JP3180968B2 - Wiring method in IC - Google Patents

Wiring method in IC

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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体集積回路内の素子
配置や多層配線を行うための対話型の設計システムに係
わり、特に多層配線を効率的に行うIC内配線方法に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an interactive design system for arranging elements in a semiconductor integrated circuit and performing multilayer wiring, and more particularly to a wiring method in an IC for efficiently performing multilayer wiring.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、コンピュータを用いた設計システ
ムとして、いわゆるCAD(ComputerAided Design)シ
ステムが各分野で盛んに利用され、必要不可欠なものと
なりつつある。周知のように、このCADシステムは、
ディスプレイ装置等の可視的な機器を介して設計者がコ
ンピュータとコミュニケーションを行いながら設計を行
うもので、これにより設計行程のかなりの部分を自動化
することができる。
2. Description of the Related Art At present, a so-called CAD (Computer Aided Design) system is actively used in various fields as a computer-based design system, and is becoming indispensable. As is well known, this CAD system
A designer performs design while communicating with a computer via a visible device such as a display device, and thereby a considerable part of the design process can be automated.

【0003】このCADは、半導体分野においても例外
でなく、特に、集積回路(以下、ICと呼ぶ。)内のレ
イアウトパターン作成や配線を行う際には、必要不可欠
なものとなっている。
[0003] The CAD is no exception in the semiconductor field, and is especially indispensable when creating layout patterns and wiring in an integrated circuit (hereinafter referred to as IC).

【0004】通常、このようなCADシステムでは、レ
イヤ(層)という概念を用い、多層配線に対応できるよ
うになっている。この多層配線によれば、配線の自由度
や集積度を向上させることができる。このレイヤを用い
たシステムで実体配線を行う場合、従来は、例えば「V
LSIの設計I」(岩波書店 渡辺誠 他著)に記載さ
れているように、線分探索法、迷路法、チャネル配線法
等の手法が用いられてきた。このうち、チャネル配線法
では一般に、水平・垂直方向の配線をそれぞれ第1層・
第2層に割り当てるという制限を設けている。また、線
分探索法や迷路法では2点間の配線経路の決定方法につ
いては定めているものの、層の対応については確立した
技術がなく、個々の導線の配線中に他の配線等の障害に
遭遇した時点で適宜層変更を行うようになっていた。
[0004] Usually, such a CAD system uses a concept of a layer (layer) and can cope with multilayer wiring. According to this multilayer wiring, the degree of freedom and the degree of integration of the wiring can be improved. In the case of performing actual wiring in a system using this layer, conventionally, for example, “V
As described in "LSI Design I" (Iwanami Shoten Makoto Watanabe et al.), Techniques such as a line segment search method, a maze method, and a channel wiring method have been used. Of these, in the channel wiring method, wiring in the horizontal and vertical directions is generally referred to as the first layer,
There is a restriction that it is assigned to the second layer. In addition, although the line segment search method and the maze method define a method for determining a wiring route between two points, there is no established technology for the correspondence of layers, and there is a problem in which wiring of each conductor is caused by other wiring or the like. At that time, the layer was changed appropriately.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の方法では、上記したように層変更を個々の配線の途中
において必要に応じて行うため、次のような問題があっ
た。
However, in these methods, since the layer is changed as needed in the middle of each wiring as described above, there are the following problems.

【0006】(i) 局所的な状況に応じてその都度層変更
を行うため、層切換えが整然としない。
(I) Since the layer is changed each time according to the local situation, the layer switching is not orderly.

【0007】(ii)不要な層切換えを行うことにより層間
を接続するためのビアが多数発生する。
(Ii) By performing unnecessary layer switching, many vias for connecting layers are generated.

【0008】このため、レイアウトが複雑となり、コン
パクトな回路設計が困難であるという課題があった。
For this reason, there has been a problem that the layout becomes complicated and it is difficult to design a compact circuit.

【0009】この発明は、かかる課題を解決するために
なされたもので、無駄な層切換えを排し、配線順序に依
存せず秩序ある整然としたコンパクトな回路設計を行う
ことができるIC内配線方法を提供することを目的とす
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problem, and it is an object of the present invention to provide a wiring method in an IC which can eliminate unnecessary layer switching and perform an orderly and compact circuit design without depending on a wiring order. The purpose is to provide.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】この発明に係るIC内配
線方法は、ディスプレイ装置を用い、半導体集積回路内
の素子配置や多層配線を行うための対話型の設計システ
ムにおいて、(i)第1のステップで、相互に接続すべき
各端子間の接続経路を大まかに決定する大域配線を行
い、(ii)第2のステップで、大域配線で決定された接続
経路に基づき、1つの層内で各端子間を個々の導線で配
線する詳細配線を行い、(iii)第3のステップで詳細
配線のステップでなされた配線同士が相互に干渉しない
ように各層に振り分ける層振分けを行うようにしたもの
である。また、この発明に係るIC内配線方法の第1の
ステップは、同一の接続経路をとる複数の配線の重複を
許容して、接続経路を決定する大域配線を行うものであ
る。 更に、この発明に係るIC内配線方法の第2のステ
ップは、配線同士の交叉を許容して、1つの層内で各端
子間を個々の導線でトラック割り付けを行う詳細配線を
行うものである。
According to the present invention, there is provided an IC wiring method in an interactive design system for arranging elements in a semiconductor integrated circuit and performing multilayer wiring using a display device. In step (2), global wiring for roughly determining a connection path between terminals to be connected to each other is performed. (Ii) In a second step, in one layer, based on the connection path determined by global wiring, (Iii) In the third step, the layers are distributed to the respective layers so that the wirings made in the detailed wiring step do not interfere with each other. Things. Further, a first method of wiring in an IC according to the present invention is described.
The step is to overlap multiple wires that take the same connection path.
Allows for global wiring to determine the connection path.
You. Further, the second step of the wiring method in an IC according to the present invention is described.
The tips allow each wire to cross each other within one layer
Detailed wiring for assigning tracks between children with individual conductors
Is what you do.

【0011】[0011]

【作用】この発明に係るIC内配線方法では、1層内で
大域配線、詳細配線を行ったに、各配線を各層に振り
分けることにより、詳細配線における配線順序に依存す
ることなく層振分けを最適化することが可能となる。
た、この発明に係るIC内配線方法の詳細配線は、最終
的な配線状態を考慮しつつ、配線同士の交叉を許容して
配線されるので、配線順序の影響による無駄な層切換え
を排することができる。
According to the method for wiring in an IC according to the present invention, a single layer
By allocating each wiring to each layer after performing global wiring and detailed wiring, it is possible to optimize layer allocation without depending on the wiring order in detailed wiring. Ma
The detailed wiring of the wiring method in an IC according to the present invention is the final wiring method.
Allow for crossover between wires while taking into account typical wiring conditions
Useless layer switching due to wiring order due to wiring
Can be eliminated.

【0012】[0012]

【実施例】以下実施例につき本発明を詳細に説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in detail below with reference to embodiments.

【0013】ここでは、本発明に係るIC内配線方法を
適用したICパターン設計システムのディスプレイ装置
画面上に、図2に示すようなICパターンレイアウトが
なされているものとして説明する。この図に示すよう
に、斜線を施した部分11等は、入出力端子を示してい
る。また白抜きの矩形ブロック12等は、それぞれが所
定の機能を有する機能ブロックを表している。ここで所
定の機能とは、例えば入出力、増幅、制御等の諸機能を
いい、各ブロックは多数のゲート素子等から構成されて
いる。
Here, a description will be given assuming that an IC pattern layout as shown in FIG. 2 is formed on a display device screen of an IC pattern design system to which the intra-IC wiring method according to the present invention is applied. As shown in this figure, hatched portions 11 and the like indicate input / output terminals. The white rectangular blocks 12 and the like represent functional blocks each having a predetermined function. Here, the predetermined function refers to various functions such as input / output, amplification, control, and the like, and each block includes a large number of gate elements and the like.

【0014】ここでは、ICパターン設計のステップの
うち、機能ブロックのレイアウト作業は既に終わってい
るものとし、次にこれらの各機能ブロック間又は入出力
端子との間を実際に配線する作業を行うものとする。
Here, it is assumed that the layout work of the functional blocks has already been completed in the steps of IC pattern design, and then the work of actually wiring between these functional blocks or between the input / output terminals is performed. Shall be.

