JP3118790B2 - コイル状線材の脱スケール及び潤滑下地処理装置 - Google Patents
コイル状線材の脱スケール及び潤滑下地処理装置Info
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- JP3118790B2 JP3118790B2 JP04193041A JP19304192A JP3118790B2 JP 3118790 B2 JP3118790 B2 JP 3118790B2 JP 04193041 A JP04193041 A JP 04193041A JP 19304192 A JP19304192 A JP 19304192A JP 3118790 B2 JP3118790 B2 JP 3118790B2
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はコイル状線材の脱スケー
ル及び潤滑下地処理装置に関する。熱圧延したコイル状
線材を熱処理、例えば制御された還元性雰囲気で球状化
焼鈍処理した後、インライン方式で脱スケールし、潤滑
下地処理して、潤滑剤を塗布しつつ伸線することが行な
われる。また中間引きと称する伸線が行なわれた後の線
材に対しても再度熱処理をした後に同様の伸線が行なわ
れる。かかる一連の処理においては、一つの伸線工程に
対して一つの脱スケール及び潤滑下地処理工程を設置
し、したがって二つの伸線工程に対して二つの脱スケー
ル及び潤滑下地処理工程を設置するのが普通である。し
かし一般的には伸線工程の処理能力が脱スケール及び潤
滑下地処理工程の処理能力よりも勝っているため、一つ
の伸線工程に対して二つ以上の脱スケール及び潤滑下地
処理工程を設置する場合もある。本発明は二つ以上の脱
スケール及び潤滑下地処理工程を設置する場合に用いら
れる装置の改良に関するものである。
ル及び潤滑下地処理装置に関する。熱圧延したコイル状
線材を熱処理、例えば制御された還元性雰囲気で球状化
焼鈍処理した後、インライン方式で脱スケールし、潤滑
下地処理して、潤滑剤を塗布しつつ伸線することが行な
われる。また中間引きと称する伸線が行なわれた後の線
材に対しても再度熱処理をした後に同様の伸線が行なわ
れる。かかる一連の処理においては、一つの伸線工程に
対して一つの脱スケール及び潤滑下地処理工程を設置
し、したがって二つの伸線工程に対して二つの脱スケー
ル及び潤滑下地処理工程を設置するのが普通である。し
かし一般的には伸線工程の処理能力が脱スケール及び潤
滑下地処理工程の処理能力よりも勝っているため、一つ
の伸線工程に対して二つ以上の脱スケール及び潤滑下地
処理工程を設置する場合もある。本発明は二つ以上の脱
スケール及び潤滑下地処理工程を設置する場合に用いら
れる装置の改良に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、コイル状線材の脱スケール及び潤
滑下地処理装置として、コイル状線材を繰り出すための
ペイオフスタンド、繰り出した線材の曲がりを矯正する
ための矯正機、矯正した線材に付着しているスケールを
除去するためのメカニカル脱スケール装置、スケールを
除去した線材を予熱するための予熱機、予熱した線材に
潤滑下地液を塗布するための潤滑下地液塗布装置、潤滑
下地液を塗布した線材を乾燥するための乾燥機等がこの
順で配置されたものが提案されている(特開昭57−2
09715)。そして二つ以上の脱スケール及び潤滑下
地処理工程を設置する場合、上記のような脱スケール及
び潤滑下地処理装置を2系統以上並設している。ところ
が、かかる従来装置によると、相応にして大きい設置面
積が必要であり、また相応する数のメカニカル脱スケー
ル装置や潤滑下地液塗布装置が必要であって、これらに
係る作業や管理が誠に厄介という欠点がある。
滑下地処理装置として、コイル状線材を繰り出すための
ペイオフスタンド、繰り出した線材の曲がりを矯正する
ための矯正機、矯正した線材に付着しているスケールを
除去するためのメカニカル脱スケール装置、スケールを
除去した線材を予熱するための予熱機、予熱した線材に
潤滑下地液を塗布するための潤滑下地液塗布装置、潤滑
下地液を塗布した線材を乾燥するための乾燥機等がこの
順で配置されたものが提案されている(特開昭57−2
09715)。そして二つ以上の脱スケール及び潤滑下
地処理工程を設置する場合、上記のような脱スケール及
び潤滑下地処理装置を2系統以上並設している。ところ
が、かかる従来装置によると、相応にして大きい設置面
積が必要であり、また相応する数のメカニカル脱スケー
ル装置や潤滑下地液塗布装置が必要であって、これらに
係る作業や管理が誠に厄介という欠点がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、二つ以上の脱スケール及び潤滑下地処理工
程を設置する場合に従来装置では、相応にして大きい設
置面積が必要であり、また相応する数のメカニカル脱ス
ケール装置や潤滑下地液塗布装置が必要であって、これ
らに係る作業や管理が誠に厄介という点である。
する課題は、二つ以上の脱スケール及び潤滑下地処理工
程を設置する場合に従来装置では、相応にして大きい設
置面積が必要であり、また相応する数のメカニカル脱ス
ケール装置や潤滑下地液塗布装置が必要であって、これ
らに係る作業や管理が誠に厄介という点である。
【0004】
【課題を解決するための手段】しかして本発明は、熱処
理後のコイル状線材を脱スケールし、更に潤滑下地処理
する装置であって、上流側に各系統に少なくともペイオ
フスタンド及び矯正機を備える2系統以上の設備が並設
されており、また下流側に少なくともメカニカル脱スケ
ール装置及び潤滑下地液塗布装置を備える1系統の設備
が配置されていて、上流側に並設された2系統以上の設
備が下流側に配置された1系統の設備に集合されて成る
ことを特徴とするコイル状線材の脱スケール及び潤滑下
地処理装置に係る。
理後のコイル状線材を脱スケールし、更に潤滑下地処理
する装置であって、上流側に各系統に少なくともペイオ
フスタンド及び矯正機を備える2系統以上の設備が並設
されており、また下流側に少なくともメカニカル脱スケ
ール装置及び潤滑下地液塗布装置を備える1系統の設備
が配置されていて、上流側に並設された2系統以上の設
備が下流側に配置された1系統の設備に集合されて成る
ことを特徴とするコイル状線材の脱スケール及び潤滑下
地処理装置に係る。
【0005】本発明において、上流側には各系統に少な
くともペイオフスタンド及び矯正機を備える2系統以上
の設備が並設されている。また下流側には少なくともメ
カニカル脱スケール装置及び潤滑下地液塗布装置を備え
る1系統の設備が配置されている。そして上流側に並設
された2系統以上の設備が下流側に配置された1系統の
設備に集合されている。二つ以上の脱スケール及び潤滑
下地処理工程を設置する場合において、ペイオフスタン
ドや矯正機等、その性質上共用できない設備はこれらを
専用させるが、メカニカル脱スケール装置や潤滑下地液
塗布装置等、その性質上共用できる設備はこれらを共用
させ、線材を集約して処理するのである。
くともペイオフスタンド及び矯正機を備える2系統以上
の設備が並設されている。また下流側には少なくともメ
カニカル脱スケール装置及び潤滑下地液塗布装置を備え
る1系統の設備が配置されている。そして上流側に並設
された2系統以上の設備が下流側に配置された1系統の
設備に集合されている。二つ以上の脱スケール及び潤滑
下地処理工程を設置する場合において、ペイオフスタン
ドや矯正機等、その性質上共用できない設備はこれらを
専用させるが、メカニカル脱スケール装置や潤滑下地液
塗布装置等、その性質上共用できる設備はこれらを共用
させ、線材を集約して処理するのである。
【0006】
【作用】前述したように本発明では、下流側が少なくと
もメカニカル脱スケール装置及び潤滑下地液塗布装置を
備える1系統の設備に集合されている。したがって本発
明によると、下流側も2系統並設する場合に比べてその
分だけ設置面積を小さくでき、またメカニカル脱スケー
ル装置や潤滑下地液塗布装置は各1台ですみ、これらに
係る作業や管理が簡便になる。
もメカニカル脱スケール装置及び潤滑下地液塗布装置を
備える1系統の設備に集合されている。したがって本発
明によると、下流側も2系統並設する場合に比べてその
分だけ設置面積を小さくでき、またメカニカル脱スケー
ル装置や潤滑下地液塗布装置は各1台ですみ、これらに
係る作業や管理が簡便になる。
【0007】ペイオフスタンドに支持するコイル状線材
は、所定の熱処理を経て放冷したものでもよいが、所定
の熱処理を経て、その表面近傍温度が酸化脱炭しない温
度以下且つ地鉄界面にマグネタイトが生成しない温度以
上の温度範囲で冷却開始又は再酸化し、そして少なくと
も地鉄界面に生成したウスタイトの変態温度範囲は急冷
したものが好ましい。より具体的には、線材の表面近傍
温度が酸化脱炭しない温度以下且つ地鉄界面にマグネタ
イトが生成しない温度以上の温度範囲は700〜560
℃とし、またウスタイトの変態温度範囲は530〜30
0℃として、更に急冷は8℃/分以上の冷却速度とする
のが好ましい。このように急冷したコイル状線材に付着
しているスケールは、地鉄界面にウスタイトが存在して
おり、該ウスタイトの表面にその酸化によるマグネタイ
トが積層していて、且つ地鉄界面のウスタイトに到達す
る深い亀裂が多く発生したものとなり、かかるスケール
はショットブラスティング、エヤーブラスティング、リ
バースベンディング等のメカニカル脱スケールで容易に
除去できるからである。
は、所定の熱処理を経て放冷したものでもよいが、所定
の熱処理を経て、その表面近傍温度が酸化脱炭しない温
度以下且つ地鉄界面にマグネタイトが生成しない温度以
上の温度範囲で冷却開始又は再酸化し、そして少なくと
も地鉄界面に生成したウスタイトの変態温度範囲は急冷
したものが好ましい。より具体的には、線材の表面近傍
温度が酸化脱炭しない温度以下且つ地鉄界面にマグネタ
イトが生成しない温度以上の温度範囲は700〜560
℃とし、またウスタイトの変態温度範囲は530〜30
0℃として、更に急冷は8℃/分以上の冷却速度とする
のが好ましい。このように急冷したコイル状線材に付着
しているスケールは、地鉄界面にウスタイトが存在して
おり、該ウスタイトの表面にその酸化によるマグネタイ
トが積層していて、且つ地鉄界面のウスタイトに到達す
る深い亀裂が多く発生したものとなり、かかるスケール
はショットブラスティング、エヤーブラスティング、リ
バースベンディング等のメカニカル脱スケールで容易に
除去できるからである。
【0008】またメカニカル脱スケール後の線材に塗布
する潤滑下地液は、シュウ酸塩液やリン酸亜鉛液でもよ
いが、硫酸、ホウ酸、ケイ酸系のアルカリ金属塩液(K2
SO4、K2B4O7、KB5O8、KBO2、K2SiO3、K2Si4O3、KHSi
2O5、Na2SO4、Na2SO3、Na2SiO3、Na2SiO4、Na2B4O7等の
各水溶液)で代表される水溶性無機塩液が好ましい。シ
ュウ酸塩液やリン酸亜鉛液は線材との化学反応を利用す
るものであるため、該化学反応に相当の長い時間を必要
とし、それだけ長い装置を必要とするが、上記のような
水溶性無機塩液は線材との化学反応を利用するものでな
く、線材の表面に水溶性無機塩の皮膜を形成させるもの
であるため、処理時間を短くでき、それだけ装置を短く
できるからである。より具体的には、線材の表面にかか
る水溶性無機塩液を塗布して乾燥するが、乾燥を速くす
るため、水溶性無機塩液を予め80〜95℃程度に加熱
しておくか又は線材を予め70〜150℃程度に加熱し
ておくのが好ましく、また線材の表面に水溶性無機塩液
を均一塗布するため、線材表面の10点平均粗さ(R
z)が20μmを超えないようにメカニカル脱スケール
しておくのが好ましい。
する潤滑下地液は、シュウ酸塩液やリン酸亜鉛液でもよ
いが、硫酸、ホウ酸、ケイ酸系のアルカリ金属塩液(K2
SO4、K2B4O7、KB5O8、KBO2、K2SiO3、K2Si4O3、KHSi
2O5、Na2SO4、Na2SO3、Na2SiO3、Na2SiO4、Na2B4O7等の
各水溶液)で代表される水溶性無機塩液が好ましい。シ
ュウ酸塩液やリン酸亜鉛液は線材との化学反応を利用す
るものであるため、該化学反応に相当の長い時間を必要
とし、それだけ長い装置を必要とするが、上記のような
水溶性無機塩液は線材との化学反応を利用するものでな
く、線材の表面に水溶性無機塩の皮膜を形成させるもの
であるため、処理時間を短くでき、それだけ装置を短く
できるからである。より具体的には、線材の表面にかか
る水溶性無機塩液を塗布して乾燥するが、乾燥を速くす
るため、水溶性無機塩液を予め80〜95℃程度に加熱
しておくか又は線材を予め70〜150℃程度に加熱し
ておくのが好ましく、また線材の表面に水溶性無機塩液
を均一塗布するため、線材表面の10点平均粗さ(R
z)が20μmを超えないようにメカニカル脱スケール
しておくのが好ましい。
【0009】
【実施例】図1は本発明の一実施例を略示する系統図で
ある。上流側に2系統の設備11,12が並設されてお
り、また下流側に1系統の設備13が配置されていて、
設備11,12はガイドロール21〜24を介し設備1
3に集合されている。上流側の設備11,12にはそれ
ぞれ、下流側に向かって、コイル状線材を繰り出すため
のペイオフスタンド31,32、繰り出した線材A,B
の曲がりを矯正するための矯正機33,34、先のコイ
ル状線材の末端とこれに引き続く後のコイル状線材の先
端とを溶接するための溶接機35,36及び溶接による
バリを取り除くためのバリ取り装置37,38(例えば
特開平2−109604で提案されているバリ取り装
置)が配置されている。
ある。上流側に2系統の設備11,12が並設されてお
り、また下流側に1系統の設備13が配置されていて、
設備11,12はガイドロール21〜24を介し設備1
3に集合されている。上流側の設備11,12にはそれ
ぞれ、下流側に向かって、コイル状線材を繰り出すため
のペイオフスタンド31,32、繰り出した線材A,B
の曲がりを矯正するための矯正機33,34、先のコイ
ル状線材の末端とこれに引き続く後のコイル状線材の先
端とを溶接するための溶接機35,36及び溶接による
バリを取り除くためのバリ取り装置37,38(例えば
特開平2−109604で提案されているバリ取り装
置)が配置されている。
【0010】また下流側の設備13には、更に下流側に
向かって、線材A,Bの表面に付着しているスケールを
除去するためのショットブラスト装置41、スケールを
除去した線材A,Bを予熱するための予熱機42、予熱
した線材A,Bの表面に潤滑下地液を塗布するための潤
滑下地液塗布装置43、潤滑下地液を塗布した線材A,
Bを乾燥するための乾燥機44及び乾燥した線材A,B
を所定長さで切断するための切断機45が配置されてい
る。そして最下流側には切断した線材A,Bを巻き取る
ための巻き取り装置51,52がガイドロール25,2
6を介して並設されている。巻き取り装置51,52で
ルーズコイル又はタイトコイル状に巻き取ったコイル状
線材は別に設置されている伸線工程に供される。
向かって、線材A,Bの表面に付着しているスケールを
除去するためのショットブラスト装置41、スケールを
除去した線材A,Bを予熱するための予熱機42、予熱
した線材A,Bの表面に潤滑下地液を塗布するための潤
滑下地液塗布装置43、潤滑下地液を塗布した線材A,
Bを乾燥するための乾燥機44及び乾燥した線材A,B
を所定長さで切断するための切断機45が配置されてい
る。そして最下流側には切断した線材A,Bを巻き取る
ための巻き取り装置51,52がガイドロール25,2
6を介して並設されている。巻き取り装置51,52で
ルーズコイル又はタイトコイル状に巻き取ったコイル状
線材は別に設置されている伸線工程に供される。
【0011】
【発明の効果】既に明らかなように、以上説明した本発
明には、二つ以上の脱スケール及び潤滑下地処理工程を
設置する場合に全体として装置の設置面積を小さくで
き、またメカニカル脱スケール装置や潤滑下地液塗布装
置を各1台で共用でき、これらに係る作業や管理を簡便
にできるという効果がある。
明には、二つ以上の脱スケール及び潤滑下地処理工程を
設置する場合に全体として装置の設置面積を小さくで
き、またメカニカル脱スケール装置や潤滑下地液塗布装
置を各1台で共用でき、これらに係る作業や管理を簡便
にできるという効果がある。
【図1】本発明の一実施例を略示する系統図。
11,12,13・・・設備、31,32・・・ペイオ
フスタンド、33,34・・・矯正機、35,36・・
・溶接機、37,38・・・バリ取り装置、41・・・
ショットブラスト装置、42・・・予熱機、43・・・
潤滑下地液塗布装置、44・・・乾燥機、45・・・切
断機、51,52・・・巻き取り装置、A,B・・・線
材
フスタンド、33,34・・・矯正機、35,36・・
・溶接機、37,38・・・バリ取り装置、41・・・
ショットブラスト装置、42・・・予熱機、43・・・
潤滑下地液塗布装置、44・・・乾燥機、45・・・切
断機、51,52・・・巻き取り装置、A,B・・・線
材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B21B 45/04 B21C 9/00 B21C 43/04
Claims (1)
- 【請求項1】 熱処理後のコイル状線材を脱スケール
し、更に潤滑下地処理する装置であって、上流側に各系
統に少なくともペイオフスタンド及び矯正機を備える2
系統以上の設備が並設されており、また下流側に少なく
ともメカニカル脱スケール装置及び潤滑下地液塗布装置
を備える1系統の設備が配置されていて、上流側に並設
された2系統以上の設備が下流側に配置された1系統の
設備に集合されて成ることを特徴とするコイル状線材の
脱スケール及び潤滑下地処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP04193041A JP3118790B2 (ja) | 1992-06-27 | 1992-06-27 | コイル状線材の脱スケール及び潤滑下地処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP04193041A JP3118790B2 (ja) | 1992-06-27 | 1992-06-27 | コイル状線材の脱スケール及び潤滑下地処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH067830A JPH067830A (ja) | 1994-01-18 |
JP3118790B2 true JP3118790B2 (ja) | 2000-12-18 |
Family
ID=16301190
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP04193041A Expired - Fee Related JP3118790B2 (ja) | 1992-06-27 | 1992-06-27 | コイル状線材の脱スケール及び潤滑下地処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3118790B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8264618B2 (en) | 2007-12-07 | 2012-09-11 | Sony Corporation | Remote control apparatus |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107283324A (zh) * | 2017-06-01 | 2017-10-24 | 江苏省冶金设计院有限公司 | 一种并行式水磨料射流除鳞方法 |
-
1992
- 1992-06-27 JP JP04193041A patent/JP3118790B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8264618B2 (en) | 2007-12-07 | 2012-09-11 | Sony Corporation | Remote control apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH067830A (ja) | 1994-01-18 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |