JP3173905B2 - 半導体圧力センサ - Google Patents
半導体圧力センサInfo
- Publication number
- JP3173905B2 JP3173905B2 JP33113192A JP33113192A JP3173905B2 JP 3173905 B2 JP3173905 B2 JP 3173905B2 JP 33113192 A JP33113192 A JP 33113192A JP 33113192 A JP33113192 A JP 33113192A JP 3173905 B2 JP3173905 B2 JP 3173905B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pressure sensor
- semiconductor pressure
- sensor chip
- pedestal glass
- glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Measuring Fluid Pressure (AREA)
- Pressure Sensors (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体圧力センサに係
り、特に微圧領域の測定を目的としてダイヤフラムに突
起が形成されたセンサチップを持つ半導体圧力センサに
関する。
り、特に微圧領域の測定を目的としてダイヤフラムに突
起が形成されたセンサチップを持つ半導体圧力センサに
関する。
【0002】
【従来の技術】微圧領域の測定を目的として、ダイヤフ
ラムに突起(ボス)が形成されたセンサチップを持つ半
導体圧力センサが知られている。この半導体圧力センサ
チップは、台座ガラスに陽極接合等により取り付けられ
るが、ダイヤフラムの突起の動きを妨げることがないよ
うに、通常台座ガラスには窪みが形成される。
ラムに突起(ボス)が形成されたセンサチップを持つ半
導体圧力センサが知られている。この半導体圧力センサ
チップは、台座ガラスに陽極接合等により取り付けられ
るが、ダイヤフラムの突起の動きを妨げることがないよ
うに、通常台座ガラスには窪みが形成される。
【0003】図2は、その様な従来の半導体圧力センサ
を示している。台座ガラス1はその表面中央部に窪み4
が形成されている。半導体圧力センサチップ2は、周辺
厚肉部20を有し、この厚肉部20で囲まれた薄肉のダ
イヤフラム21を有し、ダイヤフラム21には、突起2
3が設けられている。この半導体圧力センサチップ2
は、その周辺厚肉部20が台座ガラス1に陽極接合され
て取り付けられている。窪み4の部分で、ダイヤフラム
21に形成された突起23の動きが確保されるようにな
っている。
を示している。台座ガラス1はその表面中央部に窪み4
が形成されている。半導体圧力センサチップ2は、周辺
厚肉部20を有し、この厚肉部20で囲まれた薄肉のダ
イヤフラム21を有し、ダイヤフラム21には、突起2
3が設けられている。この半導体圧力センサチップ2
は、その周辺厚肉部20が台座ガラス1に陽極接合され
て取り付けられている。窪み4の部分で、ダイヤフラム
21に形成された突起23の動きが確保されるようにな
っている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】この様な従来の半導体
圧力センサ構造では、台座ガラス1に窪み4を形成する
工程が必要である。窪み4を形成するには、台座ガラス
1を機械的に研削するか、弗酸等により化学的にエッチ
ングするか、いずれかの方法が用いられる。しかし、い
ずれの方法を用いるにしても、窪み4の深さや断面形状
を一定に制御することは容易ではない。また、窪み4が
形成された台座ガラス1に圧力センサチップ2を接合す
る際に、位置合わせが必要となる。従って、製造工程制
御が難しく、その結果として歩留まりや信頼性が低下す
るという問題があった。
圧力センサ構造では、台座ガラス1に窪み4を形成する
工程が必要である。窪み4を形成するには、台座ガラス
1を機械的に研削するか、弗酸等により化学的にエッチ
ングするか、いずれかの方法が用いられる。しかし、い
ずれの方法を用いるにしても、窪み4の深さや断面形状
を一定に制御することは容易ではない。また、窪み4が
形成された台座ガラス1に圧力センサチップ2を接合す
る際に、位置合わせが必要となる。従って、製造工程制
御が難しく、その結果として歩留まりや信頼性が低下す
るという問題があった。
【0005】本発明は、この様な事情を考慮してなされ
たもので、製造工程制御が容易で、高い歩留まりと信頼
性を得ることができる半導体圧力センサを提供すること
を目的とする。
たもので、製造工程制御が容易で、高い歩留まりと信頼
性を得ることができる半導体圧力センサを提供すること
を目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明に係る半導体圧力
センサは、平坦面を有する台座ガラスを用い、この台座
ガラスの平坦面上に、ダイヤフラムに突起を有する半導
体圧力センサチップの周辺厚肉部がスペーサ膜を介して
陽極接合されていることを特徴とする。
センサは、平坦面を有する台座ガラスを用い、この台座
ガラスの平坦面上に、ダイヤフラムに突起を有する半導
体圧力センサチップの周辺厚肉部がスペーサ膜を介して
陽極接合されていることを特徴とする。
【0007】
【作用】本発明による半導体圧力センサでは、スペーサ
膜の厚みによって、実質的に台座ガラス中央に窪みが形
成され、センサチップ内のダイヤフラムの突起の動きが
確保される。従って台座ガラス表面に窪みを形成する工
程が必要ない。またスペーサ膜を例えばスパッタや蒸着
等による金属膜とすれば、膜厚制御性はよく、しかも窪
みの部分はもともと平坦面であって、深さの均一性は優
れたものとなる。更に、スペーサ膜を予めセンサチップ
の周辺厚肉部に形成して、このセンサチップを台座ガラ
ス上に陽極接合すれば、接合の際に格別の位置合わせは
必要なくなる。
膜の厚みによって、実質的に台座ガラス中央に窪みが形
成され、センサチップ内のダイヤフラムの突起の動きが
確保される。従って台座ガラス表面に窪みを形成する工
程が必要ない。またスペーサ膜を例えばスパッタや蒸着
等による金属膜とすれば、膜厚制御性はよく、しかも窪
みの部分はもともと平坦面であって、深さの均一性は優
れたものとなる。更に、スペーサ膜を予めセンサチップ
の周辺厚肉部に形成して、このセンサチップを台座ガラ
ス上に陽極接合すれば、接合の際に格別の位置合わせは
必要なくなる。
【0008】
【実施例】以下、図面を参照しながら本発明の実施例を
説明する。図1は、本発明の一実施例に係る半導体圧力
センサの断面図である。(a) は通常の状態、(b) は過大
圧力がかかった状態を示している。台座ガラス1は、図
示のように平坦面を有し、この平坦面上に半導体圧力セ
ンサチップ2が接合されている。圧力センサチップ2
は、シリコン基板の薄肉ダイヤフラム21に不純物拡散
層によりゲージ抵抗(図示せず)が形成されている。ダ
イヤフラム21には、微圧測定を目的として突起23が
形成されている。周辺厚肉部20には予めスペーサ膜3
としてアルミニウム(Al)膜がスパッタまたは蒸着に
より形成されている。スペーサ膜3は例えば、センサチ
ップ2のダイヤフラム21のエッチング加工に用いられ
るマスク材をそのまま利用すればよく、その厚みは例え
ば、5μm 程度とする。
説明する。図1は、本発明の一実施例に係る半導体圧力
センサの断面図である。(a) は通常の状態、(b) は過大
圧力がかかった状態を示している。台座ガラス1は、図
示のように平坦面を有し、この平坦面上に半導体圧力セ
ンサチップ2が接合されている。圧力センサチップ2
は、シリコン基板の薄肉ダイヤフラム21に不純物拡散
層によりゲージ抵抗(図示せず)が形成されている。ダ
イヤフラム21には、微圧測定を目的として突起23が
形成されている。周辺厚肉部20には予めスペーサ膜3
としてアルミニウム(Al)膜がスパッタまたは蒸着に
より形成されている。スペーサ膜3は例えば、センサチ
ップ2のダイヤフラム21のエッチング加工に用いられ
るマスク材をそのまま利用すればよく、その厚みは例え
ば、5μm 程度とする。
【0009】このように形成された圧力センサチップ2
は、スペーサ膜3が形成された厚肉部20で台座ガラス
1の表面に直接陽極接合されている。陽極接合は、具体
的には、真空中で500℃程度に加熱し、シリコン基板
側を正極,台座ガラス側を負極として約600Vの電圧
を印加するという方法で行われる。Al膜は、この様な
条件でガラスに直接陽極接合できる金属材料であって、
これにより圧力センサチップ2は台座ガラス1に一体化
され、かつAlスペーサ膜3の厚みによって、センサチ
ップ2の突起23の部分の台座ガラス1との間の距離が
確保される。
は、スペーサ膜3が形成された厚肉部20で台座ガラス
1の表面に直接陽極接合されている。陽極接合は、具体
的には、真空中で500℃程度に加熱し、シリコン基板
側を正極,台座ガラス側を負極として約600Vの電圧
を印加するという方法で行われる。Al膜は、この様な
条件でガラスに直接陽極接合できる金属材料であって、
これにより圧力センサチップ2は台座ガラス1に一体化
され、かつAlスペーサ膜3の厚みによって、センサチ
ップ2の突起23の部分の台座ガラス1との間の距離が
確保される。
【0010】スペーサ膜3は、上述のように陽極接合に
よって直接ガラスに接合できる材料であればよく、Al
膜の他に、ニッケル,チタン,タングステン等の金属膜
を用いることができる。これら金属膜の他に、ガラスや
セラミックス等も用いることが可能である。またスペー
サ膜3の厚みは、過大圧力に対するチップ保護機能とし
て必要かつ十分なものとする。即ち過大圧力がかかった
ときに、図1(b) に示すようにセンサチップ2の突起2
3が台座ガラス1の表面に突き当たって、センサチップ
2の破壊が防止されるように、スペーサ膜3の厚みを設
定すればよい。
よって直接ガラスに接合できる材料であればよく、Al
膜の他に、ニッケル,チタン,タングステン等の金属膜
を用いることができる。これら金属膜の他に、ガラスや
セラミックス等も用いることが可能である。またスペー
サ膜3の厚みは、過大圧力に対するチップ保護機能とし
て必要かつ十分なものとする。即ち過大圧力がかかった
ときに、図1(b) に示すようにセンサチップ2の突起2
3が台座ガラス1の表面に突き当たって、センサチップ
2の破壊が防止されるように、スペーサ膜3の厚みを設
定すればよい。
【0011】この実施例によれば、従来のように台座ガ
ラスに窪みを加工する工程が必要なく、したがってま
た、圧力センサチップと台座ガラスの位置合わせも必要
なく、圧力センサチップを台座ガラスに取り付けること
ができる。しかも、スペーサ膜の成膜工程は、台座ガラ
スに窪みを加工する工程に比べて制御性に優れており、
その膜厚を最適設定して、微圧測定用の半導体圧力セン
サを歩留まりよく実現することができる。
ラスに窪みを加工する工程が必要なく、したがってま
た、圧力センサチップと台座ガラスの位置合わせも必要
なく、圧力センサチップを台座ガラスに取り付けること
ができる。しかも、スペーサ膜の成膜工程は、台座ガラ
スに窪みを加工する工程に比べて制御性に優れており、
その膜厚を最適設定して、微圧測定用の半導体圧力セン
サを歩留まりよく実現することができる。
【0012】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、工
程制御が簡単で歩留まりの高い半導体圧力センサが得ら
れる。
程制御が簡単で歩留まりの高い半導体圧力センサが得ら
れる。
【図1】 本発明の一実施例による半導体圧力センサを
示す図である。
示す図である。
【図2】 従来の半導体圧力センサを示す図である。
1…台座ガラス、2…半導体圧力センサチップ、20…
周辺厚肉部、21…ダイヤフラム、23…突起、3…ス
ペーサ膜。
周辺厚肉部、21…ダイヤフラム、23…突起、3…ス
ペーサ膜。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01L 9/04 H01L 29/84
Claims (1)
- 【請求項1】 平坦面を有する台座ガラスと、 この台座ガラスの平坦面上に周辺厚肉部がスペーサ膜を
介して陽極接合された、ダイヤフラムに突起を有する半
導体圧力センサチップと、を備えたことを特徴とする半
導体圧力センサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33113192A JP3173905B2 (ja) | 1992-11-17 | 1992-11-17 | 半導体圧力センサ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33113192A JP3173905B2 (ja) | 1992-11-17 | 1992-11-17 | 半導体圧力センサ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06160219A JPH06160219A (ja) | 1994-06-07 |
JP3173905B2 true JP3173905B2 (ja) | 2001-06-04 |
Family
ID=18240218
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33113192A Expired - Fee Related JP3173905B2 (ja) | 1992-11-17 | 1992-11-17 | 半導体圧力センサ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3173905B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007516746A (ja) * | 2003-12-11 | 2007-06-28 | プロテウス バイオメディカル インコーポレイテッド | 移植可能な圧力センサ |
JP2007180201A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Yamaha Corp | 半導体装置 |
-
1992
- 1992-11-17 JP JP33113192A patent/JP3173905B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06160219A (ja) | 1994-06-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4625561A (en) | Silicon capacitive pressure sensor and method of making | |
US3819431A (en) | Method of making transducers employing integral protective coatings and supports | |
JPH0349267A (ja) | 半導体式加速度センサおよびその製造方法 | |
JPH0466096B2 (ja) | ||
JP3173905B2 (ja) | 半導体圧力センサ | |
JPH0797643B2 (ja) | 圧力変換装置の製造方法 | |
JP2766417B2 (ja) | 貼り合わせ誘電体分離ウェーハの製造方法 | |
JPH06221945A (ja) | 半導体圧力センサおよびその製造方法 | |
JP3427462B2 (ja) | 半導体加速度センサの製造方法 | |
GB2025692A (en) | Method of producing a piezo- resistance pressure sensor | |
JP3061249B2 (ja) | 静電容量型圧力センサとその製造方法 | |
JP2782743B2 (ja) | 半導体圧力センサ及びその製造方法 | |
JP3392069B2 (ja) | 半導体加速度センサおよびその製造方法 | |
JPH0548118A (ja) | 半導体圧力センサ | |
JPH06160218A (ja) | 半導体センサの製造方法 | |
JPH07318445A (ja) | 静電容量型圧力センサとその製造方法 | |
JPH0476959A (ja) | 半導体圧力センサの製造方法 | |
JPH11108783A (ja) | 静電容量型圧力センサ及びその固定構造 | |
JPH07113708A (ja) | 半導体絶対圧力センサの製造方法 | |
JPH0712842A (ja) | 半導体容量式センサ及びセンサの製造方法 | |
JPS63151830A (ja) | ボロメ−タ | |
JPH05203519A (ja) | 圧力センサの製造方法 | |
JPH0368175A (ja) | 半導体圧力センサ | |
JPH06140640A (ja) | 半導体圧力センサの製造方法 | |
JP3021709B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |