JP3123468B2 - インクジェット記録ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
インクジェット記録ヘッド及びその製造方法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はインクジェット記録
ヘッド及びその製造方法に関し、特にプリンタ、ファク
シミリ装置、コピー装置等に用いるインクジェット記録
ヘッド及びその製造方法に関する。
ヘッド及びその製造方法に関し、特にプリンタ、ファク
シミリ装置、コピー装置等に用いるインクジェット記録
ヘッド及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のインクジェット記録ヘッドが特開
平６−２４６９１３号公報に記載されている。この従来
のインクジェット記録ヘッドについて図４を参照して説
明する。同図は、従来のインクジェット記録ヘッドの構
造を示す断面図である。同図に示されているヘッドは、
複数の溝２２を有し、かつ矢印１４の方向に分極処理が
施された圧電セラミックス素子１１と、セラミックス材
料又は樹脂材料等からなるカバープレート１２とが、エ
ポキシ系接着剤等からなる接合層１３を介して接合され
た構成である。かかる構成にすることで、複数の溝２２
が複数のインク流路として構成される。各インク流路は
長方形断面の細長い形状であり、側壁２１はインク流路
の全長にわたって伸びている。
平６−２４６９１３号公報に記載されている。この従来
のインクジェット記録ヘッドについて図４を参照して説
明する。同図は、従来のインクジェット記録ヘッドの構
造を示す断面図である。同図に示されているヘッドは、
複数の溝２２を有し、かつ矢印１４の方向に分極処理が
施された圧電セラミックス素子１１と、セラミックス材
料又は樹脂材料等からなるカバープレート１２とが、エ
ポキシ系接着剤等からなる接合層１３を介して接合され
た構成である。かかる構成にすることで、複数の溝２２
が複数のインク流路として構成される。各インク流路は
長方形断面の細長い形状であり、側壁２１はインク流路
の全長にわたって伸びている。
【０００３】側壁２１の天頂部上の接着層１３付近の側
壁上部から側壁中央部までの両表面には、駆動電界印加
用の金属電極２３が形成されている。また、電極２３を
カバーするように保護膜３０が形成されている。なお、
全てのインク流路内には、インクが充填される。
壁上部から側壁中央部までの両表面には、駆動電界印加
用の金属電極２３が形成されている。また、電極２３を
カバーするように保護膜３０が形成されている。なお、
全てのインク流路内には、インクが充填される。
【０００４】次に、この従来のヘッドの製造方法につい
て説明する。まず圧電セラミックス素子１１に、薄い円
板状のダイヤモンドブレード等を使用した切削加工によ
って、溝２２を形成する。この溝２２の内面の側壁上
に、金属電極２３をスパッタリング等によって形成す
る。さらに電極２３を被覆するように溝２２の内面に保
護膜３０を成膜する。
て説明する。まず圧電セラミックス素子１１に、薄い円
板状のダイヤモンドブレード等を使用した切削加工によ
って、溝２２を形成する。この溝２２の内面の側壁上
に、金属電極２３をスパッタリング等によって形成す
る。さらに電極２３を被覆するように溝２２の内面に保
護膜３０を成膜する。
【０００５】このような構造のインクジェット記録ヘッ
ドにおいて、駆動時には金属電極２３ｄ及び２３ｇを接
地し金属電極２３ｅ及び２３ｆに正の電圧を印加する。
すると、圧電セラミックスの側壁２１ｂ及び２１ｃに印
加された電界方向と分極方向とが直交する。このため、
側壁２１ｂ及び２１ｃは圧電厚みすべり効果によって溝
２２ｂの内部方向に変形する。その結果、溝２２ｂ内の
インクは加圧され、図示せぬノズルからインク滴が吐出
される。
ドにおいて、駆動時には金属電極２３ｄ及び２３ｇを接
地し金属電極２３ｅ及び２３ｆに正の電圧を印加する。
すると、圧電セラミックスの側壁２１ｂ及び２１ｃに印
加された電界方向と分極方向とが直交する。このため、
側壁２１ｂ及び２１ｃは圧電厚みすべり効果によって溝
２２ｂの内部方向に変形する。その結果、溝２２ｂ内の
インクは加圧され、図示せぬノズルからインク滴が吐出
される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上述のように、圧電セ
ラミックス素子に切削加工により溝を形成し、その溝の
側壁を駆動し溝内のインクを吐出させる構造のインクジ
ェット記録ヘッドにおいては、以下の問題がある。
ラミックス素子に切削加工により溝を形成し、その溝の
側壁を駆動し溝内のインクを吐出させる構造のインクジ
ェット記録ヘッドにおいては、以下の問題がある。
【０００７】すなわち、切削加工時に溝の側壁表層部に
微小なクラックが発生しているため、側壁の強度が低
く、側壁を長時間駆動するとクラックが進展していき破
壊に至る等、信頼性に問題がある。また、クラックによ
る悪影響を減少させるために、側壁の幅を大きくする
と、溝の間隔が大きくなり、溝に連通するノズルを高密
度で配置することができなくなる。
微小なクラックが発生しているため、側壁の強度が低
く、側壁を長時間駆動するとクラックが進展していき破
壊に至る等、信頼性に問題がある。また、クラックによ
る悪影響を減少させるために、側壁の幅を大きくする
と、溝の間隔が大きくなり、溝に連通するノズルを高密
度で配置することができなくなる。
【０００８】さらに、圧電セラミックスの切削加工面で
ある側壁表面は、表面粗さが高い。このため、側壁表面
の凸部には電極及び保護膜が被覆するが、凹部には電極
及び保護膜が被覆しにくい。電極が十分に圧電セラミッ
クスに密着しないと側壁の変形量が減少する。保護膜の
被覆が不十分であると、保護膜の絶縁抵抗が低下しイン
ク中に電流がリークしインクが電気分解を起こしたり、
電極が腐食するという欠点もある。
ある側壁表面は、表面粗さが高い。このため、側壁表面
の凸部には電極及び保護膜が被覆するが、凹部には電極
及び保護膜が被覆しにくい。電極が十分に圧電セラミッ
クスに密着しないと側壁の変形量が減少する。保護膜の
被覆が不十分であると、保護膜の絶縁抵抗が低下しイン
ク中に電流がリークしインクが電気分解を起こしたり、
電極が腐食するという欠点もある。
【０００９】本発明は上述した従来技術の欠点を解決す
るためになされたものであり、その目的は溝の側壁の強
度が高く、かつ、側壁の表面粗さが低いインクジェット
記録ヘッド及びその製造方法を提供することである。
るためになされたものであり、その目的は溝の側壁の強
度が高く、かつ、側壁の表面粗さが低いインクジェット
記録ヘッド及びその製造方法を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明によるインクジェ
ット記録ヘッドは、圧電セラミックス基板に形成された
溝の側壁に形成された電極に電圧が印加されることによ
り該溝内に充填されたインクを吐出するインクジェット
記録ヘッドであって、前記側壁と前記電極との間に前記
側壁表面の凹凸を修復する修復膜が設けられていること
を特徴とする。
ット記録ヘッドは、圧電セラミックス基板に形成された
溝の側壁に形成された電極に電圧が印加されることによ
り該溝内に充填されたインクを吐出するインクジェット
記録ヘッドであって、前記側壁と前記電極との間に前記
側壁表面の凹凸を修復する修復膜が設けられていること
を特徴とする。
【００１１】本発明によるインクジェット記録ヘッドの
製造方法は、圧電セラミックス基板に形成された溝の側
壁に形成された電極に電圧が印加されることにより該溝
内に充填されたインクを吐出するインクジェット記録ヘ
ッドの製造方法であって、前記圧電セラミックス基板に
前記溝を形成する溝形成ステップと、この形成された溝
の側壁の表面に該側壁の凹凸を修復する修復膜を形成す
る修復膜形成ステップとを含むことを特徴とする。
製造方法は、圧電セラミックス基板に形成された溝の側
壁に形成された電極に電圧が印加されることにより該溝
内に充填されたインクを吐出するインクジェット記録ヘ
ッドの製造方法であって、前記圧電セラミックス基板に
前記溝を形成する溝形成ステップと、この形成された溝
の側壁の表面に該側壁の凹凸を修復する修復膜を形成す
る修復膜形成ステップとを含むことを特徴とする。
【００１２】そして修復膜は、前記側壁と前記電極との
間に設けられた酸化物であることを特徴とする。その酸
化物は、例えば、鉛・ジルコニウム・チタニウム系酸化
物であることを特徴とする。
間に設けられた酸化物であることを特徴とする。その酸
化物は、例えば、鉛・ジルコニウム・チタニウム系酸化
物であることを特徴とする。
【００１３】要するに本発明では、インクジェット記録
ヘッドの溝形成の際に溝の側壁に生じた凹凸を修復する
ための修復膜を、溝の側壁の表面に形成しているのであ
る。この修復膜を設けることにより、側壁の強度が大幅
に向上し、かつ、電極及び保護膜の被覆性も良くなるの
である。電極及び保護膜の被覆性が良くなることによっ
て、電流リークが無くなり、信頼性が向上するのであ
る。
ヘッドの溝形成の際に溝の側壁に生じた凹凸を修復する
ための修復膜を、溝の側壁の表面に形成しているのであ
る。この修復膜を設けることにより、側壁の強度が大幅
に向上し、かつ、電極及び保護膜の被覆性も良くなるの
である。電極及び保護膜の被覆性が良くなることによっ
て、電流リークが無くなり、信頼性が向上するのであ
る。
【００１４】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の一形態につ
いて図面を参照して説明する。
いて図面を参照して説明する。
【００１５】図１は本発明によるインクジェット記録ヘ