【0015】以下この動作につき、図1と共に説明す
る。まず図2に示すように、機能ブロックの配置が終了
すると(図1ステップS101)、次に大域配線を行う
(ステップS102)。ここに大域配線とは、各機能ブ
ロックの所定の端子間を接続するための配線経路を大ま
かに決定する配線工程をいい、同一の経路をとる限り複
数の配線が重複することも許容される段階の配線であ
る。言い換えれば、同一の接続経路をとる複数の配線の
重複を許容して、接続経路を決定する段階の配線であ
る。
Hereinafter, this operation will be described with reference to FIG. First, as shown in FIG. 2, when the arrangement of the functional blocks is completed (Step S101 in FIG. 1), next, global wiring is performed (Step S102). Here, the global wiring refers to a wiring process for roughly determining a wiring path for connecting predetermined terminals of each functional block, and a stage in which a plurality of wirings are allowed to overlap as long as the same path is taken. Wiring. In other words, multiple wirings that take the same connection path
Allow wiring and determine the connection route
You.

【0016】この大域配線が終了した時点では、図3に
示すような画面表示状態となる。この図に示すように、
各機能ブロックもしくは端子間を接続する配線は、同一
の経路を取るかぎり1本に重なって表現される。従って
この状態では、個々の入出力端子もしくは機能ブロック
の端子同士が実際にどのような接続関係になっているか
を把握することは出来ない。但し、各機能ブロックの所
望端子を指定することにより、その指定された端子から
出ている配線を色分け表示して経路を個々に区別確認す
ることは可能である。
When the global wiring is completed, the screen is displayed as shown in FIG. As shown in this figure,
The wiring connecting each functional block or terminal is expressed as one line as long as the same route is taken. Therefore, in this state, it is not possible to grasp the actual connection relationship between the individual input / output terminals or the terminals of the functional blocks. However, by designating a desired terminal of each functional block, it is possible to color-display wirings extending from the designated terminal and to individually confirm paths.

【0017】さて、大域配線が終了した時点で、オペレ
ータは必要に応じ、上記したような個々の経路チェック
を行う(ステップS103)。この結果、経路に改善の
余地が発見された場合には(ステップS104;N)、
これを修正する(ステップS105)。このように経路
チェックと修正を繰り返すことにより大域配線レベルで
の経路チェックがOKとなれば(ステップS104;
Y)、次に詳細配線を行う(ステップS106)。この
詳細配線のステップにおいては、大域配線で決定された
配線経路に基づき、個々の配線について詳細にトラック
割り付けを行う。但しこの割り付けは、1層内でのみ行
われる。すなわち、配線同士の交叉を許容して、1つの
層内で各端子間を個々の導線でトラック割り付けが行わ
れる。従って、この詳細配線のステップが終了した時点
においては、多数の交叉する部分が存在することとな
る。
When the global wiring is completed, the operator performs individual route checks as described above as necessary (step S103). As a result, if room for improvement is found in the route (step S104; N),
This is corrected (step S105). If the route check at the global wiring level is OK by repeating the route check and the correction in this way (step S104;
Y) Then, detailed wiring is performed (step S106). In the detailed wiring step, detailed track assignment is performed for each wiring based on the wiring path determined by the global wiring. However, this allocation is performed only within one layer. That is, one wire is allowed to cross
Track assignment between individual terminals in the layer with individual conductors
It is. Therefore, at the time when the step of the detailed wiring is completed, there are a number of intersecting portions.

【0018】詳細配線が終わると、次にそのチェックを
行う(ステップS107)。この場合のチェックも、上
記したものと同様に、個々の配線を指定して色分け表示
することにより行うことができる。この配線経路のチェ
ックの結果、改善の余地のある経路が発見された場合に
は(ステップS108;N)、その修正を行ったうえで
(ステップS109)、再び経路チェックを行う(ステ
ップS107)。このようにして、チェックと修正を繰
り返すことにより詳細配線レベルでの経路チェックが終
了すると、次に2層振分けの処理を行う(ステップS1
10)。
When the detailed wiring is completed, the check is performed next (step S107). The check in this case can also be performed by specifying individual wirings and displaying them in different colors in the same manner as described above. As a result of this wiring route check, if a route that has room for improvement is found (step S108; N), the route is corrected (step S109), and the route is checked again (step S107). As described above, when the route check at the detailed wiring level is completed by repeating the check and the correction, the process of the two-layer distribution is performed (step S1).
10).

【0019】この2層振分けの処理は、例えば、本出願
人によるIC内配線方法(特開平3−142954号)
に示したような方法で行えばよい。この2層振分け処理
により、上記詳細配線ステップにおいて1層内で交叉し
ていた部分が2層に振り分けられ、これらの交叉個所が
排除されることとなる。
The processing of the two-layer distribution is performed by, for example, a wiring method in an IC by the present applicant (Japanese Patent Laid-Open No. 3-142954).
The method may be performed as shown in FIG. By this two-layer distribution processing, the portion that crosses in one layer in the above detailed wiring step is distributed to two layers, and these crossing points are eliminated.

【0020】このようにして、多数の配線が2つの層内
に交叉することなく振り分けられた後、必要以上に複雑
化した部分の整理、すなわちコンパクションを行う(ス
テップS111)。
In this way, after a large number of wirings are distributed without crossing in the two layers, unnecessarily complicated parts are arranged, that is, compaction is performed (step S111).

【0021】以上のようにして、本実施例では、大域配
線及び詳細配線をまず1層内でのみ行い、その結果に対
して2層振分けを実行するという順序を踏むことによ
り、個々の配線順序に依存することなく、無駄のない効
率的な配線を行うことができる。
As described above, in this embodiment, the global wiring and the detailed wiring are first performed only in one layer, and the result is subjected to the two-layer distribution. , And efficient wiring without waste can be performed.

【0022】図4は、図3における一点鎖線で囲んだ領
域14の詳細配線後の拡大表示画面を表したものであ
る。この時点では、図に示すように多数の配線同士の交
叉部分が生じている。このような詳細配線結果に対し
て、2層振分けを行った結果を、図5に示す。この図に
示すように、斜線を施した配線部分18等は、第2層に
振り付けられており、斜線を施していない配線17等は
第1層に振り分けられている。第1層と第2層の接続点
には、それぞれビア15等が設けられている。この図に
示すように、従来の縦横方向の配線をそれぞれ第1層、
第2層に振り分ける方法と異なり、障害物に突き当たら
ないかぎり縦及び横の配線が一連として一方の層内に配
置されることとなる。従って、不要なビアの発生が極力
押さえられている。
FIG. 4 shows an enlarged display screen after detailed wiring of the area 14 surrounded by the dashed line in FIG. At this time, as shown in the figure, a crossing portion between a large number of wirings has occurred. FIG. 5 shows the result of performing two-layer distribution on such a detailed wiring result. As shown in this figure, the hatched wiring portions 18 and the like are distributed to the second layer, and the non-hatched wiring 17 and the like are distributed to the first layer. A via 15 or the like is provided at a connection point between the first layer and the second layer. As shown in this figure, conventional vertical and horizontal wirings are respectively connected to a first layer,
Unlike the method of distributing to the second layer, the vertical and horizontal wirings are arranged in one layer as a series as long as they do not hit an obstacle. Therefore, generation of unnecessary vias is suppressed as much as possible.

【0023】なお、本実施例では、2層配線の場合につ
いて説明したが、これに限るものではなく例えば、それ
以上の多層配線に対しても適用することができる。
In this embodiment, the case of the two-layer wiring has been described. However, the present invention is not limited to this and can be applied to, for example, a multilayer wiring of more layers.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
2層振分けの処理を詳細配線から独立させたため、配線
順序には全く依存しないこととなり、配線を行う者の経
験によらずほぼ一定の品質の配線レイアウトが可能とな
る。また、2層振分け処理が独立しているため、その振
分けのアルゴリズムを適切に設定することにより、回路
特性を意識したレイアウトや、設計者の意図を十分に反
映したレイアウトが容易となる。またマニュアルで修正
を加えるにしても、上記したように2層振分けが終了し
た時点で、既に無駄なビア等の発生が押さえられている
ため、修正量は極めて少なくて済み手間がかからない。
As described above, according to the present invention,
Since the two-layer distribution process is made independent of the detailed wiring, it does not depend on the wiring order at all, and a wiring layout of almost constant quality can be obtained regardless of the experience of the person who performs the wiring. In addition, since the two-layer distribution process is independent, by appropriately setting the distribution algorithm, a layout that is conscious of circuit characteristics and a layout that sufficiently reflects the intention of the designer can be easily performed. Further, even if the correction is made manually, since the generation of useless vias and the like is already suppressed at the time when the two-layer distribution is completed as described above, the amount of correction is extremely small, and no labor is required.

