JP3114604B2 - イオン注入装置用部品 - Google Patents
イオン注入装置用部品Info
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Landscapes
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体デバイス等
の製造工程において用いられるイオン注入装置を構成す
る部品に関する。
の製造工程において用いられるイオン注入装置を構成す
る部品に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体デバイスの製造において、イオン
注入はシリコン基板に目的元素を導入するために広く用
いられている技術である。イオン注入は、必要とされる
元素を高エネルギのイオンビームとしてシリコン基板に
打込む物理的な元素導入方法である。
注入はシリコン基板に目的元素を導入するために広く用
いられている技術である。イオン注入は、必要とされる
元素を高エネルギのイオンビームとしてシリコン基板に
打込む物理的な元素導入方法である。
【０００３】このようなイオン注入を行なう装置におい
て、イオンビームの通路を構成する材料は、イオンビー
ムに直接晒されるため、イオンスパッタリングにより減
耗し、不純物として系内に拡散する。これら不純物は、
製品の性能、歩留り低下の原因となる。このため、イオ
ンビームの通路を構成する材料には、イオンスパッタリ
ングによる減耗が少なく、すなわち耐スパッタリング性
を有し、かつ製品に影響を及ぼす不純物を含有しない材
料が必要とされる。
て、イオンビームの通路を構成する材料は、イオンビー
ムに直接晒されるため、イオンスパッタリングにより減
耗し、不純物として系内に拡散する。これら不純物は、
製品の性能、歩留り低下の原因となる。このため、イオ
ンビームの通路を構成する材料には、イオンスパッタリ
ングによる減耗が少なく、すなわち耐スパッタリング性
を有し、かつ製品に影響を及ぼす不純物を含有しない材
料が必要とされる。
【０００４】このような耐スパッタリング性を有する金
属材料としてモリブデンを挙げることができる。また、
特開平５−２４６７０３号公報は、ガラス状カーボンか
らなるイオン注入装置用カーボン部材を開示している。
属材料としてモリブデンを挙げることができる。また、
特開平５−２４６７０３号公報は、ガラス状カーボンか
らなるイオン注入装置用カーボン部材を開示している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】モリブデンからなるイ
オン注入装置用部品は、材料自体が高価であり、加工が
容易でないため、高価である。これに対し、ガラス状カ
ーボンは、比較的安価な材料である一方、厚み５ｍｍ以
上の材料を得ることが難しいため、これにより構成する
ことのできる部品は限定される。さらにガラス状カーボ
ンは加工性が悪い。
オン注入装置用部品は、材料自体が高価であり、加工が
容易でないため、高価である。これに対し、ガラス状カ
ーボンは、比較的安価な材料である一方、厚み５ｍｍ以
上の材料を得ることが難しいため、これにより構成する
ことのできる部品は限定される。さらにガラス状カーボ
ンは加工性が悪い。
【０００６】一方、高純度の材料が比較的容易に得られ
る黒鉛材は安価であり、ガラス状カーボンよりも加工性
がよい材料として有用である。しかしながら、一般に黒
鉛材は、スパッタリングを受けた際にパーティクルが離
脱しやすい。したがって、黒鉛材からなるイオン注入装
置用部品を提供しようとする場合、いかに耐スパッタリ
ング性のよいものを製作するかが大きな課題となってい
る。
る黒鉛材は安価であり、ガラス状カーボンよりも加工性
がよい材料として有用である。しかしながら、一般に黒
鉛材は、スパッタリングを受けた際にパーティクルが離
脱しやすい。したがって、黒鉛材からなるイオン注入装
置用部品を提供しようとする場合、いかに耐スパッタリ
ング性のよいものを製作するかが大きな課題となってい
る。
【０００７】本発明の目的は、安価でかつ耐スパッタリ
ング性の高いイオン注入装置用部品を提供することであ
