JP3183349B2 - Cdのマスターを作制する方法 - Google Patents

Cdのマスターを作制する方法

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    • G11B7/24Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
    • G11B7/261Preparing a master, e.g. exposing photoresist, electroforming
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means

Description

【発明の詳細な説明】 この発明はCDタイプの光学記憶媒体を複製するために
使用でき、平坦な担体とフォトレジストを有するマスタ
ーを作製する方法に関し、このマスターのフォトレジス
ト層内にトラック上に配置された窪み、所謂「ピット」
を形成し、トラック方向に計った窪みの長さと相互間
隔、所謂「ランド」が二進符号データを表す。この一般
的に周知の方法には特に次の工程がある。即ち、 −制御信号のHレベルでオンとなり、Lレベルでオフ
となるレーザービームでフォトレジスト層をトラックに
従って露光し、前記制御信号が記憶すべきデータを含
み、連続する二進データの流れの電気的な模写である。
−フォトレジストの露光個所に窪みが生じるまで、担
体を現像する。
−制御信号のHレベルに相当する窪みが所定の値に等
しい平均体積に達すると、直ちに現像を終える。
この方法では、通常MTF信号と呼ばれる制御信号がエ
ンコーダーから供給され、レーザービームレコーダーに
導入される。このエンコーダーは記憶すべきデータ、例
えばPCMで符号化されたオーディオ信号を、8対14変調
を伴うクロス・インターリーブ・リード・ソロモン符号
(Cross−Interleave−Reed−Solomon−Code)により、
および制御と同期用のピットを付加して、数メガヘル
ツ、目下のところ4.3218MHzの所謂チャンネルビット周
波数を有し、パルス期間とパルス休止の9つの離散値の
みあるMTF信号に変換する。従って、これ等の値はマス
ター上に異なった9つのピットの長さ、あるいはランド
の長さを発生させる。ピットとランドが同等であり、論
理値として0を表し、ピットからランドへの、あるいは
ランドからピットへの移行部は論理1を表し、しかもマ
スターの作製でピットの発生と造形は重要な工程である
から、以下の説明はピットに向けることにする。期間が
異なり、従って長さの異なる9つのピットをI3〜I11ピ
ットと呼ぶ。上に述べたチャンネルビット周波数から、
ビット周期の逆数として231.39nsが計算されるので、I3
ピットの期間は3x231.39ns=697nsとなり、I11ピットの
期間は11x231.39ns=2545nsとなる。
チャンネルビット周波数を一定に維持するため、内側
から外側に行われるマスターの露光中にマスターの回転
速度をそれに応じて再調整する。1.2m/sや1.4m/sのトラ
ック読取速度を使用するCDタイプの現今通常の記憶媒体
では、回転速度はマスターの最短と最長の露光半径の間
で毎分486から196回に(1.2m/sで)あるいは毎分568〜2
28回に(1.4m/sで)変わる。上に述べた時間間隔を用い
ると、遅いトラック読取速度に対して0.833μmを有す
るI3ピットの最短長さが算出され、早いトラック読取速
度に対して3.563μmを有するI11ピットの最短長さが算
出される。
結果がMTF信号である複雑な符号化方法は、特にこのM
TF信号が等価でない、つまり時間平均値が零である(交
流的に見て)ことを与える。読取で適当な光学記憶媒体
から生じるMTF信号が同じ条件を満たすように、露光さ
れたマスターから周知の多数の中間工程を介して発生す
る光学記憶媒体上にI3〜I11ピットがそれ応じたI3〜I11
ランドと同じ幾何学長を有する必要がある。これを達成
するには、現像工程を正確に調整し、次いでピットが仕
上がり記憶媒体に対して簡単に対称性=0とする前記対
称条件を経験上満たす長さになると、終了する(休止す
る)必要あがる。ピットの長さを直接計ることができな
いので、その代わりに、現像の間のマスターの一定の範
囲を露光し、反射した回折パターン中で零次の最大値の
