JP3159090U - 半導体装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】ベースをフィンに圧入する際に生じるベースのたわみを低減し、電気的特性の劣化を防止して信頼性の高い半導体装置を提供する。【解決手段】ベース1と、ベース1の一方の主面が台状に隆起したチップ搭載面2と、チップ搭載面2を包囲するように設けられた側壁部3を有する。チップ搭載面2には第1の導電性接着剤4を介し、半導体チップ5の一方の主面が固着され、半導体チップ5の他方の主面には、第2の導電性接着剤6を介してリードが固着されている。チップ搭載面の径D1と凹部の径D2との比較について、径D2は径D1より大きいことが好ましい。【選択図】図1

Description

本考案は半導体装置にかかり、特に半導体装置を放熱板に圧入する際に半導体チップに発生する応力が低減された半導体装置に関する。
半導体チップを固着したベースが放熱体の嵌合フィンに圧入して装着される半導体装置は、例えば下記特許文献1により公知の技術である。このような構造の半導体装置は、凹状のベースと、ベースの一方の主面に導電性接着材によって固着された半導体チップと、半導体チップの上面に導電性接着材によって固着された棒状のリードと、ベースの開口部内に充填され半導体チップおよびリードの一部とを被覆して保護膜として機能する樹脂充填部を有する半導体装置である。
この半導体装置は、半導体チップの固着されたベースが放熱体のフィンに圧入されて使用される。すなわち、凹部を冶具により押圧して、半導体装置をリード側から放熱体のフィンに圧入する。このとき、半導体チップに対し応力が印加され、半導体チップが破壊される事が本技術分野における大きな課題となっている。下記特許文献1においては、
板状の底板と、一方の端部が前記底板の主面又は側面に形成され且つ当該底板の縁部に沿って環状に設けられた側壁部と、前記底板から台状に隆起したチップ搭載部を有するベースと、前記ベースの内部空間に充填された樹脂と、当該チップ搭載部の主面に固着された半導体チップと、前記半導体チップに導電性接着材を介し固着されたリードを有し、前記ベースがフィンに圧入により装着される半導体装置が開示されている。また下記特許文献2においては、ベースの底面にバッファ溝(buffer groove)を設ける半導体装置が開示されている。
特開平5−114678号公報 米国特許6894377号公報
しかし前記特許献1においては、実際に当該技術分野において、自動車用オルタネータのフィンに挿入される際、以下の点が考慮されていなかった。
当該技術分野において、半導体装置はベースの底面から押圧される。その際、半導体チップの直下にも押圧による応力が加えられる。応力はベースを伝い半導体チップへ伝播され半導体チップの信頼性に深刻な問題を引き起こす虞があった。
また、放熱フィンの孔の径とベースの径は自動車の振動などにより半導体装置が脱落しないように若干放熱フィンの径が小となっている。そのため前記押圧の際にはベースはハの字状に撓み、半導体チップに応力を伝播し、同じく信頼性に問題を引き起こす虞があった。
本考案の考案者はこれらの問題を鋭意検討し、信頼性の高い半導体装置を実現するための各部位の最適な寸法比を求めるに至った。本考案は応力の印加を効果的に防止し、追加の部材なく安価で、かつ信頼性の高い半導体装置を実現するためのものである。
本考案の半導体装置は、図1に示すようにベース1と、ベース1の一方の主面が台状に隆起したチップ搭載面2と、チップ搭載面2を包囲するように設けられた側壁部3を有する。
前記チップ搭載面2には第1の導電性接着剤4を介し半導体チップ5の一方の主面が固着され、半導体チップ5の他方の主面には第2の導電性接着剤6を介してリード7が固着されている。
またベース底部8には、図6に示すように本考案の半導体装置を図1の矢印X方向から見た図において、ベース1の底面8の相似円形状の凹部11が形成されている。凹部11の直径は本考案の図面においてD2で示す径である。
ベース1、つまりチップ載置面2は銅を主成分とする金属により一体に形成され、チップ搭載面2と側壁部3が形成する凹状の空間には樹脂が充填され、樹脂充填部9を形成する。
また本考案の技術範囲において、本半導体装置は自動車用オルタネータのフィン10に形成されたフィンに機械的に嵌合される。その際にはベース底部側からが機械的な応力が印加される。
本考案は、チップ搭載面2の径D1と前述の凹部11の径D2を、圧入時のベースのたわみを防止する観点から比率を最適化したものであり、最適化の内容は以下の通りである。
請求項1に記載の考案におけるチップ搭載面2の径D1と凹部11の径D2との比較について、径D2は径D1より大きな事が好ましい。図5は本考案のD1及びD2の径の関係がベースたわみに与える影響を実験したグラフである。
本考案の属する技術分野において、上記特許文献2のように小さな溝、もしくはチップ搭載面2の径D1と凹部11の径D2と比率が80%程度の先行例が散見されている。本実験結果においてはベースたわみは約9μmであり、たわみで発生したベース1及び樹脂封止部9を介して半導体チップ5に伝達される。これは半導体チップ5にクラックを生じさせ、整流装置としての機能を消失させるに充分なたわみ量であり、半導体装置の設計として好ましくない。
D2がD1の90%の径である場合ベースたわみは約8μmであり、D2がD1の100%、つまりD1=D2である場合ベースたわみは約6μmであり、80%の径である場合から50%の改善効果がみられる。
しかし、以降D2がD1の110%の径、以降D2がD1の120%の径とD2の径を順次大きくした結果、改善効果は漸進的である事が判明した。また、これ以上D2の径を大きくした場合はベース底部8の凹部11ではない領域の面積が極小化し、製品搬送やフィンへの挿入時の押圧部減の面から好ましくない。
そのため、本実験結果に基き本考案者はチップ搭載面2の径D1と凹部11の径D2との比較について、径D2は径D1より大きな事が好ましく、さらに好ましくはD2がD1の100%から110%の径とすることが半導体装置の信頼性の面から適切であるという結論に至った。
本考案の第1の実施例における半導体装置は、図1に示すように板状の底板14と、一方の端部が前記底板14の主面又は側面に形成され且つ当該底板14の縁部に沿って環状に設けられた側壁部13と、前記底板から台状に隆起したチップ搭載部2を有するベース1と、前記ベース1の内部空間に樹脂が充填された樹脂充填部9と、当該チップ搭載部2の主面に固着された半導体チップ5と、前記半導体チップ5に第2の導電性接着材6を介し固着されたリード7を有し、前記ベースがフィン10に圧入により装着される半導体装置である。
ベース1は円筒状の銅を主成分とした銅合金インゴット (図示しない)をプレス加工し凹部を成型する方法や、銅合金インゴットをドリルなどで刳り貫く事で形成される。溝部12の形成についても、前記工程と同時に行われる事が工数の削減の観点から望ましい。
側壁部3のフィン10と接する部位3には高さ方向にスリットが設けられていても良い。側壁部にスリットが設けられる事でフィン10に対する半導体装置の嵌合の際に指向性を持って装着されるため比較的少量の力で圧入する事が出来、作業者の負担が軽減される。
側壁部3とフィン10との強固な固着を求める場合においては側壁部3のフィン10と接する部位にローレット加工を施しても良い。ローレット文様は菱、四角、丸などが好適で形状が限定される性格のものではない。何れの形状にせよフィンへの嵌合時により良好にフィンを切除できるため、強固な固着を実現する事が出来る。
第1の導電性接着材4及び第2の導電性接着材6について本考案の属する技術分野においては、半導体装置は主に自動車用オルタネータ用ダイオードとして使用されるため、該半導体装置は高温下、例えば220℃の雰囲気下で使用される。そのため本考案においては高温の雰囲気下においても品質の劣化が進みにくい導電性接着材を選択する事が望ましい。
また、本考案の属する技術分野においては鉛を含有した半田が用いられるがそれ限定される性格のものではなく鉛を含有しない半田、いわゆる鉛フリー半田を用いても良い。その場合は鉛を含まないという点で環境に配慮した半導体装置という商品価値を創出する事が出来る。
半導体チップ5は例えばSi(シリコン)により形成されたダイオードであるが種類が限定されるのもではない。トランジスタ装置、サイリスタ装置、集積回路等種々の半導体装置にも本考案を同様に適用できることは明らかであり、Siに限らずSiC(シリコンカーバイト)やGaN(窒化ガリウム)などのいわゆるワイドギャップ半導体により構成されても良い。
また、半導体チップの形状は4角形、6角形、円形、略円形など様々な形状が適用できる。
リード7は銅などの導電性金属材料によって形成されており、樹脂充填部9は例えばエポキシ樹脂により形成されている。本考案の属する技術分野においては、半導体装置は主に自動車用オルタネータ用ダイオードとして使用されるため、該半導体装置は高温下で使用される。
そのため樹脂充填部9は高温に耐える事が必要であり、本考案においても樹脂充填部9は高温の雰囲気下においても品質の劣化が進みにくい樹脂を選択する事が望ましい。当該技術分野において、フィン10は放熱性の高いアルミニウムや銅の板材から形成される場合や、異形状が容易に形成できるアルミダイキャストを使われる場合が多い。
本考案に関するD1とD2の比率は様々なベース1の形状に適用可能である。図2に示すように前記周辺部の一部が切除され周辺部に異なる径の部位が存在する半導体装置、図3に示すようにリード7の径が半導体チップの径(幅)よりも大きな半導体装置、さらに図4に示すように板状の底板14と、一方の端部が前記底板14の主面又は側面に形成され且つ当該底板14の縁部に沿って環状に設けられた側壁部13と、前記底板から台状に隆起したチップ搭載部2を有するベース1と、ベース1の一方の主面が台状に隆起したチップ搭載面2と、チップ搭載面2を包囲するように設けられた樹脂リング13を有し、前記チップ搭載面2には第1の導電性接着剤4を介し半導体チップ5の一方の主面が固着され、半導体チップ5の他方の主面には第2の導電性接着剤6を介してリード7が固着されている半導体装置においても本考案の比率は好適に機能し、半導体装置の信頼性の向上に寄与する事ができる。
また、本考案へ至る実験結果が示すように、D2がD1の100%から110%が好適であるという点は必ずしも本考案の思想を限定するものではない。様々な条件により例えばD2がD1の105%、120%の径となったとしても、凹部によりベースの撓みを抑制するという本考案の目的は達成される。
は本考案による半導体装置の断面図である。 は本考案の第2の実施例による半導体装置の断面図である。 は本考案の第3の実施例による半導体装置の断面図である。 は本考案の第4の実施例による半導体装置の断面図である。 は本考案のD1とD2の径の比率を示した実験グラフである。 は図1において矢印Xの方向から見た図である。
1、ベース
2、チップ搭載面
3、側壁部
4、第1の導電性接着材
5、半導体チップ
6、第2の導電性接着材
7、リード
8、ベース底部
9、樹脂充填部
10、フィン
11、凹部
12、溝部
13、樹脂リング
14、底板

Claims (4)

  1. 板状の底板と、一方の端部が前記底板の主面又は側面に形成され且つ当該底板の縁部に沿って環状に設けられた側壁部と、前記底板から台状に隆起したチップ搭載部を有するベースと、前記ベースの内部空間に充填された樹脂と、当該チップ搭載部の主面に固着された半導体チップと、前記半導体チップに導電性接着材を介し固着されたリードを有し、前記ベースがフィンに圧入により装着される半導体装置において、前記ベースの底部に凹部が設けられ、かつ前記凹部の径はチップ搭載部の径以上である事を特徴とした半導体装置。
  2. 前記チップ搭載部の径と前記凹部の径との比率が1:1から1:1.1の範囲内である事を特徴とした請求項1に記載の半導体装置
  3. 前記リードの径が前記半導体チップの径よりも大である事を特徴とした請求項1に記載の半導体装置
  4. 前記チップ搭載部を包囲するように樹脂リングが搭載されている事を特徴とした請求項1に記載の半導体装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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