る。
ング性の高いイオン注入装置用部品を提供することであ
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者は、黒鉛（人造
黒鉛）からなるイオン注入装置用部品について、研究を
重ねてきた結果、該部品を構成する黒鉛のかさ比重、シ
ョア硬さ、および平均気孔直径が該部品の耐スパッタリ
ング性に重大な影響を与えることを見出した。そして、
そして、これらの物性について所定の条件を満たすもの
が、優れた耐スパッタリング性を有し、イオン注入装置
用部品としてより適していることを見出し本発明を完成
させるに至った。
黒鉛）からなるイオン注入装置用部品について、研究を
重ねてきた結果、該部品を構成する黒鉛のかさ比重、シ
ョア硬さ、および平均気孔直径が該部品の耐スパッタリ
ング性に重大な影響を与えることを見出した。そして、
そして、これらの物性について所定の条件を満たすもの
が、優れた耐スパッタリング性を有し、イオン注入装置
用部品としてより適していることを見出し本発明を完成
させるに至った。
【０００９】すなわち、本発明のイオン注入装置用部品
は、１．９６以上のかさ比重、８５以上のショア硬さお
よび１．０μｍ以下の平均気孔直径を有する黒鉛からな
ることを特徴とする。
は、１．９６以上のかさ比重、８５以上のショア硬さお
よび１．０μｍ以下の平均気孔直径を有する黒鉛からな
ることを特徴とする。
【００１０】ここで、かさ比重は、ＪＩＳ Ｒ７２１２
−１９７９に従って測定することができる。すなわち、
試験片を１０５〜１１０℃の空気浴中で２時間保ち、こ
れをデシケータ中で冷却して室温に達した後、直ちに質
量を量り、再び空気浴中に移し、１時間ごとに冷却して
質量を量る。これを恒量に達するまで繰返す。次に、試
験片の各片の長さを４ヶ所ずつ測り、それぞれ各片の平
均寸法から体積を求める。試験片のかさ比重は、次の式
によって計算し、少数点以下３桁に丸める。そして２個
の試験片の測定値の平均値を少数点以下２桁に丸めてか
さ比重として示す。
−１９７９に従って測定することができる。すなわち、
試験片を１０５〜１１０℃の空気浴中で２時間保ち、こ
れをデシケータ中で冷却して室温に達した後、直ちに質
量を量り、再び空気浴中に移し、１時間ごとに冷却して
質量を量る。これを恒量に達するまで繰返す。次に、試
験片の各片の長さを４ヶ所ずつ測り、それぞれ各片の平
均寸法から体積を求める。試験片のかさ比重は、次の式
によって計算し、少数点以下３桁に丸める。そして２個
の試験片の測定値の平均値を少数点以下２桁に丸めてか
さ比重として示す。
【００１１】ｄb ＝ｍ／ｖ （ｄb ：かさ比重，ｍ：乾燥試験片の重量（ｇ），ｖ：
体積（ｃｍ3 ）） ショア硬さはＪＩＳ Ｚ２２４６−１９８１に従って測
定することができる。ショア硬さは、試料の試験面上に
一定の高さｈ0 から落下させたハンマのはね上がり高さ
ｈに比例する値であって、次の式で表わされる。
体積（ｃｍ3 ）） ショア硬さはＪＩＳ Ｚ２２４６−１９８１に従って測
定することができる。ショア硬さは、試料の試験面上に
一定の高さｈ0 から落下させたハンマのはね上がり高さ
ｈに比例する値であって、次の式で表わされる。
【００１２】ＨＳ＝ｋ・ｈ／ｈ0 （ＨＳ：ショア硬さ，ｋ：ショア硬さとするための係
数） 平均気孔直径は、水銀圧入法に従って水銀ポロシメータ
により測定することができる。すなわち、水銀による印
加圧力とその圧力で水銀が侵入し得る試料の最小細孔径
との間には、次のＷａｓｈｂｕｒｎの式が成立する。
数） 平均気孔直径は、水銀圧入法に従って水銀ポロシメータ
により測定することができる。すなわち、水銀による印
加圧力とその圧力で水銀が侵入し得る試料の最小細孔径
との間には、次のＷａｓｈｂｕｒｎの式が成立する。
【００１３】 Ｐ・ｒ＝−２σｃｏｓθ（≒６３４５ｋｇｆ／ｃｍ） （Ｐ：印加圧力（ｋｇｆ／ｃｍ2 ），ｒ：細胞半径（ｎ
ｍ），σ：水銀の表面張力（４８４ｄｙｎ／ｃｍ），
θ：水銀の試料に対する接触角（１３０°）） したがって、順次印加圧力を大きくしていけば、より小
さい細孔径を求めることができる。水銀ポロシメータに
おいてサンプルをセルに入れ、水銀を圧入すると、水銀
はサンプルの空孔に入り、この水銀量が測定される。圧
力を徐々に高め、試料の空孔中に水銀を侵入させると、
図１に示すように、侵入水銀の容量は値Ｖまで増加す
る。この最終的に侵入した水銀量（Ｖ）の半分（Ｖ／
２）まで気孔に水銀が侵入したときの圧力（Ｐ）を求
め、このＰに対応する値として上式から平均気孔直径を
求めることができる。
ｍ），σ：水銀の表面張力（４８４ｄｙｎ／ｃｍ），
θ：水銀の試料に対する接触角（１３０°）） したがって、順次印加圧力を大きくしていけば、より小
さい細孔径を求めることができる。水銀ポロシメータに
おいてサンプルをセルに入れ、水銀を圧入すると、水銀
はサンプルの空孔に入り、この水銀量が測定される。圧
力を徐々に高め、試料の空孔中に水銀を侵入させると、
図１に示すように、侵入水銀の容量は値Ｖまで増加す
る。この最終的に侵入した水銀量（Ｖ）の半分（Ｖ／
２）まで気孔に水銀が侵入したときの圧力（Ｐ）を求
め、このＰに対応する値として上式から平均気孔直径を
求めることができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明を構成する黒鉛（人造黒
鉛）は、たとえば、コークスや黒鉛等のフィラーと、ピ
ッチ等のバインダの二元系原料を使用する方法によって
製造することができる。この場合、コークスや黒鉛等を
粒径１０μｍ以下に微粉砕し、これにピッチ等のバイン
ダを加えて熱間混練する。混練したものを再び粉砕した
後、熱間静水圧プレスで２０００℃程度において成形、
焼成する。得られた焼成体を２０００℃〜３０００℃の
温度で加熱する（黒鉛化処理する）ことによって黒鉛が
得られる。以上のプロセスにおいて、黒鉛のかさ比重を
１．９６以上とすることができ、平均気孔直径を１．０
μｍ以下とすることができる。また、原料にカーボンブ
ラック、フェノール樹脂等の樹脂などの難黒鉛化性の材
料を添加し、かつ／または黒鉛化処理の温度を調整する
ことにより、黒鉛のショア硬さを８５以上にすることが
できる。
鉛）は、たとえば、コークスや黒鉛等のフィラーと、ピ
ッチ等のバインダの二元系原料を使用する方法によって
製造することができる。この場合、コークスや黒鉛等を
粒径１０μｍ以下に微粉砕し、これにピッチ等のバイン
ダを加えて熱間混練する。混練したものを再び粉砕した
後、熱間静水圧プレスで２０００℃程度において成形、
焼成する。得られた焼成体を２０００℃〜３０００℃の
温度で加熱する（黒鉛化処理する）ことによって黒鉛が
得られる。以上のプロセスにおいて、黒鉛のかさ比重を
１．９６以上とすることができ、平均気孔直径を１．０
μｍ以下とすることができる。また、原料にカーボンブ
ラック、フェノール樹脂等の樹脂などの難黒鉛化性の材
料を添加し、かつ／または黒鉛化処理の温度を調整する
ことにより、黒鉛のショア硬さを８５以上にすることが
できる。
【００１５】また、本発明を構成する黒鉛は、自己焼結
性を有するメソフェーズ系原料（一元系の材料）を使用
する方法によっても製造することができる。この場合、
たとえば水素と炭素の原子比Ｈ／Ｃが０．８５以下の重
質油にニトロ化剤を１０重量％以下添加し、４００〜５
３０℃に加熱し、加熱過程で３００ｍｍＨｇ以下に減圧
して留出する油分を除去して得られるピッチを原料とし
て用いることができる。重質油には、コールタール、エ
チレンボトムピッチ等を用いることができ、ニトロ化剤
としては硝酸、硝酸アセチル等を用いることができる。
ニトロ化剤が添加された重質油を４００〜５３０℃に加
熱することにより、メソフェーズの生成を妨げずに重縮
合を進め、原料にバインダ性を持たせながら、炭化歩留
りを増加させ、原料収率の向上を図ることができる。ま
た、４００℃〜５３０℃の加熱過程で、減圧し、加熱過
程で発生する分解油や低分子化合物を除去することによ
り、重質油の濃縮、メソフェーズの生成の促進を図り、
さらに後の焼成工程でかさ比重が高く、平均気孔直径が
小さい黒鉛を生成できる材料を得ることができる。上記
工程により得られるピッチをたとえば１０μｍ以下に粉
砕し、成形する。成形には、たとえば静水圧プレスが好
