JP3128814B2 - レーザ光を利用した位置決め装置用反射鏡 - Google Patents
レーザ光を利用した位置決め装置用反射鏡Info
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- JP3128814B2 JP3128814B2 JP02268118A JP26811890A JP3128814B2 JP 3128814 B2 JP3128814 B2 JP 3128814B2 JP 02268118 A JP02268118 A JP 02268118A JP 26811890 A JP26811890 A JP 26811890A JP 3128814 B2 JP3128814 B2 JP 3128814B2
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- Japan
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- mirror
- positioning device
- stage
- laser light
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は半導体ウェハに微細加工を施す場合等に用い
る位置決め装置用の反射鏡に関する。
る位置決め装置用の反射鏡に関する。
（従来の技術） 半導体ウェハにフォトリソグラフィ技術により微細加
工を施す場合等に従来からレーザ光を利用した位置決め
装置が用いられている。
工を施す場合等に従来からレーザ光を利用した位置決め
装置が用いられている。
この位置決め装置の原理は第２図に示すように、光源
50からでたレーザ光51をビームスプリッタ52で２方向に
分け、一方のレーザ光を固定鏡53に向わせ、他方のレー
ザ光を移動鏡54に向わせ、これら固定鏡53及び移動鏡54
からの反射光の干渉により移動鏡54の位置を検出器55で
検出するようにしたものである。
50からでたレーザ光51をビームスプリッタ52で２方向に
分け、一方のレーザ光を固定鏡53に向わせ、他方のレー
ザ光を移動鏡54に向わせ、これら固定鏡53及び移動鏡54
からの反射光の干渉により移動鏡54の位置を検出器55で
検出するようにしたものである。
（発明が解決しようとする課題） 上述した従来の位置決め装置にあっては、半導体ウェ
ハを載置するステージに移動鏡を取付けるようにしてい
るが、移動鏡の構造は母材としてのガラス板の表面に反
射率を向上させるための各種コーティングを施したもの
となっている。
ハを載置するステージに移動鏡を取付けるようにしてい
るが、移動鏡の構造は母材としてのガラス板の表面に反
射率を向上させるための各種コーティングを施したもの
となっている。
このように従来にあっては、移動鏡はガラス板を母材
としているため剛性が十分ではなく、特に最近では超LS
Iの開発に伴なう微細化の要求により装置は大型化し、
移動鏡としても長さが400mmを超えるものが必要とさ
れ、剛性不足が顕著になってきている。また、剛性を高
めるためにセラミックからなるものの利用も試みられた
が、セラミック表面にはポアが多く十分な反射率を得ら
れなかった。
としているため剛性が十分ではなく、特に最近では超LS
Iの開発に伴なう微細化の要求により装置は大型化し、
移動鏡としても長さが400mmを超えるものが必要とさ
れ、剛性不足が顕著になってきている。また、剛性を高
めるためにセラミックからなるものの利用も試みられた
が、セラミック表面にはポアが多く十分な反射率を得ら
れなかった。
（課題を解決するための手段） 上記課題を解決すべく本発明は、レーザ光の干渉を利
用した位置決め装置用反射鏡において、半導体ウェハ等
を載置するステージに取付けた移動鏡の構造を、セラミ
ック焼結体からなる母材の一面にその表面が研磨加工さ
れたセラミック薄膜を形成したものとした。
用した位置決め装置用反射鏡において、半導体ウェハ等
を載置するステージに取付けた移動鏡の構造を、セラミ
ック焼結体からなる母材の一面にその表面が研磨加工さ
れたセラミック薄膜を形成したものとした。
（作用） 鋳込み成形、押出し成形或いはラバープレスなどによ
り所定寸法のセラミック成形体を得た後、このセラミッ
ク成形体を焼成し、次いで焼成後のセラミック成形体の
一面を研削し、この研削した面にCVD等によってセラミ
ック薄膜を形成し、このセラミック薄膜の表面をラップ
加工する。
り所定寸法のセラミック成形体を得た後、このセラミッ
ク成形体を焼成し、次いで焼成後のセラミック成形体の
一面を研削し、この研削した面にCVD等によってセラミ
ック薄膜を形成し、このセラミック薄膜の表面をラップ
加工する。
（実施例） 以下に本発明の実施例を添付図面に基いて説明する。
第１図は本発明に係る位置決め装置の全体斜視図であ
り、位置決め装置はテーブル１の上面にＹ方向の溝２を
形成し、この溝２にテーブル３の下面に設けた突部４を
係合し、シリンダユニット等の図示しない移動機構によ
ってテーブル３がＹ方向に往復動するようにしている。
またテーブル３の上面にはＸ方向の溝５を形成し、この
溝５に半導体ウェハＷを載置するステージ６下面に形成
した突部７を係合し、シリンダユニット等によってステ
ージ６がＸ方向に往復動するようにしている。
り、位置決め装置はテーブル１の上面にＹ方向の溝２を
形成し、この溝２にテーブル３の下面に設けた突部４を
係合し、シリンダユニット等の図示しない移動機構によ
ってテーブル３がＹ方向に往復動するようにしている。
またテーブル３の上面にはＸ方向の溝５を形成し、この
溝５に半導体ウェハＷを載置するステージ６下面に形成
した突部７を係合し、シリンダユニット等によってステ
ージ６がＸ方向に往復動するようにしている。
またステージ６の側面には移動鏡8a,8bを取付け、ス
テージ６から離れ且つ移動鏡8a,8bに対向する位置には
それぞれ光源9a,9b、ビームスプリッタ10a,10b、固定鏡
11a,11b及び検出器12a,12bを配置している。
テージ６から離れ且つ移動鏡8a,8bに対向する位置には
それぞれ光源9a,9b、ビームスプリッタ10a,10b、固定鏡
11a,11b及び検出器12a,12bを配置している。
そして、前記移動鏡8a,8bはセラミック製としてい
る。具体的には泥漿鋳込み成形、押出し成形或いはラバ
ープレス成形等によってアルミナ等を主成分とするセラ
ミック成形体を成形し、次いで、このセラミック成形体
を1500℃〜1700℃で焼結し、この後セラミック焼結体の
表面（レーザ光が反射する側の面）をダイヤモンド砥石
で研削する。
る。具体的には泥漿鋳込み成形、押出し成形或いはラバ
ープレス成形等によってアルミナ等を主成分とするセラ
ミック成形体を成形し、次いで、このセラミック成形体
を1500℃〜1700℃で焼結し、この後セラミック焼結体の
表面（レーザ光が反射する側の面）をダイヤモンド砥石
で研削する。
而る後、前記研削面に化学蒸着、真空蒸着等によって
窒化チタン（TiN）、炭化チタン（TiC）アルミナ（Al2O
3）等の膜を10μｍ〜50μｍの厚さで形成する。
窒化チタン（TiN）、炭化チタン（TiC）アルミナ（Al2O
3）等の膜を10μｍ〜50μｍの厚さで形成する。
このようにして、セラミック薄膜を形成したならば、
セラミック薄膜の表面を銅板上で0.25μｍのダイヤ遊離
砥粒でラップ加工（研磨）する。研磨の度合いは表面粗
さ（Ra）0.01μｍ程度となる位まで行なう。
セラミック薄膜の表面を銅板上で0.25μｍのダイヤ遊離
砥粒でラップ加工（研磨）する。研磨の度合いは表面粗
さ（Ra）0.01μｍ程度となる位まで行なう。
以上において、前記した検出原理により、移動鏡8a,
光源9a,ビームスプリッタ10a,固体鏡11a,及び検出器12a
によってステージ６のＸ方向の位置を検出し、移動鏡8
b,光源9b,ビームスプリッタ10b,固定鏡11b,及び検出器1
2bによってステージ６のＹ方向の位置を検出する。
光源9a,ビームスプリッタ10a,固体鏡11a,及び検出器12a
によってステージ６のＸ方向の位置を検出し、移動鏡8
b,光源9b,ビームスプリッタ10b,固定鏡11b,及び検出器1
2bによってステージ６のＹ方向の位置を検出する。
尚、実施例にあってはステージの側面に別体として作
成した移動鏡を取付けるようにしたが、ステージ自体を
母材とし、直接ステージの側面にセラミック薄膜を形成
してもよい。
成した移動鏡を取付けるようにしたが、ステージ自体を
母材とし、直接ステージの側面にセラミック薄膜を形成
してもよい。
また固定鏡に関しても移動鏡と同様にセラミック母材
の表面にCVD等によってセラミック薄膜を形成してもよ
い。
の表面にCVD等によってセラミック薄膜を形成してもよ
い。
（効果） 以上に説明したように本発明によれば、レーザ光の干
渉を利用した位置決め装置において、半導体ウェハ等を
載置するステージに取付けた移動鏡の構造を、セラミッ
ク焼結体からなる母材の一面にその表面が研磨加工され
たセラミック薄膜を形成したので、移動鏡の剛性が高ま
り位置決め精度を高くすることに伴う装置全体の大型化
に十分に対応できるとともに、十分な反射率を確保でき
る位置決め装置用反射鏡を提供できる。
渉を利用した位置決め装置において、半導体ウェハ等を
載置するステージに取付けた移動鏡の構造を、セラミッ
ク焼結体からなる母材の一面にその表面が研磨加工され
たセラミック薄膜を形成したので、移動鏡の剛性が高ま
り位置決め精度を高くすることに伴う装置全体の大型化
に十分に対応できるとともに、十分な反射率を確保でき
る位置決め装置用反射鏡を提供できる。
第１図は本発明に係る位置決め装置の全体斜視図、第２
図はレーザ光を利用した位置決め装置の原理を説明した
図である。 尚、図面中、1,3はテーブル、６はステージ、8a,8bは移
動鏡、9a,9bは光源、10a,10bはビームスプリッタ、11a,
11bは固定鏡、12a,12bは検出器である。
図はレーザ光を利用した位置決め装置の原理を説明した
図である。 尚、図面中、1,3はテーブル、６はステージ、8a,8bは移
動鏡、9a,9bは光源、10a,10bはビームスプリッタ、11a,
11bは固定鏡、12a,12bは検出器である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−113104（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−257102（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−291194（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G11B 9/00 - 11/30 102 G02B 5/00 - 5/136
Claims (1)
- 【請求項１】光源から出たレーザ光をビームスプリッタ
にて２方向に分け、一方のレーザ光を固定鏡に向かわ
せ、他方のレーザ光をステージに設けた移動鏡に向かわ
せ、これら固定鏡及び移動鏡からの反射光の干渉により
ステージの位置を検出するようにした位置決め装置用反
射鏡において、少なくとも前記移動鏡はアルミナ焼結体
からなる母材の一面にその表面が研磨加工されたアルミ
ナ、炭化チタン、窒化チタンのうちのいずれかのセラミ
ック薄膜を10μｍ〜50μｍの膜厚で形成してなることを
特徴とするレーザ光を利用した位置決め装置用反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02268118A JP3128814B2 (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | レーザ光を利用した位置決め装置用反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02268118A JP3128814B2 (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | レーザ光を利用した位置決め装置用反射鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04143604A JPH04143604A (ja) | 1992-05-18 |
| JP3128814B2 true JP3128814B2 (ja) | 2001-01-29 |
Family
ID=17454142
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02268118A Expired - Lifetime JP3128814B2 (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | レーザ光を利用した位置決め装置用反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3128814B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100736485B1 (ko) * | 2001-04-30 | 2007-07-06 | 엘지전자 주식회사 | 투사형 표시 시스템의 램프 위치 조정 장치 및 방법 |
| JP4625882B2 (ja) * | 2005-07-19 | 2011-02-02 | Ｄｏｗａサーモテック株式会社 | 打錠用杵 |
| WO2014099278A1 (en) * | 2012-12-19 | 2014-06-26 | Thermo Electron Scientific Instruments Llc | All-graphite interferometer bearing assembly |
| JP6715616B2 (ja) * | 2016-02-19 | 2020-07-01 | 日本特殊陶業株式会社 | 位置決めステージ用のテーブルおよびこれを用いた位置決め方法 |
-
1990
- 1990-10-05 JP JP02268118A patent/JP3128814B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04143604A (ja) | 1992-05-18 |
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