JP3134600B2 - Transferring conductive film supplier and conductive film laminated ceramic green sheet supplier - Google Patents

Transferring conductive film supplier and conductive film laminated ceramic green sheet supplier

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JP3134600B2
JP3134600B2 JP05138602A JP13860293A JP3134600B2 JP 3134600 B2 JP3134600 B2 JP 3134600B2 JP 05138602 A JP05138602 A JP 05138602A JP 13860293 A JP13860293 A JP 13860293A JP 3134600 B2 JP3134600 B2 JP 3134600B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、支持体上に支持された
導電膜あるいは導電膜−セラミックグリーンシート積層
シートを円滑に転写することを可能とするための転写用
導電膜供給体及び導電膜積層セラミックグリーンシート
供給体に関し、例えば、セラミック積層電子部品又はセ
ラミック多層基板の内部電極もしくは表面の電極を構成
するのに用いられる転写用導電膜供給体及び転写用導電
膜積層セラミックグリーンシート供給体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a conductive film feeder and a conductive film for transferring a conductive film or a conductive film-ceramic green sheet laminated sheet supported on a support. The present invention relates to a laminated ceramic green sheet supply, for example, a transfer conductive film supply and a transfer conductive film laminated ceramic green sheet supply used for forming an internal electrode or an electrode on a surface of a ceramic laminated electronic component or a ceramic multilayer substrate. .

【0002】[0002]

【従来の技術】セラミック積層電子部品は、複数の内部
電極がセラミック層を介して隔てられている焼結体を用
いて構成されている。この種の焼結体は、セラミックグ
リーンシート上に導電ペーストを印刷し、導電ペースト
が印刷されたセラミックグリーンシートを積層し、上下
に必要に応じて導電ペーストの印刷されていないセラミ
ックグリーンシートを積層し、得られた積層体を厚み方
向に圧着した後焼成することにより得られている。ある
いは、積層ステージ上において、セラミックグリーンシ
ートの成形及び導電ペーストのパターン印刷を繰り返す
ことにより上記積層体を得、得られた積層体を焼結する
ことによって製造されていた。
2. Description of the Related Art A ceramic laminated electronic component is formed using a sintered body in which a plurality of internal electrodes are separated by a ceramic layer. For this type of sintered body, a conductive paste is printed on a ceramic green sheet, a ceramic green sheet on which the conductive paste is printed is laminated, and a ceramic green sheet on which no conductive paste is printed is laminated on top and bottom as necessary. It is obtained by pressing the obtained laminate in the thickness direction and then firing. Alternatively, it has been manufactured by repeatedly forming a ceramic green sheet and printing a pattern of a conductive paste on a lamination stage to obtain the laminate, and sintering the obtained laminate.

【0003】近年、セラミック積層電子部品の薄型化及
び小型化が進行している。この薄型化及び小型化に伴っ
て、内部電極間のセラミック層の厚みも薄くなってきて
おり、より薄いセラミックグリーンシートを用いてセラ
ミック積層電子部品を製造することが求められている。
In recent years, ceramic multilayer electronic components have been reduced in thickness and size. With the reduction in thickness and size, the thickness of the ceramic layer between the internal electrodes has also been reduced, and there is a demand for manufacturing a ceramic multilayer electronic component using thinner ceramic green sheets.

【0004】厚みが20μm以上のセラミックグリーン
シートは、該セラミックグリーンシートが支持されてい
る合成樹脂フィルム等からなる支持体から単独で剥離す
ることが可能であった。しかしながら、上記のような要
請に応えて、より薄いセラミックグリーンシートを成形
した場合、例えば8μm以下の厚みのセラミックグリー
ンシートの場合には、セラミックグリーンシート自体の
強度が非常に小さくなる。従って、支持体上からセラミ
ックグリーンシートのみを単独で剥離し、積層等の工程
に供給することが非常に困難であった。
[0004] A ceramic green sheet having a thickness of 20 µm or more can be separated from a support made of a synthetic resin film or the like on which the ceramic green sheet is supported. However, when a thinner ceramic green sheet is formed in response to the above-mentioned demand, for example, in the case of a ceramic green sheet having a thickness of 8 μm or less, the strength of the ceramic green sheet itself becomes very small. Therefore, it has been very difficult to separate only the ceramic green sheet from the support and supply it to a process such as lamination.

【0005】そこで、合成樹脂よりなる支持フィルム上
においてセラミックグリーンシートを成形し、その上に
導電ペーストを印刷してなる複合体を用意し、セラミッ
クグリーンシート上に上記複合体を導電ペーストの印刷
されている側から圧着し、しかる後支持フィルムを剥離
する工程を繰り返すことにより積層体を得る方法が提案
されている(特開昭62−63413)。この方法で
は、セラミックグリーンシートのみを支持フィルムから
剥離して取り扱う必要がないため、より厚みの薄いセラ
ミックグリーンシートを用いて積層体を構成することが
できる。
Therefore, a ceramic green sheet is formed on a support film made of a synthetic resin, and a composite is prepared by printing a conductive paste on the ceramic green sheet. The composite is printed on the ceramic green sheet with the conductive paste. A method has been proposed in which a laminate is obtained by repeating the step of pressing the support film from the side where it is pressed and then peeling off the support film (JP-A-62-63413). In this method, it is not necessary to separate and handle only the ceramic green sheets from the support film, so that the laminate can be formed using ceramic green sheets having a smaller thickness.