ッドの構造を示す断面図である。同図に示されているイ
ンクジェット記録ヘッドは、複数の溝を有する圧電セラ
ミックス１とトッププレート２とが接合されることによ
って、複数のインク流路３が形成された構成である。こ
のインク流路３はノズル（図示せず）と連通している。
図２に、溝の側壁４のＡ部の拡大図が示されている。圧
電セラミックスよりなる側壁４は、数μｍの結晶粒が集
まった多結晶体である。この側壁４の表層部には溝加工
時に凹凸（でこぼこ）やクラック等が生じる。しかし、
酸化物５が充填されることにより、これら凹凸等は修復
されている。そして、この酸化物５の上に電極６が形成
され、その上に保護膜７が形成されている。
ッドの構造を示す断面図である。同図に示されているイ
ンクジェット記録ヘッドは、複数の溝を有する圧電セラ
ミックス１とトッププレート２とが接合されることによ
って、複数のインク流路３が形成された構成である。こ
のインク流路３はノズル（図示せず）と連通している。
図２に、溝の側壁４のＡ部の拡大図が示されている。圧
電セラミックスよりなる側壁４は、数μｍの結晶粒が集
まった多結晶体である。この側壁４の表層部には溝加工
時に凹凸（でこぼこ）やクラック等が生じる。しかし、
酸化物５が充填されることにより、これら凹凸等は修復
されている。そして、この酸化物５の上に電極６が形成
され、その上に保護膜７が形成されている。
【００１６】この酸化物５は、溶媒に酸化物の組成元素
を溶解した溶液を、複数の溝が形成された圧電セラミッ
クス１に塗布し焼成して形成する。
を溶解した溶液を、複数の溝が形成された圧電セラミッ
クス１に塗布し焼成して形成する。
【００１７】かかる構成において、ヘッド駆動時に側壁
の電極間に電圧を印加すると、側壁４は変形する。これ
により、インク流路を加圧するためインク滴を吐出する
ことができる。
の電極間に電圧を印加すると、側壁４は変形する。これ
により、インク流路を加圧するためインク滴を吐出する
ことができる。
【００１８】側壁４には溝形成時の切削加工によりでこ
ぼこやクラックが生じていたが、酸化物５がクラックに
浸透して固めることにより、側壁４は強固なものとな
る。また、側壁表面の凹凸も酸化物５により緩和される
ことにより、電極及び保護膜の密着性や被覆性も良くな
り、信頼性が向上する。
ぼこやクラックが生じていたが、酸化物５がクラックに
浸透して固めることにより、側壁４は強固なものとな
る。また、側壁表面の凹凸も酸化物５により緩和される
ことにより、電極及び保護膜の密着性や被覆性も良くな
り、信頼性が向上する。
【００１９】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て詳細に説明する。
て詳細に説明する。
【００２０】図１及び図２の断面図を参照すると、厚さ
１ｍｍの圧電セラミックス１に幅６０μｍで深さ２００
μｍの溝が１２７μｍピッチで形成され、上面は厚さ７
５μｍのポリイミドのトッププレート２が接合されてい
る。
１ｍｍの圧電セラミックス１に幅６０μｍで深さ２００
μｍの溝が１２７μｍピッチで形成され、上面は厚さ７
５μｍのポリイミドのトッププレート２が接合されてい
る。
【００２１】溝の側壁４のＡ部の拡大図である図２を参
照すると、圧電セラミックスよりなる側壁４は、数μｍ
の結晶粒が集まった多結晶体である。この側壁４の表層
部は溝加工時に生じたクラックに酸化物５が充填されて
修復されている。酸化物５は側壁表層部のクラックに浸
透し圧電セラミックス１と強固に接合されている。その
上に、アルミ合金電極６が厚さ１μｍ形成され、さら
に、その上に保護膜７となる酸化シリコンが厚さ４μｍ
形成されている。
照すると、圧電セラミックスよりなる側壁４は、数μｍ
の結晶粒が集まった多結晶体である。この側壁４の表層
部は溝加工時に生じたクラックに酸化物５が充填されて
修復されている。酸化物５は側壁表層部のクラックに浸
透し圧電セラミックス１と強固に接合されている。その
上に、アルミ合金電極６が厚さ１μｍ形成され、さら
に、その上に保護膜７となる酸化シリコンが厚さ４μｍ
形成されている。
【００２２】インク流路３となる溝は、ダイヤモンドプ
レートを用いたダイシング・ソーにより切削加工する。
酸化物５の材質には、本例ではＰＺＴを用いる。この場
合、溶媒中にＰＺＴの組成元素であるＰｂ（鉛），Ｚｒ
（ジルコニウム），Ｔｉ（チタニウム）の酢酸鉛，塩化
物を溶解した水溶液を、溝構成された圧電セラミックス
１上にスピン塗布（スピナを用いてコートする）し、８
００℃で焼成する。その後、電極６となるアルミニウム
合金をスパッタリングで成膜する。そして、保護膜７と
なる酸化シリコンを、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａ
ｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法により成膜する。