ましく用いられる。得られた成形体を、たとえば１２０
０℃までの温度で焼成し炭化物を得た後、得られた炭化
物を２０００℃〜３０００℃の温度で加熱する（黒鉛化
処理する）ことにより黒鉛が得られる。また、上記工程
により得られるピッチに、カーボンブラック、フェノー
ル樹脂等の樹脂など、難黒鉛化性の原料を添加し、かつ
／または黒鉛化処理温度を調整することにより、８５以
上のショア硬さを有する黒鉛を得ることができる。
性を有するメソフェーズ系原料（一元系の材料）を使用
する方法によっても製造することができる。この場合、
たとえば水素と炭素の原子比Ｈ／Ｃが０．８５以下の重
質油にニトロ化剤を１０重量％以下添加し、４００〜５
３０℃に加熱し、加熱過程で３００ｍｍＨｇ以下に減圧
して留出する油分を除去して得られるピッチを原料とし
て用いることができる。重質油には、コールタール、エ
チレンボトムピッチ等を用いることができ、ニトロ化剤
としては硝酸、硝酸アセチル等を用いることができる。
ニトロ化剤が添加された重質油を４００〜５３０℃に加
熱することにより、メソフェーズの生成を妨げずに重縮
合を進め、原料にバインダ性を持たせながら、炭化歩留
りを増加させ、原料収率の向上を図ることができる。ま
た、４００℃〜５３０℃の加熱過程で、減圧し、加熱過
程で発生する分解油や低分子化合物を除去することによ
り、重質油の濃縮、メソフェーズの生成の促進を図り、
さらに後の焼成工程でかさ比重が高く、平均気孔直径が
小さい黒鉛を生成できる材料を得ることができる。上記
工程により得られるピッチをたとえば１０μｍ以下に粉
砕し、成形する。成形には、たとえば静水圧プレスが好
ましく用いられる。得られた成形体を、たとえば１２０
０℃までの温度で焼成し炭化物を得た後、得られた炭化
物を２０００℃〜３０００℃の温度で加熱する（黒鉛化
処理する）ことにより黒鉛が得られる。また、上記工程
により得られるピッチに、カーボンブラック、フェノー
ル樹脂等の樹脂など、難黒鉛化性の原料を添加し、かつ
／または黒鉛化処理温度を調整することにより、８５以
上のショア硬さを有する黒鉛を得ることができる。
【００１６】以上のプロセスにより製造される黒鉛は、
加工性がよく、機械加工によってイオン注入装置用部品
として所定の形状に容易に加工される。機械加工により
所定の形状にされた黒鉛部材を洗浄、乾燥等し、ハロゲ
ンガス下での熱処理等による高純度化工程の後、イオン
注入装置用部品が得られる。
加工性がよく、機械加工によってイオン注入装置用部品
として所定の形状に容易に加工される。機械加工により
所定の形状にされた黒鉛部材を洗浄、乾燥等し、ハロゲ
ンガス下での熱処理等による高純度化工程の後、イオン
注入装置用部品が得られる。
【００１７】本発明を構成する黒鉛のかさ比重は１．９
６以上である。かさ比重を１．９６以上とすることによ
り、イオンスパッタリングを受けて減耗したとしても、
減耗重量に対する部品の寸法の減少、変形を小さく抑え
ることができ、部品の寿命を長く保つことができる。部
品の形状は、イオンビームの収束等に影響を与えるの
で、変形量が少ないほど、より長期間使用することがで
きる。また、かさ比重を１．９６以上とすることで、耐
スパッタリング性が向上し、重量の減少も小さくなるこ
とがわかった。
６以上である。かさ比重を１．９６以上とすることによ
り、イオンスパッタリングを受けて減耗したとしても、
減耗重量に対する部品の寸法の減少、変形を小さく抑え
ることができ、部品の寿命を長く保つことができる。部
品の形状は、イオンビームの収束等に影響を与えるの
で、変形量が少ないほど、より長期間使用することがで
きる。また、かさ比重を１．９６以上とすることで、耐
スパッタリング性が向上し、重量の減少も小さくなるこ
とがわかった。
【００１８】本発明を構成する黒鉛のショア硬さは、８
５以上、好ましくは８５〜１１０である。ショア硬さを
８５以上とすることにより、耐スパッタリング性を向上
させることができ、減耗重量を低下させることが可能と
なる。黒鉛結晶は、炭素原子の六角網面による層状の構
造を有しており、この網面の間隔が広いほど、言い換え
ると網面の凹凸が大きいほど、層の滑りに要するエネル
