JP3132063B2 - トリエチレンジアミン類及びピペラジン類の製法 - Google Patents
トリエチレンジアミン類及びピペラジン類の製法Info
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、トリエチレンジアミン
類及びピペラジン類を高収率に製造するための触媒の改
良技術に関する。
類及びピペラジン類を高収率に製造するための触媒の改
良技術に関する。
【0002】
【従来の技術】アミン化合物を環化することにより、ト
リエチレンジアミンを製造することのできる触媒とし
て、ゼオライトが公知である。例えば、A型ゼオライト
を触媒として用い、N−(2−アミノエチル)ピペラジ
ンを原料とする製造法(特開昭50−58096号公
報)、少なくとも、アルミナに対するシリカのモル比2
0以上の組成比から成る高シリカゼオライトを触媒とし
て用い、N−(2−アミノエチル)ピペラジン、N−
(2−ヒドロキシエチル)ピペラジンを原料とする製造
法(特開昭60−260574号公報)、アルミナに対
するシリカのモル比が12以上の結晶性アルミノシリケ
−トを触媒として用い、モノエタノ−ルアミンやエチレ
ンジアミン等のエチレンアミン類を原料とする製造法
(特開昭62−228079号公報、特開昭63−12
2654号公報)、ペンタシル型ゼオライトを触媒とし
て用い、ピペラジン、エチレンジアミン、ジエチレント
リアミン、2−アミノエタノ−ルを原料とする製造法
(特開平1−132587号公報、特開平1−1438
64号公報)が開示されている。
リエチレンジアミンを製造することのできる触媒とし
て、ゼオライトが公知である。例えば、A型ゼオライト
を触媒として用い、N−(2−アミノエチル)ピペラジ
ンを原料とする製造法(特開昭50−58096号公
報)、少なくとも、アルミナに対するシリカのモル比2
0以上の組成比から成る高シリカゼオライトを触媒とし
て用い、N−(2−アミノエチル)ピペラジン、N−
(2−ヒドロキシエチル)ピペラジンを原料とする製造
法(特開昭60−260574号公報)、アルミナに対
するシリカのモル比が12以上の結晶性アルミノシリケ
−トを触媒として用い、モノエタノ−ルアミンやエチレ
ンジアミン等のエチレンアミン類を原料とする製造法
(特開昭62−228079号公報、特開昭63−12
2654号公報)、ペンタシル型ゼオライトを触媒とし
て用い、ピペラジン、エチレンジアミン、ジエチレント
リアミン、2−アミノエタノ−ルを原料とする製造法
(特開平1−132587号公報、特開平1−1438
64号公報)が開示されている。
【0003】これらの既知文献に記載されているゼオラ
イトは、通常空気雰囲気下600℃以下の温度で焼成処
理されたものが触媒として使用されている。これらの触
媒系で原料アミン化合物を高転化率に反応させた場合、
望ましくない分解反応、縮合反応等の副反応のためトリ
エチレンジアミン、特にピペラジンの選択率が低下する
という欠点を有している。特開昭50−58096号公
報では、N−(2−アミノエチル)ピペラジン転化率8
0%のときトリエチレンジアミン選択率55%、転化率
84%のとき選択率45%と低下している。即ち、原料
転化率が高くなるとともに、目的物の選択率が更なる低
下傾向を示している。特開昭60−260574号公報
では、N−(2−ヒドロキシエチル)ピペラジン転化率
21%のときトリエチレンジアミン選択率75%、ピペ
ラジン選択率17%、転化率72%のときトリエチレン
ジアミン選択率70%、ピペラジン選択率16%と顕著
な低下はないが、反応温度が極めて高く、触媒活性が著
しく低い。N−(2−アミノエチル)ピペラジン原料の
場合はトリエチレンジアミン選択率が50%以下と低
い。特開昭63−122654号公報では、モノエタノ
−ルアミン転化率86%のときトリエチレンジアミン選
択率79%、転化率100%のとき選択率53%まで低
下する。特開平1−143864号公報では、ジエチレ
ントリアミン転化率77%のときトリエチレンジアミン
選択率35%、ピペラジン選択率32%、転化率99%
のときトリエチレンジアミン選択率37%、ピペラジン
選択率24%とピペラジンの選択率が低下している。
イトは、通常空気雰囲気下600℃以下の温度で焼成処
理されたものが触媒として使用されている。これらの触
媒系で原料アミン化合物を高転化率に反応させた場合、
望ましくない分解反応、縮合反応等の副反応のためトリ
エチレンジアミン、特にピペラジンの選択率が低下する
という欠点を有している。特開昭50−58096号公
報では、N−(2−アミノエチル)ピペラジン転化率8
0%のときトリエチレンジアミン選択率55%、転化率
84%のとき選択率45%と低下している。即ち、原料
転化率が高くなるとともに、目的物の選択率が更なる低
下傾向を示している。特開昭60−260574号公報
では、N−(2−ヒドロキシエチル)ピペラジン転化率
21%のときトリエチレンジアミン選択率75%、ピペ
ラジン選択率17%、転化率72%のときトリエチレン
ジアミン選択率70%、ピペラジン選択率16%と顕著
な低下はないが、反応温度が極めて高く、触媒活性が著
しく低い。N−(2−アミノエチル)ピペラジン原料の
場合はトリエチレンジアミン選択率が50%以下と低
い。特開昭63−122654号公報では、モノエタノ
−ルアミン転化率86%のときトリエチレンジアミン選
択率79%、転化率100%のとき選択率53%まで低
下する。特開平1−143864号公報では、ジエチレ
ントリアミン転化率77%のときトリエチレンジアミン
選択率35%、ピペラジン選択率32%、転化率99%
のときトリエチレンジアミン選択率37%、ピペラジン
選択率24%とピペラジンの選択率が低下している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記のようにトリエチ
レンジアミンの製造に用いられる触媒は、通常空気雰囲
気下600℃以下の温度で焼成処理された結晶性アルミ
ノシリケ−トであって、これらの一般的な焼成条件で処
理された触媒をトリエチレンジアミンやピペラジンの製
造触媒として供した場合、以下のような問題点を有す
る。原料転化率を高くすると、トリエチレンジアミ
ン、ピペラジンの選択率が低下傾向にある。原料転化率
を高くしても、トリエチレンジアミン、ピペラジンの選
択率が低下しない系においては、目的とするトリエチレ
ンジアミン選択率の絶対値が低い。原料転化率を90
%以上にし、原料を回収しないプロセスを考えた場合、
上記触媒系では、トリエチレンジアミン、ピペラジンの
選択率が各れも満足するに足る十分な値が達成されてい
ない。このようなことから、高活性で、尚且つ、高転化
率においてもトリエチレンジアミン、ピペラジンを高選
択的に製造しうる触媒が切望されている。
レンジアミンの製造に用いられる触媒は、通常空気雰囲
気下600℃以下の温度で焼成処理された結晶性アルミ
ノシリケ−トであって、これらの一般的な焼成条件で処
理された触媒をトリエチレンジアミンやピペラジンの製
造触媒として供した場合、以下のような問題点を有す
る。原料転化率を高くすると、トリエチレンジアミ
ン、ピペラジンの選択率が低下傾向にある。原料転化率
を高くしても、トリエチレンジアミン、ピペラジンの選
択率が低下しない系においては、目的とするトリエチレ
ンジアミン選択率の絶対値が低い。原料転化率を90
%以上にし、原料を回収しないプロセスを考えた場合、
上記触媒系では、トリエチレンジアミン、ピペラジンの
選択率が各れも満足するに足る十分な値が達成されてい
ない。このようなことから、高活性で、尚且つ、高転化
率においてもトリエチレンジアミン、ピペラジンを高選
択的に製造しうる触媒が切望されている。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、トリエチ
レンジアミン類及びピペラジン類の製造法を鋭意検討し
た結果、該反応において、無機塩が担持された結晶性ア
ルミノシリケ−トが触媒として高活性であり、尚且つ、
高転化率においてもトリエチレンジアミン類及びピペラ
ジン類を高選択的に製造しうるという新規な事実を見出
だし、本発明を完成するに至った。
レンジアミン類及びピペラジン類の製造法を鋭意検討し
た結果、該反応において、無機塩が担持された結晶性ア
ルミノシリケ−トが触媒として高活性であり、尚且つ、
高転化率においてもトリエチレンジアミン類及びピペラ
ジン類を高選択的に製造しうるという新規な事実を見出
だし、本発明を完成するに至った。
【0006】即ち本発明は、無機塩を担持させた結晶性
アルミノシリケ−トを触媒とし、分子内に一般式(I)
アルミノシリケ−トを触媒とし、分子内に一般式(I)
【0007】
【化2】 [式中、R1〜R4はそれぞれ水素原子あるいは炭素数
1〜3のアルキル基を示す。]で表される基を有するア
ミン化合物を原料とするトリエチレンジアミン類及びピ
ペラジン類の製法を提供するものである。
1〜3のアルキル基を示す。]で表される基を有するア
ミン化合物を原料とするトリエチレンジアミン類及びピ
ペラジン類の製法を提供するものである。
【0008】以下に、本発明を更に詳しく説明する。
【0009】本発明の方法において触媒として用いる結
晶性アルミノシリケ−トは、アルミナに対するシリカの
モル比12以上、好ましくは40〜5000のものであ
る。ここで、アルミナに対するシリカのモル比が12未
満のものであると、トリエチレンジアミン類の選択率が
低下し好ましくない。また、アルミナに対するシリカの
モル比が5000以上であると、触媒活性がかなり低下
するため実用的でない。
晶性アルミノシリケ−トは、アルミナに対するシリカの
モル比12以上、好ましくは40〜5000のものであ
る。ここで、アルミナに対するシリカのモル比が12未
満のものであると、トリエチレンジアミン類の選択率が
低下し好ましくない。また、アルミナに対するシリカの
モル比が5000以上であると、触媒活性がかなり低下
するため実用的でない。
【0010】本発明の方法における結晶性アルミノシリ
ケ−トは、アルミナに対するシリカのモル比が上述の条
件を満たせば良く特に制限はないが、酸素10員環の主
空洞を有するものが好ましい。このような結晶性アルミ
ノシリケ−トの具体例としては、米国特許第3,70
2,886号に記載されているZSM−5、米国特許第
1,334,243号に記載されているZSM−8、米
国特許第3,709,979号に記載されているZSM
−11、米国特許第3,832,449号に記載されて
いるZSM−12、米国特許第4,001,346号に
記載されているZSM−21等がある。
ケ−トは、アルミナに対するシリカのモル比が上述の条
件を満たせば良く特に制限はないが、酸素10員環の主
空洞を有するものが好ましい。このような結晶性アルミ
ノシリケ−トの具体例としては、米国特許第3,70
2,886号に記載されているZSM−5、米国特許第
1,334,243号に記載されているZSM−8、米
国特許第3,709,979号に記載されているZSM
−11、米国特許第3,832,449号に記載されて
いるZSM−12、米国特許第4,001,346号に
記載されているZSM−21等がある。
【0011】本発明の方法においては、水熱合成により
結晶性アルミノシリケ−トを生成する際に、有機結晶化
剤の存在下、非存在下のいずれで水熱合成しても良い。
結晶性アルミノシリケ−トを生成する際に、有機結晶化
剤の存在下、非存在下のいずれで水熱合成しても良い。
【0012】本発明の方法においては、結晶性アルミノ
シリケ−トは、H型に限定されず、水素イオンの一部も
しくは全部が他の陽イオン、例えばリチウムイオン、ナ
トリウムイオン、セシウムイオン、カリウムイオン、マ
グネシウムイオン、カルシウムイオン、ランタンイオン
等で交換されたものでも一向に差支えない。
シリケ−トは、H型に限定されず、水素イオンの一部も
しくは全部が他の陽イオン、例えばリチウムイオン、ナ
トリウムイオン、セシウムイオン、カリウムイオン、マ
グネシウムイオン、カルシウムイオン、ランタンイオン
等で交換されたものでも一向に差支えない。
【0013】本発明の方法においては、触媒は無機塩が
担持された結晶性アルミノシリケ−トであり、結晶性ア
ルミノシリケ−トへの無機塩の担持処理は焼成前、ある
いは焼成後のいずれで行っても良い。無機塩の担持は、
粉末あるいは成型品へ含浸するか、あるいは成型時に粉
末のまま混合する等の方法で行うことができ、無機塩の
担持方法は、特に限定されるものではない。
担持された結晶性アルミノシリケ−トであり、結晶性ア
ルミノシリケ−トへの無機塩の担持処理は焼成前、ある
いは焼成後のいずれで行っても良い。無機塩の担持は、
粉末あるいは成型品へ含浸するか、あるいは成型時に粉
末のまま混合する等の方法で行うことができ、無機塩の
担持方法は、特に限定されるものではない。
【0014】本発明において担持される無機塩は、アル
カリ金属又はアルカリ土類金属の塩化物、硫酸塩、硝酸
塩又はリン酸塩等であるが、好ましくは、アルカリ土類
金属よりもアルカリ金属の方が良い。無機塩の担持量
は、結晶性アルミノシリケ−トの種類、アルミナに対す
るシリカのモル比等により異なるが、通常、2〜50w
t%、好ましくは、5〜30wt%の範囲で担持すれば
良い。担持量が2wt%未満であると、無機塩を担持処
理した効果が小さく、目的物であるトリエチレンジアミ
ン、ピペラジンへの選択率が低い。また、担持量が50
wt%を越えると、触媒活性がかなり低下するため実用
的でない。
カリ金属又はアルカリ土類金属の塩化物、硫酸塩、硝酸
塩又はリン酸塩等であるが、好ましくは、アルカリ土類
金属よりもアルカリ金属の方が良い。無機塩の担持量
は、結晶性アルミノシリケ−トの種類、アルミナに対す
るシリカのモル比等により異なるが、通常、2〜50w
t%、好ましくは、5〜30wt%の範囲で担持すれば
良い。担持量が2wt%未満であると、無機塩を担持処
理した効果が小さく、目的物であるトリエチレンジアミ
ン、ピペラジンへの選択率が低い。また、担持量が50
wt%を越えると、触媒活性がかなり低下するため実用
的でない。
【0015】本発明の方法においては、触媒の焼成は、
空気雰囲気下で行っても、水蒸気雰囲気下で行っても良
い。焼成条件は、結晶性アルミノシリケ−トの種類、ア
ルミナに対するシリカのモル比等により異なるが、通
常、500〜900℃、好ましくは、550〜850℃
の温度で、1時間以上、好ましくは3時間以上焼成処理
すれば良い。焼成温度が500℃未満であると、目的物
であるトリエチレンジアミン類、ピペラジン類の選択率
が低下する。また、焼成温度が900℃以上であると、
結晶性アルミノシリケ−トの結晶性が低下し、比表面積
が小さくなり、触媒活性が低下する。
空気雰囲気下で行っても、水蒸気雰囲気下で行っても良
い。焼成条件は、結晶性アルミノシリケ−トの種類、ア
ルミナに対するシリカのモル比等により異なるが、通
常、500〜900℃、好ましくは、550〜850℃
の温度で、1時間以上、好ましくは3時間以上焼成処理
すれば良い。焼成温度が500℃未満であると、目的物
であるトリエチレンジアミン類、ピペラジン類の選択率
が低下する。また、焼成温度が900℃以上であると、
結晶性アルミノシリケ−トの結晶性が低下し、比表面積
が小さくなり、触媒活性が低下する。
【0016】本発明の方法においては、触媒の形状に制
限はなく、反応形式に応じて粉末のまま、あるいは成型
して用いられる。例えば、懸濁床では粉末、顆粒状で用
いられ、固定床ではタブレット状、ビーズ状、棒柱状に
成型して用いられる。
限はなく、反応形式に応じて粉末のまま、あるいは成型
して用いられる。例えば、懸濁床では粉末、顆粒状で用
いられ、固定床ではタブレット状、ビーズ状、棒柱状に
成型して用いられる。
【0017】触媒の成型方法としては、例えば押し出し
成型法、打錠成型法、顆粒成型法等があり、成型する際
にはシリカ、アルミナ、シリカ−アルミナ、粘土等を粘
結剤として加えても良い。
成型法、打錠成型法、顆粒成型法等があり、成型する際
にはシリカ、アルミナ、シリカ−アルミナ、粘土等を粘
結剤として加えても良い。
【0018】本発明の方法に用いる原料化合物は、分子
内に前記一般式(I)で表される基を有するアミン化合
物であればよく、様々なものがあげられる。例えばモノ
エタノ−ルアミン、ジエタノ−ルアミン、イソプロパノ
−ルアミン、ジイソプロパノ−ルアミン、N−(2−ア
ミノエチル)エタノ−ルアミン、N−(2−ヒドロキシ
エチル)ピペラジン、N,N´−ビス(2−ヒドロキシ
エチル)ピペラジン、N−(2−アミノエチル)ピペラ
ジン、N,N´−ビス(2−アミノエチル)ピペラジ
ン、ピペラジン、エチレンジアミン、ジエチレントリア
ミンあるいはトリエチレンテトラミン等である。
内に前記一般式(I)で表される基を有するアミン化合
物であればよく、様々なものがあげられる。例えばモノ
エタノ−ルアミン、ジエタノ−ルアミン、イソプロパノ
−ルアミン、ジイソプロパノ−ルアミン、N−(2−ア
ミノエチル)エタノ−ルアミン、N−(2−ヒドロキシ
エチル)ピペラジン、N,N´−ビス(2−ヒドロキシ
エチル)ピペラジン、N−(2−アミノエチル)ピペラ
ジン、N,N´−ビス(2−アミノエチル)ピペラジ
ン、ピペラジン、エチレンジアミン、ジエチレントリア
ミンあるいはトリエチレンテトラミン等である。
【0019】本発明の方法においては、反応は気相で行
っても液相で行っても良い。
っても液相で行っても良い。
【0020】本発明の方法においては、反応は懸濁床に
よる回分、半回分、連続式でも、また固定床流通式でも
実施できるが、工業的には、固定床流通式が操作、装
置、経済性の面から有利である。
よる回分、半回分、連続式でも、また固定床流通式でも
実施できるが、工業的には、固定床流通式が操作、装
置、経済性の面から有利である。
【0021】本発明の方法においては、希釈剤として窒
素ガス、水素ガス、アンモニアガス、水蒸気、炭化水素
等の不活性ガス、あるいは水や不活性な炭化水素等の不
活性溶媒を用いて、原料であるアミン化合物を希釈し、
反応を進行させることができる。これらの希釈剤は任意
の量で使用できるが、通常はアミン化合物/希釈剤のモ
ル比は0.01〜1とすべきである。モル比0.01以
下ではトリエチレンジアミン類、ピペラジン類の生産性
が低く実用的ではない。また、モル比1以上ではトリエ
チレンジアミン類、ピペラジン類への選択性が低下す
る。
素ガス、水素ガス、アンモニアガス、水蒸気、炭化水素
等の不活性ガス、あるいは水や不活性な炭化水素等の不
活性溶媒を用いて、原料であるアミン化合物を希釈し、
反応を進行させることができる。これらの希釈剤は任意
の量で使用できるが、通常はアミン化合物/希釈剤のモ
ル比は0.01〜1とすべきである。モル比0.01以
下ではトリエチレンジアミン類、ピペラジン類の生産性
が低く実用的ではない。また、モル比1以上ではトリエ
チレンジアミン類、ピペラジン類への選択性が低下す
る。
【0022】アミン化合物の反応は、アミン化合物を上
述の結晶性アルミノシリケ−トから成る触媒と接触させ
ることにより進行し、この際の反応温度、空間速度等の
条件は結晶性アルミノシリケ−トの種類、アミン化合物
の種類により異なり、一義的に決められないが、通常は
反応温度250〜450℃、空間速度(GHSV)10
0〜10000hr−1の範囲で選定すればよい。
述の結晶性アルミノシリケ−トから成る触媒と接触させ
ることにより進行し、この際の反応温度、空間速度等の
条件は結晶性アルミノシリケ−トの種類、アミン化合物
の種類により異なり、一義的に決められないが、通常は
反応温度250〜450℃、空間速度(GHSV)10
0〜10000hr−1の範囲で選定すればよい。
【0023】本発明の方法においては、通常大気圧下で
反応を行えばよいが、加圧下、減圧下で行うこともでき
る。
反応を行えばよいが、加圧下、減圧下で行うこともでき
る。
【0024】本発明の方法で用いる触媒は、反応に供す
ることにより活性低下を招いたとしても、適時、再生の
ための焼成操作を行うことにより、高活性の触媒として
繰り返し使用することができる。
ることにより活性低下を招いたとしても、適時、再生の
ための焼成操作を行うことにより、高活性の触媒として
繰り返し使用することができる。
【0025】
【実施例】以下、本発明を具体的に実施例にて説明する
が本発明はこれら実施例にのみ特に限定されるものでは
ない。
が本発明はこれら実施例にのみ特に限定されるものでは
ない。
【0026】触媒製造例1 粉末ZSM−5型ゼオライト(東ソ−(株)製860N
HA、シリカ/アルミナモル比72)に23.1wt%
の硫酸ナトリウムを含浸させた。その後、打錠成型し、
空気雰囲気下650℃、4時間焼成し、ZSM−5
(1)を得た。
HA、シリカ/アルミナモル比72)に23.1wt%
の硫酸ナトリウムを含浸させた。その後、打錠成型し、
空気雰囲気下650℃、4時間焼成し、ZSM−5
(1)を得た。
【0027】触媒製造例2 触媒製造例1において、硫酸ナトリウムの含浸量を9.
1wt%に変えてZSM−5(2)を得た。
1wt%に変えてZSM−5(2)を得た。
【0028】触媒製造例3 触媒製造例1において、9.1wt%の塩化ナトリウム
を含浸させたこと以外は触媒製造例1と同様な操作を行
い、ZSM−5(3)を得た。
を含浸させたこと以外は触媒製造例1と同様な操作を行
い、ZSM−5(3)を得た。
【0029】触媒製造例4 触媒製造例1において、26.9wt%の硫酸カリウム
を含浸させたこと以外は触媒製造例1と同様な操作を行
い、ZSM−5(4)を得た。
を含浸させたこと以外は触媒製造例1と同様な操作を行
い、ZSM−5(4)を得た。
【0030】触媒製造例5 粉末ZSM−5型ゼオライト(東ソ−(株)製860N
HA、シリカ/アルミナモル比72)に9.1wt%の
硫酸ナトリウムを粉末状で均一に混合し、打錠成型し
た。その後、空気雰囲気下650℃、4時間焼成し、Z
SM−5(5)を得た。
HA、シリカ/アルミナモル比72)に9.1wt%の
硫酸ナトリウムを粉末状で均一に混合し、打錠成型し
た。その後、空気雰囲気下650℃、4時間焼成し、Z
SM−5(5)を得た。
【0031】触媒製造例6 粉末ZSM−5型ゼオライト(東ソ−(株)製860N
HA、シリカ/アルミナモル比72)を打錠成型し、空
気雰囲気下650℃、4時間焼成し、ZSM−5(6)
を得た。
HA、シリカ/アルミナモル比72)を打錠成型し、空
気雰囲気下650℃、4時間焼成し、ZSM−5(6)
を得た。
【0032】実施例1 固定床流通式反応管に、触媒製造例1で得られたH型Z
SM−5(1)を充填し、温度を350℃に維持しなが
ら、N−(2−アミノエチル)ピペラジンと水との混合
物(N−(2−アミノエチル)ピペラジン/水(モル
比)=5/95)をGHSV1000hr−1にて供給
した。反応液をガスクロマトグラフィ−で分析した結
果、原料の転化率64.8%、トリエチレンジアミンの
選択率51.4%、ピペラジンの選択率35.0%であ
った。
SM−5(1)を充填し、温度を350℃に維持しなが
ら、N−(2−アミノエチル)ピペラジンと水との混合
物(N−(2−アミノエチル)ピペラジン/水(モル
比)=5/95)をGHSV1000hr−1にて供給
した。反応液をガスクロマトグラフィ−で分析した結
果、原料の転化率64.8%、トリエチレンジアミンの
選択率51.4%、ピペラジンの選択率35.0%であ
った。
【0033】実施例2 反応温度を370℃に代えた以外、実施例1と同様な操
作で反応させた。その結果、原料の転化率97.4%、
トリエチレンジアミンの選択率62.4%、ピペラジン
の選択率26.2%であった。
作で反応させた。その結果、原料の転化率97.4%、
トリエチレンジアミンの選択率62.4%、ピペラジン
の選択率26.2%であった。
【0034】実施例3〜10 触媒としてZSM−5(2)〜(5)を用い、反応温度
を表1のように変えた以外、実施例1と同様な操作で反
応を実施した。その結果を表1に示した。
を表1のように変えた以外、実施例1と同様な操作で反
応を実施した。その結果を表1に示した。
【0035】実施例11 原料アミンとして、トリエチレンテトラミンを用い、反
応温度を380℃に変えた以外、実施例1と同様な操作
で反応を実施した。その結果を表1に示した。
応温度を380℃に変えた以外、実施例1と同様な操作
で反応を実施した。その結果を表1に示した。
【0036】比較例1、2 触媒としてZSM−5(6)を用い、反応温度を表1の
ように変えた以外、実施例1と同様な操作で反応を実施
した。その結果を表1に示した。
ように変えた以外、実施例1と同様な操作で反応を実施
した。その結果を表1に示した。
【0037】比較例3 触媒としてZSM−5(6)を用い、反応温度を365
℃に変えた以外、実施例11と同様な操作で反応を実施
した。その結果を表1に示した。
℃に変えた以外、実施例11と同様な操作で反応を実施
した。その結果を表1に示した。
【表1】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI C07D 487/18 C07D 487/18 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 295/00 - 295/32 B01J 27/055 B01J 27/10 B01J 29/06 CA(STN) REGISTRY(STN)
Claims (1)
- 【請求項1】 モノエタノールアミン、ジエタノールア
ミン、N−(2−アミノエチル)エタノールアミン、N
−(2−ヒドロキシエチル)ピペラジン、N,N’−ビ
ス(2−ヒドロキシエチル)ピペラジン、N−(2−ア
ミノエチル)ピペラジン、N,N’−ビス(2−アミノ
エチル)ピペラジン、ピペラジン、エチレンジアミン、
ジエチレントリアミン及びトリエチレンテトラミンから
なる群より選ばれるアミン化合物を、アルカリ金属又は
アルカリ土類金属の塩化物、硫酸塩、硝酸塩及びリン酸
塩からなる群より選ばれる無機塩が担持された、アルミ
ナに対するシリカのモル比12以上の結晶性アルミノシ
リケート触媒の存在下で反応させることを特徴とするト
リエチレンジアミン及びピペラジンの製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP03187082A JP3132063B2 (ja) | 1991-07-02 | 1991-07-02 | トリエチレンジアミン類及びピペラジン類の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP03187082A JP3132063B2 (ja) | 1991-07-02 | 1991-07-02 | トリエチレンジアミン類及びピペラジン類の製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0517462A JPH0517462A (ja) | 1993-01-26 |
JP3132063B2 true JP3132063B2 (ja) | 2001-02-05 |
Family
ID=16199815
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP03187082A Expired - Fee Related JP3132063B2 (ja) | 1991-07-02 | 1991-07-02 | トリエチレンジアミン類及びピペラジン類の製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3132063B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102009027791A1 (de) | 2009-07-17 | 2011-01-27 | Basf Se | Zusammensetzung enthaltend Triethylendiamin, Monethylenglykol und Borhydrid |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5756741A (en) * | 1996-11-15 | 1998-05-26 | Air Products And Chemicals, Inc. | Process for the production of triethylenediamine |
DE10356184A1 (de) | 2003-12-02 | 2005-07-07 | Basf Ag | Zeolithisches Material vom Pentasil-Strukturtyp, seine Herstellung und seine Verwendung |
DE102004029544A1 (de) | 2004-06-18 | 2006-01-05 | Basf Ag | Formkörper enthaltend ein mikroporöses Material und mindestens ein siliciumhaltiges Bindemittel, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung als Katalysator, insbesondere in einem Verfahren zur Herstellung von Triethylendiamin (TEDA) |
CN113443637B (zh) * | 2021-06-02 | 2022-07-01 | 大连理工大学 | 一种双酸中心的沸石分子筛及其制备方法和应用 |
-
1991
- 1991-07-02 JP JP03187082A patent/JP3132063B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102009027791A1 (de) | 2009-07-17 | 2011-01-27 | Basf Se | Zusammensetzung enthaltend Triethylendiamin, Monethylenglykol und Borhydrid |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0517462A (ja) | 1993-01-26 |
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