レートを用いたダイシング・ソーにより切削加工する。
酸化物５の材質には、本例ではＰＺＴを用いる。この場
合、溶媒中にＰＺＴの組成元素であるＰｂ（鉛），Ｚｒ
（ジルコニウム），Ｔｉ（チタニウム）の酢酸鉛，塩化
物を溶解した水溶液を、溝構成された圧電セラミックス
１上にスピン塗布（スピナを用いてコートする）し、８
００℃で焼成する。その後、電極６となるアルミニウム
合金をスパッタリングで成膜する。そして、保護膜７と
なる酸化シリコンを、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａ
ｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法により成膜する。
【００２３】さらに図４を参照してインクジェット記録
ヘッドの製造方法について説明する。同図は図１のイン
クジェット記録ヘッドの製造方法を示すフローチャート
である。同図において、まずダイシング・ソーを用いた
切削加工によって、圧電セラミックス基板に溝を形成す
る（ステップ３１）。この溝の形成後、ＰＺＴの組成元
素であるＰｂ，Ｚｒ及びＴｉの酢酸鉛を溶解した水溶液
を、圧電セラミックス基板にスピン塗布する（ステップ
３２）。この塗布後、８００℃で焼成する（ステップ３
３）。
ヘッドの製造方法について説明する。同図は図１のイン
クジェット記録ヘッドの製造方法を示すフローチャート
である。同図において、まずダイシング・ソーを用いた
切削加工によって、圧電セラミックス基板に溝を形成す
る（ステップ３１）。この溝の形成後、ＰＺＴの組成元
素であるＰｂ，Ｚｒ及びＴｉの酢酸鉛を溶解した水溶液
を、圧電セラミックス基板にスピン塗布する（ステップ
３２）。この塗布後、８００℃で焼成する（ステップ３
３）。
【００２４】この焼成後、アルミニウム合金をスパッタ
リングで成膜して電極を形成する（ステップ３４）。こ
の電極形成後、酸化シリコンによる保護膜をＣＶＤ法に
より成膜する（ステップ３５）。
リングで成膜して電極を形成する（ステップ３４）。こ
の電極形成後、酸化シリコンによる保護膜をＣＶＤ法に
より成膜する（ステップ３５）。
【００２５】以上の製造工程により、図１及び図２に示
されているインクジェット記録ヘッドが得られるのであ
る。
されているインクジェット記録ヘッドが得られるのであ
る。
【００２６】駆動時においては、側壁の電極間に電圧を
印加する。すると、側壁４が変形しインク流路３を加圧
するためインク滴を吐出することができる。
印加する。すると、側壁４が変形しインク流路３を加圧
するためインク滴を吐出することができる。
【００２７】側壁４には溝形成時の切削加工によりクラ
ックが生じていたが、ＰＺＴ等の酸化物５の成分を含む
溶液がクラックに浸透し熱処理により酸化物として固め
ることにより、側壁４は強固なものとなる。また、側壁
表面の凹凸もその酸化物によって緩和されることにな
り、電極及び保護膜に密着性や被覆性も良くなり、信頼
性が向上する。
ックが生じていたが、ＰＺＴ等の酸化物５の成分を含む
溶液がクラックに浸透し熱処理により酸化物として固め
ることにより、側壁４は強固なものとなる。また、側壁
表面の凹凸もその酸化物によって緩和されることにな
り、電極及び保護膜に密着性や被覆性も良くなり、信頼
性が向上する。
【００２８】このように、本発明は、圧電セラミックス
に溝を形成し、その溝の側壁を駆動し、溝内のインクを
吐出させる構造のインクジェット記録ヘッドに有効であ
る。側壁の変形については、分極方向及び電極方向が直
角時の圧電厚みすべり変形や、分極方向及び電界方向が
同一時の伸縮変形等、その他の変形によるヘッドについ
て広く本発明を適用できる。
に溝を形成し、その溝の側壁を駆動し、溝内のインクを
吐出させる構造のインクジェット記録ヘッドに有効であ
る。側壁の変形については、分極方向及び電極方向が直
角時の圧電厚みすべり変形や、分極方向及び電界方向が
同一時の伸縮変形等、その他の変形によるヘッドについ
て広く本発明を適用できる。
【００２９】以上のように、溝形成時に側壁表層部に生
じたクラックに、酸化物の構成元素を含む水溶液を浸透
させ熱処理によって酸化物として固めることにより、側
壁の強度が大幅に向上し、信頼性が向上するのである。
また、側壁の凹凸も緩和されるため、電極及び保護膜の
被覆性も良くなり、電流リークが無くなり信頼性が向上
するのである。
じたクラックに、酸化物の構成元素を含む水溶液を浸透
させ熱処理によって酸化物として固めることにより、側
壁の強度が大幅に向上し、信頼性が向上するのである。
また、側壁の凹凸も緩和されるため、電極及び保護膜の
被覆性も良くなり、電流リークが無くなり信頼性が向上
するのである。
【００３０】以上のように、本発明のインクジェット記
録ヘッドでは、溝の形成の際に溝の側壁に生じた凹凸を
修復するための修復膜を、溝の側壁の表面に形成してい
るのである。そして、その修復膜には、ペロブスカイト
型の酸化物を用いる。本例では、鉛・ジルコニウム・チ
タニウム（ＰＺＴ）を用いているのである。
録ヘッドでは、溝の形成の際に溝の側壁に生じた凹凸を
修復するための修復膜を、溝の側壁の表面に形成してい
るのである。そして、その修復膜には、ペロブスカイト
型の酸化物を用いる。本例では、鉛・ジルコニウム・チ
タニウム（ＰＺＴ）を用いているのである。
【００３１】これ以外のペロブスカイト型の結晶構造を
有する酸化物を用いても同様の効果が得られることは勿
論である。例えば、チタン酸バリウム（ＢａＴｉ
Ｏ3 ）、チタン酸鉛（ＰｂＴｉＯ3 ）、チタン酸ストロ
ンチウム（ＳｒＴｉＯ3 ）を用いることができる。
有する酸化物を用いても同様の効果が得られることは勿
論である。例えば、チタン酸バリウム（ＢａＴｉ
Ｏ3 ）、チタン酸鉛（ＰｂＴｉＯ3 ）、チタン酸ストロ
ンチウム（ＳｒＴｉＯ3 ）を用いることができる。
【００３２】請求項の記載に関連して本発明は更に次の
態様をとりうる。
態様をとりうる。
【００３３】（１）前記酸化物は、チタン酸バリウムで
あることを特徴とする請求項２記載のインクジェット記
録ヘッド。
あることを特徴とする請求項２記載のインクジェット記
録ヘッド。
【００３４】（２）前記酸化物は、チタン酸鉛であるこ
とを特徴とする請求項２記載のインクジェット記録ヘッ
ド。
とを特徴とする請求項２記載のインクジェット記録ヘッ
ド。
【００３５】（３）前記酸化物は、チタン酸ストロンチ
ウムであることを特徴とする請求項２記載のインクジェ
ット記録ヘッド。
ウムであることを特徴とする請求項２記載のインクジェ
ット記録ヘッド。
【００３６】（４）前記酸化物は、チタン酸バリウムで
あることを特徴とする請求項５又は６記載のインクジェ
ット記録ヘッドの製造方法。
あることを特徴とする請求項５又は６記載のインクジェ
ット記録ヘッドの製造方法。
【００３７】（５）前記酸化物は、チタン酸鉛であるこ
とを特徴とする請求項５又は６記載のインクジェット記
録ヘッドの製造方法。
とを特徴とする請求項５又は６記載のインクジェット記
録ヘッドの製造方法。
【００３８】（６）前記酸化物は、チタン酸ストロンチ
ウムであることを特徴とする請求項５又は６記載のイン
クジェット記録ヘッドの製造方法。
ウムであることを特徴とする請求項５又は６記載のイン
クジェット記録ヘッドの製造方法。
【００３９】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、インクジ
ェット記録ヘッドの溝形成の際に溝の側壁に生じた凹凸
を修復するための修復膜を、溝の側壁の表面に形成する
ことにより、側壁の強度が大幅に向上し、かつ、電極及
び保護膜の被覆性も良くなるという効果がある。また、
電極及び保護膜の被覆性が良くなることによって、電流
リークが無くなり、信頼性が向上するという効果があ
る。
ェット記録ヘッドの溝形成の際に溝の側壁に生じた凹凸
を修復するための修復膜を、溝の側壁の表面に形成する
ことにより、側壁の強度が大幅に向上し、かつ、電極及
び保護膜の被覆性も良くなるという効果がある。また、
電極及び保護膜の被覆性が良くなることによって、電流
リークが無くなり、信頼性が向上するという効果があ
る。
【図１】本発明の実施の一形態によるインクジェット記
録ヘッドの構造を示す断面図である。
録ヘッドの構造を示す断面図である。
【図２】図１中のＡ部の拡大図である。
【図３】図１のインクジェット記録ヘッドの製造方法を
示すフローチャートである。
示すフローチャートである。
【図４】従来のインクジェット記録ヘッドの構造を示す
断面図である。
断面図である。
１ 圧電セラミックス ２ トッププレート ３ インク流路 ４ 側壁 ５ 酸化物 ６ 電極 ７ 保護膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−263955（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−20866（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−206870（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−65686（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−93153（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−119264（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−238893（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B41J 2/045 B41J 2/055 B41J 2/16
Claims (7)
- 【請求項１】 圧電セラミックス基板に形成された溝の
側壁に形成された電極に電圧が印加されることにより該
溝内に充填されたインクを吐出するインクジェット記録
ヘッドであって、前記側壁と前記電極との間に前記側壁
表面の凹凸を修復する修復膜が設けられていることを特
徴とするインクジェット記録ヘッド。 - 【請求項２】 前記修復膜は、前記側壁と前記電極との
間に設けられたペロブスカイト型結晶構造を有する酸化
物であることを特徴とする請求項１記載のインクジェッ
ト記録ヘッド。 - 【請求項３】 前記酸化物は、鉛・ジルコニウム・チタ
ニウム系酸化物であることを特徴とする請求項２記載の
インクジェット記録ヘッド。 - 【請求項４】 圧電セラミックス基板に形成された溝の
側壁に形成された電極に電圧が印加されることにより該
溝内に充填されたインクを吐出するインクジェット記録
ヘッドの製造方法であって、前記圧電セラミックス基板
に前記溝を形成する溝形成ステップと、この形成された
溝の側壁の表面に該側壁の凹凸を修復する修復膜を形成
する修復膜形成ステップとを含むことを特徴とするイン
クジェット記録ヘッドの製造方法。 - 【請求項５】 前記修復膜は、前記側壁と前記電極との
間に設けられたペロブスカイト型結晶構造を有する酸化
物であることを特徴とする請求項４記載のインクジェッ
ト記録ヘッドの製造方法。 - 【請求項６】 前記修復膜形成ステップは、前記酸化物
の組成元素を溶媒中に溶解した溶液を前記側壁に塗布し
て焼成することを特徴とする請求項５記載のインクジェ
ット記録ヘッドの製造方法。 - 【請求項７】 前記酸化物は、鉛・ジルコニウム・チタ
ニウム系酸化物であることを特徴とする請求項５又は６
記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09167808A JP3123468B2 (ja) | 1997-06-25 | 1997-06-25 | インクジェット記録ヘッド及びその製造方法 |
| EP98304923A EP0887187A3 (en) | 1997-06-25 | 1998-06-23 | Ink jet recording head and method of producing the same |
| US09/102,577 US6328432B1 (en) | 1997-06-25 | 1998-06-23 | Ink jet recording head having mending layers between side walls and electrodes |
| US09/971,925 US20020012028A1 (en) | 1997-06-25 | 2001-10-09 | Ink jet recording head having grooves of ink flowing paths and method of producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09167808A JP3123468B2 (ja) | 1997-06-25 | 1997-06-25 | インクジェット記録ヘッド及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1110869A JPH1110869A (ja) | 1999-01-19 |
| JP3123468B2 true JP3123468B2 (ja) | 2001-01-09 |
Family
ID=15856496
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09167808A Expired - Fee Related JP3123468B2 (ja) | 1997-06-25 | 1997-06-25 | インクジェット記録ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6328432B1 (ja) |
| EP (1) | EP0887187A3 (ja) |
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| JP4878111B2 (ja) * | 2003-10-30 | 2012-02-15 | 日本碍子株式会社 | セル駆動型圧電／電歪アクチュエータ及びその製造方法 |
| US7048361B2 (en) * | 2003-11-05 | 2006-05-23 | Xerox Corporation | Ink jet apparatus |
