JP3172481B2

JP3172481B2 - 育毛システム

Info

Publication number: JP3172481B2
Application number: JP27956097A
Authority: JP
Inventors: 祥剛五十嵐
Original assignee: Artnature Inc
Current assignee: Artnature Inc
Priority date: 1997-09-25
Filing date: 1997-09-25
Publication date: 2001-06-04
Anticipated expiration: 2017-09-25
Also published as: JPH1192337A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、頭髪の発毛・育
毛を促進させる育毛システム（育毛促進方法）に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、頭髪の発毛・育毛剤として、例え
ば特公昭６１−６００４２号公報、特公平１−５６０４
５号公報、特開平７−４８２２９号公報などが既に提案
されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、頭髪の発毛
・育毛には、頭皮や毛穴に付着した皮脂などの汚れを浮
き上がらせて確実に除去し、この後頭皮や毛穴に育毛剤
を効果的に塗布したりして、発毛・育毛を系統的に促進
することが重要である。しかし、頭髪の発毛・育毛を促
す系統的な育毛システムは、未だ行われていない。

【０００４】そこで、本発明の目的は、頭髪の発毛・育
毛を系統的に促進できる育毛システムを提供することに
ある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１に記載した本願発明の育毛システムは、ア
ミノ酸系界面活性剤を主たる有効成分とする第１剤と、
パパイン酵素を主たる有効成分とする第２剤との混合物
からなるクレンジング剤を用いて、頭皮と毛穴をクレン
ジングするクレンジング工程と、頭皮と毛穴及び毛髪の
汚れを落すシャンプー工程と、ヒノキチオールを主たる
有効成分とする第１育毛剤を頭皮全体に塗布する第１育
毛処理工程と、ヒノキチオールを主たる有効成分とする
第２育毛剤を頭皮の特定部分に塗布する第２育毛処理工
程と、ケラチンを主たる有効成分とするトリートメント
剤を毛髪に塗布するトリートメント工程とからなる。

【０００６】この本願発明の育毛システムは、主にヘア
ケアサロンなどで専門技術者が行うもので、特に脂性の
人や頭皮の汚れが大きいときに採用される。先ず、クレ
ンジング工程において、頭皮全体に第１及び第２剤から
なるクレンジング剤が塗布される。このとき、第１剤に
配合したアミノ酸系界面活性剤が、頭皮や毛穴に付着し
た皮脂などの汚れを速やかに浮き上がらせる。また、第
２剤中のパパイン酵素は、頭皮・毛髪の洗浄作用、抗菌
・抗炎作用、新陳代謝促進作用、細胞賦活作用、他の成
分の効能を高める作用を有する。よって、第１，第２剤
中の成分により、頭皮や毛穴に付着した皮脂などの汚れ
が浮き上がって速やかに剥離し、かつ汚れの除去部分に
パパイン酵素成分が浸透して発毛・育毛が促進される。

【０００７】そして、シャンプー工程において、皮脂な
どの汚れが洗い流されて、頭皮と毛穴及び毛髪が清浄化
される。

【０００８】次に、第１育毛処理工程において、清浄化
された頭皮全体に第１育毛剤が塗布される。このとき、
第１育毛剤に配合したヒノキチオールは、育毛促進作用
と抗菌作用を有する。従って、第１育毛剤により頭皮全
体にわたる毛髪の発毛・育毛が促進される。

【０００９】この後、第２育毛処理工程において、第２
育毛剤が頭皮の特定部分（特に毛髪の少ない個所）に塗
布される。このとき、第２育毛剤に配合したヒノキチオ
ールは、前述したように育毛促進作用と抗菌作用を有し
ているので、第２育毛剤により頭皮の特定部分における
毛髪の発毛・育毛が促進される。

【００１０】さらに、トリートメント工程において、毛
髪の全体にトリートメント剤が塗布される。このとき、
トリートメント剤に配合したケラチンは、毛髪の保護作
用とコンディショニング作用を有する。従って、トリー
トメント剤により毛髪の全体が正常な状態に整えられ
る。

【００１１】本願発明の好ましい実施形態では、クレン
ジング工程時でクレンジング剤を塗布した後に、頭皮と
毛穴に赤外線又はスチーム或いは両者を共に付与する。
このようにすれば、赤外線やスチームによる温熱効果に
より、血行促進やクレンジング剤に配合した成分の毛包
部に対する浸透性が高められる。よって、頭皮や毛穴に
付着した皮脂などの汚れが速やかに剥離され、かつ汚れ
の除去部分に各成分が速やかに浸透する。