強度を一時の最大値の強度と比較する。これは、結果と
してマスターの露光領域のピットの平均化された体積を
測定することに相当する。測定した比率が所定値に達す
ると、現像を止める。
現像工程とこの場合に生じるピットの寸法は多くのパ
ラメータに依存し、例えばレーザービーム記録装置の電
気的および光学的な許容公差、フォトレジスト層の組成
と層の厚さおよびマスターの再処理に依存する。対称条
件を満たすまでこれ等のパラメータが比較的長い現像時
間を必要とするなら、形成されるピットはかなり広く、
急激な立上りエッジとなる。逆に、短い現像時間は平坦
な立上りエッジの細いピットを与える。この関係は周知
でドイツ公告特許第29 35 789号明細書を参照された
い。露光レーザービームの数値開口を可変すると、ピッ
トの幅が(および同時に非常に僅かな程度であるがピッ
トの長さも)影響を受ける。何故なら、大きな数値開口
は小さなピット幅を与え、小さな数値開口は大きなピッ
ト幅を与える。しかし、ピットの立上りエッジの傾斜に
狙い通りの影響を与える可能性は生じない。その場合、
急激な立上りはそのようなマスターから複製された記憶
媒体を読み取る時、より良く検出でき、0/1の移行を時
間的に正確に位置決めでき、従ってブロック誤り割合が
低くなり、データのジッタが少なくなり、平坦な立上り
エッジは造形可能性を改善し、場合によって、読取時に
トラックの追従性も容易にする。
この発明の課題は、第一にマスターで複製された記憶
媒体に少なくとも一定数のピットとランドがあり、条
件、対称=0を満たすのでなく、短すぎるピット、従っ
て長すぎるランド(正の対称性)または長すぎるピッ
ト、従って短すぎるランド(負の対称)を有るように上
に説明した周知の方法を変更することにある。
上記の課題は、この発明により、制御信号のLレベル
の期間に対するHレベルの期間の比を少なくとも時とし
て1.0とは異なるようにして解決されている。しかし、
その場合、Hレベルの期間とLレベルの期間が一定の係
数だけ変化するのでなく、或る絶対値だけ短くなるか長
くなる。この短縮または延長が、例えば100nsである
と、I3ピットとI3のランドに対して0.85または1.15の対
称比となるが、I11ピットとI11のランドに対して0.96ま
たは1.04の対称比(残りのピットやランドの長さに対し
て適当な中間値を伴って)となる。この種の記憶媒体は
CDタイプの記憶媒体に対して読取および/または測定系
の特定な特性を検査するのに非常に良く適している。
前記比Vは、下限値が最短ピッチを発生するHレベル
の期間だけ全てのHレベルの期間を短縮することに相当
し、上限が同じ間隔だけ全てのHレベルの期間を延長す
ることに相当する範囲内にあると有利である。これは下
限値でI3ピットが減少するが、上限値でI3ランドが減少
することを意味する。
この比Vはフォトレジスト層の露光中にも情報信号の
検出値に合わせて可変できる。このように書き込まれた
マスターで複製された記憶媒体を読み取る時、信号を適
当に処理して、比Vを変調する情報信号を取り戻せる。
これには、特別な読取装置が必要であるが、比Vは或る
時間範囲内、あるいは場所的に記憶媒体上で、記憶媒体
の読取能力が通常の装置、例えば市販のCDプレーヤーを
用いても影響のないように可変できる。比Vを変調する
情報信号は、例えば製造メーカーの識別記号を有し、そ
うすると、製造侵害者の真似が困難な最初の記憶媒体の
特徴となる。
比Vの上記変調は、情報信号が二進符号信号である
と、特に簡単である。
周知の方法を提唱するように変更すると、複製された
記憶媒体のピットとランドの対称性を非常に広い限界内
で目的通りに変えることができ、これによりピットの幅
および/またはピットの立上りエッジの傾斜を変えな
い。
この提案に基づき、この発明の他の課題はピットの幅
および/または立上りエッジの傾斜が互いに無関係に、
しかも何よりもピットの長さに無関係に可変できるよう
に周知の方法を改善することにある。この場合、I3〜I1
1ピットが一定の長さを有する、つまり複製された記憶
媒体で条件、対称性=0を満たす通常の場合を前提とし
ている。
上記の他の課題は、この発明により、制御信号のLレ
ベルの期間に対するHレベルの期間の比を1.0より小さ
く、複製された記憶媒体中の窪みの平均長さが再び窪み
の相互間隔の平均長さに等しなるような値だけ現像時間
を長くすることによって解決されている。
この方法により、周知の方法が立上りエッジの傾斜が
少なすぎ、狭すぎるピットを与える場合、対称条件を乱
すことなく、立上りエッジの傾斜とピットの幅を大きく
することができる。何故なら、現像時間の延長は立上り
が急で幅が広いピットを与えるからである。
しかし、通常の方法で生じるピットが所定の目標値に
対応する幅を有し、その立上りエッジの傾斜が小さすぎ
る限り、提案する方法で、読取レーザービームの数値開
口を或る値に拡大し、ピットの幅が現像工程の中断時点
で所定の目標値を越えないことにより、望ましくないピ
ットの拡大を防止できる。
逆に、周知の方法が立上りエッジの傾斜を大きすぎる
および/または幅の大きすぎるピットを与えれば、これ
等の二つのパラメーターを一緒にあるいは互いに無関係
に所望値に低減できる。
これは、制御信号のLレベルの期間に対するHレベル
の期間の比を1.0より大きくし、複製された記憶媒体中
の窪みの平均長さが再び窪みの相互間隔の平均長さに等
しくなるような値だけ現像時間を短縮することにより生
じる。
その時、場合によっては、レーザービームの数値開口
をピットの幅が所定のしきい値以下にならない値に小さ
くする。
提案する方法を更に説明するため、図面を参照する。
第1図はCDタイプの露光されて現像されたガラスマス
ターの一部を斜視図にして示す。Gはガラス担体を示
し、Pが光ラッカー層、所謂「フォトレジスト」を意味
する。その外、最も重要な幾何学寸法も与えてある。
第2図は、第1図のガラスマスターを露光するために
使用するレーザービームレコーダーのレーザービームの
強度分布を示す。関数sin x/xに従うこの強度分布は、
特にピットの長さ、幅および立上りエッジの傾斜が現像
時間の増加と共に大きくなる原因である。
第3図は、I3のピット、I3ランド、I11ピットおよびI
11ランドの順でガラスマスターを露光するためレーザー
ビームを記録装置を制御するMTF信号のタイムチャート
を重ねて示す。最上図は従来の方法で使用するMTF信号
を示すもので、この信号は交流的に考えて同等でない。
中間図は所謂負の対称性の場合を示し、この場合にはピ
ットを描くパルスの期間が一定時間間隔tだけ延びてい
て、ランドに相当するパルス休止期間が同じ時間間隔だ
け短くなる。三番目の図は所謂「正の対称性」である逆
の場合を示す。
第4,5と6図は実線で示す長さ1μmと幅0.4μmの標
準寸法のピットを約1:50,000倍に拡大した模式平面図で
ある。破線で示す輪郭は、対応する輪郭に関して各実線
に付属する現像時間より短いかまたは長い現像時間とな
るピットの輪郭を示す。
通常の方法で作製された第4図のピットに対して、以
下の表から分かる関係が条件、対称性=0に当てはま
る。
第5図に示す対称性が正のMFT信号で描いたピットの
例に対して、以下の表に与える関係が当てはまる。
第6図に示す対称性が負のMFT信号で描いたピットの
例に対して、以下の表に与え関係が当てはまる。
第4〜6図と付属する表の比較が示すように、この発
明の方法により所定の長さ、つまり複製された記憶媒体
上の条件、対称性=0を維持するために必要な長さを有
するピットは、レーザービームレコーダーを制御する幅
の異なるMTF信号の対称性を可変して発生させることが
できる。立上りエッジの傾斜は図面に示していないが、
近似的に幅に比例して増加する。
第4〜6図には、ピット寸法の現像時間の依存性が直
線で単に再現されている。しかし、実際には周知のよう
に非直線の関係である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平3−212831(JP,A) 特開 昭63−44332(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11B 7/26 G11B 7/00 G11B 7/24

Claims (8)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】フォトレジスト層にトラック状に配置した
    窪み、所謂ピットを発生させ、トラック方向に計った窪
    みの長さと相互間隔、所謂ランドが二進符号データを表
    し、下記の工程、 1.1)制御信号のHレベルでオンとなり、Lレベルでオ
