JP3137160B2 - ウエハの位置ズレ補正方法 - Google Patents
ウエハの位置ズレ補正方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、ウエハの位置ズレを
補正する方法に関し、詳しくは、異物検査装置におい
て、スピンドルに装着されたウエハの回転中心と、真の
中心の位置ズレ量を検出して、異物データの座標値を補
正する方法に関する。
補正する方法に関し、詳しくは、異物検査装置におい
て、スピンドルに装着されたウエハの回転中心と、真の
中心の位置ズレ量を検出して、異物データの座標値を補
正する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体のＬＳＩはシリコンウエハを素材
として製作される。ウエハは、表面に異物が付着すると
品質が低下するので、表面検査装置により検査されてい
る。図６は表面検査装置１０の基本構成を示し、これに
よる異物検査方法の概略を説明する。被検査のウエハ１
は回転移動部２のスピンドル21にエア吸着され、回転制
御回路（ＣＯＮＴ）51に制御されたモータ（Ｍ）22によ
りθ回転し、その表面に対して検出光学系３よりレーザ
スポットＳP が投射される。ウエハ１は、移動制御回路
（ＣＯＮＴ）52に制御されたＸ移動機構23により、半径
Ｒの範囲を移動して表面がレーザスポットＳP によりス
パイラル状に走査され、表面に異物があると散乱光を散
乱し、これが検出光学系３に受光されて異物が検出され
る。検出された異物信号と、ＣＯＮＴ51が出力するスピ
ンドル21の角度信号［θ］、およびＣＯＮＴ52が出力す
る走査位置信号［Ｒ］が、データ処理部４のマイクロプ
ロセッサ（ＭＰＵ）41に入力し、両信号［Ｒ］，［θ］
により、異物の検出位置のＲθ座標値が算出され、さら
にこれがＸＹ座標に変換されて異物データに付加され、
メモリ（ＭＥＭ）42に記憶される。また、異物データは
プリンタ（ＰＲＮＴ）43にマップ表示される。
として製作される。ウエハは、表面に異物が付着すると
品質が低下するので、表面検査装置により検査されてい
る。図６は表面検査装置１０の基本構成を示し、これに
よる異物検査方法の概略を説明する。被検査のウエハ１
は回転移動部２のスピンドル21にエア吸着され、回転制
御回路（ＣＯＮＴ）51に制御されたモータ（Ｍ）22によ
りθ回転し、その表面に対して検出光学系３よりレーザ
スポットＳP が投射される。ウエハ１は、移動制御回路
（ＣＯＮＴ）52に制御されたＸ移動機構23により、半径
Ｒの範囲を移動して表面がレーザスポットＳP によりス
パイラル状に走査され、表面に異物があると散乱光を散
乱し、これが検出光学系３に受光されて異物が検出され
る。検出された異物信号と、ＣＯＮＴ51が出力するスピ
ンドル21の角度信号［θ］、およびＣＯＮＴ52が出力す
る走査位置信号［Ｒ］が、データ処理部４のマイクロプ
ロセッサ（ＭＰＵ）41に入力し、両信号［Ｒ］，［θ］
により、異物の検出位置のＲθ座標値が算出され、さら
にこれがＸＹ座標に変換されて異物データに付加され、
メモリ（ＭＥＭ）42に記憶される。また、異物データは
プリンタ（ＰＲＮＴ）43にマップ表示される。
【０００３】図７はマップ表示された異物データの一例
を示し、ＸＹ座標系はウエハ１のオリエンテーションフ
ラット（以下、ＯＦという。）をＸ方向、ウエハ１の中
心Ｏを原点（０，０）とし、検出された各異物ｉ1,ｉ2
………は、それぞれのＸＹ座標( ｘ1,ｙ1)，（ｘ2,
ｙ2)，………の位置に表示されている。
を示し、ＸＹ座標系はウエハ１のオリエンテーションフ
ラット（以下、ＯＦという。）をＸ方向、ウエハ１の中
心Ｏを原点（０，０）とし、検出された各異物ｉ1,ｉ2
………は、それぞれのＸＹ座標( ｘ1,ｙ1)，（ｘ2,
ｙ2)，………の位置に表示されている。
【０００４】最近における集積度の向上した超ＬＳＩに
おいては、パターンの線幅が０．２〜０．３ミクロン程
度に微細化されており、これに対応して、０．１ミクロ
ン以下の微小異物を検出することが必要とされ、このた
めに検出光学系３は改良が重ねられ、微小異物まで検出
可能となっている。しかし、このような微小な段階にな
ると、Ｓ／Ｎ比が低下してノイズが誤って異物として検
出されることがあり、また異物以外に、ウエハの研磨仕
上げの際に生じた欠陥が検出される場合もある。そこ
で、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を使用して、検出され
た異物などの微細構造を観察して真偽を調べ、その次第
によって、塵埃管理や研磨仕上げ加工にフィードバック
することが行われている。図８により、ＳＥＭ６による
異物などの観察方法の概略を説明する。図において、ウ
エハ１はＸＹ移動ステージ７に載置され、その上方にＳ
ＥＭ６が固定される。この場合、ＸＹ移動ステージ７の
座標系は、ウエハ１のＯＦをＸ’軸とし、ウエハ１の外
周の最左端を過ぎる切線をＹ’軸とし、両者の交点を原
点Ｃ（０，０）とするＸ’Ｙ’座標系が使用されてい
る。前記したメモリ42に記憶されているＸＹ座標の異物
データを、ＭＰＵ41によりＸ’Ｙ’座標系に変換してＳ
ＥＭシステムのフロッピーディスクに記憶し、これによ
りＸＹ移動ステージ７を駆動し、所望の異物ｉS(ｘS,ｙ
S ）をＳＥＭ６の視野内に導入して観察される。
おいては、パターンの線幅が０．２〜０．３ミクロン程
度に微細化されており、これに対応して、０．１ミクロ
ン以下の微小異物を検出することが必要とされ、このた
めに検出光学系３は改良が重ねられ、微小異物まで検出
可能となっている。しかし、このような微小な段階にな
ると、Ｓ／Ｎ比が低下してノイズが誤って異物として検
出されることがあり、また異物以外に、ウエハの研磨仕
上げの際に生じた欠陥が検出される場合もある。そこ
で、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を使用して、検出され
た異物などの微細構造を観察して真偽を調べ、その次第
によって、塵埃管理や研磨仕上げ加工にフィードバック
することが行われている。図８により、ＳＥＭ６による
異物などの観察方法の概略を説明する。図において、ウ
エハ１はＸＹ移動ステージ７に載置され、その上方にＳ
ＥＭ６が固定される。この場合、ＸＹ移動ステージ７の
座標系は、ウエハ１のＯＦをＸ’軸とし、ウエハ１の外
周の最左端を過ぎる切線をＹ’軸とし、両者の交点を原
点Ｃ（０，０）とするＸ’Ｙ’座標系が使用されてい
る。前記したメモリ42に記憶されているＸＹ座標の異物
データを、ＭＰＵ41によりＸ’Ｙ’座標系に変換してＳ
ＥＭシステムのフロッピーディスクに記憶し、これによ
りＸＹ移動ステージ７を駆動し、所望の異物ｉS(ｘS,ｙ
S ）をＳＥＭ６の視野内に導入して観察される。
【０００５】さて、再び図６において、ウエハ１がスピ
ンドル21に装着されて吸着されるとき、ウエハ１の真の
中心Ｏとスピンドルの回転中心Ｏ’とが位置ズレするこ
とがあり、その場合はウエハは回転中心Ｏ’を中心とし
て回転する。図９はこのような中心間の位置ズレを示
し、位置ズレ量をΔｘ，Δｙとすると、真の中心Ｏ
（０，０）に対して回転中心Ｏ’の座標は（Δｘ，Δ
ｙ）となり、従って、上記の表面検査による異物データ
のＸＹ座標値には、真の中心Ｏに対して（Δｘ，Δｙ）
の位置ズレ誤差が生ずる。
ンドル21に装着されて吸着されるとき、ウエハ１の真の
中心Ｏとスピンドルの回転中心Ｏ’とが位置ズレするこ
とがあり、その場合はウエハは回転中心Ｏ’を中心とし
て回転する。図９はこのような中心間の位置ズレを示
し、位置ズレ量をΔｘ，Δｙとすると、真の中心Ｏ
（０，０）に対して回転中心Ｏ’の座標は（Δｘ，Δ
ｙ）となり、従って、上記の表面検査による異物データ
のＸＹ座標値には、真の中心Ｏに対して（Δｘ，Δｙ）
の位置ズレ誤差が生ずる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記の位置ズレ誤差
は、表面検査の段階では格別な支障はないが、ＳＥＭ６
の観察においては問題である。すなわち、ＳＥＭ６は非
常な高倍率のために視野が非常に狭いので、異物データ
の座標値が極めて正確でないと、目的の異物を捕捉でき
ない。そこで、なんらかの手段により位置ズレ量（Δ
ｘ，Δｙ）を検出して、異物データの座標値を補正する
ことが、ＳＥＭ６に観察にとって是非とも必要である。
この発明は以上に鑑みてなされたもので、表面検査装置
におけるウエハの真の中心Ｏと回転中心Ｏ’の位置ズレ
量を検出し、異物データの座標値を補正する方法を提供
することを目的とする。
は、表面検査の段階では格別な支障はないが、ＳＥＭ６
の観察においては問題である。すなわち、ＳＥＭ６は非
常な高倍率のために視野が非常に狭いので、異物データ
の座標値が極めて正確でないと、目的の異物を捕捉でき
ない。そこで、なんらかの手段により位置ズレ量（Δ
ｘ，Δｙ）を検出して、異物データの座標値を補正する
ことが、ＳＥＭ６に観察にとって是非とも必要である。
この発明は以上に鑑みてなされたもので、表面検査装置
におけるウエハの真の中心Ｏと回転中心Ｏ’の位置ズレ
量を検出し、異物データの座標値を補正する方法を提供
することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明は上記の目的を
達成した、ウエハの位置ズレ補正方法であって、前記の
表面検査装置において、Ｘ移動機構に対して直角なＹ方
向をなし、ウエハのＯＦの長さの範囲内に配列された３
個の光センサよりなる位置センサ部を設ける。スピンド
ルに装着された検査済みのウエハを回転して、そのＯＦ
を位置センサ部に停止し、３個の光センサによりＯＦの
エッジを検出してＹ方向に正確に位置決めする。位置決
めされたウエハをスピンドルにより回転して、ウエハの
外周の適当な３測定点を位置センサ部に順次に停止し、
各測定点において、Ｘ移動機構によりウエハをＸ方向に
移動して、位置センサ部の中央の光センサにより各測定
点を検出し、それぞれのＲθ座標値をメモリに記憶す
る。記憶された各Ｒθ座標値より、スピンドルに装着さ
れたウエハの回転中心Ｏ’のＸＹ座標値を算出して、ウ
エハの真の中心Ｏとの位置ズレ量（Δｘ，Δｙ）を求
め、メモリに記憶されている異物データのＸＹ座標値を
補正するものである。
達成した、ウエハの位置ズレ補正方法であって、前記の
表面検査装置において、Ｘ移動機構に対して直角なＹ方
向をなし、ウエハのＯＦの長さの範囲内に配列された３
個の光センサよりなる位置センサ部を設ける。スピンド
ルに装着された検査済みのウエハを回転して、そのＯＦ
を位置センサ部に停止し、３個の光センサによりＯＦの
エッジを検出してＹ方向に正確に位置決めする。位置決
めされたウエハをスピンドルにより回転して、ウエハの
外周の適当な３測定点を位置センサ部に順次に停止し、
各測定点において、Ｘ移動機構によりウエハをＸ方向に
移動して、位置センサ部の中央の光センサにより各測定
点を検出し、それぞれのＲθ座標値をメモリに記憶す
る。記憶された各Ｒθ座標値より、スピンドルに装着さ
れたウエハの回転中心Ｏ’のＸＹ座標値を算出して、ウ
エハの真の中心Ｏとの位置ズレ量（Δｘ，Δｙ）を求
め、メモリに記憶されている異物データのＸＹ座標値を
補正するものである。
【０００８】
【作用】上記の位置ズレ補正方法においては、表面検査
装置に対して、Ｘ移動機構に直角なＹ方向をなし、ウエ
ハのＯＦの長さの範囲内に配列された３個の光センサよ
りなる位置センサ部が設けられる。スピンドルに装着さ
れた検査済みのウエハは、まずそのＯＦが位置決めされ
る。すなわち、このウエハを回転してＯＦを位置センサ
部に停止し、３個の光センサによりＯＦのエッジを検出
してＹ方向に正確に位置決めされる。しかる後、ウエハ
を回転して、その外周の適当な３測定点を位置センサ部
に順次に停止し、Ｘ移動機構によりウエハをＸ方向に移
動して、位置センサ部の中央の光センサにより各測定点
を検出し、それぞれのＲθ座標値を、前記した走査位置
信号［Ｒ］と角度信号［θ］とにより求めて、メモリに
記憶される。これらの各Ｒθ座標値より、スピンドルに
装着されたウエハの回転中心Ｏ’のＸＹ座標値が算出さ
れ、これとウエハの真の中心Ｏとの位置ズレ量（Δｘ，
Δｙ）が求められ、メモリに記憶されている異物データ
のＸＹ座標値が補正される。なお、外周の３測定点の座
標値より、回転中心Ｏ’のＸＹ座標値を算出する計算式
は公知であり、これにより容易に算出することができ
る。以上により座標値が補正された異物データは、ＳＥ
Ｍシステムのフロッピーディスクに収録され、この座標
値により所望の異物が容易に捕捉されて観察される。
装置に対して、Ｘ移動機構に直角なＹ方向をなし、ウエ
ハのＯＦの長さの範囲内に配列された３個の光センサよ
りなる位置センサ部が設けられる。スピンドルに装着さ
れた検査済みのウエハは、まずそのＯＦが位置決めされ
る。すなわち、このウエハを回転してＯＦを位置センサ
部に停止し、３個の光センサによりＯＦのエッジを検出
してＹ方向に正確に位置決めされる。しかる後、ウエハ
を回転して、その外周の適当な３測定点を位置センサ部
に順次に停止し、Ｘ移動機構によりウエハをＸ方向に移
動して、位置センサ部の中央の光センサにより各測定点
を検出し、それぞれのＲθ座標値を、前記した走査位置
信号［Ｒ］と角度信号［θ］とにより求めて、メモリに
記憶される。これらの各Ｒθ座標値より、スピンドルに
装着されたウエハの回転中心Ｏ’のＸＹ座標値が算出さ
れ、これとウエハの真の中心Ｏとの位置ズレ量（Δｘ，
Δｙ）が求められ、メモリに記憶されている異物データ
のＸＹ座標値が補正される。なお、外周の３測定点の座
標値より、回転中心Ｏ’のＸＹ座標値を算出する計算式
は公知であり、これにより容易に算出することができ
る。以上により座標値が補正された異物データは、ＳＥ
Ｍシステムのフロッピーディスクに収録され、この座標
値により所望の異物が容易に捕捉されて観察される。
【０００９】
【実施例】図１〜図５はこの発明の一実施例を示し、図
１は、この発明による位置ズレ補正方法を適用した表面
検査装置１０’の構成図、図２は位置ズレ補正方法の概
略の説明図、図３はＯＦの位置決め手順を示すフローチ
ャート、図４はウエハの外周測定手順を示すフローチャ
ート、図５は、位置ズレ補正手順を示すフローチャート
である。
１は、この発明による位置ズレ補正方法を適用した表面
検査装置１０’の構成図、図２は位置ズレ補正方法の概
略の説明図、図３はＯＦの位置決め手順を示すフローチ
ャート、図４はウエハの外周測定手順を示すフローチャ
ート、図５は、位置ズレ補正手順を示すフローチャート
である。
【００１０】図１に示す表面検査装置１０’は、前記し
た図６の表面検査装置１０に対して、位置センサ部８を
付加して構成され、また、ＳＥＭシステム用のフロッピ
ーディスク（ＦＤ）44がＭＰＵ41にバス接続される。位
置センサ部８は、光源81とホトセンサ82とを有する３個
の光センサＳa,Ｓb,Ｓc よりなり、光センサＳb を中央
として、３個がＸ移動機構の移動方向に対して直角なＹ
1 の方向をなして、ウエハ１のＯＦの長さの範囲内に、
適当な間隔で配列される。各光センサの光源81とホトセ
ンサ82の間にウエハ１の有無により、ホトセンサ82より
ＯＮ，ＯＦＦの信号が出力され、これによりウエハのエ
ッジを検出する。
た図６の表面検査装置１０に対して、位置センサ部８を
付加して構成され、また、ＳＥＭシステム用のフロッピ
ーディスク（ＦＤ）44がＭＰＵ41にバス接続される。位
置センサ部８は、光源81とホトセンサ82とを有する３個
の光センサＳa,Ｓb,Ｓc よりなり、光センサＳb を中央
として、３個がＸ移動機構の移動方向に対して直角なＹ
1 の方向をなして、ウエハ１のＯＦの長さの範囲内に、
適当な間隔で配列される。各光センサの光源81とホトセ
ンサ82の間にウエハ１の有無により、ホトセンサ82より
ＯＮ，ＯＦＦの信号が出力され、これによりウエハのエ
ッジを検出する。
【００１１】以下図２〜図５により、この発明の位置ズ
レ補正方法を説明する。図２において、１’はスピンド
ル21に装着されて検査が終了したウエハを示す。ウエハ
１’の真の中心Ｏと回転中心Ｏ’は、図９の場合と同様
に、（Δｘ，Δｙ）だけ位置ズレしているとし、また勝
手な角度とＸ位置に停止しているとする。このために、
まずＯＦをＹ方向に位置決めし、ついでウエハ１’の外
周の適当な３測定点ｐ1,ｐ2,ｐ3 の座標値を求め、これ
らにより位置ズレ量を算出する。なお、図示の矢印ＸD
は、ウエハ１’が位置センサ部８に接近する方向を示
し、矢印ＸU は離間する方向を示すものである。
レ補正方法を説明する。図２において、１’はスピンド
ル21に装着されて検査が終了したウエハを示す。ウエハ
１’の真の中心Ｏと回転中心Ｏ’は、図９の場合と同様
に、（Δｘ，Δｙ）だけ位置ズレしているとし、また勝
手な角度とＸ位置に停止しているとする。このために、
まずＯＦをＹ方向に位置決めし、ついでウエハ１’の外
周の適当な３測定点ｐ1,ｐ2,ｐ3 の座標値を求め、これ
らにより位置ズレ量を算出する。なお、図示の矢印ＸD
は、ウエハ１’が位置センサ部８に接近する方向を示
し、矢印ＸU は離間する方向を示すものである。
【００１２】まず図２と図３により、ＯＦの位置決め手
順を説明する。予め、異物のマップデータにより、スピ
ンドル21の基準角度（０°）に対するＯＦの角度θOFを
算出してＭＥＭ42に記憶しておく（図３のステップ
）。スピンドル21をホームポジション（ＨＰ）に復帰
し、角度θOFだけ回転してＯＦを位置センサ部８の位
置に停止する。ただしＯＦは、かならずしも正確にＹ
方向をなしていない。スピンドル21をＸD 方向に移動し
、中央の光センサＳb のＯＦＦ？を判定する。これ
がＮＯ（すなわちＯＮ）の間は、さらにＸD 方向に移動
してＹＥＳ（ＯＦＦ）となると、ＸU の方向に微小移動
して、Ｓb がＯＮとなる位置に停止する。ここで、Ｓ
a のＯＮ？を判定し、これがＮＯのときは、ウエハ１’
をＣＷ方向に１パルス分回転して、ステップに戻
り、上記と同様の手順を経て、ＹＥＳ（ＯＮ）となるま
で繰り返す。Ｓa がＯＮとなると、Ｓc のＯＮ？を判定
し、これがＮＯのときはウエハ１’をＣＣＷ方向に１
パルス分回転し(10)、ステップに戻って、いままでの
手順を繰り返してＳc をＯＮさせると、ＯＦがＹ方向に
正確に位置決めされて、このルーチンは終了する(11)。
順を説明する。予め、異物のマップデータにより、スピ
ンドル21の基準角度（０°）に対するＯＦの角度θOFを
算出してＭＥＭ42に記憶しておく（図３のステップ
）。スピンドル21をホームポジション（ＨＰ）に復帰
し、角度θOFだけ回転してＯＦを位置センサ部８の位
置に停止する。ただしＯＦは、かならずしも正確にＹ
方向をなしていない。スピンドル21をＸD 方向に移動し
、中央の光センサＳb のＯＦＦ？を判定する。これ
がＮＯ（すなわちＯＮ）の間は、さらにＸD 方向に移動
してＹＥＳ（ＯＦＦ）となると、ＸU の方向に微小移動
して、Ｓb がＯＮとなる位置に停止する。ここで、Ｓ
a のＯＮ？を判定し、これがＮＯのときは、ウエハ１’
をＣＷ方向に１パルス分回転して、ステップに戻
り、上記と同様の手順を経て、ＹＥＳ（ＯＮ）となるま
で繰り返す。Ｓa がＯＮとなると、Ｓc のＯＮ？を判定
し、これがＮＯのときはウエハ１’をＣＣＷ方向に１
パルス分回転し(10)、ステップに戻って、いままでの
手順を繰り返してＳc をＯＮさせると、ＯＦがＹ方向に
正確に位置決めされて、このルーチンは終了する(11)。
【００１３】次に図２と図４によりウエハ１’の外周測
定手順を説明する。上記により位置決めされたウエハ
１’を、スピンドル21によりＣＷ方向に適当な角度θ1
回転し（図４のステップ）、測定点ｐ1 を位置センサ
部８の位置に停止して、Ｓb のＯＮ？を判定する。こ
れがＹＥＳのときは、スピンドル21をＸD 方向に微小移
動して、Ｓb がＯＦＦとなる位置に停止し、ここで測
定点ｐ1 の座標値（ｒ1,θ1)をＭＥＭ42に記憶する。
このｒ1 とθ1 は、は前記した走査位置信号［Ｒ］と角
度信号［θ］よりえられる。これに対して、ステップ
の判定がＮＯのときは、ウエハ１’をＸU 方向に微小移
動してＳb ＯＮの位置に停止し、測定点ｐ1 の座標値
（ｒ1,θ1)をＭＥＭ42に記憶する。以下同様に、ウエ
ハ１’を角度θ2,θ3 だけ順次に回転し、ステップ〜
(11)により、２測定点ｐ2,ｐ3 の座標値（ｒ2,θ2)，
（ｒ3,θ3)を求めてＭＥＭ43に記憶すると、外周測定が
終了する(12)。
定手順を説明する。上記により位置決めされたウエハ
１’を、スピンドル21によりＣＷ方向に適当な角度θ1
回転し（図４のステップ）、測定点ｐ1 を位置センサ
部８の位置に停止して、Ｓb のＯＮ？を判定する。こ
れがＹＥＳのときは、スピンドル21をＸD 方向に微小移
動して、Ｓb がＯＦＦとなる位置に停止し、ここで測
定点ｐ1 の座標値（ｒ1,θ1)をＭＥＭ42に記憶する。
このｒ1 とθ1 は、は前記した走査位置信号［Ｒ］と角
度信号［θ］よりえられる。これに対して、ステップ
の判定がＮＯのときは、ウエハ１’をＸU 方向に微小移
動してＳb ＯＮの位置に停止し、測定点ｐ1 の座標値
（ｒ1,θ1)をＭＥＭ42に記憶する。以下同様に、ウエ
ハ１’を角度θ2,θ3 だけ順次に回転し、ステップ〜
(11)により、２測定点ｐ2,ｐ3 の座標値（ｒ2,θ2)，
（ｒ3,θ3)を求めてＭＥＭ43に記憶すると、外周測定が
終了する(12)。
【００１４】次に、図５により位置ズレ補正手順を説明
する。上記により、ＭＥＭ42に記憶された３測定点の座
標値（ｒ1,θ1)，（ｒ2,θ2)，（ｒ3,θ3)より、ウエハ
１’の回転中心Ｏ’のＸＹ座標値を算出し（図５のステ
ップ）、これよりウエハ１’の真の中心Ｏの座標値を
差し引いて、位置ズレ量（Δｘ，Δｙ）を算出する。
ついで、ＭＥＭ42に記憶されている各異物ｉ1,i2………
のＸＹ座標値（ｘ1,ｙ1), （ｘ2,ｙ2)………に対して、
この位置ズレ量（Δｘ，Δｙ）を補正し、さらにＳＥ
ＭシステムのＸ’Ｙ’座標値に変換して、異物データと
ともにＦＤ44に収録される。
する。上記により、ＭＥＭ42に記憶された３測定点の座
標値（ｒ1,θ1)，（ｒ2,θ2)，（ｒ3,θ3)より、ウエハ
１’の回転中心Ｏ’のＸＹ座標値を算出し（図５のステ
ップ）、これよりウエハ１’の真の中心Ｏの座標値を
差し引いて、位置ズレ量（Δｘ，Δｙ）を算出する。
ついで、ＭＥＭ42に記憶されている各異物ｉ1,i2………
のＸＹ座標値（ｘ1,ｙ1), （ｘ2,ｙ2)………に対して、
この位置ズレ量（Δｘ，Δｙ）を補正し、さらにＳＥ
ＭシステムのＸ’Ｙ’座標値に変換して、異物データと
ともにＦＤ44に収録される。
【００１５】以上により、ＦＤ44に収録された各異物の
座標値により、ＳＥＭシステムのＸＹ移動ステージ７が
駆動されて、所望の異物がＳＥＭ６の視野内に容易に捕
捉され、その微細構造が観察される。
座標値により、ＳＥＭシステムのＸＹ移動ステージ７が
駆動されて、所望の異物がＳＥＭ６の視野内に容易に捕
捉され、その微細構造が観察される。
【００１６】
【発明の効果】以上の説明のとおり、この発明の位置ズ
レ補正方法においては、ウエハのＯＦが位置センサ部の
３個の光センサにより検出されてＹ方向に正確に位置決
めされ、しかる後、外周の適当な３測定点を中央の光セ
ンサにより検出してそれぞれの座標値を求め、これらの
座標値より、ウエハの真の中心Ｏと回転中心Ｏ’の位置
ズレ量を算出し、表面検査によりえられた異物データの
座標値を補正するもので、この補正された座標値によ
り、観察する所望の異物がＳＥＭの視野内に容易に捕捉
される効果には、大きいものがある。
レ補正方法においては、ウエハのＯＦが位置センサ部の
３個の光センサにより検出されてＹ方向に正確に位置決
めされ、しかる後、外周の適当な３測定点を中央の光セ
ンサにより検出してそれぞれの座標値を求め、これらの
座標値より、ウエハの真の中心Ｏと回転中心Ｏ’の位置
ズレ量を算出し、表面検査によりえられた異物データの
座標値を補正するもので、この補正された座標値によ
り、観察する所望の異物がＳＥＭの視野内に容易に捕捉
される効果には、大きいものがある。
【図１】図１は、この発明を適用した表面検査装置１
０’の一実施例における構成図である。
０’の一実施例における構成図である。
【図２】図２は位置ズレ補正方法の概略の説明図であ
る。
る。
【図３】図３はＯＦの位置決め手順を示すフローチャー
トである。
トである。
【図４】図４はウエハの外周測定手順を示すフローチャ
ートである。
ートである。
【図５】図５は位置ズレ補正手順を示すフローチャート
である。
である。
【図６】図６は表面検査装置１０の基本構成図である。
【図７】図７は異物データの一例のマップ表示図であ
る。
る。
【図８】図８は、ＳＥＭ６による異物などの観察方法の
概略説明図である。
概略説明図である。
【図９】図９は、ウエハ１の真の中心Ｏと回転中心Ｏ’
の位置ズレの説明図である。
の位置ズレの説明図である。
１…ウエハ、１’…検査済みウエハ、２…回転移動部、
21…スピンドル、22…モータ（Ｍ）、23…Ｘ移動機構、
３…検出光学系、４…データ処理部、41…マイクロプロ
セッサ（ＭＰＵ）、42…メモリ（ＭＥＭ）、43…プリン
タ（ＰＲＮＴ）、51…回転制御回路（ＣＯＮＴ）、52…
移動制御回路（ＣＯＮＴ）、６…走査型電子顕微鏡（Ｓ
ＥＭ）、７…ＸＹ移動ステージ、１０…表面検査装置、
１０’…この発明を適用した表面検査装置、ＯＦ…ウエ
ハのオリエンテーションフラット、Ｒ…ウエハの半径、
Ｏ…ウエハの真の中心、Ｏ’…ウエハの回転中心、
［θ］…角度信号、［Ｒ］…走査位置信号、ｉ…異物、
ＸD,ＸU …ウエハの移動方向を示す矢印、（ｒ，θ）…
異物のＲθ座標値。ＨＰ…スピンドルのホームポジショ
ン、〜(12)…フローチャートのステップ番号。
21…スピンドル、22…モータ（Ｍ）、23…Ｘ移動機構、
３…検出光学系、４…データ処理部、41…マイクロプロ
セッサ（ＭＰＵ）、42…メモリ（ＭＥＭ）、43…プリン
タ（ＰＲＮＴ）、51…回転制御回路（ＣＯＮＴ）、52…
移動制御回路（ＣＯＮＴ）、６…走査型電子顕微鏡（Ｓ
ＥＭ）、７…ＸＹ移動ステージ、１０…表面検査装置、
１０’…この発明を適用した表面検査装置、ＯＦ…ウエ
ハのオリエンテーションフラット、Ｒ…ウエハの半径、
Ｏ…ウエハの真の中心、Ｏ’…ウエハの回転中心、
［θ］…角度信号、［Ｒ］…走査位置信号、ｉ…異物、
ＸD,ＸU …ウエハの移動方向を示す矢印、（ｒ，θ）…
異物のＲθ座標値。ＨＰ…スピンドルのホームポジショ
ン、〜(12)…フローチャートのステップ番号。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｆ (56)参考文献 特開 昭64−57104（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−48443（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−112145（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−164047（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−226459（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01N 21/956 G01B 11/00 G01B 11/26 G01B 11/30 H01L 21/66 H01L 21/68
Claims (1)
- 【請求項１】被検査のウエハを装着して回転するスピン
ドルと、該スピンドルを該ウエハの半径Ｒの方向に移動
するＸ移動機構、該ウエハの表面に対してレーザスポッ
トを投射し、その散乱光を受光して該表面の付着異物を
検出する検出光学系、および、該検出された異物データ
を処理してメモリに記憶する表面検査装置において、前
記Ｘ移動機構に対して直角なＹ方向をなし、該ウエハの
オリエンテーションフラットの長さの範囲内に配列され
た３個の光センサよりなる位置センサ部を設け、前記ス
ピンドルに装着された前記検査済みのウエハを回転し
て、そのオリエンテーションフラットを該位置センサ部
に停止し、該３個の光センサにより該ＯＦのエッジを検
出してＹ方向に正確に位置決めし、該位置決めされたウ
エハを該スピンドルにより回転して、該ウエハの外周の
適当な３測定点を該位置センサ部に順次に停止し、該各
測定点において、前記Ｘ移動機構により該ウエハをＸ方
向に移動して、前記位置センサ部の中央の光センサによ
り該各測定点を検出し、それぞれのＲθ座標値をメモリ
に記憶し、該記憶された各Ｒθ座標値より、前記スピン
ドルに装着されたウエハの回転中心Ｏ’のＸＹ座標値を
算出して、該ウエハの真の中心Ｏとの位置ズレ量（Δ
ｘ，Δｙ）を求め、前記メモリに記憶されている異物デ
ータのＸＹ座標値を補正することを特徴とする、ウエハ
の位置ズレ補正方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8738294A JP3137160B2 (ja) | 1994-04-01 | 1994-04-01 | ウエハの位置ズレ補正方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8738294A JP3137160B2 (ja) | 1994-04-01 | 1994-04-01 | ウエハの位置ズレ補正方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07280741A JPH07280741A (ja) | 1995-10-27 |
| JP3137160B2 true JP3137160B2 (ja) | 2001-02-19 |
Family
ID=13913355
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8738294A Expired - Fee Related JP3137160B2 (ja) | 1994-04-01 | 1994-04-01 | ウエハの位置ズレ補正方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3137160B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4875936B2 (ja) * | 2006-07-07 | 2012-02-15 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 異物・欠陥検出方法および異物・欠陥検査装置 |
| WO2012059784A1 (en) | 2010-11-03 | 2012-05-10 | Reametrix Inc | Method and device for fluorescent measurement of samples |
| US9709500B2 (en) | 2012-05-02 | 2017-07-18 | Charles River Laboratories, Inc. | Optical method for detecting viable microorganisms in a cell sample |
| EP2769204B1 (en) | 2012-05-02 | 2016-02-17 | Charles River Laboratories, Inc. | Cell capture system and use thereof |
| CN114823455B (zh) * | 2022-07-01 | 2023-05-12 | 西安奕斯伟材料科技有限公司 | 一种用于调节晶圆位置的装置和方法 |
| CN115679295B (zh) * | 2022-12-30 | 2023-03-31 | 南昌昂坤半导体设备有限公司 | 石墨盘旋转漂移修正方法、装置、存储介质及电子设备 |
| CN117012683B (zh) * | 2023-10-07 | 2023-12-22 | 深圳黑晶光电技术有限公司 | 一种太阳能电池偏移纠正方法 |
-
1994
- 1994-04-01 JP JP8738294A patent/JP3137160B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07280741A (ja) | 1995-10-27 |
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