６１ｂ−２、６１ｃ−２、・・・までの距
離、ディスク７０の穴７１ａ、７１ｂ、７１ｃ、・・・
までの距離を、スペーサ２−１〜２−３による間隙幅に
対して十分長くとることができ、良好な層流が実現され
る。
【００３３】本実施例に係る層流素子においては、ディ
スク６０−１の周縁部側の複数の穴６１ａ−１、６１ｂ
−１、６１ｃ−１、・・・、ディスク６０−２の周縁部
側の複数の穴６１ａ−２、６１ｂ−２、６１ｃ−２、・
・・、ディスク７０の穴７１ａ、７１ｂ、７１ｃ、・・
・、更に、中央部の穴４−１、６１−１、６１−２のコ
ンダクタンスは、ディスク１、６０−１、６０−２、７
０の間のコンダクタンスより十分大きいため、層流素子
全体での圧損は、各ディスク間で生じる圧損に等しい。
このため、図７の８０により示されるディスク６０−
１、６０−２とスペーサ２−２との組の重ね数を増加さ
せることにより、層流素子全体の流量を増加させること
ができる。
スク６０−１の周縁部側の複数の穴６１ａ−１、６１ｂ
−１、６１ｃ−１、・・・、ディスク６０−２の周縁部
側の複数の穴６１ａ−２、６１ｂ−２、６１ｃ−２、・
・・、ディスク７０の穴７１ａ、７１ｂ、７１ｃ、・・
・、更に、中央部の穴４−１、６１−１、６１−２のコ
ンダクタンスは、ディスク１、６０−１、６０−２、７
０の間のコンダクタンスより十分大きいため、層流素子
全体での圧損は、各ディスク間で生じる圧損に等しい。
このため、図７の８０により示されるディスク６０−
１、６０−２とスペーサ２−２との組の重ね数を増加さ
せることにより、層流素子全体の流量を増加させること
ができる。
【００３４】以上の実施例におけるディスクの穴の数、
或いは位置は、必要に応じて適宜変更される。但し、デ
ィスク１を多層に重ねても流体はストレートに穴４を通
過するので、層流素子は実現できない。要は、スペーサ
により生じる間隙部分で次のディスクの表面に流体がぶ
つかるが如く流れるように構成されていれば十分という
ことである。つまり、本発明に係る層流素子は、重ね合
わせ方により、穿設された穴のパターンが不一致となる
複数のディスクを、スペーサを介して前後のディスク間
の穴のパターンが不一致となるように重ね合わせて構成
した層流素子である。勿論、この場合の重ね合わせは、
同軸に重ね合わせることを要する。
或いは位置は、必要に応じて適宜変更される。但し、デ
ィスク１を多層に重ねても流体はストレートに穴４を通
過するので、層流素子は実現できない。要は、スペーサ
により生じる間隙部分で次のディスクの表面に流体がぶ
つかるが如く流れるように構成されていれば十分という
ことである。つまり、本発明に係る層流素子は、重ね合
わせ方により、穿設された穴のパターンが不一致となる
複数のディスクを、スペーサを介して前後のディスク間
の穴のパターンが不一致となるように重ね合わせて構成
した層流素子である。勿論、この場合の重ね合わせは、
同軸に重ね合わせることを要する。
【００３５】
【発明の効果】以上説明したように発明によれば、ディ
スクとスペーサとにより層流素子が構成されるので、部
品点数を少なくし、簡単な構成で、容易に層流素子を構
成できる。また、いずれの請求項の発明も、スペーサに
よる間隙により次のディスク表面に流体を流すように働
くので、面全体を使用する構造でありデッドスペースが
少ない。そして、圧損の設定もスペーサの厚みにより容
易に設定でき、また、ディスクとスペーサの枚数の調整
で必要なリニアリイティを確保できる効果を奏する。ま
た、請求項１乃至４に記載の発明に係る層流素子はディ
スク表面に細溝を有さず、このためパーティクル等が詰
まり難く、また洗浄を行い易い構造である。
スクとスペーサとにより層流素子が構成されるので、部
品点数を少なくし、簡単な構成で、容易に層流素子を構
成できる。また、いずれの請求項の発明も、スペーサに
よる間隙により次のディスク表面に流体を流すように働
くので、面全体を使用する構造でありデッドスペースが
少ない。そして、圧損の設定もスペーサの厚みにより容
易に設定でき、また、ディスクとスペーサの枚数の調整
で必要なリニアリイティを確保できる効果を奏する。ま
た、請求項１乃至４に記載の発明に係る層流素子はディ
スク表面に細溝を有さず、このためパーティクル等が詰
まり難く、また洗浄を行い易い構造である。
【図１】本発明の第１の実施例に係る層流素子の分解斜
視図。
視図。
【図２】本発明の第１の実施例に係る層流素子の断面
図。
図。
【図３】本発明の第１の実施例に係る層流素子を適用し
た質量流量センサの構成図。
た質量流量センサの構成図。
【図４】本発明の第２の実施例に係る層流素子の分解斜
視図。
視図。
【図５】本発明の第３の実施例に係る層流素子の分解斜
視図。
視図。
【図６】本発明の第４の実施例に係る層流素子の分解斜
視図。
視図。
【図７】本発明の第５の実施例に係る層流素子の分解斜
視図。
視図。
【図８】本発明の第５の実施例に係る層流素子の断面
図。
図。
１、１−１、１−２、３、７、３０−１、３０−２、５
０ ディスク ２、２−１、２−２、４０ スペーサ ４、４−１、４−２ 穴 ６ａ〜６ｄ、３０ａ、３０ｂ、５１ａ〜５１ｃ、６０−
１、６０−２ 穴 ８ａ〜８ｄ 切欠部 ４１ａ〜４１ｃ 脚部 ４２ 芯部 ２０ 層流素子 ６１ａ−１、６１ｂ−１、６１ｃ−１、・・・ 穴 ６１ａ−２、６１ｂ−２、６１ｃ−２、・・・ 穴 ７１ａ、７１ｂ、７１ｃ、・・・ 穴
０ ディスク ２、２−１、２−２、４０ スペーサ ４、４−１、４−２ 穴 ６ａ〜６ｄ、３０ａ、３０ｂ、５１ａ〜５１ｃ、６０−
１、６０−２ 穴 ８ａ〜８ｄ 切欠部 ４１ａ〜４１ｃ 脚部 ４２ 芯部 ２０ 層流素子 ６１ａ−１、６１ｂ−１、６１ｃ−１、・・・ 穴 ６１ａ−２、６１ｂ−２、６１ｃ−２、・・・ 穴 ７１ａ、７１ｂ、７１ｃ、・・・ 穴
Claims (7)
- 【請求項１】 複数のディスクとスペーサとを交互に重
ねて構成した層流素子であって、 前記ディスクは、中央部に穴が穿設された第１の種類の
ディスクと、周縁部側に複数の穴が穿設された第２の種
類のディスクとからなり、 前記第１の種類のディスクと前記第２の種類のディスク
とが、前記スペーサを介して交互に配置されていること
を特徴とする層流素子。 - 【請求項２】 複数のディスクとスペーサとを交互に重
ねて構成した層流素子であって、 前記ディスクは、中央部に穴が穿設された第１の種類の
ディスクと、周縁部に略半円状の複数の切欠部が形成さ
れた第２の種類のディスクとからなり、 前記第１の種類のディスクと前記第２の種類のディスク
とが、前記スペーサを介して交互に配置されていること
を特徴とする層流素子。 - 【請求項３】 複数のディスクとスペーサとを交互に重
ねて構成した層流素子であって、 前記ディスクは、ディスク面の所定径の円周上に穴が穿
設された１種類のディスクであり、 このディスクが前記スペーサを介して重ねられ、前記ス
ペーサを介して配置されたそれぞれのディスクの前記穴
が不一致の位置に配されていることを特徴とする層流素
子。 - 【請求項４】 複数のディスクとスペーサとを交互に重
ねて構成した層流素子であって、 前記ディスクは、中央部に穴が穿設された第１の種類の
ディスクと、周縁部側に複数の穴が穿設された第２の種
類のディスクと、周縁部側に複数の穴が穿設されると共
に中央部にも穴が穿設された第３の種類のディスクとか
らなり、 前記第１の種類のディスクと前記第２の種類のディスク
とにより入口側と出口側との端面が構成され、これら前
記第１の種類のディスクと前記第２の種類のディスクと
の間に、前記スペーサを介して第３の種類のディスクが
複数交互に配置されていることを特徴とする層流素子。 - 【請求項５】 スペーサが薄肉の幅狭リングにより構成
されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか
１項に記載の層流素子。 - 【請求項６】 スペーサがスター状に延びる脚部を有す
る薄肉部材からなり、 各ディスクの穴を前記スペーサの脚部が塞がぬように配
置されていることを特徴とする請求項１または請求項２
に記載の層流素子。 - 【請求項７】 重ね合わせ方により、穿設された穴のパ
ターンが不一致となる複数のディスクを、スペーサを介
して前後のディスク間の穴のパターンが不一致となるよ
うに重ね合わせて構成した層流素子。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07757695A JP3188375B2 (ja) | 1994-12-12 | 1995-04-03 | 層流素子 |
| US08/571,235 US5672821A (en) | 1994-12-12 | 1995-12-12 | Laminar flow device |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33145994 | 1994-12-12 | ||
| JP6-331459 | 1994-12-12 | ||
| JP07757695A JP3188375B2 (ja) | 1994-12-12 | 1995-04-03 | 層流素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08219832A JPH08219832A (ja) | 1996-08-30 |
| JP3188375B2 true JP3188375B2 (ja) | 2001-07-16 |
Family
ID=26418657
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07757695A Expired - Fee Related JP3188375B2 (ja) | 1994-12-12 | 1995-04-03 | 層流素子 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5672821A (ja) |
| JP (1) | JP3188375B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101842667B (zh) * | 2007-09-28 | 2012-03-21 | 瑟考仪表科技有限公司 | 用于基于压力的流量控制装置的非堵塞限流装置 |
Families Citing this family (33)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5819803A (en) * | 1996-02-16 | 1998-10-13 | Lebo; Kim W. | Fluid pressure reduction device |
| US5887977A (en) * | 1997-09-30 | 1999-03-30 | Uniflows Co., Ltd. | Stationary in-line mixer |
| EP1008380B1 (en) * | 1998-12-07 | 2004-03-10 | F. Hoffmann-La Roche Ag | Method and device for mixing or dispersing liquids |
| US6305836B1 (en) | 1999-07-09 | 2001-10-23 | Apv North America, Inc. | Force absorbing homogenization valve |
| US6238080B1 (en) | 1999-07-09 | 2001-05-29 | Apv North America, Inc. | Homogenization valve with outside high pressure volume |
| US6244739B1 (en) | 1999-07-09 | 2001-06-12 | Apv North America, Inc. | Valve members for a homogenization valve |
| JP3718631B2 (ja) | 2000-11-30 | 2005-11-24 | ニイガタ・メーソンネーラン株式会社 | 蒸気変換弁 |
| JP2002168407A (ja) | 2000-11-30 | 2002-06-14 | Niigata Masoneilan Co Ltd | 蒸気減温装置 |
| JP3817132B2 (ja) | 2000-11-30 | 2006-08-30 | ニイガタ・メーソンネーラン株式会社 | 蒸気変換弁 |
| DE10123093A1 (de) * | 2001-05-07 | 2002-11-21 | Inst Mikrotechnik Mainz Gmbh | Verfahren und statischer Mikrovermischer zum Mischen mindestens zweier Fluide |
| FR2830615B1 (fr) * | 2001-10-09 | 2004-01-30 | Qualiflow Sa | Dispositif de restriction laminaire d'un fluide, pour controleur de debit notamment |
| US20030155026A1 (en) * | 2002-02-21 | 2003-08-21 | Michlin Vladimir Abramovich | Asymmetrical interference pulsation dampener |
| EP1503186B1 (en) * | 2002-05-29 | 2015-04-29 | CKD Corporation | Thermal flowmeter |
| US7431045B2 (en) * | 2002-08-28 | 2008-10-07 | Horiba Stec, Co., Ltd. | Flow restrictor |
| DE10317166A1 (de) * | 2003-04-15 | 2004-11-04 | Abb Research Ltd. | Gaszähleranordnung mit verbesserter Strömungsgeometrie |
| JP4193612B2 (ja) * | 2003-06-30 | 2008-12-10 | オムロン株式会社 | 整流素子の取付け構造 |
| US8376312B2 (en) | 2003-08-28 | 2013-02-19 | Horiba, Ltd. | Flow restrictor |
| JP2005265819A (ja) * | 2004-02-19 | 2005-09-29 | Keyence Corp | 分流式流量センサ装置 |
| US7178409B2 (en) * | 2004-10-25 | 2007-02-20 | Sierra Instruments, Inc. | Laminar flow meter or controller |
| TWI292473B (en) * | 2005-08-26 | 2008-01-11 | Smc Kk | Flow meter |
| JP4713397B2 (ja) * | 2006-01-18 | 2011-06-29 | 株式会社リコー | 微小流路構造体及び微小液滴生成システム |
| US7520661B1 (en) * | 2006-11-20 | 2009-04-21 | Aeromed Technologies Llc | Static mixer |
| US7509851B1 (en) * | 2007-10-30 | 2009-03-31 | Exquadrum, Inc. | Plasma arcjet tunnel segments and method of making same |
| AR075564A1 (es) * | 2010-02-05 | 2011-04-20 | Diaz Ariel Alejandro | Dispositivo economizador de consumo de agua aplicable a griferia en general |
| WO2013027358A1 (ja) * | 2011-08-24 | 2013-02-28 | パナソニック株式会社 | 圧縮機の弁装置およびこれを備える密閉型圧縮機 |
| US9079140B2 (en) | 2011-04-13 | 2015-07-14 | Microfluidics International Corporation | Compact interaction chamber with multiple cross micro impinging jets |
| DE102011103859A1 (de) * | 2011-05-27 | 2012-11-29 | Krohne Ag | Hilfseinrichtung für Durchflussmessgeräte |
| KR101940325B1 (ko) * | 2011-10-05 | 2019-01-18 | 가부시키가이샤 호리바 에스텍 | 유체 기구 및 상기 유체 기구를 구성하는 지지 부재 및 유체 제어 시스템 |
| US8651137B2 (en) * | 2011-10-21 | 2014-02-18 | Crossroads Machine Inc. | Gas manifold system for steady gas supply at outlet |
| JP6228768B2 (ja) * | 2013-07-09 | 2017-11-08 | 株式会社堀場エステック | 流体抵抗装置 |
| US20150190766A1 (en) * | 2014-01-09 | 2015-07-09 | Pulsafeeder, Inc. | Polymer static mixer |
| CA3032113C (en) * | 2018-02-02 | 2022-05-03 | Ag Growth International Inc. | Atomizer mixing chamber for a seed treater |
| DE102019110073A1 (de) * | 2019-04-16 | 2020-10-22 | Burkert S.A.S. | Strömungswiderstandseinsatz und Durchflussmess- oder Durchflussregeleinrichtung |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3504542A (en) * | 1967-08-21 | 1970-04-07 | Us Army | Air flowmeter |
| US3792609A (en) * | 1971-05-10 | 1974-02-19 | Tylan Corp | Flow splitter |
| US3851526A (en) * | 1973-04-09 | 1974-12-03 | Tylan Corp | Fluid flowmeter |
| US4450718A (en) * | 1982-04-19 | 1984-05-29 | Advanced Semiconductor Materials N.V. | Flow meter including improved laminar flow restrictor device therefor |
| US4497202A (en) * | 1983-05-31 | 1985-02-05 | Dresser Industries, Inc. | Laminar flowmeter |
-
1995
- 1995-04-03 JP JP07757695A patent/JP3188375B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1995-12-12 US US08/571,235 patent/US5672821A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101842667B (zh) * | 2007-09-28 | 2012-03-21 | 瑟考仪表科技有限公司 | 用于基于压力的流量控制装置的非堵塞限流装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5672821A (en) | 1997-09-30 |
| JPH08219832A (ja) | 1996-08-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3188375B2 (ja) | 層流素子 | |
| JP4490108B2 (ja) | 表面領域付着トラップ | |
| US3851526A (en) | Fluid flowmeter | |
| US4497202A (en) | Laminar flowmeter | |
| CA2814499C (en) | Spiral wound membrane element product water tube with external flow grooves | |
| US6886401B2 (en) | Thermal flow sensor having sensor and bypass passages | |
| USRE31570E (en) | Fluid flowmeter | |
| JPS6056219A (ja) | 流量計 | |
| US20210046407A1 (en) | Filtration system | |
| AU2013219171A1 (en) | Flow sensor with multi-position laminar flow element having integrated bypass channels | |
| WO1995008065A1 (en) | Wide range laminar flow element | |
| JP2017534840A (ja) | 微細構造分離フィルタ | |
| EP1503186B1 (en) | Thermal flowmeter | |
| JP4684387B2 (ja) | 流量検出機構及び流量検出機構に用いられる抵抗物の製造方法 | |
| JPH0518799A (ja) | 層流素子およびその製造方法 | |
| JP2017191090A (ja) | バイパスユニット、流量計用ベース、流量制御装置用ベース、流量計、及び流量制御装置 | |
| JPH02138827A (ja) | マスフロー流量計 | |
| JPH01145524A (ja) | 流量コンバータ | |
| JPH062156U (ja) | 層流素子 | |
| US20220011278A1 (en) | Mixer for liquid chromatography | |
| JP3683421B2 (ja) | 濾過エレメント | |
| CN109641167A (zh) | 用于压紧式褶皱构型过滤件的固定刚性壁装置 | |
| US11624454B2 (en) | Flow resistance insert and a flow rate measuring or flow rate control means | |
| JP2535089Y2 (ja) | 層流素子 | |
| JPH076488Y2 (ja) | 層流比例増幅素子流量計 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20010403 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080511 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090511 Year of fee payment: 8 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |