JP3174261U - シリカガラスルツボ製造装置 - Google Patents
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 93
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 33
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims abstract description 106
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 26
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 22
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 17
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 17
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 11
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 8
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 6
- 239000003517 fume Substances 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 4
- 229910021487 silica fume Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229920006015 heat resistant resin Polymers 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000018199 S phase Effects 0.000 description 1
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003779 heat-resistant material Substances 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 229920009441 perflouroethylene propylene Polymers 0.000 description 1
- 229920011301 perfluoro alkoxyl alkane Polymers 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000001175 rotational moulding Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- -1 silicon alkoxide Chemical class 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 238000004017 vitrification Methods 0.000 description 1
- 229910021489 α-quartz Inorganic materials 0.000 description 1
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Abstract
【解決手段】モールドと複数のアーク電極とを備え、モールドの内側でシリカ粉層を加熱熔融してシリカガラスルツボを製造するためのシリカガラスルツボ製造装置であって、モールドが設置された下部区画と、電極駆動機構が設置された上部区画と、上部区画と下部区画とを隔る区画部材とを有し、区画部材は、下部区画と上部区画とを隔てる方向に互いに間隔をあけて配置された、下部区画側の第1隔壁と、上部区画側の第2隔壁とを有し、第1隔壁及び第2隔壁それぞれには、電極が貫通する一以上の開口が設けられ、第1隔壁の開口は、第2隔壁の開口よりも大きい。
【選択図】図1
Description
・シリカガラスルツボ内に多結晶シリコンを収容する。
・上記多結晶シリコンを加熱し、シリコン融液とする。
・上記シリコン融液にシリコン種結晶を接触させる。
・上記シリコン種結晶をゆっくりと回転させながら引き上げ、シリコン単結晶を育成する。
このとき、シリコン融液に不純物が混入することを避けるため、一般的に高純度のシリカガラスルツボが用いられている。
・回転させたモールド(以下、回転モールドと称する)の内表面に、シリカ粉を投入する。
・回転モールドの内表面に、遠心力を利用してシリカ粉を堆積させて、シリカ粉層を形成する。
・回転モールド側からシリカ粉層を減圧しながら、シリカ粉層をアーク放電により加熱熔融(以下、アーク熔融と称する)することによってシリカガラス層を形成する(例えば、特許文献1)。
上記モールドが設置された下部区画と、電極駆動機構が設置された上部区画と、上記上部区画と下部区画とを隔る区画部材とを有し、
上記区画部材は、下部区画と上部区画とを隔てる方向に互いに間隔をあけて配置された、下部区画側の第1隔壁と、上部区画側の第2隔壁とを有し、
上記第1隔壁及び第2隔壁それぞれには、上記電極が貫通する一以上の開口が設けられ、
上記第1隔壁の開口は上記第2隔壁の開口よりも大きい、シリカガラスルツボ製造装置が提供される。
図1は、本考案の1実施形態にかかるシリカガラスルツボの製造装置に関して説明するための概略正断面図であり、図2中のI−I線視断面図である。図2は、同じシリカガラスルツボ製造装置の平面図である。
まず、回転するモールド2の内面にシリカ粉末を堆積し、目的とするシリカガラスルツボの形状に略対応する粉末積層体3を形成する。ここで、天然シリカガラスを形成するためのシリカ粉(天然シリカ粉)は、α−石英を主成分とする天然鉱物を粉砕して粉状にすることによって製造することができる。合成シリカガラスを形成するためのシリカ粉(合成シリカ粉)は、四塩化珪素(SiCl4)の気相酸化(乾式合成法)や、シリコンアルコキシド(Si(OR)4)の加水分解(ゾル・ゲル法)などの化学合成による手法によって製造することができる。
次いで、電極駆動機構24および/またはモールド駆動機構4により、電極先端を粉末積層体3に対向する所定位地に配置する。
2 モールド
3 シリカ粉末積層体
4 モールド駆動機構
6 第1隔壁
8 第2隔壁
10 区画部材
12 排気口
14 排気経路
16 排気装置
18 下部開口
20 上部開口
21 連通路
22 アーク電極
24 電極駆動機構
26 弾性部材
51 揺動軸
Claims (8)
- モールドと複数のアーク電極とを備え、前記モールドの内側でシリカ粉層を加熱熔融してシリカガラスルツボを製造するためのシリカガラスルツボ製造装置であって、
前記モールドが設置された下部区画と、電極駆動機構が設置された上部区画と、前記上部区画と下部区画とを隔る区画部材とを有し、
前記区画部材は、下部区画と上部区画とを隔てる方向に互いに間隔をあけて配置された、下部区画側の第1隔壁と、上部区画側の第2隔壁とを有し、
前記第1隔壁及び第2隔壁それぞれには、前記電極が貫通する一以上の開口が設けられ、
前記第1隔壁の開口は、前記第2隔壁の開口よりも大きい、シリカガラスルツボ製造装置。 - 前記第2隔壁の開口の内面を覆うように弾性部材が設置されている、請求項1に記載のシリカガラスルツボ製造装置。
- 前記複数の電極の内部に位置する揺動軸を中心に各別に揺動又は接触させる揺動手段をさらに備え、
前記複数の電極は、揺動により互いの先端どうしが接近及び離間可能とされている、請求項1又は2に記載のシリカガラスルツボ製造装置。 - 前記揺動軸が、前記第2隔壁の開口の内側に位置する、請求項3に記載のシリカガラスルツボ製造装置。
- 前記第1隔壁の開口は、前記第2隔壁の開口よりも1.2倍大きい、請求項1〜4いずれかに記載のシリカガラスルツボ製造装置。
- 前記隔壁は、前記モールドに対して接近離間可能とされている、請求項1〜5いずれかに記載のシリカガラスルツボ製造装置。
- 前記第1隔壁及び前記第2隔壁の少なくとも一方は、中空水冷構造とされている、請求項1〜6いずれかに記載のシリカガラスルツボ製造装置。
- 排気経路及び前記排気経路から排気する排気手段をさらに備えることを特徴とする、請求項1〜7いずれかに記載のシリカガラスルツボ製造装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011007774U JP3174261U (ja) | 2011-12-29 | 2011-12-29 | シリカガラスルツボ製造装置 |
PCT/JP2012/078256 WO2013099430A1 (ja) | 2011-12-29 | 2012-10-31 | シリカガラスルツボ製造装置 |
TW101221197U TWM455725U (zh) | 2011-12-29 | 2012-11-01 | 氧化矽玻璃坩堝製造裝置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011007774U JP3174261U (ja) | 2011-12-29 | 2011-12-29 | シリカガラスルツボ製造装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP3174261U true JP3174261U (ja) | 2012-03-08 |
Family
ID=48001422
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011007774U Expired - Lifetime JP3174261U (ja) | 2011-12-29 | 2011-12-29 | シリカガラスルツボ製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3174261U (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8281620B1 (en) * | 2011-04-27 | 2012-10-09 | Japan Super Quartz Corporation | Apparatus for manufacturing vitreous silica crucible |
CN115286221A (zh) * | 2022-07-20 | 2022-11-04 | 隆基绿能科技股份有限公司 | 一种坩埚熔制机以及坩埚熔制方法 |
-
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- 2011-12-29 JP JP2011007774U patent/JP3174261U/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US8281620B1 (en) * | 2011-04-27 | 2012-10-09 | Japan Super Quartz Corporation | Apparatus for manufacturing vitreous silica crucible |
CN115286221A (zh) * | 2022-07-20 | 2022-11-04 | 隆基绿能科技股份有限公司 | 一种坩埚熔制机以及坩埚熔制方法 |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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