【００１２】また、好ましい実施形態では、第２育毛処
理工程時で第２育毛剤の塗布後に、イオン発生器を用い
て第２育毛剤の成分を毛包部に浸透させる。このイオン
発生器を用いることにより、第２育毛剤の成分がイオン
化されて、この成分の毛包部に対する浸透性が高められ
る。よって、毛髪の発毛・育毛効果が一層高められる。

【００１３】さらに、好ましい実施形態では、第２育毛
処理工程時で第２育毛剤の塗布後、赤外線を照射して第
２育毛剤の成分を頭皮に浸透させる。このようにすれ
ば、赤外線による温熱効果により、血行促進や第２育毛
剤の成分の毛包部に対する浸透性が高められる。よっ
て、毛髪の発毛・育毛効果が一層高められる。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図面
に基づいて説明する。図１は、本願発明にかかる育毛シ
ステムの工程図を示している。同図に示す育毛システム
は、頭皮と毛穴をクレンジングするクレンジング工程
（１）、頭皮と毛穴及び毛髪の汚れを落すシャンプー工
程（２）、頭皮全体に施す第１育毛処理工程（３）、頭
皮の特定部分に施す第２育毛処理工程（４）、毛髪のト
リートメント工程（５）、仕上げ工程（６）からなる。

【００１５】先ず、本願発明では、クレンジング工程
（１）において、第１剤と第２剤の混合物からなるクレ
ンジング剤を使用する。第１剤は、頭皮・毛髪のクレン
ジング作用、皮脂のコントロール作用、頭皮・毛髪の保
護作用、殺菌作用、清涼作用、保湿作用を有する成分を
精製水等の溶媒に適宜混合してジェル状に調整する。上
記クレンジング剤に含まれる成分は、ヤシ油脂肪酸サル
コシンナトリウム［アミノ酸系界面活性剤］（クレンジ
ング作用）５．０〜２０．０％、ホホバオイル（皮脂の
コントロール作用）０．１〜１．０％、ＡＴＰ［アデノ
シン３リン酸２ナトリウム］（頭皮・毛髪の保護作用）
０．１〜０．５％、メントール（殺菌作用、清涼作用）
０．０５〜０．１％、植物エキス群（保湿作用等）適量
である。

【００１６】また第２剤は、洗浄作用、抗菌・抗炎作
用、新陳代謝促進作用、細胞賦活作用、他の成分の効能
を高める作用を有するパパイン酵素２．０〜３．０％と
結晶セルロース（賦形剤）９７．０〜９８．０％とでパ
ウダー状に調整する。これら第１剤と第２剤は、１０〜
３０：０．５〜３の配合比で混合してクレンジング剤と
する。このクレンジング剤は、頭皮の汚れの状態に応じ
て任意量を使用し、通常の場合は１０〜３５ccであり、
その塗布後の放置時間は、赤外線又はスチーム或は両者
を共に付与した場合約１０〜１５分程度である。

【００１７】シャンプー工程（２）においては、優れた
洗浄作用、細胞の修復作用、育毛促進作用、抗菌作用、
頭皮・毛髪の保護作用、細胞賦活作用を有する成分を精
製水等の溶媒に適宜混合して液状に調整したシャンプー
剤を頭皮や毛髪の汚れにおうじて任意量を使用する。通
常の場合は５〜２０ccである。上記シャンプー剤に含ま
れる成分は、ラウロイルメチル−β−アラニンナトリウ
ム液［アミノ酸系界面活性剤］（優れた洗浄作用）５．
０〜３０．０％、ラウリン酸アミドプロピルベタイン液
［両性界面活性剤］（優れた洗浄作用）５．０〜１０．
０％、デオキシリボ核酸カリウム塩（細胞の修復作用）
０．０１〜０．１％、ヒノキチオール（育毛促進作用、
抗菌作用）０．０３〜０．０５％、加水分解コラーゲン
液（頭皮・毛髪の保護作用）０．０１〜０．１％、植物
エキス群（保湿作用等）適量である。

【００１８】第１育毛処理工程（３）においては、育毛
促進作用、抗菌作用、細胞の修復作用、発毛促進作用、
血管拡張作用、細胞賦活作用、血行促進作用を有する成
分を精製水等の溶媒に適宜混合して液状に調整した第１
育毛剤を頭皮や毛髪の汚れにおうじて任意量を使用す
る。通常の場合は３〜１０ccが用いられる。塗布後の放
置時間はマッサージを加えた場合約５〜１５分程度であ
る。上記第１育毛剤に含まれる成分は、ヒノキチオール
（育毛促進作用、抗菌作用）０．０３〜０．０５％、デ
オキシリボ核酸カリウム塩（細胞の修復作用）０．０１
〜０．１％、感光素３０１号（発毛促進作用）０．００
１〜０．０１％、ハッカ油（血管拡張作用）、植物エキ
ス群（細胞賦活作用、血行促進作用等）適量である。

【００１９】第２育毛処理工程（４）においては、育毛
促進作用、抗菌作用、細胞の修復作用、発毛促進作用、
保湿作用、細胞賦活作用、血行促進作用を有する成分を
精製水等の溶媒に適宜混合して液状に調整した第２育毛
剤を頭皮の特定部分（特に毛髪の少ない箇所）の大きさ
に応じて任意量を使用する。通常の場合は１〜３ccが用
いられ、塗布後の放置時間はイオン発生器を用いた場合
約１０〜１５分程度である。上記第２育毛剤に含まれる
成分は、ヒノキチオール（育毛促進作用、抗菌作用）
０．０３〜０．０５％、デオキシリボ核酸カリウム塩
（細胞の修復作用）０．０１〜０．１％、感光素３０１
号（発毛促進作用）０．００１〜０．０１％、ヒアルロ
ン酸ナトリウム（保湿作用）０．１５〜１．００％、植
物エキス群（細胞賦活作用、血行促進作用等）適量であ
る。

【００２０】毛髪のトリートメント工程（５）において
は、頭皮・毛髪の保護作用、コンディショニング作用、
ヘアーセッティング作用を有する成分を精製水等の溶媒
に適宜混合して液状に調整した、洗い流さないタイプの
トリートメント剤を髪の状態に応じて任意量を使用す
る。通常の場合は１〜５ccが用いられる。上記トリート
メント剤に含まれる成分は、塩化Ｎ−［２ヒドロキシ３
（トリメチルアンモニオ）プロピル］加水分解ケラチン
液［ケラチン］（毛髪の保護作用、コンディショニング
作用）３．０〜５．０％、加水分解コラーゲンエチル液
（頭皮・毛髪の保護作用）３．０〜５．０％、ビニルピ
ロリドンＮ，Ｎジメチルアミノエチルメタクリル酸共重
合体ジエチル硫酸塩液［ポリマー］（ヘアーセッティン
グ作用）２．０〜５．０％である。なお、上記した各成
分の配合比率（％）は、何れも重量％である。

【００２１】以上の本願発明にかかる育毛システムは、
主にヘアケアサロンなどで専門技術者が行うもので、脂
性の人や頭皮の汚れが大きいときに採用される。そし
て、先ずクレンジング工程（１）において、頭皮に第１
及び第２剤からなるクレンジング剤を塗布する。する
と、クレンジング剤に配合された各成分により、頭皮や
毛穴に付着した皮脂などの汚れが浮き上がって剥離す
る。

【００２２】上記クレンジング工程（１）においては、
クレンジング剤を塗布した後に、赤外線及びスチーム発
生器により頭皮と毛穴に赤外線とスチームを共に付与す
る。この発生器は、図２に示すように、キャップ１１内
にスチーム発生部１２と赤外線ランプ１３を設けたもの
である。そして、キャップ１１を被ることにより頭皮の
全体に赤外線を照射し、かつスチームを吹き付ける。こ
のとき、スチーム発生部１２からは４５〜５０℃の蒸気
を発生させる。赤外線やスチームによる温熱効果によ
り、血行促進やクレンジング剤に配合した各成分の毛包
部に対する浸透性が効果的に高められる。そして、頭皮
や毛穴に付着した皮脂などの汚れが速やかに剥離する。
なお、上記赤外線とスチームは、その何れか一方のみを
付与してもよい。

【００２３】この後、シャンプー工程（２）において、
シャンプー剤により皮脂などの汚れが洗い流されて、頭
皮と毛穴及び毛髪が清浄化される。

【００２４】次に、第１育毛処理工程（３）において、
シャンプー剤による清浄化により毛穴が開いているとき
に、頭皮全体に第１育毛剤を塗布する。すると、第１育
毛剤に配合した各成分により、頭皮全体にわたる毛髪の
発毛・育毛が促進される。この第１育毛処理工程（３）
においては、第１育毛剤の塗布後に頭皮全体のマッサー
ジやツボの刺激を行うことが好ましい。このようにすれ
ば、毛髪の発毛・育毛を効果的に促進できる。

【００２５】さらに、第２育毛処理工程（４）におい
て、第２育毛剤を頭皮の特定部分（特に毛髪の少ない個
所）に塗布する。すると、第２育毛剤に配合した各成分
により、頭皮の特定部分における毛髪の発毛・育毛が促
進される。

【００２６】上記第２育毛処理工程（４）においては、
第２育毛剤の塗布後に、イオン発生器を用いて第２育毛
剤の各成分を毛包部に浸透させる。このイオン発生器
は、図３ (Ａ)(Ｂ) に示すように、帽子２１と、その内
側に被る導電性のあるメッシュキャップ２２を備え、こ
のメッシュキャップ２２の頂部と側部に、それぞれ外部
電源に接続されるゴム製の第１及び第２電極２３，２４
を取付けている。これら各電極２３，２４は、ＤＣ２４
Ｖの電圧が印加され、１５ｍＡ程度の微電流しか流れな
い安全性の高いものである。そして、第２育毛剤の塗布
後に上記帽子２１とメッシュキャップ２２を頭部に被
せ、各電極２３，２４間に通電することにより、第２育
毛剤中の各成分がイオン化され、各成分の毛包部に対す
る浸透性が高まる。よって、毛髪の発毛・育毛効果が高
められる。

【００２７】また、上記第２育毛処理工程（４）では、
イオン発生器に変えて赤外線照射器を使用し、これによ
り第２育毛剤が塗布された頭皮に赤外線を照射するよう
にしてもよい。この赤外線照射器は、図２に示すものと
同様で、キャップ１１内に複数の赤外線照射部１３を設
けたものである。そして、キャップ１１を被ることによ
り頭皮の全体に赤外線を当てる。このようにすれば、赤
外線による温熱効果により、第２育毛剤に配合した各成
分の毛包部に対する浸透性が高められる。

【００２８】この後、トリートメント工程（５）におい
て、毛髪の全体にトリートメント剤を塗布する。する
と、トリートメント剤に配合した各成分により、毛髪の
全体が正常な状態に整えられる。

【００２９】以上の各工程を終了した後には、整髮剤や
ドライヤーを用いて毛髪をセットする仕上げ工程（６）
を行う。

【００３０】次に、以上の育毛システムを実施したとき
の結果について説明する。下記に示すデータは、何れも
約１週間のサイクルで施術を行ったものである。Ａ女史
の場合、施術後約半月で脱毛部分の毛穴から新たなウブ
毛が発毛し、１か月半で同じ毛穴から黒い毛が１本生え
てきた。さらに、３か月経過すると同じ毛穴から３本の
黒い毛が生え、約６か月経過時には脱毛部分の全体にま
ばらな発毛が確認された。

【００３１】Ｂ氏の場合、施術前は１日に１０９本の脱
毛があったのに対し、施術後約１か月で脱毛本数が８７
本に減少し、さらに約４か月経過すると４５本にまで減
少した。

【００３２】

【発明の効果】以上のように、本発明の育毛システムに
よれば、頭髪の発毛・育毛を系統的に促進することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本願発明の育毛システムを示す工程図である。

【図２】赤外線及びスチーム発生器を示す簡略的な側断
面図と横断面図である。

【図３】イオン発生器の分解斜視図と断面図である。

【符号の説明】

１クレンジング工程２シャンプー工程３第１育毛処理工程４第２育毛処理工程５トリートメント工程

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) A61K 7/00 - 7/50 A45D 19/00 - 19/18 A45D 44/00 - 44/22 A61H 39/00 - 39/08 ＣＡ（ＳＴＮ) ＷＰＩ（ＤＩＡＬＯＧ)

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】アミノ酸系界面活性剤を主たる有効成分
とする第１剤と、パパイン酵素を主たる有効成分とする
第２剤との混合物からなるクレンジング剤を用いて、頭
皮と毛穴をクレンジングするクレンジング工程と、頭皮と毛穴及び毛髪の汚れを落すシャンプー工程と、ヒノキチオールを主たる有効成分とする第１育毛剤を、
頭皮全体に塗布する第１育毛処理工程と、ヒノキチオールを主たる有効成分とする第２育毛剤を、
頭皮の特定部分に塗布する第２育毛処理工程と、ケラチンを主たる有効成分とするトリートメント剤を、
毛髪に塗布するトリートメント工程からなる育毛促進方
法（治療行為を除く）。
【請求項２】請求項１において、クレンジング工程時
でクレンジング剤を塗布した後、頭皮と毛穴に赤外線又
はスチーム或いは両者を共に付与する育毛促進方法。
【請求項３】請求項１において、第２育毛処理工程時
で第２育毛剤の塗布後に、イオン発生器を用いて第２育
毛剤中の成分を毛包部に浸透させる育毛促進方法。
【請求項４】請求項１において、第２育毛処理工程時
で第２育毛剤の塗布後に、赤外線を照射して第２育毛剤
中の成分を毛包部に浸透させる育毛促進方法。