JP3183647B2 - パラレル配向液晶表示素子 - Google Patents
パラレル配向液晶表示素子Info
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Description
し、特に光学補償ベンドモード(OCBモード:opt
ically self−compensated b
irefringence mode)セルにおける、
スプレイ−ベンド転移の容易な液晶表示素子に関する。
した表示装置についての原理や構造や製造方法等の一般
的な事項は、例えば山崎照彦他2名監修 「カラーTF
T液晶ディスプレイ」 共立出版株式会社 1996年
刊、佐々木照夫他1名編著 「液晶ディスプレイのすべ
て」 工業調査会 1993年刊、中田一郎他2名著
「液晶入門」 幸書房 1992年刊 内田龍男編著
「次世代液晶ディスプレ技術」 工業調査会 1994
年刊等に記載されている周知技術である。
にラビング処理)についても、例えば液晶若手研究会編
「液晶ディスプレイの最先端」 シグマ出版1996
年刊、特にその「7」、「8」等やその参考文献リスト
に挙げられている文献に記載され、更にこれに用いる布
の材質、使用するローラの要目等も周知の技術である。
このため、これらについての詳細な説明は省略し、本発
明に直接関係の深い技術についてのみ説明する。
向するガラス基板、電極間に液晶が存在すること、ガラ
ス基板の断面は直方形になること等は周知事項である。
このため、例えば断面図においてガラス基板の断面に横
斜線を入れること等は、かえって図が煩雑となり、更に
はかえって発明の要部の位置がわかり難くなったりする
ため、図で上下対象の部分であるのを示す等の他は原則
として省略する。更に、明細書での説明に直接の関係の
ない部分の表示等も、図がかえって煩雑となるため原則
として省略する。
る。液晶表示素子は、ブラウン管等に比較して薄型で軽
量、かつ低消費電力のディスプレイ{画(映)像表示}
素子である。このためテレビやビデオなどの画像表示装
置や、モニター、ワープロ、パーソナルコンピュータな
どの事務(OA)機器の表示部に広く用いられている。
ば、ネマティック液晶を用いたツイステッドネマティッ
ク(TN)モ−ドの液晶表示素子が実用化されている
が、これは応答が遅くまた視野角が狭い等の欠点を有し
ている。また、応答が速く、視野角が広い強誘電性液晶
(FLC)、あるいは反強誘電性液晶(AFLC)等も
あるが、現時点では耐ショック性、温度特性等に大きな
欠点があり、広く実用化されるまでには至っていない。
を使用した表示モ−ドは、偏光板を必要とせず、高輝度
表示が可能であるが、本質的に位相板による視角制御が
出来ないうえ、現時点では応答特性に課題を有してお
り、このためTNモードの液晶に対する優位性は少な
い。
ードとして光学補償ベンド(OCB)モ−ドが提案され
た(特開平7−84254)。
8は相対向するガラス基板である。2と7は、同じく相
対向する透明電極である。3と6は、同じく配向膜であ
る。そして、この配向膜間に液晶層4が存在することと
なる。13と16は、同じく偏光板である。17と18
は、同じく位相補償板である。
対向する二枚の基板上(間)の液晶分子を、平行かつ同
一方向へ配向処理しスプレイ配向51を形成した液晶セ
ルに電圧印加することにより、本図の右側に示すごとく
セル中央部にベンド配向(あるいはねじれ配向を含んだ
ベンド配向)52を誘起させることと、低電圧駆動と視
野角拡大のために位相補償板17、18を液晶セル外側
に配設することを特徴としたものである。
的には中間調表示域においても高速応答が可能であると
同時に広い視野角特性を有している。また、表示が黒に
なる電圧は位相補償板によって調整可能という特徴をも
有している。なおここに、視野角が広いのは、上下の配
向膜近傍のベンド部が図17の右側に示すごとく反対方
向となっているため相互に補償しあうことによる。なお
また、位相補償板を調整することにより、一層の低電圧
駆動とすることも可能である。
波新聞 1995年5月25日等33面、特別企画「広
視野角・高速液晶ディスプレイの開発」、第26回画像
光学コンファレンス(1995年)P211〜216
「OCB型液晶を用いた広視野角・高速応答ディスプレ
イ」、フラットパネルディスプレイ 1994年版 P
170「TFTの広視野角化:高速応答が可能OCBモ
ード、配向の安定化がかぎ」、その他特開平7−842
54号、特開平9−96790号等に記載されている周
知技術である。このためこれ以上の一般的な説明は省略
する。
Bモードの液晶表示素子では、上記の文献にもある程度
記載されているが、ユーザがこの液晶を採用した表示盤
を使用する際には、使用のたび毎に初期のスプレイ配向
状態から電圧印加によりベンド配向状態にする初期化処
理が必要不可欠である。
の初期化処理に分単位の時間が必要である。といって、
20V等の高圧で印加するようにするためには、別途の
回路が必要となり、液晶表示装置のコストアップにつな
がったりするため好ましくない。このため、数V程度の
電圧印加により容易にベンド配向が形成される、そして
勿論転移速度の速いOCBモードの液晶表示素子が望ま
れていた。
される映像装置に使用する場合には、100万個程ある
画素のなかにはどうしても何等かの理由で転移しない画
素が生じるが、かかる画素をそのままにしておくと映像
の品質を劣化させかねない。このため、使用に際して全
ての画素を確実に転移させることのできる技術の開発が
望まれていた。
みなされたものである。本発明は、後に詳しく説明する
が、スプレイ−ベンド転位には、液晶層中央付近で液晶
ダイレクタ方位が基板に垂直になることと、一方の配向
膜界面でのプレチルト角が小さくなることが重要なこと
を発見したことに基づくものである。
加による液晶分子の立ち上がりかたが周囲の液晶分子の
立ち上がりかたと逆の領域を有する液晶表示素子として
いる。第2に、該スプレイ配向の液晶領域が少なくとも
1組のスプレイ配向の部分に配向分割されるとともに、
各組内のスプレイ配向の方向が180度異なるように配
向処理が成されている液晶表示素子としている。
チルト角が上下でお互いに異なることを特徴とする液晶
表示素子を用いることとしている。第4に、少なくとも
前記一方の基板の液晶層と接する面上に、当該部位での
液晶層の配向が電圧印加による液晶分子の立ち上がりか
たが周囲の液晶分子の立ち上がりかたと逆になるよう、
基板面に対して傾斜した面を有する凸形状物や凹状の凹
みを有する液晶表示素子としている。
項1の発明においては、対向する基板内面に形成された
電極上の配向膜を互いに略平行に配向処理することによ
り形成されるスプレイ配向の液晶領域を有するパラレル
配向液晶表示素子であって、電圧印加時に液晶層中央部
にベンド配向が形成されるとともに、スプレイ−ベンド
転移時に基板近傍の液晶分子が基板面に水平となる領域
を形成する手段を有し、スプレイ−ベンド転移時に基板
近傍の液晶分子が基板面に水平となる領域を形成する手
段が、配向膜面上に設けられた、お互いにその配向処理
方向が略180度異なる正配向処理部と負配向処理部と
を含むことを特徴とする。
形態に基づいて説明する。図17は、本発明に係る液晶
表示装置の作用、構成を説明するための概念図である。
そして、左側の51はスプレイ配向を示した液晶分子で
あり、右側の52はベンド配向を示した液晶分子であ