ギは大きくなる。このことは、網面の間隔と硬度が密接
に関係しており、網面の間隔が広いほど硬度が高くなる
傾向にあることを意味している。本発明では、加工性の
高い黒鉛に８５以上のショア硬さを持たせることで、以
下の実施例に示すように耐スパッタリング性を付与して
いる。なお、高い加工性および良好な導電性を保持する
点から、ショア硬さは１１０以下が好ましい。
５以上、好ましくは８５〜１１０である。ショア硬さを
８５以上とすることにより、耐スパッタリング性を向上
させることができ、減耗重量を低下させることが可能と
なる。黒鉛結晶は、炭素原子の六角網面による層状の構
造を有しており、この網面の間隔が広いほど、言い換え
ると網面の凹凸が大きいほど、層の滑りに要するエネル
ギは大きくなる。このことは、網面の間隔と硬度が密接
に関係しており、網面の間隔が広いほど硬度が高くなる
傾向にあることを意味している。本発明では、加工性の
高い黒鉛に８５以上のショア硬さを持たせることで、以
下の実施例に示すように耐スパッタリング性を付与して
いる。なお、高い加工性および良好な導電性を保持する
点から、ショア硬さは１１０以下が好ましい。
【００１９】本発明を構成する黒鉛の平均気孔直径は
１．０μｍ以下である。本発明者は、黒鉛の平均気孔直
径を１．０μｍ以下とすることで、その表面がより平滑
となり、耐スパッタリング性が向上することを見出し
た。平均気孔直径が１．０μｍを超える場合、表面仕上
げの工程の際に材料の気孔が表面の凹凸となって現れ、
耐スパッタリング性の高い平滑な表面を得ることが困難
となる。また、平均気孔直径を１．０μｍ以下とするこ
とで、スパッタリングによる黒鉛ダストの発生を効果的
に抑制することができる。
１．０μｍ以下である。本発明者は、黒鉛の平均気孔直
径を１．０μｍ以下とすることで、その表面がより平滑
となり、耐スパッタリング性が向上することを見出し
た。平均気孔直径が１．０μｍを超える場合、表面仕上
げの工程の際に材料の気孔が表面の凹凸となって現れ、
耐スパッタリング性の高い平滑な表面を得ることが困難
となる。また、平均気孔直径を１．０μｍ以下とするこ
とで、スパッタリングによる黒鉛ダストの発生を効果的
に抑制することができる。
【００２０】以上に示すようなプロセスにより製造され
る黒鉛は、ガラス状カーボンのように厚みが限定される
ことはなく、任意の形状、任意のサイズのものを得るこ
とが可能である。また黒鉛はガラス状カーボンに比べて
加工性に優れる。本発明は、１．９６以上のかさ比重、
８５以上のショア硬さ、１．０μｍ以下の平均気孔直径
を同時に有する黒鉛でイオン注入装置用部品を構成する
ことにより、安価でかつ所定の形状、大きさのものを加
工により容易に得ることができ、しかも耐スパッタリン
グ性に優れたものを提供することができる。
る黒鉛は、ガラス状カーボンのように厚みが限定される
ことはなく、任意の形状、任意のサイズのものを得るこ
とが可能である。また黒鉛はガラス状カーボンに比べて
加工性に優れる。本発明は、１．９６以上のかさ比重、
８５以上のショア硬さ、１．０μｍ以下の平均気孔直径
を同時に有する黒鉛でイオン注入装置用部品を構成する
ことにより、安価でかつ所定の形状、大きさのものを加
工により容易に得ることができ、しかも耐スパッタリン
グ性に優れたものを提供することができる。
【００２１】
【実施例】以下に本発明に従う実施例と比較例とを対比
して説明する。
して説明する。
【００２２】［一元系原料を用いる製造］原子比Ｈ／Ｃ
が約０．７１のコールタールに８重量％で硝酸を添加し
て約４２０℃で約６時間加熱しながら、約１５ｍｍＨｇ
の減圧下で流出する油分を除去して、重質化を進め、自
己焼結性を有する炭素粉を得た。得られた炭素粉をボー
ルミルで１０μｍ以下に粉砕し、これにカーボンブラッ
クを添加して、得られた混合物を冷間静水圧プレスによ
り室温で１０００ｋｇ／ｃｍ2 以上で加圧し、円柱型の
成形体を得た。得られた成形体を、１２００℃まで昇温
し、炭化物を得た。次いで炭化物をＡｒ雰囲気中で２０
００℃以上の温度において黒鉛化した。以上のプロセス
により、かさ比重が１．９６〜１．９８、ショア硬さが