| US7025439B2 (en) * | 2004-03-15 | 2006-04-11 | Lexmark International, Inc. | Ink jet printer with extended nozzle plate and method |
| US7565723B2 (en) * | 2004-03-30 | 2009-07-28 | Brother Kogyo Kabushik Kaisha | Piezoelectric actuator and method of fabricating piezoelectric actuator |
| JP4193836B2 (ja) * | 2005-10-24 | 2008-12-10 | ブラザー工業株式会社 | インク噴射装置の製造方法 |
| JP5730023B2 (ja) * | 2011-01-11 | 2015-06-03 | キヤノン株式会社 | 圧電素子の製造方法、および圧電式液滴吐出ヘッドの製造方法 |
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|---|---|---|---|---|
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| JP3210007B2 (ja) | 1990-11-30 | 2001-09-17 | 松下電器産業株式会社 | 半導体装置 |
| JPH04263955A (ja) | 1991-02-19 | 1992-09-18 | Citizen Watch Co Ltd | インクジェットヘッドの製造方法 |
| JPH0620866A (ja) | 1992-07-02 | 1994-01-28 | Seiko Epson Corp | 誘電体素子 |
| US5719606A (en) * | 1992-07-03 | 1998-02-17 | Citizen Watch Co., Ltd. | Ink jet head including a connector having a joining component with a plurality of electroconductive particles contained therein and a method of producing said ink jet head |
| JPH06246913A (ja) | 1993-02-26 | 1994-09-06 | Brother Ind Ltd | インクジェットヘッド |
| JPH06246914A (ja) | 1993-02-26 | 1994-09-06 | Brother Ind Ltd | インクジェットヘッド |
| JP3123300B2 (ja) * | 1993-05-10 | 2001-01-09 | ブラザー工業株式会社 | インクジェットプリンタヘッドの製造方法 |
| JP3120638B2 (ja) * | 1993-10-01 | 2000-12-25 | ブラザー工業株式会社 | インク噴射装置 |
| JP2870459B2 (ja) | 1995-10-09 | 1999-03-17 | 日本電気株式会社 | インクジェット記録装置及びその製造方法 |
| JP3254992B2 (ja) * | 1995-12-05 | 2002-02-12 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェットヘッドの製造方法 |
| JPH1093153A (ja) | 1996-09-13 | 1998-04-10 | Ricoh Co Ltd | 電気機械変換素子及びその製造方法並びにインクジェットヘッド |
| JPH10119264A (ja) | 1996-10-17 | 1998-05-12 | Ricoh Co Ltd | インクジェットヘッド及びインクジェット記録装置 |
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1997
- 1997-06-25 JP JP09167808A patent/JP3123468B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-06-23 US US09/102,577 patent/US6328432B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-06-23 EP EP98304923A patent/EP0887187A3/en not_active Ceased
-
2001
- 2001-10-09 US US09/971,925 patent/US20020012028A1/en not_active Abandoned
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