JP3172482B2 - 育毛システム - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、主に一般家庭で
手軽に行う頭髪の発毛・育毛を促進させる育毛システム
（育毛促進方法）に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、頭髪の発毛・育毛剤として、例え
ば特公昭６１−６００４２号公報、特公平１−５６０４
５号公報、特開平７−４８２２９号公報などが既に提案
されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、頭髪の発毛
・育毛には、頭皮や毛穴に付着した皮脂などの汚れを浮
き上がらせて確実に除去し、この後頭皮や毛穴及び毛髪
に育毛剤を効果的に塗布したりして、発毛・育毛を系統
的に促進することが重要である。しかし、頭髪の発毛・
育毛を促す系統的な育毛システムは、未だ行われていな
い。特に、頭髪のケアは、一般家庭において個人が一定
時間置きに長期間にわたって継続することが重要である
が、一般家庭で手軽に行える育毛システムはない。

【０００４】そこで、本発明の目的は、一般家庭で手軽
に頭髪の発毛・育毛を系統的に促進できる育毛システム
を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１に記載した本発明の育毛システムは、ホホ
バオイルを主たる有効成分とするクレンジング剤を用い
て、頭皮と毛穴をクレンジングするクレンジング工程
と、頭皮と毛穴及び毛髪の汚れを落すシャンプー工程
と、ヒノキチオールを主たる有効成分とする第１育毛剤
を、頭皮全体に塗布する第１育毛処理工程と、ヒノキチ
オールを主たる有効成分とする第２育毛剤を、頭皮の特
定部分に塗布する第２育毛処理工程と、ケラチンを主た
る有効成分とするトリートメント剤を毛髪に塗布するト
リートメント工程とからなる。

【０００６】この育毛システムは、主に一般家庭におい
て個人が一定時間置きに長期間にわたって継続的に行う
ものである。先ず、クレンジング工程において、頭皮全
体にクレンジング剤が塗布される。このとき、クレンジ
ング剤に配合したホホバオイルは、頭皮・毛髪の保護作
用と皮脂のコントロール作用を有しているので、頭皮や
毛穴に付着した皮脂などの汚れを速やかに浮き上がらせ
る。

【０００７】そして、シャンプー工程において、皮脂な
どの汚れが洗い流されて、頭皮と毛穴及び毛髪が清浄化
される。

【０００８】次に、第１育毛処理工程において、清浄化
された頭皮全体に第１育毛剤が塗布される。このとき、
第１育毛剤に配合したヒノキチオールは、育毛促進作用
と抗菌作用を有している。従って、第１育毛剤により頭
皮全体にわたる毛髪の発毛・育毛が促進される。

【０００９】この後、第２育毛処理工程において、第２
育毛剤が頭皮の特定部分（特に毛髪の少ない個所）に塗
布される。このとき、第２育毛剤に配合したヒノキチオ
ールは、前述したように育毛促進作用と抗菌作用を有し
ているので、第２育毛剤により頭皮の特定部分における
毛髪の発毛・育毛が促進される。

【００１０】さらに、トリートメント工程において、毛
髪の全体にトリートメント剤が塗布される。このとき、
トリートメント剤に配合したケラチンは、毛髪の保護作
用とコンディショニング作用を有している。従って、ト
リートメント剤により毛髪の全体が正常な状態に整えら
れる。

【００１１】この発明の好ましい実施形態では、クレン
ジング工程時でクレンジング剤を塗布した後に、頭皮と
毛穴に遠赤外線を付与する。このようにすれば、遠赤外
線による温熱効果により、血行促進やクレンジング剤に
配合した各成分の頭皮や毛穴に対する浸透性が高められ
る。よって、頭皮や毛穴に付着した皮脂などの汚れが速
やかに剥離され、かつ汚れの除去部分に各成分が速やか
に浸透する。

【００１２】また、好ましい実施形態では、第１育毛処
理工程時で第１育毛剤の塗布後に、頭皮に電位を負荷す
る。このようにすれば、頭皮の新陳代謝や血行が促進さ
れ、また第１育毛剤の毛包部に対する浸透性が高められ
る。よって、毛髪の発毛・育毛効果が一層高められる。

【００１３】さらに、好ましい実施形態では、第２育毛
処理工程時で第２育毛剤の塗布後に、イオン発生器を用
いて第２育毛剤の各成分を毛包部に浸透させる。このイ
オン発生器を用いることにより、第２育毛剤の成分がイ
オン化されて、この成分の毛包部に対する浸透性が高め
られる。よって、毛髪の発毛・育毛効果が一層高められ
る。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図面
に基づいて説明する。図１は本発明にかかる育毛システ
ムの工程図を示している。同図に示す育毛システムは、
頭皮と毛穴をクレンジングするクレンジング工程（１）
と、頭皮と毛穴及び毛髪の汚れを落すシャンプー工程
（２）と、頭皮全体に施す第１育毛処理工程（３）と、
頭皮の特定部分に施す第２育毛処理工程（４）と、毛髪
のトリートメント工程（５）と、仕上げ工程（６）とか
らなる。

【００１５】先ず、クレンジング工程（１）において
は、皮脂のコントロール作用、細胞の修復作用、頭皮の
柔軟作用、保湿作用を有する成分を精製水等の溶媒に適
宜混合して乳化オイル状に調整した、クレンジング剤を
頭皮の汚れの状態に応じて任意量を使用する。通常の場
合は１〜５ccであり、塗布後の放置時間は、遠赤外線を
付与した場合約１０〜１５分程度である。上記クレンジ
ング剤に含まれる成分はホホバオイル（皮脂のコントロ
ール作用）０．５〜１．０％、デオキシリボ核酸カリウ
ム塩（細胞の修復作用）０．０１〜０．１％、スクワラ
ン（頭皮の柔軟作用）０．５〜１．０％、グリセリン
（保湿作用）１０．０〜２０．０％である。

【００１６】そして、クレンジング工程（１）におい
て、以上のクレンジング剤を使用することにより、この
クレンジング剤に配合した各成分が頭皮や毛穴に浸透し
て、これに付着した皮脂などの汚れが浮き上がって速や
かに剥離する。

【００１７】シャンプー工程（２）においては、優れた
洗浄作用、細胞の修復作用、育毛促進作用、抗菌作用、
頭皮・毛髪の保護作用、細胞賦活作用を有する成分を精
製水等のに溶媒に適宜混合して液状に調整したシャンプ
ー剤を頭皮や毛髪の汚れにおうじて任意量を使用する。
通常の場合は５〜２０ccである。上記シャンプー剤に含
まれる成分は、ラウロイルメチル−β−アラニンナトリ
ウム液［アミノ酸系界面活性剤］（優れた洗浄作用）
５．０〜３０．０％、ラウリン酸アミドプロピルベタイ
ン液［両性界面活性剤］（優れた洗浄作用）５．０〜１
０．０％、デオキシリボ核酸カリウム塩（細胞の修復作
用）０．０１〜０．１％、ヒノキチオール（育毛促進作
用、抗菌作用）０．０３〜０．０５％、加水分解コラー
ゲン液（頭皮・毛髪の保護作用）０．０１〜０．１％、
植物エキス群（保湿作用等）適量である。

【００１８】第１育毛処理工程（３）においては、育毛
促進作用、抗菌作用、細胞の修復作用、発毛促進作用、
殺菌作用、清涼作用、細胞賦活作用、血行促進作用を有
する成分を精製水等の溶媒に適宜混合して液状に調整し
た第１育毛剤を頭皮や毛髪の汚れにおうじて任意量を使
用する。通常の場合は３〜１０ccが用いられる。塗布後
の放置時間はマッサージを加えた場合約５〜１５分程度
である。上記第１育毛剤に含まれる成分は、ヒノキチオ
ール（育毛促進作用、抗菌作用）０．０３〜０．０５
％、デオキシリボ核酸カリウム塩（細胞の修復作用）
０．０１〜０．１％、感光素３０１号（発毛促進作用）
０．００１〜０．０１％、メントール（殺菌作用、清涼
作用）、植物エキス群（細胞賦活作用、血行促進作用
等）適量である。

【００１９】第２育毛処理工程（４）においては、育毛
促進作用、抗菌作用、細胞の修復作用、発毛促進作用、
保湿作用、細胞賦活作用、血行促進作用を有する成分を
精製水等の溶媒に適宜混合して液状に調整した第２育毛
剤を頭皮の特定部分（特に毛髪の少ない箇所）の大きさ
に応じて任意量を使用する。通常の場合は１〜３ccが用
いられ、塗布後の放置時間はイオン発生器を用いた場合
約１０〜１５分程度である。上記第２育毛剤に含まれる
成分は、ヒノキチオール（育毛促進作用、抗菌作用）
０．０３〜０．０５％、デオキシリボ核酸カリウム塩
（細胞の修復作用）０．０１〜０．１％、感光素３０１
号（発毛促進作用）０．００１〜０．０１％、ヒアルロ
ン酸ナトリウム（保湿作用）０．１５〜１．００％、植
物エキス群（細胞賦活作用、血行促進作用等）適量であ
る。

【００２０】毛髪のトリートメント工程（５）において
は、頭皮・毛髪の保護作用、コンディショニング作用、
ヘアーセッティング作用を有する成分を精製水等の溶媒
に適宜混合して液状に調整した、洗い流さないタイプの
トリートメント剤を髪の状態に応じて任意量を使用す
る。通常の場合は１〜５ccが用いられる。上記トリート
メント剤に含まれる成分は、 塩化Ｎ−［２ヒドロキシ
３（トリメチルアンモニオ）プロピル］加水分解ケラチ
ン液［ケラチン］（毛髪の保護作用、コンディショニン
グ作用）３．０〜５．０％、加水分解コラーゲンエチル
液（頭皮・毛髪の保護作用）３．０〜５．０％、ビニル
ピロリドンＮ，Ｎジメチルアミノエチルメタクリル酸共
重合体ジエチル硫酸塩液［ポリマー］（ヘアーセッティ
ング作用）２．０〜５．０％である。なお、上記した各
成分の配合比率（％）は、何れも重量％である。

【００２１】以上の育毛システムは、主に一般家庭にお
いて個人が一定時間置きに長期間にわたって継続的に行
うものである。そして、先ずクレンジング工程（１）に
おいて、頭皮にクレンジング剤を塗布する。すると、ク
レンジング剤に配合された各成分により、頭皮や毛穴に
付着した皮脂などの汚れが浮き上がって速やかに剥離す
る。

【００２２】上記クレンジング工程（１）においては、
クレンジング剤を塗布した後、遠赤外線発生器を用いて
頭皮と毛穴に遠赤外線を付与する。この発生器は、図２
に示すように、多数の遠赤外線セラミックス１０をもつ
第１キャップ１１と、その外側に被る保温用の第２キャ
ップ１２とで形成される。そして、第１キャップ１１を
頭皮側に、その外側に第２キャップ１２を被ることによ
り、人体の体温で第１キャップ１１から７〜１５μの遠
赤外線が発生し、この遠赤外線による温熱効果でクレン
ジング剤に配合した各成分の毛包部に対する浸透性がさ
らに高められ、また、頭皮や毛穴に付着した皮脂などの
汚れが速やかに剥離する。

【００２３】この後、シャンプー工程（２）において、
シャンプー剤により余分な皮脂などの汚れが洗い流され
て、頭皮と毛穴及び毛髪が清浄化される。

【００２４】次に、第１育毛処理工程（３）において、
清浄化された頭皮全体に第１育毛剤を塗布する。する
と、第１育毛剤に配合した各成分により、頭皮全体にわ
たる毛髪の発毛・育毛が促進される。

【００２５】この第１育毛処理工程（３）においては、
第１育毛剤の塗布後に頭皮に電位を負荷する。このとき
は、図３に示すような電位発生器を用いる。この発生器
は、電源コード２０を介して外部電源に接続され、テス
ラ変圧器などの高周波電流発生器を組み込んだ本体ケー
ス２１と、これに接続コード２２を介して接続され、複
数の放電球２３を設けたケーシング２４とで構成され
る。そして、高周波電流発生器に通電（例えばＤＣ２４
Ｖ，３００ｍｍＡ）して各放電球２３で放電させること
により、これら各放電球２２と人体との間に電位（例え
ば２０００〜５０００Ｖ）を発生させ、また、放電に伴
いオゾンを発生させるようにしたものである。このよう
な電位発生器を用いて、頭皮に電位やオゾンを付与すれ
ば、頭皮の新陳代謝や血行が促進され、また第１育毛剤
の成分の毛包部に対する浸透性が高められる。よって、
毛髪の発毛・育毛効果が一層高められる。なお、前記本
体ケース２１には、ボリューム調整摘み２５と電源スイ
ッチ２６を設けている。

【００２６】さらに、第２育毛処理工程（４）におい
て、第２育毛剤を頭皮の特定部分（特に毛髪の少ない個
所）に塗布する。すると、第２育毛剤に配合した各成分
により、頭皮の特定部分における毛髪の発毛・育毛が促
進される。

【００２７】上記第２育毛処理工程（４）においては、
第２育毛剤の塗布後に、イオン発生器を用いて第２育毛
剤の各成分を毛包部に浸透させる。このイオン発生器
は、図４に示すように、帽子３１と、その内側に位置す
るメッシュキャップ３２とを備え、このメッシュキャッ
プ３２の頂部と側部に、それぞれ外部電源に接続される
ゴム製の第１及び第２電極３３，３４を取付けている。
これら各電極３３，３４は、例えばＤＣ２４Ｖの電圧が
印加されて、１５ｍＡ程度の微電流が流れるものであ
る。そして、第２育毛剤の塗布後に上記帽子３１とメッ
シュキャップ３２を頭部に被せ、各電極３３，３４間に
通電することにより、第２育毛剤中の各成分がイオン化
され、各成分の毛包部に対する浸透性が高まる。よっ
て、毛髪の発毛・育毛効果が一層高められる。

【００２８】この後、トリートメント工程（５）におい
て、毛髪の全体にトリートメント剤を塗布する。する
と、トリートメント剤に配合した各成分により、毛髪の
全体が正常な状態に整えられる。

【００２９】以上の各工程を終了した後には、整髮剤や
ドライヤーを用いて毛髪をセットする仕上げ工程（６）
を行う。

【００３０】次に、以上の育毛システムを実施したとき
の結果について説明する。下記のデータは、何れもモニ
ターが４か月間にわたって毎日ケアを行ったものであ
る。Ａ氏の場合、ケア後２〜３か月で脱毛部分の毛穴か
ら新たなウブ毛が発毛し、抜け毛も減少した。また、４
か月後に複数本の黒い毛が生えてきたのを肉眼で確認し
た。

【００３１】Ｂ女史の場合、ケア前は縦５ｃｍ×横３ｃ
ｍの円形脱毛があったのに対し、ケア後２〜３か月で脱
毛部分の毛穴から新たなウブ毛が発毛し、毛の根元が太
くなって色も黒くなり、円形脱毛が縦４ｃｍ×横２．９
ｃｍに減少した。また、４か月後には、複数本の黒い毛
が生えてきたのが肉眼で確認でき、円形脱毛も縦２．５
ｃｍ×横２．５ｃｍに減少した。

【００３２】Ｃ氏の場合、ケア後２〜３か月で抜け毛が
減少した。また、４か月後にはさらに抜け毛が減少し、
頭垢の発生がなくなった。

【００３３】

【発明の効果】以上のように、本発明の育毛システムに
よれば、一般家庭において個人が手軽に頭髪の発毛・育
毛を系統的に促進することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の育毛システムを示す工程図である。

【図２】遠赤外線発生器の簡略的な断面図である。

【図３】電位発生器の斜視図である。

【図４】イオン発生器の分解斜視図及び断面図である。

【符号の説明】

１ クレンジング工程 ２ シャンプー工程 ３ 第１育毛処理工程 ４ 第２育毛処理工程 ５ トリートメント工程

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) A61K 7/00 - 7/50 A45D 19/00 - 19/18 A61H 39/00 - 39/08 ＣＡ（ＳＴＮ) ＷＰＩ（ＤＩＡＬＯＧ)

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ホホバオイルを主たる有効成分とするク
   レンジング剤を用いて、頭皮と毛穴をクレンジングする
   クレンジング工程と、 頭皮と毛穴及び毛髪の汚れを落すシャンプー工程と、 ヒノキチオールを主たる有効成分とする第１育毛剤を、
   頭皮全体に塗布する第１育毛処理工程と、 ヒノキチオールを主たる有効成分とする第２育毛剤を、
   頭皮の特定部分に塗布する第２育毛処理工程と、 ケラチンを主たる有効成分とするトリートメント剤を、
   毛髪に塗布するトリートメント工程からなる育毛促進方
   法（治療行為を除く）。
2. 【請求項２】 請求項１において、クレンジング工程時
   でクレンジング剤を塗布した後、頭皮と毛穴に遠赤外線
   を付与する育毛促進方法。
3. 【請求項３】 請求項１において、第１育毛処理工程時
   で第１育毛剤の塗布後に、頭皮に電位を負荷する育毛促
   進方法。
4. 【請求項４】 請求項１において、第２育毛処理工程時
   で第２育毛剤の塗布後に、イオン発生器を用いて第２育
   毛剤の各成分を毛包部に浸透させる育毛促進方法。