る。そして、表示では、このベンド配向の状態が使用さ
れる。
51を示す液晶表示素子は、メーカでの製造時やユーザ
による使用していない状態のものであり、使用に際して
この状態の液晶表示素子に初期化電圧を印加すると、右
側に示すベンド配向52を形成する。しかしこれは、前
述のごとく初期化のための電圧印加と同時に形成される
わけではない。すなわち、初期化電圧を加えると、以下
に示すように液晶表示素子内液晶のダイレクタ分布が過
程を経てスプレイ配向からベンド配向へと変化する。
示素子に、電圧を0→V1→V2→V3→V4→V5
(0<V1<V2<V3<V4<V5)と順次増加させ
て加えてしていったときの、液晶層内の液晶ダイレクタ
の動きの印加電圧による相違を模式的に(大よその傾向
として)表したものである。なおこの場合、左右(本図
での左右。従って使用状態では表と裏等)両配向膜界面
での液晶プレチルト角(電圧無印加時での液晶プレチル
ト角)の初期値は同一に設定してある。
容を説明する。図18の(a)は、電圧無印加のときの
液晶の配向状態(スプレイ配向)を表している。この場
合には当然セル中央の液晶ダイレクタは基板に水平であ
る。図18の(a)から図18の(g)において、▼印
は液晶ダイレクタが配向膜(基板)に水平である液晶層
厚み方向の位置を表している。
以上の電圧V1を印加すると、動きを拘束する配向膜か
ら離れているため一番動き易いセル中央の液晶分子が最
初に(b)に示す如く傾き、それに伴い一方(図では左
側)の配向膜界面での液晶プレチルト角は増大し、他方
(図では右側)の配向膜界面での液晶プレチルト角は減
少する。そしてこのとき、基板に水平な液晶ダイレクタ
が存在する位置は低プレチルト側の配向膜界面に近づ
く。
(高くなった)場合であり、図示の左側の高プレチルト
配向膜3界面でのプレチルト角は更に大きくなってお
り、図の右側の低プレチルト配向膜4界面でのプレチル
ト角は更に小さくなっている。更に電圧を上げた(d)
においては、基板に水平なダイレクタ方位を有する液晶
分子は殆ど低プレチルト配向膜界面近傍に存在すること
となっている。
移直前の配向状態を表し、(f)は電圧V5印加により
ベンド配向となった時点での配向状態を表している。
(e)においても配向膜に平行なダイレクタ方位を有す
る液晶分子は存在するが、(f)においては配向膜に平
行なダイレクタ方位を有する液晶分子は存在しない。一
旦(f)の配向状態となった液晶表示素子は、(g)に
示される配向状態(定常状態)に速やかに移行する。
レイ−ベンド転移がなされるためには、液晶層中央付近
で液晶ダイレクタ方位が配向膜(基板)に垂直(直交)
になっていることと、一方の配向膜界面でのプレチルト
角が小さくなっていることが重要であることが分かる。
逆に言うならば、かかる如くすることにより速やかなス
プレイ−ベンド転移がなされることとなる。即ち、この
ため、本発明はこのスプレイ−ベンド転移を速やかに起
こさせるべく、液晶層中央付近での液晶ダイレクタ方位
や配向膜界面でのプレチルト角を最適とすべく種々の手
段を講じているものである。
する。 (第1実施例)図1は、本発明に係る液晶表示素子の第
1実施例の断面構成を概念的に示したものであり、スプ
レイ−ベンド転移時間の実験に用いたテストセルであ
る。本図においては、図14に示した液晶表示素子と同
じ部品(部材、構成のもの)については、同一の符号を
付してある。なお、5はスペーサである。
あるが、まず透明電極2、7を有する2枚のガラス基板
1、8上に日産化学工業製配向膜塗料SE−7492を
スピンコート法にて塗布し、180℃の恒温槽中で1時
間硬化させて配向膜3、6を形成した。
画素毎に図2の(a)に示す方向にラビング処理を施