【0025】また、各層の物理的特性上の理由等によ
り、配線をできるだけ一方の層に多く配置したい等の要
求がある場合、このような優先層の指定を容易に行うこ
とができ、理想的な多層配線が可能になるという効果が
ある。
Further, when there is a demand for arranging as many wirings as possible in one layer for reasons such as physical characteristics of each layer, it is possible to easily designate such a priority layer, which is ideal There is an effect that a multi-layer wiring can be realized.

【0026】なお、本実施例では、各機能ブロック間も
しくは入出力端子との間での配線を例に説明したが、各
機能ブロック内におけるゲート素子間の配線にも適用で
きるのはもちろんである。
In this embodiment, the wiring between each functional block or the input / output terminals has been described as an example. However, it is needless to say that the present invention can be applied to the wiring between gate elements in each functional block. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例におけるIC内配線方法を説
明するための流れ図である。
FIG. 1 is a flowchart for explaining a wiring method in an IC according to an embodiment of the present invention.

【図2】機能ブロックの配置が終了した時点における配
線前の状態を示す説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing a state before wiring when the arrangement of functional blocks is completed.

【図3】大域配線の終了した状態を示す説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram showing a state where global wiring is completed.

【図4】詳細配線が終了した時点の状態を示す一部拡大
図である。
FIG. 4 is a partially enlarged view showing a state at the time of completion of detailed wiring.

【図5】2層振分け処理が終了した時点での状態を示す
一部拡大図である。
FIG. 5 is a partially enlarged view showing a state at the time when the two-layer distribution processing is completed.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 入出力端子 12 機能ブロック 13 ディスプレイ装置表示画面 15 ビア 17 第1層の配線 18 第2層の配線 DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 I / O terminal 12 Function block 13 Display apparatus display screen 15 Via 17 1st layer wiring 18 2nd layer wiring

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−48071(JP,A) 特開 昭62−126467(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G06F 17/50 658 H01L 21/82 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-61-48071 (JP, A) JP-A-62-126467 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G06F 17/50 658 H01L 21/82

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 ディスプレイ装置を用い、半導体集積回
路内の素子配置や多層配線を行うための対話型の設計シ
ステムにおいて、 第1のステップで、相互に接続すべき各端子間の接続経
路を大まかに決定する大域配線を行い、 第2のステップで、前記大域配線で決定された接続経路
に基づき、1つの層内で各端子間を個々の導線で配線す
る詳細配線を行い、 第3のステップで、前記詳細配線のステップでなされた
配線同士が相互に干渉しないように各層に振り分ける層
振分けを行うようにしたことを特徴とするIC内配線方
法。
In an interactive design system for arranging elements in a semiconductor integrated circuit and performing multilayer wiring using a display device, in a first step, a connection path between terminals to be connected to each other is roughly set. In the second step, based on the connection path determined by the global wiring, a detailed wiring for wiring each terminal in a single layer between individual terminals is performed. A wiring method in an IC, wherein wiring is performed so that wirings formed in the detailed wiring step do not interfere with each other and are allocated to respective layers.
【請求項2】 請求項1に記載のIC内配線方法におい
て、 前記第1のステップは、同一の接続経路をとる複数の配
線の重複を許容して、接続経路を決定する大域配線を行
うことを特徴とするIC内配線方法。
2. The wiring method in an IC according to claim 1, wherein
In the first step, a plurality of arrangements taking the same connection path are used.
Perform global wiring to determine the connection route by allowing
A wiring method in an IC.
【請求項3】 請求項1又は2に記載のIC内配線方法
において、 前記第2のステップは、配線同士の交叉を許容して、1
つの層内で各端子間を個々の導線でトラック割り付けを
行う詳細配線を行うことを特徴とするIC内配線方法。
3. The wiring method in an IC according to claim 1, wherein
In the second step, the crossing of wirings is allowed while
Track assignment between individual terminals in one layer with individual conductors
A wiring method in an IC, wherein a detailed wiring is performed.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101731761B1 (en) * 2013-02-05 2017-05-02 충-시엔 후앙 Heat sink module and omnidirectional led lamp holder assembly using same

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101731761B1 (en) * 2013-02-05 2017-05-02 충-시엔 후앙 Heat sink module and omnidirectional led lamp holder assembly using same

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