JP3174615B2 - 欠陥検査装置における投光光学系 - Google Patents
欠陥検査装置における投光光学系Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は被検査物の表面にレーザ
光をフライングスポット方式で照射し、特にその反射光
を使用して欠陥を検査する欠陥検査装置の投光光学系に
関する。
光をフライングスポット方式で照射し、特にその反射光
を使用して欠陥を検査する欠陥検査装置の投光光学系に
関する。
【０００２】
【従来技術】フィルム、紙、繊維、半導体ウエーハ、ガ
ラス基板や金属板等の被検査物の表面に疵等の欠陥があ
ると、商品価値を失ったり、品質上問題となる。従っ
て、かかる欠陥について予め検査をして、不良部分を排
除する必要がある。そこで、従来から種々の欠陥検査の
試みがなされている。
ラス基板や金属板等の被検査物の表面に疵等の欠陥があ
ると、商品価値を失ったり、品質上問題となる。従っ
て、かかる欠陥について予め検査をして、不良部分を排
除する必要がある。そこで、従来から種々の欠陥検査の
試みがなされている。
【０００３】特開平２ー２１６４３７にはレーザ光を凹
面鏡および回転鏡を使用して被検査物の幅手方向にスキ
ャニングしながら照射して被検査物の欠陥を検査する方
法が開示されている。
面鏡および回転鏡を使用して被検査物の幅手方向にスキ
ャニングしながら照射して被検査物の欠陥を検査する方
法が開示されている。
【０００４】特開昭５１ー６３６７９にはレーザ光を円
柱レンズにより被検査物の表面上に焦点を結ぶようにし
た平板状体の欠陥検出装置が開示されている。
柱レンズにより被検査物の表面上に焦点を結ぶようにし
た平板状体の欠陥検出装置が開示されている。
【０００５】特開昭５５ー４６００には被検査物の表面
からの反射光の拡がりを少なくするようにした帯状物の
欠陥検出装置が開示されている。
からの反射光の拡がりを少なくするようにした帯状物の
欠陥検出装置が開示されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、レーザ
光を傾けて凹面鏡に入射し、それを被検査物の表面に照
射し、その反射光を使用する欠陥検出方式において、該
検査面上における幅手方向の走査が円弧状（ラインボー
と言う）となる欠点がある。この現象は特に凹面鏡に対
するレーザ光の入射角を大きくする場合に顕著である。
光を傾けて凹面鏡に入射し、それを被検査物の表面に照
射し、その反射光を使用する欠陥検出方式において、該
検査面上における幅手方向の走査が円弧状（ラインボー
と言う）となる欠点がある。この現象は特に凹面鏡に対
するレーザ光の入射角を大きくする場合に顕著である。
【０００７】図６はレーザ光３５を凹面鏡３２で反射さ
せて回転ロール３０により搬送される被検査物３１の表
面を走査して、該表面上の凹凸や欠陥を検査する従来の
欠陥検査装置の一部の略図である。凹面鏡３２は細長
く、かつ、わん曲しているので、その幅手方向の中央部
の鏡面３４と端部の鏡面３３とにおける反射光３７、３
６は実線と点線で示すように被検査物３１の表面に対し
異なる角度で入射され、さらにこの反射光３７、３６が
被検査物３１の表面で反射されて反射光３９、３８のよ
うに異なる方向に反射されるので、中央部と端部ではそ
のずれが大きくなる。その結果図７に示すように被検査
物３１の幅手方向の走査線４０は図示するように円弧状
になる。
せて回転ロール３０により搬送される被検査物３１の表
面を走査して、該表面上の凹凸や欠陥を検査する従来の
欠陥検査装置の一部の略図である。凹面鏡３２は細長
く、かつ、わん曲しているので、その幅手方向の中央部
の鏡面３４と端部の鏡面３３とにおける反射光３７、３
６は実線と点線で示すように被検査物３１の表面に対し
異なる角度で入射され、さらにこの反射光３７、３６が
被検査物３１の表面で反射されて反射光３９、３８のよ
うに異なる方向に反射されるので、中央部と端部ではそ
のずれが大きくなる。その結果図７に示すように被検査
物３１の幅手方向の走査線４０は図示するように円弧状
になる。
【０００８】図７は従来の欠陥検査装置の受光部４２の
概略構成を示す斜視図である。
概略構成を示す斜視図である。
