JP3163676B2 - 真空加熱方法 - Google Patents
真空加熱方法Info
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- JP3163676B2 JP3163676B2 JP24263891A JP24263891A JP3163676B2 JP 3163676 B2 JP3163676 B2 JP 3163676B2 JP 24263891 A JP24263891 A JP 24263891A JP 24263891 A JP24263891 A JP 24263891A JP 3163676 B2 JP3163676 B2 JP 3163676B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は真空加熱炉及び真空加熱
方法に関し、特に加熱によって水分が蒸発する処理品の
加熱に好適な真空加熱炉及び真空加熱方法に関する。
方法に関し、特に加熱によって水分が蒸発する処理品の
加熱に好適な真空加熱炉及び真空加熱方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】上記のような処理品を真空状態で加熱す
る場合、処理品を炉内に入れ炉内を真空排気すると共に
処理品を加熱する。この場合、加熱に伴い処理品から水
分が蒸発する。その蒸気は炉殻の内面付近に到達すると
凝縮し、炉殻内面に水が付着する。この水は、真空排気
に伴なう炉内の減圧や処理品の加熱に伴なう余熱によっ
て蒸発し減少する。
る場合、処理品を炉内に入れ炉内を真空排気すると共に
処理品を加熱する。この場合、加熱に伴い処理品から水
分が蒸発する。その蒸気は炉殻の内面付近に到達すると
凝縮し、炉殻内面に水が付着する。この水は、真空排気
に伴なう炉内の減圧や処理品の加熱に伴なう余熱によっ
て蒸発し減少する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし上記のように内
面に付着した水の蒸発の場合、蒸発に伴ない熱を奪うの
で水の温度が下がり（場合によっては凍結する）、蒸発
速度が遅くて全てが蒸発するのに長時間を要する。とこ
ろで上記のように処理品の水分が蒸発したり炉殻内面に
付着した水が蒸発する間は、炉内の真空度はそれらの蒸
発による蒸気圧で規制され、良い真空度にならない。従
って、上記のように内面に付着した水の蒸発に長時間を
要すると、処理品からの蒸発が済んでしまっても上記内
面に付着した水が蒸発してしまうまでは炉内を所定の高
真空度まで上昇させることが困難で、処理品の所定の高
真空度の状態での加熱の開始が非常に遅れてしまう問題
点があった。
面に付着した水の蒸発の場合、蒸発に伴ない熱を奪うの
で水の温度が下がり（場合によっては凍結する）、蒸発
速度が遅くて全てが蒸発するのに長時間を要する。とこ
ろで上記のように処理品の水分が蒸発したり炉殻内面に
付着した水が蒸発する間は、炉内の真空度はそれらの蒸
発による蒸気圧で規制され、良い真空度にならない。従
って、上記のように内面に付着した水の蒸発に長時間を
要すると、処理品からの蒸発が済んでしまっても上記内
面に付着した水が蒸発してしまうまでは炉内を所定の高
真空度まで上昇させることが困難で、処理品の所定の高
真空度の状態での加熱の開始が非常に遅れてしまう問題
点があった。
【０００４】また処理品を真空状態で加熱する場合に、
炉殻内に前の処理品の処理の工程で生じた水が溜まって
いると、その水の蒸発による蒸気圧によって炉殻内の真
空度が規制され、良い真空度にならないという問題点が
あった。
炉殻内に前の処理品の処理の工程で生じた水が溜まって
いると、その水の蒸発による蒸気圧によって炉殻内の真
空度が規制され、良い真空度にならないという問題点が
あった。
【０００５】本願発明は上記従来技術の問題点（技術的
課題）を解決する為になされたもので、炉殻内面付近で
蒸気が凝縮して炉殻内面に水が付着することを防止でき
るようにして、所定の真空状態での処理品の加熱を迅速
に開始できるようにした真空加熱装置、及び、炉殻内の
水を予め排出して、良好な真空度の状態での加熱を行い
得るようにした真空加熱方法を提供することを目的とし
ている。
課題）を解決する為になされたもので、炉殻内面付近で
蒸気が凝縮して炉殻内面に水が付着することを防止でき
るようにして、所定の真空状態での処理品の加熱を迅速
に開始できるようにした真空加熱装置、及び、炉殻内の
水を予め排出して、良好な真空度の状態での加熱を行い
得るようにした真空加熱方法を提供することを目的とし
ている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本願発明における真空加
熱方法は、真空装置が付設された炉殻内に処理品を存置
させ、上記炉殻内を真空排気し、上記処理品を加熱する
真空加熱方法において、上記処理品の加熱に伴い処理品
から生じる蒸気が上記炉殻の内面において凝縮すること
を阻止する為に、上記炉殻の内面を、蒸気が凝縮するこ
とを阻止する温度に保持するようにしたものである。
熱方法は、真空装置が付設された炉殻内に処理品を存置
させ、上記炉殻内を真空排気し、上記処理品を加熱する
真空加熱方法において、上記処理品の加熱に伴い処理品
から生じる蒸気が上記炉殻の内面において凝縮すること
を阻止する為に、上記炉殻の内面を、蒸気が凝縮するこ
とを阻止する温度に保持するようにしたものである。
【０００７】又本願発明における真空加熱方法は、真空
装置が付設された炉殻内に処理品を存置させ、上記炉殻
内を真空排気し、上記処理品を加熱する真空加熱方法に
おいて、上記炉殻内を真空排気するに当っては、炉殻内
に溜まる水を炉殻内の低部に集め、そこに設けてある排
水口から上記炉殻内に溜まる水を炉殻外に排出すると共
に、炉殻内を真空排気するものである。
装置が付設された炉殻内に処理品を存置させ、上記炉殻
内を真空排気し、上記処理品を加熱する真空加熱方法に
おいて、上記炉殻内を真空排気するに当っては、炉殻内
に溜まる水を炉殻内の低部に集め、そこに設けてある排
水口から上記炉殻内に溜まる水を炉殻外に排出すると共
に、炉殻内を真空排気するものである。
【０００８】
【作用】真空加熱炉による処理品の加熱の場合、処理品
は炉殻内に存置され、炉殻内が真空排気されると共に処
理品の加熱が開始される。加熱によって処理品から水分
が蒸発すると、その蒸気は真空排気に伴ない炉殻外に排
出される。この場合、上記蒸気が炉殻の内面付近に到達
しても、その内面は蒸気の凝縮を阻止する温度に保たれ
ている為、その蒸気が凝縮して水が炉殻内面に付着する
ことはない。処理品からの水分の蒸発が終了すると炉内
真空度は所定の高真空度まで上昇され、その状態で処理
品の加熱が行なわれる。
は炉殻内に存置され、炉殻内が真空排気されると共に処
理品の加熱が開始される。加熱によって処理品から水分
が蒸発すると、その蒸気は真空排気に伴ない炉殻外に排
出される。この場合、上記蒸気が炉殻の内面付近に到達
しても、その内面は蒸気の凝縮を阻止する温度に保たれ
ている為、その蒸気が凝縮して水が炉殻内面に付着する
ことはない。処理品からの水分の蒸発が終了すると炉内
真空度は所定の高真空度まで上昇され、その状態で処理
品の加熱が行なわれる。
【０００９】
【実施例】以下本願の実施例を示す図面について説明す
る。図１、２において、１は真空加熱炉の一例としてバ
ッチ式の真空炉を示す。２は該真空における炉殻で、円
筒状の本体３と、その本体３の一方の端に連結した冷却
設備包囲壁3aと、それとは反対側の出入口に設けた扉４
とから構成してある。これらは何れも例えば水冷ジャケ
ットで構成される。５は断熱壁で、本体６とその本体６
の出入口に設けた扉７及びそれとは反対の側に設けられ
た扉８とから構成され、その内側の空間が熱処理室とな
っている。扉８は処理品の加熱時に閉ざされ冷却時に開
かれる。10は熱処理室内に設けられた載置台で、その上
側の空間が処理品の存置空間11となっている。12は上記
存置空間11の周囲に配設された加熱手段で、一例として
電熱ヒータが用いられ、断熱壁に取付けてある。尚13は
必要に応じて備えられるマッフルで、処理品の熱処理時
例えば脱ワックス、脱ガス時に発生する有害ガスによる
炉殻構成物質の汚染、破損の防止、或いは存置空間11で
の温度分布の良好化の為のものである。次に炉殻２の排
水構造を説明する。14は集水部で、炉殻２の本体３にお
いて最も低い位置に設けてある。15は集水部14の底壁に
設けた排水口で、ドレンバルブ16が付設してある。
る。図１、２において、１は真空加熱炉の一例としてバ
ッチ式の真空炉を示す。２は該真空における炉殻で、円
筒状の本体３と、その本体３の一方の端に連結した冷却
設備包囲壁3aと、それとは反対側の出入口に設けた扉４
とから構成してある。これらは何れも例えば水冷ジャケ
ットで構成される。５は断熱壁で、本体６とその本体６
の出入口に設けた扉７及びそれとは反対の側に設けられ
た扉８とから構成され、その内側の空間が熱処理室とな
っている。扉８は処理品の加熱時に閉ざされ冷却時に開
かれる。10は熱処理室内に設けられた載置台で、その上
側の空間が処理品の存置空間11となっている。12は上記
存置空間11の周囲に配設された加熱手段で、一例として
電熱ヒータが用いられ、断熱壁に取付けてある。尚13は
必要に応じて備えられるマッフルで、処理品の熱処理時
例えば脱ワックス、脱ガス時に発生する有害ガスによる
炉殻構成物質の汚染、破損の防止、或いは存置空間11で
の温度分布の良好化の為のものである。次に炉殻２の排
水構造を説明する。14は集水部で、炉殻２の本体３にお
いて最も低い位置に設けてある。15は集水部14の底壁に
設けた排水口で、ドレンバルブ16が付設してある。
【００１０】次に図２に示される17は真空装置で、炉殻
２の内部を真空排気する為のものであり、油回転ポンプ
その他周知の真空ポンプが用いられる。18は炉殻２の内
部と真空装置17とを繋ぐ排気用管路であり、途中には凝
縮器19（例えば冷凍器）が介設してある。上記油回転ポ
ンプとして作動油の油水分離器を備えるものを用いる場
合は、上記凝縮器19は省略しても良い。尚図示はしない
が炉殻２には処理品の熱処理に応じた熱処理用のガス
（例えば水素、反応性ガス）を送入する為の図示外のガ
ス供給手段が接続してある。
２の内部を真空排気する為のものであり、油回転ポンプ
その他周知の真空ポンプが用いられる。18は炉殻２の内
部と真空装置17とを繋ぐ排気用管路であり、途中には凝
縮器19（例えば冷凍器）が介設してある。上記油回転ポ
ンプとして作動油の油水分離器を備えるものを用いる場
合は、上記凝縮器19は省略しても良い。尚図示はしない
が炉殻２には処理品の熱処理に応じた熱処理用のガス
（例えば水素、反応性ガス）を送入する為の図示外のガ
ス供給手段が接続してある。
【００１１】次に再び図１において、21は処理品の周知
の冷却構造を示し、以下これについて説明する。22はク
ーラ、23は循環用のファンで、ファンモータ24によって
運転されるようになっている。25はモータカバーで、真
空保持用のものである。
の冷却構造を示し、以下これについて説明する。22はク
ーラ、23は循環用のファンで、ファンモータ24によって
運転されるようになっている。25はモータカバーで、真
空保持用のものである。
【００１２】次に上記真空炉を用いた処理品の処理を説
明する。扉４，７が開けられ、処理品31が載置台10の上
に乗せられる。次に扉４，７が閉じられ、真空装置17が
作動されて炉殻２内が真空排気されると共に、ヒータ12
への通電によってそれが発熱され、処理品31の加熱が開
始される。又炉殻２にはそれを所定温度に保温する保温
手段の一例として、水冷ジャケットに温水等の熱媒体が
流され、炉殻２の内面が、その付近に蒸気（次に述べる
ように処理品31から生ずる蒸気）が到達してもその蒸気
の凝縮を阻止する温度に保持される。その温度は蒸気圧
により異なるが例えば数１０度である。
明する。扉４，７が開けられ、処理品31が載置台10の上
に乗せられる。次に扉４，７が閉じられ、真空装置17が
作動されて炉殻２内が真空排気されると共に、ヒータ12
への通電によってそれが発熱され、処理品31の加熱が開
始される。又炉殻２にはそれを所定温度に保温する保温
手段の一例として、水冷ジャケットに温水等の熱媒体が
流され、炉殻２の内面が、その付近に蒸気（次に述べる
ように処理品31から生ずる蒸気）が到達してもその蒸気
の凝縮を阻止する温度に保持される。その温度は蒸気圧
により異なるが例えば数１０度である。
【００１３】上記のように加熱を開始した場合、処理品
31が加熱により水分が蒸発するものであると、加熱に伴
い処理品31から水分が蒸発する。その蒸気は上記真空排
気にともない排気用管路18を通って炉殻２外に排出され
る。この場合上記蒸気の一部が断熱壁５を通り抜けて炉
殻２の付近に到達しても、炉殻２は上記のような温度に
保持されている為、その蒸気は凝縮することはなく、上
記真空排気によって炉殻２外に排出される。炉殻２外に
排出された蒸気は真空装置17に至る前に凝縮器19によっ
て凝縮され水として除去される。従って、真空装置17へ
水分が至ることはなく、真空装置17の劣化が未然に防止
される。
31が加熱により水分が蒸発するものであると、加熱に伴
い処理品31から水分が蒸発する。その蒸気は上記真空排
気にともない排気用管路18を通って炉殻２外に排出され
る。この場合上記蒸気の一部が断熱壁５を通り抜けて炉
殻２の付近に到達しても、炉殻２は上記のような温度に
保持されている為、その蒸気は凝縮することはなく、上
記真空排気によって炉殻２外に排出される。炉殻２外に
排出された蒸気は真空装置17に至る前に凝縮器19によっ
て凝縮され水として除去される。従って、真空装置17へ
水分が至ることはなく、真空装置17の劣化が未然に防止
される。
【００１４】上記処理品31からの蒸気の発生が終わると
炉殻２内の真空度は所定の高真空度まで上昇し、その状
態において処理品31の所定の加熱が行われる。
炉殻２内の真空度は所定の高真空度まで上昇し、その状
態において処理品31の所定の加熱が行われる。
【００１５】上記のようにして処理品31に所定の加熱が
施されたならば、ヒータ12への通電が停止され、冷却用
のガスが炉殻２内に導入され、クーラ22やファン23が周
知のように運転されて、処理品31の冷却が行われる。そ
して冷却が終了すると、扉４，７が開かれて処理を終え
た処理品31が取り出される。
施されたならば、ヒータ12への通電が停止され、冷却用
のガスが炉殻２内に導入され、クーラ22やファン23が周
知のように運転されて、処理品31の冷却が行われる。そ
して冷却が終了すると、扉４，７が開かれて処理を終え
た処理品31が取り出される。
【００１６】次に上記のように処理品31から水分の蒸発
する処理の数例を示せば、次の通りである。水アトマイ
ズにより製造した酸化された合金鋼粉末の水素還元処
理、表層が酸化した金属の還元性ガスによる還元処理、
粉末に付着した水分の乾燥処理等である。
する処理の数例を示せば、次の通りである。水アトマイ
ズにより製造した酸化された合金鋼粉末の水素還元処
理、表層が酸化した金属の還元性ガスによる還元処理、
粉末に付着した水分の乾燥処理等である。
【００１７】次に炉殻２の保温手段の他の例を説明す
る。その一つは、炉殻２の外側又は内側に保温手段とし
て加熱ヒータを付設し、それによって炉殻２の内面を上
記の様に保温する方法である。他の一つは、炉殻２が水
冷構造でない場合、炉殻２の外側を保温手段としての断
熱材で覆う方法である。更に他の一つは、断熱壁５の断
熱性を小さくしておき、ヒータ12から発せられた後断熱
壁５の外に漏れ、炉殻２の内面に至る熱を保温手段とし
て利用する方法である。
る。その一つは、炉殻２の外側又は内側に保温手段とし
て加熱ヒータを付設し、それによって炉殻２の内面を上
記の様に保温する方法である。他の一つは、炉殻２が水
冷構造でない場合、炉殻２の外側を保温手段としての断
熱材で覆う方法である。更に他の一つは、断熱壁５の断
熱性を小さくしておき、ヒータ12から発せられた後断熱
壁５の外に漏れ、炉殻２の内面に至る熱を保温手段とし
て利用する方法である。
【００１８】次に熱処理の他の例として、加熱に伴って
処理品から生ずる蒸気が炉殻２の内面付近で凝縮し、炉
殻内面に水が付着するままの状態で処理が行われる場合
がある。この場合には、前の処理品の処理が終わって次
の処理品の処理を開始しようとする場合、次のようにす
ると良い。炉殻２が図１、２から明らかなように円筒構
造をしておりその最低部に集水部14が設けてある為、上
記炉殻２の内面に付着する水は重力によって自然に集水
部14に集まっている。従って前の処理品の処理が終了し
た段階でドレンバルブ16を開いてその水を排水口15から
炉殻２外に排出する。その後バルブ16を閉じ、次の処理
品31の装入、真空排気、ヒータ12による加熱を開始す
る。尚上記水の排出は、次の処理品31の装入の後に行っ
ても良い。又排水口15に水の強制排出手段例えば排水ポ
ンプを接続した場合には、上記水の排出は前の処理品の
処理過程或いは次の処理品の処理の為の真空排気を開始
した後に行っても良い。
処理品から生ずる蒸気が炉殻２の内面付近で凝縮し、炉
殻内面に水が付着するままの状態で処理が行われる場合
がある。この場合には、前の処理品の処理が終わって次
の処理品の処理を開始しようとする場合、次のようにす
ると良い。炉殻２が図１、２から明らかなように円筒構
造をしておりその最低部に集水部14が設けてある為、上
記炉殻２の内面に付着する水は重力によって自然に集水
部14に集まっている。従って前の処理品の処理が終了し
た段階でドレンバルブ16を開いてその水を排水口15から
炉殻２外に排出する。その後バルブ16を閉じ、次の処理
品31の装入、真空排気、ヒータ12による加熱を開始す
る。尚上記水の排出は、次の処理品31の装入の後に行っ
ても良い。又排水口15に水の強制排出手段例えば排水ポ
ンプを接続した場合には、上記水の排出は前の処理品の
処理過程或いは次の処理品の処理の為の真空排気を開始
した後に行っても良い。
【００１９】次に図３は本願の異なる実施例を示すもの
で、真空加熱炉の他の例として連続式の真空炉を示すも
のである。真空炉1eは、前室33と、主処理室34と、冷却
室35とから構成されている。前室33は処理品を受け入れ
る為の入口36を有し、そこには開閉装置38によって操作
される扉37が備わっている。前室33と主処理室34との間
及び主処理室34と冷却室35との間は夫々隔壁39で仕切ら
れている。各隔壁39には処理品通過用の開口部が設けら
れ、それらの開口部には開閉装置41で操作される扉40が
備わっている。主処理室34には前実施例で示した如き保
温手段と、排水構造とを備えてある。上記前室33及び主
処理室34にはそれぞれ個別の真空装置が接続してある。
冷却室35は出口42を有し、そこには開閉装置44によって
操作される扉43が備わっている。冷却室35には冷却用の
ガスを送入する為の図示外のガス供給手段が接続してあ
る。45は前室33、主処理室34、冷却室35を通して設けら
れた搬送手段で、例えばローラが利用してある。
で、真空加熱炉の他の例として連続式の真空炉を示すも
のである。真空炉1eは、前室33と、主処理室34と、冷却
室35とから構成されている。前室33は処理品を受け入れ
る為の入口36を有し、そこには開閉装置38によって操作
される扉37が備わっている。前室33と主処理室34との間
及び主処理室34と冷却室35との間は夫々隔壁39で仕切ら
れている。各隔壁39には処理品通過用の開口部が設けら
れ、それらの開口部には開閉装置41で操作される扉40が
備わっている。主処理室34には前実施例で示した如き保
温手段と、排水構造とを備えてある。上記前室33及び主
処理室34にはそれぞれ個別の真空装置が接続してある。
冷却室35は出口42を有し、そこには開閉装置44によって
操作される扉43が備わっている。冷却室35には冷却用の
ガスを送入する為の図示外のガス供給手段が接続してあ
る。45は前室33、主処理室34、冷却室35を通して設けら
れた搬送手段で、例えばローラが利用してある。
【００２０】上記のような真空炉1eは例えば粉末金属成
形品の焼結の為に用いられる。処理品31ｅは先ず前室33
内に入れられ、周知の前処理が行われる。次にその処理
品31ｅは主処理室34内に入れられ、そこで真空状態にお
いて主たる加熱処理が行われる。この場合、処理品31ｅ
から生ずる蒸気は前実施例と同様にして凝縮が防止され
る。主処理室34で所定の加熱処理が終わると処理品31ｅ
は冷却室35に入れられ、そこで通常の低い温度まで冷却
され、その後出口42から送出される。尚上記真空炉1eに
おいては、前室33と冷却室35の両方又はその一方にも、
前実施例で示した如き保温手段と、排水構造との両方又
は何れか一方を備えても良い。そうすることによって、
主処理室34から蒸気がそれらの部屋に流れ込んでも、そ
れらの部屋の炉殻への水の付着を防止したり、各々の部
屋に溜まった水を排出することが出来る。なお、機能上
前図のものと同一又は均等構成と考えられる部分には、
前図と同一の符号にアルファベットのｅを付して重複す
る説明を省略した。
形品の焼結の為に用いられる。処理品31ｅは先ず前室33
内に入れられ、周知の前処理が行われる。次にその処理
品31ｅは主処理室34内に入れられ、そこで真空状態にお
いて主たる加熱処理が行われる。この場合、処理品31ｅ
から生ずる蒸気は前実施例と同様にして凝縮が防止され
る。主処理室34で所定の加熱処理が終わると処理品31ｅ
は冷却室35に入れられ、そこで通常の低い温度まで冷却
され、その後出口42から送出される。尚上記真空炉1eに
おいては、前室33と冷却室35の両方又はその一方にも、
前実施例で示した如き保温手段と、排水構造との両方又
は何れか一方を備えても良い。そうすることによって、
主処理室34から蒸気がそれらの部屋に流れ込んでも、そ
れらの部屋の炉殻への水の付着を防止したり、各々の部
屋に溜まった水を排出することが出来る。なお、機能上
前図のものと同一又は均等構成と考えられる部分には、
前図と同一の符号にアルファベットのｅを付して重複す
る説明を省略した。
【００２１】
【発明の効果】以上のように本願発明にあっては、処理
品31を加熱する場合、真空状態のもとでその加熱を行な
い得るは勿論のこと、
品31を加熱する場合、真空状態のもとでその加熱を行な
い得るは勿論のこと、
【００２２】上記の如き真空状態での加熱を開始する場
合、本願発明の方法によれば、加熱に伴い処理品31から
水分が蒸発しその蒸気が炉殻２の内面付近に到達して
も、炉殻２の内面はその蒸気の凝縮を阻止する温度に保
たれるから、上記蒸気は、凝縮することなく、真空排気
に伴なって速やかに炉殻外に排出されてしまう特長があ
る。このことは、処理品31からの水分の蒸発が終われば
その直後から炉内の真空度を真空排気による所定の高真
空度に向けて上昇させ得ることであり、前記従来技術の
如く炉殻内面に凝縮した水が蒸発してしまうまでの長時
間のあいだ真空度の上昇が蒸気圧によって規制されてい
たものに比べ、短時間で所定の高真空度の状態での加熱
を開始できる利点がある。
合、本願発明の方法によれば、加熱に伴い処理品31から
水分が蒸発しその蒸気が炉殻２の内面付近に到達して
も、炉殻２の内面はその蒸気の凝縮を阻止する温度に保
たれるから、上記蒸気は、凝縮することなく、真空排気
に伴なって速やかに炉殻外に排出されてしまう特長があ
る。このことは、処理品31からの水分の蒸発が終われば
その直後から炉内の真空度を真空排気による所定の高真
空度に向けて上昇させ得ることであり、前記従来技術の
如く炉殻内面に凝縮した水が蒸発してしまうまでの長時
間のあいだ真空度の上昇が蒸気圧によって規制されてい
たものに比べ、短時間で所定の高真空度の状態での加熱
を開始できる利点がある。
【００２３】更に本願発明の方法によれば、真空状態で
の処理品の加熱の開始の場合、例えば前の処理品の処理
の工程で生じた水が炉殻２の内部に溜まっていても、そ
の炉殻内に溜まる水を炉殻内の低部に集め、そこに設け
てある排水口から排出し、真空排気を行うから、前記従
来技術の如く溜まった水の蒸発による真空度の規制は元
々生ずることはなく、良好な真空度の状態での処理品の
加熱を行い得る効果がある。
の処理品の加熱の開始の場合、例えば前の処理品の処理
の工程で生じた水が炉殻２の内部に溜まっていても、そ
の炉殻内に溜まる水を炉殻内の低部に集め、そこに設け
てある排水口から排出し、真空排気を行うから、前記従
来技術の如く溜まった水の蒸発による真空度の規制は元
々生ずることはなく、良好な真空度の状態での処理品の
加熱を行い得る効果がある。
【図１】真空炉の略示縦断面図。
【図２】図１におけるII−II線断面図。
【図３】異なる真空炉の例を示す略示縦断面図。
２ 炉殻 12 加熱手段 17 真空装置 31 処理品
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) F27D 7/06 B22F 1/00 C21D 1/773 F27B 5/04
Claims (2)
- 【請求項１】 真空装置が付設された炉殻内に処理品を
存置させ、上記炉殻内を真空排気し、上記処理品を加熱
する真空加熱方法において、 上記処理品の加熱に伴い処理品から生じる蒸気が上記炉
殻の内面において凝縮することを阻止する為に、上記炉
殻の内面を、蒸気が凝縮することを阻止する温度に保持
することを特徴とする真空加熱方法 。 - 【請求項２】 真空装置が付設された炉殻内に処理品を
存置させ、上記炉殻内を真空排気し、上記処理品を加熱
する真空加熱方法において、 上記炉殻内を真空排気するに当っては、炉殻内に溜まる
水を炉殻内の低部に集め、そこに設けてある排水口から
上記炉殻内に溜まる水を炉殻外に排出すると共に、炉殻
内を真空排気することを特徴とする真空加熱方法。
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| JP24263891A JP3163676B2 (ja) | 1991-08-27 | 1991-08-27 | 真空加熱方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP24263891A JP3163676B2 (ja) | 1991-08-27 | 1991-08-27 | 真空加熱方法 |
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ID=17092030
Family Applications (1)
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| JP24263891A Expired - Fee Related JP3163676B2 (ja) | 1991-08-27 | 1991-08-27 | 真空加熱方法 |
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| JP (1) | JP3163676B2 (ja) |
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-
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