【0006】また、セラミック積層体の形成に際し、第
1の支持フィルムにセラミックグリーンシートを支持し
てなるシート供給帯、第2の支持フィルムに導電ペース
トが支持されている電極材料供給帯とを用意し、シート
供給帯をセラミックグリーンシート側から支持体上に圧
着させ、しかる後第1の支持フィルムを剥離し、第1の
支持フィルムの剥離されたセラミックグリーンシート上
に電極材料供給帯を導電ペースト側から熱転写し、しか
る後第2の支持フィルムを剥離することにより導電ペー
ストをセラミックグリーンシート上に転写する工程を繰
り返すことにより積層体を得る方法も提案されている
(特開昭63−32909)。この方法においても、セ
ラミックグリーンシートのみを支持フィルムから剥離し
て単独で取り扱う必要はないため、より薄いセラミック
グリーンシートを用いて積層体を構成し得る。
In forming a ceramic laminate, a sheet supply band for supporting a ceramic green sheet on a first support film and an electrode material supply band for supporting a conductive paste on a second support film are prepared. Then, the sheet supply band is pressed on the support from the ceramic green sheet side, and then the first support film is peeled off, and the electrode material supply band is placed on the ceramic green sheet from which the first support film has been peeled off by the conductive paste. There has also been proposed a method of obtaining a laminate by repeating a process of transferring the conductive paste onto a ceramic green sheet by thermally transferring from the side and then peeling the second support film (Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-32909). . Also in this method, since it is not necessary to separate and handle only the ceramic green sheets from the support film, the laminate can be formed using thinner ceramic green sheets.

【0007】上記のように、厚みの薄いセラミックグリ
ーンシートでは、セラミックグリーンシートのみを単独
で取り扱うのを避け、支持フィルム等に支持されている
状態で取り扱うことにより、積層体を得ることができ
る。もっとも、上記いずれの積層方法においても、厚み
が8μm以下のように非常に薄いセラミックグリーンシ
ートでは、シートの機械的強度が非常に低くなってい
る。従って、導電ペーストからなる導電膜や導電膜を印
刷してなるセラミックグリーンシートを、支持フィルム
から剥離するのに必要な力(以下、剥離力と称する)が
大きい場合には、剥離に際し導電膜やセラミックグリー
ンシートが破損するという問題があった。
As described above, in the case of a ceramic green sheet having a small thickness, it is possible to obtain a laminate by avoiding handling the ceramic green sheet alone and handling it while being supported by a support film or the like. However, in any of the lamination methods described above, the mechanical strength of a very thin ceramic green sheet having a thickness of 8 μm or less is extremely low. Therefore, when the force required to peel the conductive film made of the conductive paste or the ceramic green sheet formed by printing the conductive film from the support film (hereinafter, referred to as peeling force) is large, the conductive film or There was a problem that the ceramic green sheet was damaged.

【0008】そこで、従来、最終的に剥離される支持フ
ィルムからの導電膜や導電膜積層セラミックグリーンシ
ートの剥離力を軽減するために、支持フィルム上に離型
剤層を形成し、該離型剤層上において導電膜やセラミッ
クグリーンシートが形成されていた。
Therefore, conventionally, in order to reduce the peeling force of the conductive film or the ceramic green sheet laminated with the conductive film from the finally peeled support film, a release agent layer is formed on the support film, and the release agent layer is formed. A conductive film and a ceramic green sheet were formed on the agent layer.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】上記のように、支持フ
ィルム上に離型剤層を設けることにより、導電膜や導電
膜積層セラミックグリーンシートの支持フィルムから剥
離する際の剥離力を軽減することができる。しかしなが
ら、上記剥離力は小さければ小さい程よいというもので
はない。
SUMMARY OF THE INVENTION As described above, by providing a release agent layer on a support film, it is possible to reduce the peeling force when the conductive film or the conductive ceramic laminated green sheet is peeled from the support film. Can be. However, the smaller the peeling force is, the better.

【0010】例えば、内部電極間の厚みすなわち用意す
べきセラミックグリーンシートの厚みが5μm以下であ
るような積層体を得ようとした場合には、最終的に支持
フィルムを剥離する際の剥離力が非常に小さいことが求
められる。しかしながら、上記剥離力が小さすぎた場合
には、導電膜を支持フィルム上に形成する工程あるいは
支持フィルム上においてセラミックグリーンシートを成
形する工程において導電膜やセラミックグリーンシート
がずれたり、部分的に剥離したりすることがある。よっ
て、上記剥離力は、導電膜の成形工程やセラミックグリ
ーンシートの成形の工程においてはある程度の剥離力を
有し、積層工程においては容易に剥離し得るように決定
されねばならない。
For example, when an attempt is made to obtain a laminate in which the thickness between the internal electrodes, that is, the thickness of the ceramic green sheet to be prepared is 5 μm or less, the peeling force when the support film is finally peeled is reduced. It must be very small. However, if the peeling force is too small, the conductive film or the ceramic green sheet is displaced or partially peeled in the step of forming the conductive film on the support film or the step of forming the ceramic green sheet on the support film. Or you may. Therefore, the peeling force must be determined so as to have a certain peeling force in the process of forming the conductive film and the process of forming the ceramic green sheet, and to be easily peeled in the laminating process.

【0011】しかしながら、単に支持フィルム上に離型
剤層を設けた従来の構成では、剥離力の軽減こそ可能で
あるものの、このような剥離力を最適な大きさに制御す
ることは非常に困難であった。
However, in the conventional configuration in which the release agent layer is simply provided on the support film, although it is possible to reduce the peeling force, it is very difficult to control such a peeling force to an optimum magnitude. Met.