【０００９】上記理由により、反射光が被検査物の搬送
方向に拡がるので、被検査物の幅手全体を検査するため
には、受光部４２への光の入射口となるアパーチャを拡
げ、かつ受光部４２内の複数のセンサ４１例えばＰＭＴ
（フォトマルチチューブ）の位置を、走査線４０の円弧
に起因する反射光３９、３８の拡がりに沿って配列して
検出力を幅手方向に均一化する必要がある。このことは
センサ配置に対する詳細な検討を必要とするとともに受
光部等の装置を大型化し、コストを増大させる結果とな
る。 また、反射光をさらに一点に集光させるような受
光光学系を使用する場合には、凹面鏡等の各光学部品の
寸法が大きくなるだけでなく、集光状態がスリット状に
なり、スリット方向の光が欠陥検出のための光として使
用できなくなり検出力が低下する欠点がある。
方向に拡がるので、被検査物の幅手全体を検査するため
には、受光部４２への光の入射口となるアパーチャを拡
げ、かつ受光部４２内の複数のセンサ４１例えばＰＭＴ
（フォトマルチチューブ）の位置を、走査線４０の円弧
に起因する反射光３９、３８の拡がりに沿って配列して
検出力を幅手方向に均一化する必要がある。このことは
センサ配置に対する詳細な検討を必要とするとともに受
光部等の装置を大型化し、コストを増大させる結果とな
る。 また、反射光をさらに一点に集光させるような受
光光学系を使用する場合には、凹面鏡等の各光学部品の
寸法が大きくなるだけでなく、集光状態がスリット状に
なり、スリット方向の光が欠陥検出のための光として使
用できなくなり検出力が低下する欠点がある。
【００１０】また、レーザ光をハーフミラーにより凹面
鏡等に垂直に入射させるようにすると、この方式では光
量が１／４になるため検出力が悪くなり、特に反射率の
低い被検査物においてこの傾向が激しい。
鏡等に垂直に入射させるようにすると、この方式では光
量が１／４になるため検出力が悪くなり、特に反射率の
低い被検査物においてこの傾向が激しい。
【００１１】また、軸外しの凹面鏡等を使用したものも
あるが、これらの大型のものは非常に高価である。
あるが、これらの大型のものは非常に高価である。
【００１２】本発明は上述の点にかんがみてなされたも
ので、レーザ光を傾けて被検査物の表面に照射し、その
反射光を使用してその欠陥を検出する欠陥検出装置にお
いて、該検査面上における幅手方向の走査が円弧状とな
るのを補正して直線状走査に近付けることにより、検出
能力が高く、コンパクトでコストの安い投光光学系を提
供することを目的とする。
ので、レーザ光を傾けて被検査物の表面に照射し、その
反射光を使用してその欠陥を検出する欠陥検出装置にお
いて、該検査面上における幅手方向の走査が円弧状とな
るのを補正して直線状走査に近付けることにより、検出
能力が高く、コンパクトでコストの安い投光光学系を提
供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
本発明は、被検査物の表面にレーザ光を回転多面鏡と凹
面鏡もしくはシリンドリカル凹面鏡を用いてフライング
スポット方式で照射し、その走査線の反射光あるいは透
過光から前記被検査物の欠陥を検査する欠陥検査装置に
おいて、入射角ψで前記回転多面鏡に入射させたレーザ
光の該回転多面鏡からの反射光を、前記凹面鏡もしくは
シリンドリカル凹面鏡に入射角φで入射させ、前記回転
多面鏡の回転と角度ψで入射することによって生じる該
回転多面鏡からのレーザ光の反射光の該回転多面鏡の回
転軸方向の変動が、前記凹面鏡もしくはシリンドリカル
凹面鏡へ角度φで入射することによる反射光の変動によ
って相殺される角度に前記入射角ψと前記入射角φとを
設定し、該凹面鏡もしくはシリンドリカル凹面鏡からの
反射光で、前記被検査物の表面上にレーザ光をほぼ直線
状に走査することを特徴として欠陥検査装置における投
光光学系を構成した。
本発明は、被検査物の表面にレーザ光を回転多面鏡と凹
面鏡もしくはシリンドリカル凹面鏡を用いてフライング
スポット方式で照射し、その走査線の反射光あるいは透
過光から前記被検査物の欠陥を検査する欠陥検査装置に
おいて、入射角ψで前記回転多面鏡に入射させたレーザ
光の該回転多面鏡からの反射光を、前記凹面鏡もしくは
シリンドリカル凹面鏡に入射角φで入射させ、前記回転
多面鏡の回転と角度ψで入射することによって生じる該
回転多面鏡からのレーザ光の反射光の該回転多面鏡の回
転軸方向の変動が、前記凹面鏡もしくはシリンドリカル
凹面鏡へ角度φで入射することによる反射光の変動によ
って相殺される角度に前記入射角ψと前記入射角φとを
設定し、該凹面鏡もしくはシリンドリカル凹面鏡からの
反射光で、前記被検査物の表面上にレーザ光をほぼ直線
状に走査することを特徴として欠陥検査装置における投
光光学系を構成した。
【００１４】
【作用】本発明は欠陥検査装置における投光光学系を上
記構成とすることにより、被検査物の表面上のレーザ光
の円弧走査は補正されて直線に近づき、幅手方向全体に
わたり入射角がほぼ同じになるため、受光センサーをほ
ぼ直線上に配置することが可能となり、受光部の設計が
簡易となるとともに小型化することができ、欠陥により
拡がった光を全幅にわたり同程度に受光できるので、幅
手での検出力のばらつきを押さえることができる。ま
た、反射光をさらに一点に集光させて欠陥検査を行うよ
うにした場合にも、各光学部品の寸法を小さくして且つ
その集光性が良くなるので検出能力を向上することがで
きる。
記構成とすることにより、被検査物の表面上のレーザ光
の円弧走査は補正されて直線に近づき、幅手方向全体に
わたり入射角がほぼ同じになるため、受光センサーをほ
ぼ直線上に配置することが可能となり、受光部の設計が
簡易となるとともに小型化することができ、欠陥により
拡がった光を全幅にわたり同程度に受光できるので、幅
手での検出力のばらつきを押さえることができる。ま
た、反射光をさらに一点に集光させて欠陥検査を行うよ
うにした場合にも、各光学部品の寸法を小さくして且つ
その集光性が良くなるので検出能力を向上することがで
きる。
【００１５】
【実施例】以下、図面を参照しながら本発明を説明す
る。
る。
【００１６】図１は本発明の投光光学系を使用した欠陥
検査装置の概略構成を示す斜視図である。
検査装置の概略構成を示す斜視図である。
【００１７】図１において、シート状の被検査物１が回
転ロール２の周囲を転動しながら矢印方向に搬送される
間、回転ロール２上において被検査物１にフライングス
ポット方式でレーザ光が照射される。レーザ光１１はレ
ーザ発振器３により発振され、被検査物１上で集光させ
るため集光レンズ４を通しスキャニング装置例えばポリ
ゴン（回転多面鏡）５に向けられ、さらにポリゴン５か
ら出たレーザ光はミラー６により反射され、さらに第１
凹面鏡のシリンドリカル凹面鏡７により反射されて被検
査物１に入射する。被検査物１の表面で反射されたレー
ザ光は第２凹面鏡８により反射されて受光器９に集光入
射し、さらに光電変換素子１０に送られる。この光電変
換素子１０の出力から被検査物１の凹凸や欠陥を判別す
ることができる。
転ロール２の周囲を転動しながら矢印方向に搬送される
間、回転ロール２上において被検査物１にフライングス
ポット方式でレーザ光が照射される。レーザ光１１はレ
ーザ発振器３により発振され、被検査物１上で集光させ
るため集光レンズ４を通しスキャニング装置例えばポリ
ゴン（回転多面鏡）５に向けられ、さらにポリゴン５か
ら出たレーザ光はミラー６により反射され、さらに第１
凹面鏡のシリンドリカル凹面鏡７により反射されて被検
査物１に入射する。被検査物１の表面で反射されたレー
ザ光は第２凹面鏡８により反射されて受光器９に集光入
射し、さらに光電変換素子１０に送られる。この光電変
換素子１０の出力から被検査物１の凹凸や欠陥を判別す
ることができる。
【００１８】図２は本発明の欠陥検査装置における投光
光学系の概略構成を示す図、図３は同欠陥検査装置に使
用するポリゴン５の側面図、図４は同平面図、図５はシ
リンドリカル凹面鏡７の平面図である。
光学系の概略構成を示す図、図３は同欠陥検査装置に使
用するポリゴン５の側面図、図４は同平面図、図５はシ
リンドリカル凹面鏡７の平面図である。
【００１９】この投光光学系は基本的に、ポリゴン５の
１面の中心、すなわち該面の出入りで一番後の位置であ
る図３の点Ｐ2 の位置に入射したレーザ光の反射光がシ
リンドリカル凹面鏡７と被検査物１の各々の中心を垂直
に通るように組立てられている。
１面の中心、すなわち該面の出入りで一番後の位置であ
る図３の点Ｐ2 の位置に入射したレーザ光の反射光がシ
リンドリカル凹面鏡７と被検査物１の各々の中心を垂直
に通るように組立てられている。
【００２０】ポリゴン５へのレーザ光１１の入射角は、
図３に示すように、その厚みの中心を通る水平面ＡーＡ
に対し角度ψ傾いている。ポリゴン５は矢印方向に回転
している。従って、レーザ光１１がポリゴン５に入射す
る位置は次々に変化し、たとえば、ポリゴン５が図３の
実線位置にあるとき点Ｐ1 において入射し、またポリゴ
ン５が図３の点線位置にあるとき点Ｐ2 において入射す
る。点Ｐ1 と点Ｐ2 はポリゴン５の同一鏡面上にあるが
距離ｙだけずれているため、これらの点で反射されるレ
ーザ光１１は円弧状に曲がる。この曲がり方はポリゴン
５の入射方向を変えることにより、上曲りか下曲りに変
えることができる。
図３に示すように、その厚みの中心を通る水平面ＡーＡ
に対し角度ψ傾いている。ポリゴン５は矢印方向に回転
している。従って、レーザ光１１がポリゴン５に入射す
る位置は次々に変化し、たとえば、ポリゴン５が図３の
実線位置にあるとき点Ｐ1 において入射し、またポリゴ
ン５が図３の点線位置にあるとき点Ｐ2 において入射す
る。点Ｐ1 と点Ｐ2 はポリゴン５の同一鏡面上にあるが
距離ｙだけずれているため、これらの点で反射されるレ
ーザ光１１は円弧状に曲がる。この曲がり方はポリゴン
５の入射方向を変えることにより、上曲りか下曲りに変
えることができる。
【００２１】ポリゴン５から出た反射光はミラー６を経
て第一凹面鏡のシリンドリカル凹面鏡７に入射する。シ
リンドリカル凹面鏡を使用したことにより、ここから出
た反射光は被検査物１の表面の全幅にわたり入射角が一
定となり走査線が直線またはほぼ直線になる。図２にお
いて、シリンドリカル凹面鏡７の中心を通るレーザ光
（点線）とその端を通るレーザ光（実線）が同一の入射
角で被検査物１の表面に入射している。
て第一凹面鏡のシリンドリカル凹面鏡７に入射する。シ
リンドリカル凹面鏡を使用したことにより、ここから出
た反射光は被検査物１の表面の全幅にわたり入射角が一
定となり走査線が直線またはほぼ直線になる。図２にお
いて、シリンドリカル凹面鏡７の中心を通るレーザ光
（点線）とその端を通るレーザ光（実線）が同一の入射
角で被検査物１の表面に入射している。
【００２２】本発明の欠陥検査装置における投光光学系
においてポリゴンへレーザ光を入射する入射角ψは次の
ようにして算出する。該投光光学系にシリンドリカル凹
面鏡を使用した場合の概略の計算例を次に述べる。
においてポリゴンへレーザ光を入射する入射角ψは次の
ようにして算出する。該投光光学系にシリンドリカル凹
面鏡を使用した場合の概略の計算例を次に述べる。
【００２３】 ｆ シリンドリカル凹面鏡の焦点距離 ｚ 検査対象幅を走査するために必要なシリンドリ
カル凹面鏡の長さ φ シリンドリカル凹面鏡への入射角 ｘ シリンドリカル凹面鏡の弧の高さ ｒ ポリゴンの外接円半径 β ポリゴンの１面内の使用範囲 Ｙ ポリゴンの外接円とポリゴンの面との距離 ｙ ポリゴンの１面内の使用範囲における弦とポリ
ゴンの面との距離 ａ ポリゴンの中心とＰ2 とβで決められる使用範
囲の端部Ｐ1 で反射したレ−ザ−光のずれ量 ｚ＝１０００ 、ｆ＝２０００ 、φ＝０．５度、ポリ
ゴン面数＝８、β＝１８度、ｒ＝４０ 、と仮定すれば Ｙ＝３．０４ 、ｙ＝１．９５ｍｍ、ｘ＝２ｆ（１−ｃ
ｏｓα）＝３１．３７ｍｍ ａ＝２ｘｓｉｎφ＝２ｙｓｉｎψよりｓｉｎψ＝０．２
７３／１．９５ 故に ψ≒８度 従って、図２においてレーザ光１１をポリゴン５の面に
対し約８度斜めに入射させることにより被検査物１の表
面上のレーザ光の走査線を直線またはほぼ直線に近付け
ることができる。
カル凹面鏡の長さ φ シリンドリカル凹面鏡への入射角 ｘ シリンドリカル凹面鏡の弧の高さ ｒ ポリゴンの外接円半径 β ポリゴンの１面内の使用範囲 Ｙ ポリゴンの外接円とポリゴンの面との距離 ｙ ポリゴンの１面内の使用範囲における弦とポリ
ゴンの面との距離 ａ ポリゴンの中心とＰ2 とβで決められる使用範
囲の端部Ｐ1 で反射したレ−ザ−光のずれ量 ｚ＝１０００ 、ｆ＝２０００ 、φ＝０．５度、ポリ
ゴン面数＝８、β＝１８度、ｒ＝４０ 、と仮定すれば Ｙ＝３．０４ 、ｙ＝１．９５ｍｍ、ｘ＝２ｆ（１−ｃ
ｏｓα）＝３１．３７ｍｍ ａ＝２ｘｓｉｎφ＝２ｙｓｉｎψよりｓｉｎψ＝０．２
７３／１．９５ 故に ψ≒８度 従って、図２においてレーザ光１１をポリゴン５の面に
対し約８度斜めに入射させることにより被検査物１の表
面上のレーザ光の走査線を直線またはほぼ直線に近付け
ることができる。
【００２４】上記実施例において、第一凹面鏡にシリン
ドリカル凹面鏡を使用したが、もちろん通常の凹面鏡を
使用することもできる。しかし、その場合はレーザ光が
被検査物の表面をほぼ直線に走査するが、被検査物の表
面への入射角が若干異なるのでその反射角が若干変化す
る。しかし、その場合でも従来の投光光学系を使用する
より場合よりは遥かに効果が大きい。
ドリカル凹面鏡を使用したが、もちろん通常の凹面鏡を
使用することもできる。しかし、その場合はレーザ光が
被検査物の表面をほぼ直線に走査するが、被検査物の表
面への入射角が若干異なるのでその反射角が若干変化す
る。しかし、その場合でも従来の投光光学系を使用する
より場合よりは遥かに効果が大きい。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明においては
スキャニング装置に入射させるレーザ光をポリゴンの面
に対しある角度斜めに入射して被検査物を走査すること
により、次のような優れた効果が得られる。 （１）被検査物面上における幅手方向の円弧状走査は補
正されてほぼ直線になり、実際の入射角の幅手でのずれ
は小さくなるので、円弧走査による被検査物への入射角
の差よりはるかに小さくできるため、反射光を凹面鏡等
で集光し受光する場合、受光部の光学部品の寸法を小さ
くすることができ、かつその集光性が良くなり、小さい
マスクまたはスリットを用いることが可能となるため検
出力が向上する。また、検出に用いる光量のロスが存在
しない。 （２）レーザ光の被検査物からの反射直後に受光部を置
く場合にも、受光部への光の入射口となるアパーチャを
拡げ、かつ受光部内の複数のセンサー例えばＰＭＴの位
置を円弧に合わせて配列する必要が無くなるので、受光
部がコンパクト化される。 （３）本発明を実施するためには、光学系の各種条件に
おいてシュミレーションしその値を決めるので、軸はず
しの凹面鏡を使わず、被検査物面上における幅手方向の
走査を直線状にできるためコストが安くなる。又、ハ−
フミラ−を用いて凹面鏡に垂直に入射させる必要がない
ので、光量を低下させずに欠陥検出することが可能にな
る。
スキャニング装置に入射させるレーザ光をポリゴンの面
に対しある角度斜めに入射して被検査物を走査すること
により、次のような優れた効果が得られる。 （１）被検査物面上における幅手方向の円弧状走査は補
正されてほぼ直線になり、実際の入射角の幅手でのずれ
は小さくなるので、円弧走査による被検査物への入射角
の差よりはるかに小さくできるため、反射光を凹面鏡等
で集光し受光する場合、受光部の光学部品の寸法を小さ
くすることができ、かつその集光性が良くなり、小さい
マスクまたはスリットを用いることが可能となるため検
出力が向上する。また、検出に用いる光量のロスが存在
しない。 （２）レーザ光の被検査物からの反射直後に受光部を置
く場合にも、受光部への光の入射口となるアパーチャを
拡げ、かつ受光部内の複数のセンサー例えばＰＭＴの位
置を円弧に合わせて配列する必要が無くなるので、受光
部がコンパクト化される。 （３）本発明を実施するためには、光学系の各種条件に
おいてシュミレーションしその値を決めるので、軸はず
しの凹面鏡を使わず、被検査物面上における幅手方向の
走査を直線状にできるためコストが安くなる。又、ハ−
フミラ−を用いて凹面鏡に垂直に入射させる必要がない
ので、光量を低下させずに欠陥検出することが可能にな
る。
【図１】本発明による投光光学系を使用した欠陥検査装
置の概略構成を示す斜視図である。
置の概略構成を示す斜視図である。
【図２】本発明の欠陥検査装置における投光光学系の概
略構成を示す図である。
略構成を示す図である。
【図３】本発明の欠陥検査装置に使用するポリゴンの正
面図である。
面図である。
【図４】本発明の欠陥検査装置に使用するポリゴンの平
面図である。
面図である。
【図５】本発明の欠陥検査装置に使用するシリンドリカ
ル凹面鏡の平面図である。
ル凹面鏡の平面図である。
【図６】従来の欠陥検査装置の一部の略図である。
【図７】従来の欠陥検査装置の受光部の概略構成を示す
斜視図である。
斜視図である。
１ 被検査物 ２ 回転ロール ３ レーザ発振器 ４ 集光レンズ ５ ポリゴン ６ ミラー ７ 第１凹面鏡 ８ 第２凹面鏡 ９ 受光器 １０ 光電変換素子 １１ レ−ザ光 １２ スリット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭51−143388（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−186033（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01N 21/84 - 21/958 G01B 11/00 - 11/30
Claims (1)
- 【請求項１】 被検査物の表面にレーザ光を回転多面鏡
と凹面鏡もしくはシリンドリカル凹面鏡を用いてフライ
ングスポット方式で照射し、その走査線の反射光あるい
は透過光から前記被検査物の欠陥を検査する欠陥検査装
置において、入射角ψで前記回転多面鏡に入射させたレーザ光の該回
転多面鏡からの反射光を、前記凹面鏡もしくはシリンド
リカル凹面鏡に入射角φで入射させ、前記回転多面鏡の
回転と角度ψで入射することによって生じる該回転多面
鏡からのレーザ光の反射光の該回転多面鏡の回転軸方向
の変動が、前記凹面鏡もしくはシリンドリカル凹面鏡へ
角度φで入射することによる反射光の変動によって相殺
される角度に前記入射角ψと前記入射角φとを設定し、
該凹面鏡もしくはシリンドリカル凹面鏡からの反射光
で、前記被検査物の表面上にレーザ光をほぼ直線状に走
査する ことを特徴とした欠陥検査装置における投光光学
系。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9700992A JP3174615B2 (ja) | 1992-03-24 | 1992-03-24 | 欠陥検査装置における投光光学系 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9700992A JP3174615B2 (ja) | 1992-03-24 | 1992-03-24 | 欠陥検査装置における投光光学系 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05273148A JPH05273148A (ja) | 1993-10-22 |
| JP3174615B2 true JP3174615B2 (ja) | 2001-06-11 |
Family
ID=14180303
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9700992A Expired - Fee Related JP3174615B2 (ja) | 1992-03-24 | 1992-03-24 | 欠陥検査装置における投光光学系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3174615B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4192400B2 (ja) * | 1999-12-28 | 2008-12-10 | ソニー株式会社 | 画像投射方法及び画像投射装置 |
| US7929129B2 (en) * | 2009-05-22 | 2011-04-19 | Corning Incorporated | Inspection systems for glass sheets |
-
1992
- 1992-03-24 JP JP9700992A patent/JP3174615B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05273148A (ja) | 1993-10-22 |
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