８５〜１００、平均気孔直径が１．０μｍ以下の黒鉛材
を得た。
が約０．７１のコールタールに８重量％で硝酸を添加し
て約４２０℃で約６時間加熱しながら、約１５ｍｍＨｇ
の減圧下で流出する油分を除去して、重質化を進め、自
己焼結性を有する炭素粉を得た。得られた炭素粉をボー
ルミルで１０μｍ以下に粉砕し、これにカーボンブラッ
クを添加して、得られた混合物を冷間静水圧プレスによ
り室温で１０００ｋｇ／ｃｍ2 以上で加圧し、円柱型の
成形体を得た。得られた成形体を、１２００℃まで昇温
し、炭化物を得た。次いで炭化物をＡｒ雰囲気中で２０
００℃以上の温度において黒鉛化した。以上のプロセス
により、かさ比重が１．９６〜１．９８、ショア硬さが
８５〜１００、平均気孔直径が１．０μｍ以下の黒鉛材
を得た。
【００２３】一方、比較例として、以上のプロセスにお
いて黒鉛化処理の温度を２０００℃以上とし、カーボン
ブラックを添加しない条件、静水圧を５００〜１０００
ｋｇ／ｃｍ2 とする条件のいずれかを用いるか、または
それらを組合せることにより、かさ密度、ショア硬さ、
平均気孔直径のいずれかが本発明の範囲から外れたもの
を調製した。
いて黒鉛化処理の温度を２０００℃以上とし、カーボン
ブラックを添加しない条件、静水圧を５００〜１０００
ｋｇ／ｃｍ2 とする条件のいずれかを用いるか、または
それらを組合せることにより、かさ密度、ショア硬さ、
平均気孔直径のいずれかが本発明の範囲から外れたもの
を調製した。
【００２４】得られた黒鉛材を機械加工し、洗浄・乾燥
の後、ハロゲンガス下での熱処理による高純度化処理を
行なって、得られた材料から板状のサンプルを切り出
し、耐スパッタリング性の試験に供した。
の後、ハロゲンガス下での熱処理による高純度化処理を
行なって、得られた材料から板状のサンプルを切り出
し、耐スパッタリング性の試験に供した。
【００２５】［二元系原料を用いる製造］粒径１０μｍ
以下に微粉砕したコークスに、ピッチおよびカーボンブ
ラックを添加し、熱間混練した。混練したものを再び粉
砕した後、熱間静水圧プレスで２０００℃にて円柱形に
成形、焼成した。焼成後に得られた炭化物について、２
０００℃以上の温度で黒鉛化処理を行なった。以上のプ
ロセスにより、かさ比重が１．９６、ショア硬さが９
０、平均気孔直径が０．６μｍの黒鉛材を得た。
以下に微粉砕したコークスに、ピッチおよびカーボンブ
ラックを添加し、熱間混練した。混練したものを再び粉
砕した後、熱間静水圧プレスで２０００℃にて円柱形に
成形、焼成した。焼成後に得られた炭化物について、２
０００℃以上の温度で黒鉛化処理を行なった。以上のプ
ロセスにより、かさ比重が１．９６、ショア硬さが９
０、平均気孔直径が０．６μｍの黒鉛材を得た。
【００２６】一方、比較例として、黒鉛化処理温度を２
０００℃以上とし、カーボンブラックを添加しない条
件、熱間静水圧プレスではなく冷間静水圧プレスで成形
する条件のいずれかを用いることにより、本発明の範囲
から外れた黒鉛を作製した。
０００℃以上とし、カーボンブラックを添加しない条
件、熱間静水圧プレスではなく冷間静水圧プレスで成形
する条件のいずれかを用いることにより、本発明の範囲
から外れた黒鉛を作製した。
【００２７】得られた黒鉛材を機械加工し、洗浄・乾燥
の後、ハロゲンガス下での熱処理による高純度化処理を
行なって、得られた材料から板状のサンプルを切り出
し、耐スパッタリング性について試験した。
の後、ハロゲンガス下での熱処理による高純度化処理を
行なって、得られた材料から板状のサンプルを切り出
し、耐スパッタリング性について試験した。
【００２８】切り出した板状のサンプルを、それぞれ表
１に示す条件で試験し、耐スパッタリング性について評
価した。試験において、サンプルが減耗した深さを測定
することにより、耐スパッタリング性について比較を行
なった。減耗深さが小さいほど、耐スパッタリング性に
優れていることになる。各サンプルについて試験した結
果を表２に示す。表２に示すとおり、本発明に従う実施
例は、比較例に比べて高い耐スパッタリング性を有して
いることがわかる。
１に示す条件で試験し、耐スパッタリング性について評
価した。試験において、サンプルが減耗した深さを測定
することにより、耐スパッタリング性について比較を行
なった。減耗深さが小さいほど、耐スパッタリング性に
優れていることになる。各サンプルについて試験した結
果を表２に示す。表２に示すとおり、本発明に従う実施
例は、比較例に比べて高い耐スパッタリング性を有して
いることがわかる。
【００２９】
【表１】
【００３０】
【表２】
【００３１】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明によって提
供されるイオン注入装置用部品は、優れた耐スパッタリ
ング性を有する。また、本発明による部品は、黒鉛材を
用いるため安価に製造することができる。したがって、
本発明をイオン注入装置に用いれば、半導体デバイス等
の電子デバイスの製造において歩留りの向上を図ること
ができ、またイオン注入装置のランニングコストを低く
抑えることができる。
供されるイオン注入装置用部品は、優れた耐スパッタリ
ング性を有する。また、本発明による部品は、黒鉛材を
用いるため安価に製造することができる。したがって、
本発明をイオン注入装置に用いれば、半導体デバイス等
の電子デバイスの製造において歩留りの向上を図ること
ができ、またイオン注入装置のランニングコストを低く
抑えることができる。
【図１】黒鉛の平均気孔直径を測定するための方法を説
明する図である。
明する図である。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01J 37/317 C23C 14/48 H01L 21/265 603 ＪＩＣＳＴファイル（ＪＯＩＳ)
Claims (1)
- 【請求項１】 １．９６以上のかさ比重、８５以上のシ
ョア硬さおよび１．０μｍ以下の平均気孔直径を有する
黒鉛からなることを特徴とする、イオン注入装置用部
品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08009434A JP3114604B2 (ja) | 1996-01-23 | 1996-01-23 | イオン注入装置用部品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08009434A JP3114604B2 (ja) | 1996-01-23 | 1996-01-23 | イオン注入装置用部品 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09199073A JPH09199073A (ja) | 1997-07-31 |
| JP3114604B2 true JP3114604B2 (ja) | 2000-12-04 |
Family
ID=11720226
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08009434A Expired - Fee Related JP3114604B2 (ja) | 1996-01-23 | 1996-01-23 | イオン注入装置用部品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3114604B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4046748B2 (ja) | 2005-10-28 | 2008-02-13 | 東洋炭素株式会社 | イオン注入装置のビームラインの内部部材用黒鉛部材及びその製造方法 |
-
1996
- 1996-01-23 JP JP08009434A patent/JP3114604B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09199073A (ja) | 1997-07-31 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20000829 |
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