【0012】本発明の目的は、導電膜や導電膜積層セラ
ミックグリーンシートを支持体上から容易に剥離するこ
とができ、かつ該剥離力を最適な大きさに制御し得る構
造を備えた転写用導電膜供給体及び転写用導電膜積層セ
ラミックグリーンシート供給体を提供することにある。
It is an object of the present invention to provide a transfer material having a structure capable of easily peeling a conductive film or a ceramic green sheet laminated with a conductive film from a support and controlling the peeling force to an optimum magnitude. It is an object of the present invention to provide a conductive film supply member and a transfer conductive film laminated ceramic green sheet supply member.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、支持体と、前記支持体上に形成されており、かつ開
口面積率が1〜70%となるように多数のピンホールが
形成された離型剤層と、前記離型剤層の形成されている
支持体面上に形成された導電膜とを備えることを特徴と
する、転写用導電膜供給体である。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a support and a plurality of pinholes formed on the support and having an opening area ratio of 1 to 70%. A transfer conductive film supply, comprising: a formed release agent layer; and a conductive film formed on a support surface on which the release agent layer is formed.

【0014】また、請求項2に記載の発明は、支持体
と、前記支持体上に形成されており、かつ開口面積率が
1〜70%となるように多数のピンホールが形成された
離型剤層と、前記離型剤層の形成されている支持体面上
に形成された導電膜と、前記導電膜上に積層されたセラ
ミックグリーンシートとを備える転写用導電膜積層セラ
ミックグリーンシート供給体である。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a support having a plurality of pinholes formed on the support and having an opening area ratio of 1 to 70%. A transfer-conductive-layer-laminated ceramic green sheet supplier comprising: a mold agent layer; a conductive film formed on the surface of the support on which the release agent layer is formed; and a ceramic green sheet laminated on the conductive film. It is.

【0015】請求項3に記載の発明は導電膜内蔵セラミ
ック積層体であり、少なくとも一部が、請求項2に記載
の導電膜積層セラミックグリーンシート供給体から転写
された導電膜積層セラミックグリーンシートである導電
膜内蔵セラミック積層体であることを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a ceramic laminated body with a built-in conductive film, at least a part of which is a ceramic green sheet laminated with a conductive film transferred from the ceramic green sheet supply material according to the second aspect. It is a ceramic laminate with a built-in conductive film.

【0016】すなわち、請求項1〜3に記載の各発明
は、支持体上に形成された離型剤層において開口面積率
が1〜70%となるように多数のピンホールを形成した
ことにおいて共通し、それによって上記課題を達成する
ものである。
That is, each of the inventions according to claims 1 to 3 is characterized in that a large number of pinholes are formed in the release agent layer formed on the support so that the opening area ratio is 1 to 70%. In common, thereby achieving the above-mentioned task.

【0017】[0017]

【作用】請求項1に記載の発明では、支持体と導電膜の
間に介在されている離型剤層が、上記のように開口面積
率1〜70%を実現するように多数のピンホールを有す
る。従って、このピンホールが形成されている部分にお
いては、離型剤が作用しないため、上記開口面積率を1
〜70%の範囲で調整することにより剥離力の大きさを
最適な値に調整することができる。
According to the first aspect of the present invention, a large number of pinholes are provided so that the release agent layer interposed between the support and the conductive film achieves the opening area ratio of 1 to 70% as described above. Having. Accordingly, since the release agent does not act on the portion where the pinhole is formed, the opening area ratio is set to 1
By adjusting in the range of up to 70%, the magnitude of the peeling force can be adjusted to an optimum value.

【0018】また、請求項2に記載の発明においても、
導電膜積層セラミックグリーンシートと、支持体との間
に上記離型剤層が形成されており、離型剤層が請求項1
に記載の発明の場合と同様に、開口面積率1〜70%を
実現するように多数のピンホールを有する。従って、上
記ピンホールが形成されている部分において離型剤が作
用しないため、開口面積率を調節することにより、支持
体と導電膜積層セラミックグリーンシートとの間の剥離
力を最適な値とすることができる。
Also, in the invention according to claim 2,
The release agent layer is formed between the conductive film laminated ceramic green sheet and the support, and the release agent layer is formed.
As in the case of the invention described in (1), a large number of pinholes are provided to realize an opening area ratio of 1 to 70%. Therefore, since the release agent does not act on the portion where the pinhole is formed, the peeling force between the support and the conductive film laminated ceramic green sheet is adjusted to an optimum value by adjusting the opening area ratio. be able to.

【0019】さらに、請求項3に記載の発明では、請求
項2に記載の導電膜積層セラミックグリーンシート供給
体から、上記導電膜積層セラミックグリーンシートが転
写されて積層体が得られるが、この場合、支持体からの
導電膜積層セラミックグリーンシートの剥離は、上記開
口面積率を最適な値とするようにピンホールを形成する
ことにより、円滑に行われ得る。
Further, according to the third aspect of the present invention, the conductive film laminated ceramic green sheet is transferred from the conductive film laminated ceramic green sheet supply body according to the second aspect to obtain a laminate. The peeling of the conductive film laminated ceramic green sheet from the support can be performed smoothly by forming a pinhole so that the opening area ratio has an optimum value.

【0020】すなわち、請求項1〜3に記載の発明で
は、支持体から導電膜や導電膜内蔵セラミックグリーン
シートを剥離する際の剥離力が、上記離型剤層に設けら
れたピンホールの開口面積率を選択することにより充分
低くされ、かつ導電膜やセラミックグリーンシートを形
成・成形する工程においては、剥離力が過度に小さくな
らないように最適な値とすることができる。
That is, in the inventions according to the first to third aspects, the peeling force at the time of peeling the conductive film or the ceramic green sheet containing the conductive film from the support is increased by the opening of the pinhole provided in the release agent layer. By selecting the area ratio, it can be made sufficiently low, and in the step of forming and forming the conductive film and the ceramic green sheet, an optimum value can be obtained so that the peeling force does not become excessively small.

【0021】[0021]

【実施例の説明】以下、本発明の実施例を説明すること
により、本発明を明らかにする。図1(a)及び(b)
は、本発明における支持体と離型剤層の機能を説明する
ための斜視図及び部分切欠断面図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be clarified by describing embodiments of the present invention. FIG. 1 (a) and (b)
FIG. 2 is a perspective view and a partially cutaway sectional view for explaining functions of a support and a release agent layer in the present invention.

【0022】支持体1上に離型剤層2が構成されてい
る。離型剤層2は、導電膜やセラミックグリーンシート
に対して離型作用を果たす材料、例えばシリコーン樹脂
等により構成される。離型剤層2には、ピンホール3が
形成されている。ピンホール3は、離型剤層2において
離型剤の存在しない部分であり、従って下側の支持体1
の上面1aがピンホール3内に露出されている。
A release agent layer 2 is formed on a support 1. The release agent layer 2 is made of a material that performs a release effect on the conductive film and the ceramic green sheet, for example, a silicone resin or the like. A pinhole 3 is formed in the release agent layer 2. The pinhole 3 is a portion of the release agent layer 2 where no release agent is present, and therefore the lower support 1
Is exposed in the pinhole 3.

【0023】本発明では、上記のように多数のピンホー
ル3が形成された離型剤層2において、複数のピンホー
ル3の総開口面積の離型剤層2が形成されている領域中
に占める割合、すなわち開口面積率が1〜70%の範囲
で選ばれている。
According to the present invention, in the release agent layer 2 in which a large number of pinholes 3 are formed as described above, the area in which the release agent layer 2 has a total opening area of the plurality of pinholes 3 is formed. The occupying ratio, that is, the opening area ratio is selected in the range of 1 to 70%.

【0024】図1(b)に示されているように、上記離
型剤層2が形成された支持体1上に導電膜4を形成した
とする。この場合、導電膜4は、離型剤層2を間に介し
て支持体1の上面1aに密着されているが、ピンホール
3が形成されている部分においては、直接支持体1の上
面1aに密着されている。従って、ピンホール3の開口
面積率を調節することにより、導電膜4の支持体1から
の剥離力を調節することができる。もっとも、上記開口
面積率は、支持体1の表面性状、導電膜4の組成、表面
性状等によって変更されるが、いずれにしても1〜70
%の範囲で選択することが必要である。本発明におい
て、上記ピンホール3の開口面積率を1〜70%の範囲
に選定したのは、1%未満では、ピンホール3を設けた
効果が充分でなく、すなわち剥離力を適度に高めること
ができないからであり、ピンホール3の開口面積が70
%を超えた場合には、離型剤の作用を充分に利用するこ
とができず、剥離力が大きくなり過ぎるからである。
As shown in FIG. 1B, it is assumed that a conductive film 4 is formed on the support 1 on which the release agent layer 2 is formed. In this case, the conductive film 4 is in close contact with the upper surface 1a of the support 1 with the release agent layer 2 interposed therebetween, but directly on the upper surface 1a of the support 1 in the portion where the pinhole 3 is formed. Is adhered to. Therefore, the peeling force of the conductive film 4 from the support 1 can be adjusted by adjusting the opening area ratio of the pinhole 3. However, the opening area ratio is changed depending on the surface properties of the support 1, the composition of the conductive film 4, the surface properties, and the like.
It is necessary to select in the range of%. In the present invention, the reason why the opening area ratio of the pinhole 3 is selected in the range of 1 to 70% is that if it is less than 1%, the effect of providing the pinhole 3 is not sufficient, that is, the peeling force is appropriately increased. This is because the opening area of the pinhole 3 is 70
%, The effect of the release agent cannot be sufficiently utilized, and the peeling force becomes too large.

【0025】次に、具体的な実験例につき説明する。実験1 支持体として、厚み50μmのポリエチレンテレフタレ
ート(以下、PET)フィルムを用意した。このPET
フィルムを用い、以下の実施例1〜3及び比較例1の導
電膜供給体を作成した。
Next, specific experimental examples will be described. Experiment 1 As a support, a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 50 μm was prepared. This PET
Using the film, conductive film suppliers of the following Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 were prepared.

【0026】実施例1…図2(a)に示すように、PE
Tフィルム11の上面11a上に平均粒径約10μmの
アルミナ粉末12を均一に付着させた。顕微鏡で調べた
ところ、アルミナ粉末12が付着している面積は、PE
Tフィルム21全体の約0.1%であった。
Example 1 As shown in FIG.
Alumina powder 12 having an average particle size of about 10 μm was uniformly adhered on the upper surface 11 a of the T film 11. When examined with a microscope, the area to which the alumina powder 12 was attached was PE
It was about 0.1% of the entire T film 21.

【0027】次に、図2(b)に示すように、リバース
コーター13を用い、PETフィルム11の上面11a
側からシリコン樹脂を乾燥後の厚みが1μmとなるよう
に塗布し、厚み1μmの離型剤層14を形成した。離型
剤層14を顕微鏡で調べたところアルミナ粉末12が付
着している部分においては、シリコン樹脂が弾かれてお
り、その結果、離型剤層14において直径約100μm
のピンホール14aが形成されていた。また、PETフ
ィルム11の上面11aの面積に対する上記ピンホール
14aの面積の総和の占める割合は、すなわち開口面積
率は約10%であった。
Next, as shown in FIG. 2B, an upper surface 11a of the PET film 11 is
A silicone resin was applied from the side to a thickness of 1 μm after drying to form a release agent layer 14 having a thickness of 1 μm. When the release agent layer 14 was examined with a microscope, the silicon resin was repelled at the portion where the alumina powder 12 was adhered, and as a result, the diameter of the release agent layer 14 was about 100 μm.
Was formed. The ratio of the total area of the pinholes 14a to the area of the upper surface 11a of the PET film 11, that is, the opening area ratio was about 10%.

【0028】上記PETフィルム11を洗浄し、アルミ
ナ粉末12を除去し、ピンホール開口面積率10%の離
型剤層14が形成された実施例1のPETフィルム11
を得た(図3参照)。
The PET film 11 of Example 1 in which the PET film 11 was washed, the alumina powder 12 was removed, and the release agent layer 14 having a pinhole opening area ratio of 10% was formed.
(See FIG. 3).

【0029】実施例2…離型剤層のピンホール開口面積
率を30%としたことを除いては、実施例1と同様にし
て、実施例2の離型剤層を有するPETフィルムを得
た。 実施例3…離型剤層のピンホール開口面積率を50%と
したことを除いては実施例1と同様にして、ピンホール
開口面積率50%の離型剤層を設けたPETフィルムを
得た。
Example 2 A PET film having a release agent layer of Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the pinhole opening area ratio of the release agent layer was 30%. Was. Example 3 A PET film provided with a release agent layer having a pinhole opening area ratio of 50% was prepared in the same manner as in Example 1 except that the pinhole opening area ratio of the release agent layer was set to 50%. Obtained.

【0030】比較例1…実施例1で用意したPETフィ
ルム11の上面11a上に実施例1で用いた離型剤を乾
燥後の厚みを1μmとなるようにリバースコーターで塗
布し、厚み1μmのピンホールが存在しない離型剤層を
形成し、比較例1のPETフィルムとした。
Comparative Example 1 The release agent used in Example 1 was applied on the upper surface 11a of the PET film 11 prepared in Example 1 by a reverse coater so that the thickness after drying became 1 μm. A release agent layer having no pinhole was formed, and a PET film of Comparative Example 1 was obtained.

【0031】上記実施例1〜3及び比較例1の離型剤層
が形成された各PETフィルムの上面11a側から電子
ビーム蒸着法によりニッケルを蒸着し、導電膜を形成し
た。実施例1を代表して、図4を参照して説明する。す
なわち、実施例1のPETフィルム11において、上面
11a側から純度99.9重量%以上のNiを用い、真
空度5×10-50 Torr、電子ビーム出力10kW、
坩堝とフィルム11との間の距離を400mmとしてN
iを蒸着し、導電膜15を形成した。形成された導電膜
15の厚みを測定したところ、1.5μmであった。
Nickel was vapor-deposited from the upper surface 11a side of each of the PET films on which the release agent layers of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 were formed by electron beam vapor deposition to form a conductive film. The first embodiment will be described with reference to FIG. That is, in the PET film 11 of Example 1, Ni having a purity of 99.9% by weight or more was used from the upper surface 11a side, the degree of vacuum was 5 × 10 −50 Torr, the electron beam output was 10 kW,
When the distance between the crucible and the film 11 is 400 mm, N
i was deposited to form a conductive film 15. When the thickness of the formed conductive film 15 was measured, it was 1.5 μm.

【0032】実施例2,3及び比較例1においても、上
記実施例1と同様にして、厚み1.5μmのニッケルか
らなる導電膜を形成した。上記のようにして形成された
導電膜の各PETフィルムからの剥離力を以下の要領で
測定した。
In Examples 2 and 3 and Comparative Example 1, a conductive film made of nickel having a thickness of 1.5 μm was formed in the same manner as in Example 1. The peeling force of the conductive film formed as described above from each PET film was measured in the following manner.

【0033】PETフィルムを定板の上に固定し、PE
Tフィルムに対して90度の角度となるうよに導電膜を
剥離し、そのときの張力を測定し、剥離力とした。結果
を下記の表1に示す。
Fix the PET film on the platen,
The conductive film was peeled off at an angle of 90 degrees with respect to the T film, and the tension at that time was measured to obtain the peeling force. The results are shown in Table 1 below.

【0034】[0034]

【表1】 [Table 1]

【0035】表1から明らかなように、実施例1〜3で
は、離型剤層におけるピンホール開口面積率を10%、
30%及び50%と変化させることにより剥離力を制御
し得ることがわかる。
As is clear from Table 1, in Examples 1 to 3, the pinhole opening area ratio in the release agent layer was 10%,
It can be seen that the peel force can be controlled by changing the values to 30% and 50%.

【0036】実験2 実験1で用意した実施例1〜3及び比較例1の離型剤層
付きPETフィルムを用い、PETフィルムの上面に導
電ペーストをスクリーン印刷し、導電膜を形成した。使
用した導電ペーストは、乾燥状態で平均粒径約1.0μ
mのニッケル粉末を50重量%、樹脂分を50重量%含
有するものである。
Experiment 2 Using the PET films with release agent layers prepared in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 prepared in Experiment 1, a conductive paste was screen-printed on the upper surface of the PET film to form a conductive film. The conductive paste used has an average particle size of about 1.0μ in the dry state.
m containing 50% by weight of a nickel powder and 50% by weight of a resin component.

【0037】形成された導電膜の乾燥後の厚みは約4μ
mであった。上記のようにして形成された導電膜のPE
Tフィルムからの剥離力を実験1と同様に90度剥離法
により測定した。結果を下記の表2に示す。
The thickness of the formed conductive film after drying is about 4 μm.
m. PE of the conductive film formed as described above
The peeling force from the T film was measured by the 90 ° peeling method as in Experiment 1. The results are shown in Table 2 below.

【0038】[0038]

【表2】 [Table 2]

【0039】表2から明らかなように、本発明の範囲に
入る実施例1〜3では、導電ペーストを用いて構成され
た導電膜の場合においても、支持体であるPETフィル
ムからの剥離力を離型剤層のピンホール開口面積率を調
節することにより制御し得ることがわかる。
As is clear from Table 2, in Examples 1 to 3 which fall within the scope of the present invention, even in the case of a conductive film formed by using a conductive paste, the peeling force from the PET film as the support was reduced. It can be seen that it can be controlled by adjusting the pinhole opening area ratio of the release agent layer.

【0040】実験3 実験1で用意した比較例1及び実施例1〜3の離型剤層
付きPETフィルムを用意し、上面11a側から実験1
と同様の条件でNiを蒸着し、厚み1.5μmの導電膜
を形成した。次に、実施例1について図面を参照して代
表して説明すると、図4(a)に示すようにNiよりな
る導電膜15を形成した後、導電膜15の両面にフォト
レジストを所定のパターンとなるようにコーティング
し、しかる後エッチングすることにより、所望のパター
ンの導電膜15Aを形成した(図4(b)参照)。
Experiment 3 The PET films with a release agent layer of Comparative Example 1 and Examples 1 to 3 prepared in Experiment 1 were prepared, and the experiment 1 was performed from the upper surface 11a side.
Under the same conditions as above, Ni was deposited to form a conductive film having a thickness of 1.5 μm. Next, a first embodiment will be described with reference to the drawings. As shown in FIG. 4A, after a conductive film 15 made of Ni is formed, a photoresist is formed on both surfaces of the conductive film 15 in a predetermined pattern. Thus, the conductive film 15A having a desired pattern was formed by performing coating and then etching (see FIG. 4B).

【0041】次に、所定のパターンに形成された導電膜
15A上からBaTiO3 を主成分とする耐還元性セラ
ミック粉末と、有機バインダー及び分散剤とからなるセ
ラミックスラリーをコーティングし、図5に示すように
セラミックグリーンシート16を成形した。成形された
セラミックグリーンシート16の厚みを測定したとこ
ろ、約15μmであった。
Next, a ceramic slurry comprising a reduction-resistant ceramic powder mainly composed of BaTiO 3 , an organic binder and a dispersant is coated on the conductive film 15A formed in a predetermined pattern, as shown in FIG. Thus, the ceramic green sheet 16 was formed. When the thickness of the formed ceramic green sheet 16 was measured, it was about 15 μm.

【0042】実施例2,3及び比較例1についても、同
様に導電膜をフォトリソグラフィーによりパターニング
し、セラミックグリーンシートを成形した。上記のよう
にして得られた導電膜積層セラミックグリーンシートの
PETフィルムからの剥離力を実験1と同様に90度剥
離力を測定することにより評価した。結果を下記の表3
に示す。
In Examples 2 and 3 and Comparative Example 1, the conductive films were similarly patterned by photolithography to form ceramic green sheets. The peeling force of the conductive film-laminated ceramic green sheet obtained as described above from the PET film was evaluated by measuring the 90 ° peeling force in the same manner as in Experiment 1. The results are shown in Table 3 below.
Shown in

【0043】[0043]

【表3】 [Table 3]

【0044】表3から明らかなように導電膜積層セラミ
ックグリーンシートにおいても、離型剤層のピンホール
開口面積率を10%、30%、50%と変化させること
によりそのPETフィルムから剥離力を調節し得ること
がわかる。
As is clear from Table 3, in the ceramic green sheet laminated with the conductive film, the peeling force from the PET film was changed by changing the pinhole opening area ratio of the release agent layer to 10%, 30%, and 50%. It can be seen that it can be adjusted.

【0045】実験4 実験3で作成した導電膜積層セラミックグリーンシート
がPETフィルム上に支持されている実施例1〜3,比
較例1の導電膜積層セラミックグリーンシート供給帯を
用意した。
Experiment 4 The conductive film laminated ceramic green sheet supply zones of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 in which the conductive film laminated ceramic green sheets prepared in Experiment 3 were supported on a PET film were prepared.

【0046】実験3で用意したセラミックスラリーを用
い、導電膜を含まない厚み約100μmのグリーンシー
トを成形した。次に、該グリーンシートを所定の大きさ
の矩形形状となるように切断し、図6に示す矩形のセラ
ミックグリーンシート21を得た。グリーンシート21
上に実施例1の導電膜積層セラミックグリーンシート支
持体をセラミックグリーンシート16側からPETフィ
ルム11ごと熱圧着し、しかる後PETフィルム11を
剥離し、積層体を得た(なお、図6では離型剤は図示を
省略)。しかる後、コンデンサを構成するように、すな
わち積層コンデンサを構成し得るように新たな導電膜積
層セラミックグリーンシート支持体を上記のようにして
得た積層体上に熱圧着し、PETフィルムを剥離すると
いう工程を繰り返すことにより、所定の枚数の導電膜積
層セラミックグリーンシートを積層した。
Using the ceramic slurry prepared in Experiment 3, a green sheet having a thickness of about 100 μm and not containing a conductive film was formed. Next, the green sheet was cut into a rectangular shape having a predetermined size to obtain a rectangular ceramic green sheet 21 shown in FIG. Green sheet 21
The conductive film-laminated ceramic green sheet support of Example 1 was thermocompression-bonded together with the PET film 11 from the ceramic green sheet 16 side, and then the PET film 11 was peeled off to obtain a laminate. The mold is not shown). Thereafter, a new conductive film-laminated ceramic green sheet support is thermocompression-bonded onto the laminate obtained as described above so as to constitute a capacitor, that is, a laminated capacitor, and the PET film is peeled off. By repeating this step, a predetermined number of ceramic green sheets each having a conductive film were laminated.

【0047】さらに、導電膜を内蔵していない上記矩形
のセラミックグリーンシートを積層体上に圧着し、積層
体を得た。得られた積層体を個々の積層コンデンサを得
るように厚み方向に切断し、所定の条件で焼成し、内部
電極を形成することにより、積層コンデンサを得た。得
られた積層コンデンサを図7に示す。
Further, the rectangular ceramic green sheet having no built-in conductive film was pressed on the laminate to obtain a laminate. The obtained multilayer body was cut in the thickness direction so as to obtain individual multilayer capacitors, fired under predetermined conditions, and internal electrodes were formed to obtain multilayer capacitors. FIG. 7 shows the obtained multilayer capacitor.

【0048】図7において、31は積層コンデンサを示
し、該積層コンデンサ31は、上記積層体を焼成するこ
とにより得られた焼結体32を有する。焼結体32内に
は複数の内部電極33が形成されている。この複数の内
部電極33は、上述した導電膜14が焼結体32の焼結
に際し焼き付けられて内部電極として完成されているも
のである。また、34,35は外部電極を示す。
In FIG. 7, reference numeral 31 denotes a multilayer capacitor. The multilayer capacitor 31 has a sintered body 32 obtained by firing the above-mentioned multilayer body. A plurality of internal electrodes 33 are formed in the sintered body 32. The plurality of internal electrodes 33 are completed as internal electrodes by baking the above-described conductive film 14 during sintering of the sintered body 32. Reference numerals 34 and 35 denote external electrodes.

【0049】実施例2,3及び比較例1で用意した導電
膜積層セラミックグリーンシート支持体を用い、実施例
1の導電膜積層セラミックグリーンシート供給体を用い
た場合と同様にして、それぞれ、積層コンデンサを作成
した。得られた実施例1〜3及び比較例1の積層コンデ
ンサの静電容量、誘電損失、絶縁抵抗及び破壊電圧を測
定した。結果を下記の表4に示す。
Using the conductive film-laminated ceramic green sheet supports prepared in Examples 2 and 3 and Comparative Example 1, the lamination was performed in the same manner as in the case of using the conductive film-laminated ceramic green sheet supply of Example 1. A capacitor was made. The obtained multilayer capacitors of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 were measured for capacitance, dielectric loss, insulation resistance and breakdown voltage. The results are shown in Table 4 below.

【0050】[0050]

【表4】 [Table 4]

【0051】表4から明らかなように、実施例1〜3及
び比較例1の積層コンデンサにおいて、電気的特性に差
は生じておらず、また理論的に求めた値を満足している
ことが確かめられた。
As is clear from Table 4, in the multilayer capacitors of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1, there is no difference in the electrical characteristics, and the multilayer capacitors satisfy the theoretically determined values. I was assured.

【0052】上記実施例では、積層コンデンサを製造す
るに際し、本発明の導電膜積層セラミックグリーンシー
ト支持体を用いたが、本発明は積層コンデンサだけでな
く、セラミック多層基板や他のセラミック積層電子部品
の製造方法一般に用いることができる。また、請求項1
に記載の発明については、セラミック積層電子部品に限
らず、導電膜を合成樹脂基板上に転写する際にも用いる
ことができる。
In the above embodiment, the multilayer ceramic capacitor was manufactured by using the conductive green ceramic multilayer sheet support of the present invention. However, the present invention is not limited to the multilayer capacitor but also to a ceramic multilayer substrate and other ceramic multilayer electronic components. Can be generally used. Claim 1
The invention described in (1) can be used not only for ceramic laminated electronic components but also for transferring a conductive film onto a synthetic resin substrate.

【0053】[0053]

【発明の効果】請求項1,2に記載の発明では、離型剤
層がその開口面積率が1〜70%となるようにピンホー
ルを有し、該離型剤層により導電膜もしくは導電膜積層
セラミックグリーンシートが支持体と隔てられている。
従って、上記ピンホールの開口面積率を1〜70%の範
囲で調整することにより、導電膜あるいは導電膜積層セ
ラミックグリーンシートの支持体からの剥離力を適切な
大きさに調節することができる。
According to the first and second aspects of the present invention, the release agent layer has a pinhole so that the opening area ratio is 1 to 70%, and the release agent layer forms a conductive film or a conductive film. A film-laminated ceramic green sheet is separated from the support.
Therefore, by adjusting the opening area ratio of the pinhole in the range of 1 to 70%, the peeling force of the conductive film or the ceramic green sheet laminated with the conductive film from the support can be adjusted to an appropriate magnitude.

【0054】同様に、請求項3に記載の発明では、上記
開口面積率を有する離型剤層が形成された導電膜積層セ
ラミックグリーンシートが転写された積層体が構成され
るので、セラミックグリーンシートの厚みを8μm以下
と非常に薄くしていた場合においても、導電膜やセラミ
ックグリーンシートの支持体上での位置ずれや剥離が生
じ難く、かつ支持体からの剥離を円滑に行うことができ
るため、より小型のセラミック積層電子部品を得ること
ができる。
Similarly, according to the third aspect of the present invention, since a laminate is formed by transferring the conductive film laminated ceramic green sheet on which the release agent layer having the opening area ratio is formed, the ceramic green sheet is formed. Even when the thickness of the substrate is extremely thin, that is, 8 μm or less, the conductive film and the ceramic green sheet are less likely to be displaced or separated on the support, and can be smoothly separated from the support. Thus, a smaller ceramic laminated electronic component can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(a)及び(b)は、それぞれ、支持体及び支
持体上に形成された離型剤層の作用を説明するための斜
視図及び部分切欠断面図。
FIGS. 1 (a) and 1 (b) are a perspective view and a partially cutaway sectional view, respectively, for explaining the operation of a support and a release agent layer formed on the support.

【図2】(a)及び(b)は、実施例1としてPETフ
ィルム上にアルミナ粉末を付着させた状態及び離型剤を
塗布した状態を示す部分切欠断面図。
FIGS. 2A and 2B are partially cutaway sectional views showing a state in which alumina powder is adhered on a PET film and a state in which a release agent is applied as Example 1. FIG.

【図3】実施例1においてアルミナ粉末を除去した後の
状態を示す部分切欠断面図。
FIG. 3 is a partially cutaway sectional view showing a state after removing alumina powder in Example 1.

【図4】(a)及び(b)は、実施例1において、導電
膜を形成した状態並びに導電膜をパターニングした状態
を示す部分切欠断面図。
FIGS. 4A and 4B are partially cutaway sectional views showing a state in which a conductive film is formed and a state in which the conductive film is patterned in Example 1. FIGS.

【図5】実施例1において支持体上において導電膜上に
セラミックグリーンシートを積層した状態を示す部分切
欠断面図。
FIG. 5 is a partially cutaway cross-sectional view showing a state in which a ceramic green sheet is laminated on a conductive film on a support in Example 1.

【図6】実験3において、導電膜積層セラミックグリー
ンシートを積層する工程を説明するための部分切欠断面
図。
FIG. 6 is a partially cutaway cross-sectional view for explaining a step of laminating conductive film laminated ceramic green sheets in Experiment 3.

【図7】実験3において得られた積層コンデンサを示す
断面図。
FIG. 7 is a sectional view showing the multilayer capacitor obtained in Experiment 3.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…支持体 2…離型剤層 3…ピンホール 4…導電膜 11…支持体としてのPETフィルム 14…離型剤層 14a…ピンホール 15,15A…導電膜 16…セラミックグリーンシート DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Support 2 ... Release agent layer 3 ... Pinhole 4 ... Conductive film 11 ... PET film as a support 14 ... Release agent layer 14a ... Pinhole 15, 15A ... Conductive film 16 ... Ceramic green sheet

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 支持体と、 前記支持体上に形成されており、かつ開口面積率が1〜
70%となるように多数のピンホールが形成された離型
剤層と、 前記離型剤層の形成されている支持体面上に形成された
導電膜とを備えることを特徴とする、転写用導電膜供給
体。
1. A support, formed on the support, and having an opening area ratio of 1 to 1.
A transfer agent, comprising: a release agent layer having a large number of pinholes formed therein so as to be 70%; and a conductive film formed on a support surface on which the release agent layer is formed. Conductive film supplier.
【請求項2】 支持体と、 前記支持体上に形成されており、かつ開口面積率が1〜
70%となるように多数のピンホールが形成された離型
剤層と、 前記離型剤層の形成されている支持体面上に形成された
導電膜と、 前記導電膜上に積層されたセラミックグリーンシートと
を備える転写用導電膜積層セラミックグリーンシート供
給体。
2. A support, formed on the support, and having an opening area ratio of 1 to 2.
A release agent layer in which a number of pinholes are formed so as to be 70%, a conductive film formed on a support surface on which the release agent layer is formed, and a ceramic laminated on the conductive film A transfer conductive film laminated ceramic green sheet supplier comprising a green sheet.
【請求項3】 少なくとも一部が、請求項2に記載の導
電膜積層セラミックグリーンシート供給体から転写され
た導電膜積層セラミックグリーンシートであることを特
徴とする、導電膜内蔵セラミック積層体。
3. A ceramic laminate with a built-in conductive film, wherein at least a part of the ceramic laminate is a conductive green ceramic sheet transferred from the conductive ceramic green sheet supplier according to claim 2.
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