    フとなるレーザービームでフォトレジストをトラックに
    従って露光し、前記制御信号が記録すべきデータを含
    み、連続する二進データの流れの電気的な模写であり、 1.2)フォトレジスタの露光個所に窪みが生じるまで、
    担体を露光し、 1.3)制御信号のHレベルに相当する窪みが所定値に等
    しい平均体積に達すると、直ちに現像を終える、 を用いて、CDタイプの光学記憶媒体を複製するために利
    用でき、平坦な担体とフォトレジスト層を有するマスタ
    ーを作製する方法において、 1.4)制御信号のLレベルの期間に対するHレベルの期
    間の比Vを時として値1.0からずらす、 ことを特徴とする方法。
  2. 【請求項2】前記比Vは、下限値が最短ピットを発生す
    るHレベルの期間だけ全てのHレベルの期間を短縮する
    ことに対応し、上限が同じ期間だけ全てのHレベルの期
    間を延ばすことに対応する範囲内にあることを特徴とす
    る請求の範囲第1項に記載の方法。
  3. 【請求項3】前記比Vは、フォトレジスト層を露光して
    いる間、情報信号の検出値に応じて可変されることを特
    徴とする請求の範囲第1項または第2項に記載の方法。
  4. 【請求項4】情報信号は二進符号信号であることを特徴
    とする請求の範囲第3項に記載の方法。
  5. 【請求項5】フォトレジスト層にトラック状に配置した
    窪み、所謂ピットを発生させ、トラック方向に計った窪
    みの長さと相互間隔、所謂ランドが二進符号データを表
    し、複製された記録媒体中の窪みの平均長さが窪みの相
    互間隔に等しく、下記の工程、 5.1)制御信号のHレベルでオンとなり、Lレベルでオ
    フとなるレーザービームでフォトレジストをトラックに
    従って露光し、前記制御信号が記録すべきデータを含
    み、連続する二進データの流れの電気的な模写であり、 5.2)フォトレジストの露光個所に窪みが生じるまで、
    担体を露光し、 5.3)制御信号のHレベルに相当する窪みが所定値に等
    しい平均体積に達すると、直ちに現像を終える、 を用いて、CDタイプの光学記憶媒体を複製するために利
    用でき、平坦な担体とフォトレジスト層を有するマスタ
    ーを作製する方法において、 5.4)制御信号のLレベルの期間に対するHレベルの期
    間の比Vを1.0より小さくし、 5.5)複製された記憶媒体中の窪みの平均長さが再び窪
    みの相互間隔の平均長さに等しくなる値だけ現像時間を
    長くする、 ことを特徴とする方法。
  6. 【請求項6】ピットの幅が所定の目標値以上とならない
    値にレーザービームの数値開口を拡大することを特徴と
    する請求の範囲第5項に記載の方法。
  7. 【請求項7】フォトレジスト層にトラック状に配置した
    窪み、所謂ピットを発生させ、トラック方向に計った窪
    みの長さと相互間隔、所謂ランドが二進符号データを表
    し、複製された記録媒体中の窪みの平均長さが窪みの相
    互間隔に等しく、下記の工程、 7.1)制御信号のHレベルでオンとなり、Lレベルでオ
    フとなるレーザービームでフォトレジストをトラックに
    従って露光し、前記制御信号が記録すべきデータを含
    み、連続する二進データの流れの電気的な模写であり、 7.2)フォトレジストの露光個所に窪みが生じるまで、
    担体を露光し、 7.3)制御信号のHレベルに相当する窪みが所定値に等
    しい平均体積に達すると、直ちに現像を終える、 を用いて、CDタイプの光学記憶媒体を複製するために利
    用でき、平坦な担体とフォトレジスト層を有するマスタ
    ーを作製する方法において、 7.4)制御信号のLレベルの期間に対するHレベルの期
    間の比Vを1.0より大きくし、 7.5)複製された記憶媒体中の窪みの平均長さが再び窪
    みの相互間隔の平均長さに等しくなる値だけ現像時間を
    短くする、 ことを特徴とする方法。
  8. 【請求項8】ピットの幅が所定の目標値以下とならない
    値にレーザービームの数値開口を拡大することを特徴と
    する請求の範囲第7項に記載の方法。
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