し、積水ファインケミカル(株)製スペーサ及びストラ
クトボンド352A(三井東圧化学(株)製シール樹脂
の商品名)を用いて基板間隔が6.5μmとなるように
貼り合わせ、本実施例の液晶セル(以下、この液晶セル
を液晶セルAとする)を作成した。
3のラビング処理は、図2の(a)の上側に示す如く、
各画素とも全面同一とした。一方、下側の配向膜6のラ
ビング処理は、一旦上側の配向膜側と同一方位にラビン
グ処理を行った後、マスクラビングの手法を用いて図2
の(a)の下側に示すごとく右端のみ部分的に逆方向に
行った。同様に、本実施例の変形例(応用例)として図
2の(b)及び図2の(c)の各下側に示されるよう
に、逆方向ラビング領域の形状、配置が各上側と異なる
液晶セル9を作製した。これらをそれぞれ液晶セルB、
液晶セルCとする。
て上記液晶セルA、B、C内に注入し、テストセルA、
B、Cとした。最後に、各テストセルに、その偏光軸が
配向膜のラビング処理方向と45度の角度をなし、か
つ、お互いの偏光軸方向が直交するように偏光板を上下
から貼合し(前掲の「次世代液晶ディスプレイ技術」の
図1.2 にも記載されている周知技術であり、また煩
雑となる等のため、図1と2では示していない。)、電
圧を印加しながらスプレイ配向からベンド配向への転移
を観察した。
と同じ構造かつ製造方法ではあるが、図3に示す如く上
下の配向膜ともども逆方向ラビング領域を全く有しない
点が異なる液晶セルを作製した。すなわち従来技術のス
プレイ配向液晶セルを作製し、更に上述の液晶MJ96
435を封入してテストセルを製作した。このテストセ
ルをRとする。
ときに、全電極領域がスプレイ配向からベンド配向へと
転移するに要する時間を観察した。表1に、実施例の各
テストセル及び比較例に7V矩形波を印加したときに、
全電極領域がスプレイ配向からベンド配向へと転移する
に要する時間を示す。
であるのに本発明に係る液晶表示素子の実施例1及びそ
の変形例A、B、Cは、スプレイ配向からベンド配向へ
の転移が各5、4、7秒と速やかである。この理由であ
るが、図2の(a)、(b)及び(c)の何れの場合に
おいても、下方の配向膜側の2つのラビング領域の境界
部分では、液晶ダイレクタがテストセル基板面、そして
配向膜面に水平となる部分が存在するため、初期段階よ
り図18の(e)や(f)での低プレチルト配向膜界面
があらかじめ形成されていることにある。
2(a)の相異なる方向の2つのラビング領域の境界部
分の拡大図である。図4において、参照符号Sは境界部
分示す。この境界部分Sの左右両側の液晶層領域の配向
状態を考察すると、境界部分Sの左側液晶層領域では、
配向膜3と配向膜6のラビング方向が同一であるため、
スプレイ配向状態となっている。一方、境界部分Sの右
側液晶層領域では、配向膜3と配向膜6のラビング方向
が逆であるため、ホモジニアス配向状態となっている。
よって、かかる境界部分Sは、スプレイ配向領域S1と
ホモジニアス配向領域S2に挟まれた領域である。この
場合、境界部分Sの配向膜6の界面近傍には、液晶ダイ
レクタが基板に平行となる部分が存在すると考えられ
る。なぜなら、液晶が連続体であることを考慮すれば、
配向膜6の界面近傍において、プレチルト角が正の領域
と負の領域に挟まれた境界部分Sでは必ず液晶ダイレク
タが基板に平行となる部分が存在すると考えられるから
である。そして、配向膜6の界面近傍に、液晶ダイレク
タが基板に平行となる部分が存在することから、境界部
分Sでの配向膜6界面では、プレチルト角が小さくなっ
ている。よって、初期段階より図18の(e)や(f)
での低プレチルト配向膜界面があらかじめ形成されてい
ることになる。このため、境界部分Sで、スプレイから
ベンドへ転移する核の発生が容易となり、この結果、ス
プレイ配向からベンド配向へ容易に転移することにな
る。
て着目すれば、図5に示すようにスプレイ配向領域S1
とホモジニアス配向領域S2の間に境界部分Sが介在し
ている構成となっている。従って、液晶層について図5
に示す構成の配向状態が得られれば、スプレイ配向から
ベンド配向への転移を容易にすることができるものと考
えられる。そして、かかる配向状態の液晶層を構成する
ため、本実施例では配向膜6のラビング処理として配向
膜3と同一方向のラビング処理と逆方向のラビング処理
を行ったものである。
の変位が極めてスムーズに進行するため、高速なスプレ
イ−ベンド転移を実現することができる。(なお、ここ
に重要なことは、液晶ダイレクタがテストセルの配向膜
面に水平であるということよりも、結果としてその近傍
にわずかに傾いた液晶ダイレクタが存在するということ
である。) なお、ここにおいて、配向膜表面での液晶ダイレクタが
配向膜面に完全に平行な領域ではベンド配向が速やかに
は形成されないため、表示領域端部あるいは表示領域
外、例えばブラックマトリックス部に配設することが好
ましい。また、本実施例では液晶プレチルト角の大きさ
を上下配向膜(基板)側でほぼ同一となるようにした
が、後の実施例に示すように上下配向膜面での液晶プレ
チルト角が異なるようにしていても良いのは勿論であ
る。
スプレイ−ベンド転移時間の実験に用いたテストセル
は、その機械的部分の構成、構造は図1に示す先の実施
例と同じである。次に、セルの製作であるが、透明電極
2、7を液晶側面に有する(付着させた)2枚のガラス
基板1、8上に、JSR株式会社製配向膜塗料AL−0
656をスピンコート法にて塗布し、更に180℃の恒
温槽中で1時間硬化させて配向膜3、6を形成した。
つの部分(領域)に分割し、各部分は相向きあう方向に
レーヨン製ラビング布を用いラビング処理を施した。し
かる後、積水ファインケミカル(株)製スペーサ5及び
ストラクトボンド352A(三井東圧化学(株)製シー
ル樹脂の商品名)を用いて基板間隔が8.5μmとなる
ように貼り合せて、液晶セル(以下、この液晶セルを以
下液晶セルDとする)を作製した。なおこの際、図に示
すごとく、両基板上の配向膜のラビング方向が180度
異なった2つの領域の分割は、上下とも丁度液晶表示素
子の真中でなした。次に、液晶MJ96435を真空注
入法にてこの液晶セルD内に注入し、テストセルDとし
た。
の、全電極領域がスプレイ配向からベンド領域へと転移
するに要する時間は5秒であり、極めて高速なスプレイ
−ベンド転移が確認された。本実施例においては、テス
トセルDの2つの配向分割領域の境界部分近傍では液晶
ダイレクタがテストセル基板面に水平となる部分が存在
するため、初期段階より図18の(e)や(f)に示す
低プレチルト配向膜界面が形成されていることとなる。
そのため、液晶ダイレクタの変位が極めてスムーズに進
行するため、高速なスプレイ−ベンド転移が実現される
と思われる。
対向する2つの基板上配向膜のラビング処理の分割位置
を上下で異ならせても良いことは言うまでもない。この
際、素子中には、2つのスプレイ配向領域と、それらの
領域に挟まれたホモジニアス配向(平行配向)領域が形
成されることとなる。そして、この際の液晶表示素子内
の液晶ダイレクタの分布を図7に示す。
び他方の配向膜表面近傍の領域では、液晶ダイレクタが
基板面に対して水平となっており、転移時間5秒という
高速なスプレイ−ベンド転移が確認された。この液晶ダ
イレクタが基板面に対して水平となっている様子を、図
19に概念的に示す。
2の液晶層においては、スプレイ配向領域S1とホモジ
ニアス配向領域S2間に境界部分Sが存在する配向状態
が、基板に平行方向に2層形成されている。従って、図
5の構成が2つ存在していることになる。そのため、各
境界部分Sにおいて、それぞれスプレイからベンドへ転
移する核が発生することになり、実施例1に比べて更に
高速転移可能な液晶表示素子を得ることが可能となる。
のスプレイ−ベンド転移時間の測定に用いた第3実施例
のテストセルの機械的部分の構成、構造は、図1に示す
ものと同じである。次に、セルの製作であるが、まず透
明電極2、7を有する2枚のガラス基板1、8上に日産
化学工業製配向膜塗料SE−7492をスピンコート法
にて塗布し、180℃の恒温槽中で1時間かけて硬化さ
せることにより配向膜を形成した。その後、レーヨン製
ラビング布を用いて図3に示すように上下の配向膜とも
全面同じ方向にラビング処理を施した。
相対的にラビング密度を下げて液晶プレチルト角が8度
となるようにし、下側の配向膜6のラビング処理は逆に
相対的に密度を上げて液晶プレチルト角が2度となるよ
うにした。
の関係であるが、これは配向膜や液晶の具体的な材質、
その他膜の形成手順や熱処理等に応じて最適な圧、速
度、ローラ径、手順、ラビング材等が採られるのは勿論
である。ただし、この最適な内容を個々の手順に応じて
求めることは特に困難なことでなく、また各種パラメー
タやラビング密度や強度の定量化は、例えば前掲の「液
晶ディスプレイの最先端」の「8」、「10.11」、
「10.12」等に大まかではあるが記載されている周
知技術でもある、このため、この内容についての説明は
省略する。
ペーサ及びストラクトボンド352A(三井東圧化学
(株)製シール樹脂の商品名)を用いて基板間隔が8.
5μmとなるように貼り合わせ、液晶セルを作製した。
この液晶セルを液晶セルEとする。更に、液晶MJ96
435を真空注入法にて液晶セルEに注入した。
に、その偏光軸が配向膜のラビング処理方向と45度の
角度をなし、かつ、お互いの偏光軸方向が直交するよう
に偏光板を貼合し、電圧を印加しながらスプレイ配向か
らベンド配向への転移を観察した。テストセルEに7V
矩形波を印加したときに、全電極領域がスプレイ配向か
らベンド領域へと転移するに要する時間は3秒であり、
非常に高速であった。
配向は、そのプレチルト角が上下基板で非対称となって
いるため、最も動き易い液晶層中央での液晶ダイレクタ
方位は配向膜面に対して傾斜して配向していることとな
る。従って、電圧印加による液晶ダイレクタ分布の変位
の方向が印加前に既に決まっており、このため電圧印加
と同時に速やかにスプレイ配向からベンド配向への変位
が進行するものと思われる。
チルト角が他方の配向膜面でそれよりも小さく、界面で
の液晶ダイレクタが基板面に水平になりやすいこともベ
ンド転移を加速する要因の一つになっているものと思わ
れる。そして特に、低プレチルト角側配向膜界面でのプ
レチルト角は、高プレチルト角側配向膜界面でのプレチ
ルト角との差が3度以上のときにその効果が認められ
た。なお低プレチルト角側配向膜界面でのプレチルト角
としては、3度以下が好ましく、より好ましくは2度以
下であるのが観測の結果確かめられた。
表示素子の第4実施例の断面構成を概念的に示した図で
ある。
して形成された凸形状物である。以下、図10〜図12
を用いてこの凸形状物の製造プロセスを説明する。さ
て、この凸形状物の製作であるが、まず透明電極を有す
るガラス基板上にJSR株式会社製PC系レジスト材料
を塗布して厚さ1μmのレジスト薄膜を形成する。
開口部を設けたフォトマスクを通して、平行光紫外線で
照射露光する。この様子を図10に示す。本図におい
て、701はフォトマスクであり、702はフォトマス
ク開口部であり、704は平行紫外線であり、72はレ
ジスト薄膜である。更に、平行光で露光された上記レジ
スト薄膜を現像、リンスし、90℃でプリベークして断
面が凸状の形状物を形成する。この様子を図11に示
す。本図においては、配向膜上に等間隔で平行な凸状の
形状物813が形成されている。
点以上の150℃でポストベークして凸形状物913の
肩をなだらかに順方向に傾斜させて、図12に示すよう
にその断面形状を山の様にした。その後、透明電極を有
するガラス基板及び上記凸形状物の形成されたガラス基
板上に日産化学工業製配向膜塗料SE−7492をスピ
ンコート法にて塗布し、180℃の恒温槽中で1時間硬
化させて配向膜3、6(ただし、図10〜12では図示
していない)を形成した。なおここに、凸状の形状物の
表面に配向膜を設けたのは、液晶の配向性能を考慮した
ものである。
て図3に示す方向にラビング処理を施し、積水ファイン
ケミカル(株)製スペーサ及びストラクトボンド352
A(三井東圧化学(株)製シール樹脂の商品名)を用い
て基板間隔が6.5μmとなるように貼り合わせ、液晶
セルを作成した。この液晶セルを液晶セルFとする。こ
のとき、配向膜界面での液晶プレチルト角が約5度とな
るようなラビング密度でラビング処理を行った。次に、
液晶MJ96435(屈折率異方性Δn =0.138)
を真空注入法にて液晶セルFに注入し、テストセルFと
した。
軸が配向膜のラビング処理方向と45度の角度をなし、
かつ、お互いの偏光軸方向が直交するように偏光板を貼
合し、7V矩形波を印加してスプレイ配向からベンド配
向への転移を観察したところ、約7秒で全電極領域がス
プレイ配向からベンド領域へと転移した。
は、ラビング処理による擦り上げ部と擦り下げ部が存在
するため、結果として液晶プレチルト角の符号が反対の
領域が出来る。即ち、この凸形状部の近傍では液晶ダイ
レクタが基板面に水平になっており、第1実施例〜第4
実施例と同様の理由で、高速なスプレイ−ベンド転移が
達成されたものと思われる。この液晶ダイレクタが基板
面に水平になっている様子を、図20に概念的に示す。
本実施例の如く台形状のものに限定されるものではな
い。その他三角状、半円状でも良いのは言うまでもない
ことである。また、配向膜表面に同様の断面形状を有す
る凹部を作製しても類似の効果が得られるのは勿論であ
る。
晶表示素子の第5実施例の構成を概念的に示す。本図に
おいて、10は正の一軸性(nx >ny =nz )フィル
ムであり、11と14は負の二軸性(nX 〜ny >nz
)フィルムであり、12と15はハイブリッド配列し
た(nZ 軸が光線方向及びこれに直交する方向に存在す
ることとなる。図21に概念的に示す。)負の屈折率異
方性を有する光学媒体よりなる位相差板である。
に、主軸がハイブリット配列した負の屈折率異方性もつ
光学媒体よりなる位相差板12、15、負の二軸性位相
差板11、14、正の一軸性位相差板10、偏光板1
3、16を図14に示す配置で貼合し、液晶表示素子F
を作成した。(本図において、負の二軸性位相差板の主
軸Nz 方向は基板に直交している。)このときの位相差
板12、15、11、14、10のリターデーション値
(retardation、長軸方向と短軸方向の屈折
率の差と厚みの積)は波長550nmの光(視覚性良好
な緑色)に対して、それぞれ26nm、26nm、35
0nm、350nm及び150nmであった。
子Fの正面での電圧−透過率特性を示した表である。1
0Vの矩形波電圧を10秒印加してベンド配向を確認し
た後、電圧を降下させながら測定した。なお、本液晶表
示素子ではベンド配向からスプレイ配向への転移が2.
1Vで起こるため、実効的には2.2V以上の電圧で表
示を行う必要がある。
印加時の輝度で除したコントラスト値(白と黒の光透過
率の比)の視角依存性を表したものである。上下±60
度、左右±80度以上でコントラスト値10が達成され
ており、基板配向膜面上に液晶ダイレクタ方位が周囲と
は異なる部位を一部設けても、充分な広視野角特性が維
持されることが確認された。
たところ、立ち上がり時間は5ミリ秒、立ち下がり時間
は6ミリ秒であった。以上より明らかなように、本発明
の液晶表示素子は、従来のOCBモードの広視野角特性
や応答特性を犠牲にすることなく、高速なスプレイ−ベ
ンド配向転移を達成することが可能であり、その実用的
な価値は極めて大きい。
かの実施例に基づいて説明してきたが、本発明は何も以
上の実施例に限定されないのは勿論である。すなわち、
例えば以下のようにしてもよい。 (1)配向処理は、マスク方式のラビング処理でなく、
他のものとしている。具体的には、配向性膜に偏光した
紫外線を照射して配向膜の分子鎖に異方性を生じさせる
等光や熱で配向性を与える等である。また、将来何か新
しい方法が開発されたならば、その方法としている。
が180°異なる部分は、画素の表示領域外、例えば表
示面側基板に設けられたブラックマトリックス部に設け
るものとし、これにより各画素毎にその領域内での一層
の均等な表示を図っている。更に、処理の都合で完全に
反平行でなく、最大5°のずれがある。
スな領域を表示領域外に設けている。 (4)第3実施例においても、上下の配向膜の配向処理
を上側はレーヨン布等による本来のラビング、下側は光
による等処理の内容をかえている。あるいは、将来の技
術開発のもとで、一方の配向膜のみラビング処理を施し
ている。 (5)第4実施例において、凸状突起物は基板表面でな
く、その表面の配向膜の表面に設けている。更に、その
製法も蒸着等他の方法である。
なく、格子点状である。更に、将来の技術開発のもと
で、この突起物に配向性を向上させる何等かの処理を施
している。
ば、OCBモードの液晶表示素子は素子中央部の動き易
い液晶分子があらかじめいずれかの配向膜方向に傾いて
いるため、比較的低い電圧の印加でも立ちやすくなる。
あるいは、一方の配向膜表面での液晶分子が配向膜(基
板)面に対して水平になりやすくなっているため、比較
的低い電圧の印加でもスプレイ−ベンド転移が高速とな
る。また、視野角も広くなる。
実施例に用いたテストセルの断面構成を概念的に示す図
である。
上配向膜への配向処理としてのラビング方向及び様子を
示す図である。
実施例及び第1実施例との比較例の基板上配向膜へのラ
ビングの方向を示す図である。
る液晶層の境界部分Sの拡大図である。
上配向膜でのラビングの方向及び様子を概念的に示す図
である。
例(第2実施例の変形例)でのラビングの様子を説明す
るための図である。
構成と液晶の配列を概念的に示す図である。
板上配向膜に形成された凸状突起物の製造プロセスを説
明するための図である。
スを説明するための図である。
スを説明するための図である。
いたテストセルの構成を概念的に示す図である。
いたテストセルでの光学素子の配置を説明するための図
である。
いたテストセルの電圧−透過率特性を示す図である。
いたテストセルの視野角特性を示す図である。
電圧印加によるスプレイ−ベンド転移を説明するための
概念図である。
イ配向からベンド配向への液晶ダイレクタの動きを説明
するための概念図である。
様子を概念的に示す図である。
様子を概念的に示す図である。
を概念的に示した図である。
有する光学媒体よりなる位相差板 13、16 偏光板 17、18 位相補償板 72 レジスト薄膜 701 フォトマスク 702 フォトマスク開口部 704 平行紫外線 613 凸形状物 813 凸形状物 913 凸形状物
Claims (1)
- 【請求項1】対向する基板内面に形成された電極上の配
向膜を互いに略平行に配向処理することにより形成され
るスプレイ配向の液晶領域を有するパラレル配向液晶表
示素子であって、電圧印加時に液晶層中央部にベンド配
向が形成されるとともに、スプレイ−ベンド転移時に基
板近傍の液晶分子が基板面に水平となる領域を形成する
手段を有し、スプレイ−ベンド転移時に基板近傍の液晶
分子が基板面に水平となる領域を形成する手段が、配向
膜面上に設けられた、お互いにその配向処理方向が略1
80度異なる正配向処理部と負配向処理部とを含むこと
を特徴とするパラレル配向液晶表示素子。
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