JP3170680B2 - 電界磁気レンズ装置及び荷電粒子線装置 - Google Patents
電界磁気レンズ装置及び荷電粒子線装置Info
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Description
レンズ内に組み込まれて配置された電界レンズとによっ
て荷電粒子を焦点合わせ(フォーカシング)するための
電界磁気レンズ装置に関する。本発明は更に、このよう
な電界磁気レンズ装置を備えた荷電粒子線装置に関す
る。
−0242602により既知であり、この電界磁気レン
ズ装置には、回転対称形の磁場を生成する磁気レンズと
磁気レンズ内にて磁気レンズの対称軸に対して対称的に
配置された界浸レンズとが備えられ、界浸レンズは少な
くとも2つの電位の異なる電極を有する。荷電粒子、例
えば電子は、界浸レンズの場にて第1のエネルギから実
質的にそれより低い第2のエネルギまで減速される。こ
れは、比較的短い焦点距離と、極めて良好なレンズ特性
を達成することができる。
は、測定中、試験片を磁気レンズに近接して配置しなけ
ればならない。しかしながら、この装置は、集積回路
(IC)及び付属ソケットを有する試験片のように高さ
が高い試験片の場合、しばしば不能となる。試験片が磁
気レンズに近接するような装置は、又、試験片ホルダの
設計によっても制限される。一方では、測定中に、試験
片に接触可能であり、他方では、試験片の交換が容易で
なければならないから、良好な解像度と画像特性が得ら
れ且つより大きな作動距離が得られることが望ましい。
荷電粒子線装置は、英国特許GB−B−1395201
及び米国特許US−A−5241176により既知であ
る。双極レンズと対照的に、単極レンズでは磁場は基本
的にはレンズの外側に生成され、それによってより大き
な作動距離を達成することができる。このような単極レ
ンズは比較的良好なレンズ特性によって特徴付けられ
る。しかしながら、もしこのようなレンズが低電圧領
域、例えば、荷電粒子の最終ビームエネルギが5kev
以下、好ましくは2.5kev以下にて使用されるな
ら、レンズ特性は、5mm以上の作動距離にて、多くの
適用例に対して拙劣となる。国際出願WO−A−910
2374には請求項1の前提部に記載された磁気単極レ
ンズ及び電界レンズを備えたレンズ装置が開示されてい
る。
故、特に低電圧領域における大きな作動距離と良好なレ
ンズ特性という特徴を有する特許請求の範囲第1項の前
提部に記載された電界磁気レンズ装置と特許請求の範囲
第8項の一般的概念である荷電粒子線装置を改良するこ
とにある。
的は特許請求の範囲第1項及び第8項の特徴部分によっ
て達成される。
合、電界レンズによって生成される電場はそれだけでビ
ームの焦点合わせをするために十分であるほど強くない
ようにすることに留意すべきである。本発明によるレン
ズ装置によると、作動距離は5mm以上、特に5〜30
mmが達成可能である。
の制御電極はビーム経路にて電界レンズと試験片の間に
配置される。この制御電極は試験片の領域における電場
の強さを調節することができるように可変電位に接続さ
れることができる。従って、電荷に対して特に敏感な試
験片の場合、試験片の領域にて電場をキャンセルするこ
とも可能である。
の内容にあり、以下に図面を参照して詳細に説明されよ
う。
の荷電粒子線装置によると濃縮された粒子線2、例えば
電子線が光学コラム3内にて生成される。このコラム3
は、多数の磁気及び/又は電気レンズ及びダイヤフラム
(図示なし)に加えて、基本的には、粒子線2を生成す
るためのソース4と電界磁気レンズ装置6と少なくとも
1つの検出器7a、7bとを有する。また荷電粒子をブ
ランキングするためのブランキング装置5を装備するこ
とができる。
気レンズ装置6によって試験片8にて焦点を結ぶ。そこ
で放出された粒子は電界磁気レンズ装置6を通過して検
出器7aに達する。しかしながら、この検出器7aの代
わりに、試験片8と電界磁気レンズ装置6の間に検出器
7bが配置されてよい。2次又は後方散乱粒子の評価を
更に改善するために、粒子線装置に両方の検出器7a、
7bが設けられてよい。この場合、2つの検出器7a、
7bの少なくとも一方はセグメンド構造にて構成されて
よく、検出器の表面はセグメントに分割され、セグメン
トの出力信号は互いに別個に処理される。
偏向装置9が設けられ、この偏向装置は図示の例では電
界磁気レンズ装置6の内部に配置されている。
ズ装置6の詳細を以下に説明する。電界磁気レンズ装置
6は基本的には、単極レンズ61として構成された磁気
レンズとこの磁気レンズ内に配置され、回転対称形の電
界を生成する電界レンズ62とを有する。
持された2つの電極を有し、これらの電極には異なる電
位が印加されることができる。それによって、荷電粒
子、例えば電子は電界レンズの電場内にて、第1のエネ
ルギからより低い第2のエネルギまで減速される。この
場合、第1のエネルギは第2のエネルギの1.2〜10
倍であり、良好な解像度及び画像特性にて最大可能作動
距離を達成することができる。
のビーム管62aによって形成され、このビーム管62
aは単極レンズ61内の内側の孔61a内にて同心的に
配置されている。ビーム管62aは好ましくは薄い導電
層によって被われた非導電材によって製造される。2つ
の電極の他方は地球電位に保持された内側のポールピー
ス61bの下端によって形成されている。しかしなが
ら、この電極を別個の電極として構成してもよい。しか
しながら、第2の電極は地球電位でなければならないわ
けではなく、それ以外の電位に設定されることができ
る。
側のポールピース61bと外側のポールピース61cと
を有し、これらのポールピースは基本的には円筒形状を
なしている。磁気レンズを励起するための界磁コイル6
1dが設けられている。
の間に付加的な制御電極63が設けられ、この制御電極
63は詳細には示されていない可変電圧源に接続され、
試験片の領域にて電界強度を調節することができる。制
御電極に印加される電圧は例えば−100Vと+100
Vの間に調節される。
して構成され、ビーム管62aと単極レンズ61の内側
の孔61aを境界する壁の間に配置されている。
空を生成するための真空整備を有する。偏向装置によっ
て生成された熱をより良好に放散させることができるよ
うに、ビーム管62aと単極レンズ61の間に好ましく
はシール11が設けられ、それによって偏向装置9は空
気によって囲まれ、熱の放散の改善が確保される。同様
に、好ましくは、界磁コイル61dを真空より遮蔽する
ために単極レンズ61に更に別のシール12が設けられ
てよい。
荷電粒子は5kev以下の、好ましくは0.5〜2.5
kevの最終ビームエネルギまで減速され、試験片8と
電界磁気レンズ装置6の間に5mm以上の作動距離、例
えば、5〜30mmの作動距離が生成される。作動距離
aは、ここでは、試験片8と制御電極63の間の距離に
よって形成される。
の間の距離(=作動距離a)は、制御電極63と単極レ
ンズ61の間の距離bの少なくとも3倍はあり、例え
ば、3〜40倍はある。制御電極63は開口63aを有
し、この開口63aの内径d1は、単極レンズ61の孔
61aの内径d2 の2倍より小さく、例えば、1/10
〜2倍である。この条件は、試験片の領域における電場
を十分遮蔽するために必要である。更に、制御電極63
の開口63aの内径d1 は、ビーム管62aの内径d3
の少なくとも半分の大きさ、例えば、1/2〜5倍の大
きさを有するべきである。もし、この開口63aの内径
d1 がそれより小さいと、試験片8より放出された粒子
が電界磁気レンズ装置6の上方に配置された検出器7a
に到達することを保証することはできない。
他の2つの例が示されている。右側の例では、少なくと
も部分的に円錐形状の外側のポールピース61’cを有
する単極磁気レンズ61’が示されている。左側に示さ
れた単極レンズ61”では、外側のポールピースは完全
に除去されている。
圧領域用に設計されており、例えば、最終ビームエネル
ギは5kev以下、好ましくは0.5〜2.5kevの
範囲である。この目的のために特別に適したソースは所
謂電界放出ソースであり、又はエネルギ幅が1ev以下
の、例えば0.1〜1evの他のソース、例えば熱電界
放出ソース又は光電陰極である。本発明によって電界レ
ンズと単極レンズを組み合わせることによって、低電圧
領域にて特別に大きな作動距離が達成され、良好な解像
度と画像特性が得られる。こうして特別な試験片では、
試験片の上に突出した接触装置を有するホルダを使用す
ることができる。
て、大きな作動距離及び良好なレンズ特性を達成するこ
とができる利点を有する。
る。
Claims (20)
- 【請求項1】 単極磁気レンズ(61、61’、6
1”)と該磁気レンズ内に配置された電界レンズ(6
2)とを有し荷電粒子を焦点合わせするための電界磁気
レンズ装置において、 上記電界レンズ(62)は回転対称形の電場を生成し、
異なる電位に保持された少なくとも2つの電極(62
a,61b)を有し、荷電粒子が上記電界レンズの電場
内にて第1のエネルギからそれより低い第2のエネルギ
まで減速されるように構成され、更に付加的な制御電極
(63)が設けられ、該制御電極は、ビーム経路にて上
記電界レンズと試験片(8)の間に配置され且つ上記試
験片の領域にて電場の強さを調節するために可変電位に
接続されることができるように構成されていることを特
徴とする電界磁気レンズ装置。 - 【請求項2】 請求項1記載の電界磁気レンズ装置にお
いて、上記電界レンズの2つの電極の一方はビーム管
(62a)として構成されていることを特徴とする電界
磁気レンズ装置。 - 【請求項3】 請求項2記載の電界磁気レンズ装置にお
いて、上記ビーム管(62a)は薄い導電性皮膜を有す
る非導電性材料より製造されていることを特徴とする電
界磁気レンズ装置。 - 【請求項4】 請求項2記載の電界磁気レンズ装置にお
いて、上記ビーム管(62a)は上記単極レンズ(6
1)の内側の孔(61a)内に同心的に配置されている
ことを特徴とする電界磁気レンズ装置。 - 【請求項5】 請求項1記載の電界磁気レンズ装置にお
いて、上記単極レンズ(61)は内側の孔(61a)を
有し、上記制御電極(63)は開口(63a)を有し、
上記制御電極(63)の開口(63a)の内径(d1 )
は上記単極レンズ(61)の孔(61a)の内径(d2
)の1/10〜2倍であることを特徴とする電界磁気
レンズ装置。 - 【請求項6】 請求項1記載の電界磁気レンズ装置にお
いて、上記単極レンズ(61)は内側及び外側のポール
ピース(61b,61’c)を有し、該外側のポールピ
ース(61’c)は少なくとも部分的に円錐形状をなし
ていることを特徴とする電界磁気レンズ装置。 - 【請求項7】 請求項1又は2記載の電界磁気レンズ装
置において、上記制御電極(63)は開口(63a)を
有し、該開口の内径(d1 )は上記ビーム管(62a)
の内径(d3 )の1/2〜5倍の大きさであることを特
徴とする電界磁気レンズ装置。 - 【請求項8】 a)荷電粒子線を発生するためのソース
(4)と、 b)磁気レンズと該磁気レンズに組み込まれた電界レン
ズ(62)とを有し荷電粒子を焦点合わせするための電
界磁気レンズ装置(6)と、 c)荷電粒子線を偏向するための偏向装置(9)と、 d)試験片(8)から放出された2次及び/又は後方散
乱粒子を検出するための検出器(7)と、を有する荷電
粒子線装置において、 上記電界磁気レンズ装置(6)は請求項1〜7のいずれ
か1項のように構成されていることを特徴とする荷電粒
子線装置。 - 【請求項9】 請求項8記載の荷電粒子線装置におい
て、上記電界レンズは回転対称形の電場を生成し、異な
る電位に保持されることができる少なくとも2つの電極
(62a,61b)を有し、荷電粒子は上記電界レンズ
の電場にて第1のエネルギからそれより低い第2のエネ
ルギまで減速され、上記電界レンズの2つの電極の一方
はビーム管(62a)として構成され、該ビーム管(6
2a)は上記単極レンズ(61)の内側の孔(61a)
内に同心的に配置されていることを特徴とする荷電粒子
線装置。 - 【請求項10】 請求項9記載の荷電粒子線装置におい
て、上記偏向装置(9)は上記単極レンズ(61)内に
て上記内側の孔(61a)の壁と上記ビーム管(62
a)の間に配置されていることを特徴とする荷電粒子線
装置。 - 【請求項11】 請求項8記載の荷電粒子線装置におい
て、粒子線の領域にて真空を生成するための真空設備が
設けられていることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 【請求項12】 請求項10又は11記載の荷電粒子線
装置において、上記ビーム管(62a)と上記単極レン
ズ(61)の間にシール(11)が設けられ、上記偏向
装置(9)は上記真空の外側に配置されていることを特
徴とする荷電粒子線装置。 - 【請求項13】 請求項11記載の荷電粒子線装置にお
いて、上記単極レンズ(61)は界磁コイル(61d)
を有し、該界磁コイルは上記単極レンズ(61)の上に
設けられた更に他のシール(12)によって上記真空よ
り遮蔽されていることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 【請求項14】 請求項8記載の荷電粒子線装置におい
て、上記検出器の一方(7a)は粒子線の方向にて上記
電界磁気レンズ装置(6)の前方に配置されていること
を特徴とする荷電粒子線装置。 - 【請求項15】 請求項8記載の荷電粒子線装置におい
て、上記検出器の一方(7b)は粒子線の方向にて上記
電界磁気レンズ装置(6)の後方に配置されていること
を特徴とする荷電粒子線装置。 - 【請求項16】 請求項14又は15記載の荷電粒子線
装置において、上記検出器の一方(7a)は粒子線の方
向にて上記電界磁気レンズ装置(6)の前方に配置さ
れ、上記検出器(7b)の他方は粒子線の方向にて上記
電界磁気レンズ装置(6)の後方に配置されていること
を特徴とする荷電粒子線装置。 - 【請求項17】 請求項8、11、15又は16記載の
荷電粒子線装置において、上記2つの検出器(7a,7
b)の一方はセグメントに分割され、該セグメントの出
力信号は互いに別個に処理されるように構成されている
ことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 【請求項18】請求項8記載の荷電粒子線装置におい
て、エネルギ幅が0.1〜1evであるソースが使用さ
れていることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 【請求項19】請求項8記載の荷電粒子線装置におい
て、荷電粒子の最終ビームエネルギが0.5〜2.5k
evにて、上記レンズ装置と試験片(8)の間にて作動
距離が5〜30mmとなることを特徴とする荷電粒子線
装置。 - 【請求項20】請求項8記載の荷電粒子線装置におい
て、上記制御電極(63)と上記試験片(8)の間の上
記作動距離(a)は上記制御電極(63)と上記単極レ
ンズ(61)の間の距離(b)の3〜40倍であること
を特徴とする荷電粒子線装置。
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