JP3096069B2 - 共振タグ及びその製造方法 - Google Patents
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は共振タグ及びその製造方
法に関し、例えば、万引き等の盗難を確認する目的で商
品に貼付される共振タグ及びその製造方法に関するもの
である。
法に関し、例えば、万引き等の盗難を確認する目的で商
品に貼付される共振タグ及びその製造方法に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】従来、スーパーマーケツト、専門店、デ
パート等で万引き等の盗難防止を目的として使用される
共振タグは、誘電体を構成する或る所定の厚みを有する
ポリエチレン等の合成樹脂フイルムの両側に、厚みの異
なるアルミニウム箔を各種の貼り合わせ方法にて積層
し、厚みの厚いアルミニウム箔の表面にはR、L回路
を、厚みの薄い方にコンデンサ回路を、それぞれグラビ
ア印刷等の印刷方法にて印刷後、アルカリ性(苛性ソー
ダ等)或いは酸性(塩化第二鉄等)等の化学薬品類を用
いてエツチング加工を施す事により共振周波数回路を形
成する。
パート等で万引き等の盗難防止を目的として使用される
共振タグは、誘電体を構成する或る所定の厚みを有する
ポリエチレン等の合成樹脂フイルムの両側に、厚みの異
なるアルミニウム箔を各種の貼り合わせ方法にて積層
し、厚みの厚いアルミニウム箔の表面にはR、L回路
を、厚みの薄い方にコンデンサ回路を、それぞれグラビ
ア印刷等の印刷方法にて印刷後、アルカリ性(苛性ソー
ダ等)或いは酸性(塩化第二鉄等)等の化学薬品類を用
いてエツチング加工を施す事により共振周波数回路を形
成する。
【0003】共振周波数とタグのサイズによつては、
R,L回路とコンデンサ回路を導通させる事により、
R,L,C共振周波数タグを得ていた。以上のようにし
て製造される共振タグの、誘電体として使用されている
ポリエチレン等の合成樹脂フイルムは、樹脂を熱溶融
後、押し出し方法により形成されていた。
R,L回路とコンデンサ回路を導通させる事により、
R,L,C共振周波数タグを得ていた。以上のようにし
て製造される共振タグの、誘電体として使用されている
ポリエチレン等の合成樹脂フイルムは、樹脂を熱溶融
後、押し出し方法により形成されていた。
【0004】
【発明が解決しようとしている課題】このため、共振タ
グの誘電体として使用されているポリエチレン等の合成
樹脂フイルムは、押し出し機械の精度、製造技術の優劣
によつて幅及び流れ方向の合成樹脂フイルムの厚さは全
て均一であるという事はなく、設計厚みの或るパーセン
トの範囲内で変動している。
グの誘電体として使用されているポリエチレン等の合成
樹脂フイルムは、押し出し機械の精度、製造技術の優劣
によつて幅及び流れ方向の合成樹脂フイルムの厚さは全
て均一であるという事はなく、設計厚みの或るパーセン
トの範囲内で変動している。
【0005】特に、低コストの共振タグを得るための一
つの手段として、できるたけ幅広の材料を用い、共振周
波数タグを多数個面付けしているため、面付けの列及び
列の流れ方向の各々のタグの誘電体の厚みも変動してい
た。しかしながら、共振タグの共振周波数は、コンデン
サ回路部分の誘電体の厚さ変動に深く依存している。
つの手段として、できるたけ幅広の材料を用い、共振周
波数タグを多数個面付けしているため、面付けの列及び
列の流れ方向の各々のタグの誘電体の厚みも変動してい
た。しかしながら、共振タグの共振周波数は、コンデン
サ回路部分の誘電体の厚さ変動に深く依存している。
【0006】このため、各々の共振タグの誘電体の厚み
の変動はそのまま共振タグ個々の共振周波数の変動とな
つていた。この事に起因して電子式検知器の識別能力に
よつては、面付けの列及び列の流れ方向に部分的に相当
量の製品が不良として扱われる許容外の共振タグが発生
し、その生産性を著しく低下させると同時にコストアツ
プを引き起こすという欠点がある。
の変動はそのまま共振タグ個々の共振周波数の変動とな
つていた。この事に起因して電子式検知器の識別能力に
よつては、面付けの列及び列の流れ方向に部分的に相当
量の製品が不良として扱われる許容外の共振タグが発生
し、その生産性を著しく低下させると同時にコストアツ
プを引き起こすという欠点がある。
【0007】更に、共振タグのサイズが同一でコンデン
サ部分が回路内にあるタグの場合、その性能を上げるた
めには、コンデンサの電極板の面積を小さくする必要が
ある。その場合に、同一の共振周波数を得ようとすると
コンデンサ回路部分の誘電体の厚さを薄くする必要性が
生じる。しかし、製造にあたつては、エツチング加工も
含めて各種の機械加工を行なう必要があり、それらの機
械加工に耐えられる機械強度が要求される。このため、
合成樹脂フイルム等の誘電体の厚さを薄くすることにつ
いては限度がある。
サ部分が回路内にあるタグの場合、その性能を上げるた
めには、コンデンサの電極板の面積を小さくする必要が
ある。その場合に、同一の共振周波数を得ようとすると
コンデンサ回路部分の誘電体の厚さを薄くする必要性が
生じる。しかし、製造にあたつては、エツチング加工も
含めて各種の機械加工を行なう必要があり、それらの機
械加工に耐えられる機械強度が要求される。このため、
合成樹脂フイルム等の誘電体の厚さを薄くすることにつ
いては限度がある。
【0008】更に、押し出し機械の精度だしの困難性は
誘電体の厚みに反比例する。現在は、このような諸条件
下で製造可能な合成樹脂フイルムの厚さとしては、押し
出し機械の精度の限度と機械加工面から要求される材料
強度等から25ミクロンプラスマイナス4ミクロンであ
る。
誘電体の厚みに反比例する。現在は、このような諸条件
下で製造可能な合成樹脂フイルムの厚さとしては、押し
出し機械の精度の限度と機械加工面から要求される材料
強度等から25ミクロンプラスマイナス4ミクロンであ
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は上述の課題を解
決することを目的として成されたもので、上述の課題を
解決する一手段として以下の構成を備える。即ち、絶縁
性薄膜の両面に導電性パターンを形成し、前記導電性パ
ターンにより所定の共振周波数で共振する共振回路を形
成してなり、前記絶縁性薄膜の少なくとも前記導電性パ
ターン形成部位は所定厚さに薄膜化されていることを特
徴とする。そして例えば、前記薄膜化は、前記絶縁性薄
膜の厚さを前記導電性パターン形成部位の全面の厚さが
所定厚さとなるように薄膜化することを特徴とする。あ
るいは、前記薄膜化は、前記絶縁性薄膜の厚さを前記導
電性パターン形成部位のコンデンサ要素を備えるパター
ン形成部位の厚さが所定厚さとなるように薄膜化するこ
とを特徴とする。更に例えば、絶縁性薄膜の両面の導電
性パターンを電気的に導通状態として共振回路を形成す
ることを特徴とする。
決することを目的として成されたもので、上述の課題を
解決する一手段として以下の構成を備える。即ち、絶縁
性薄膜の両面に導電性パターンを形成し、前記導電性パ
ターンにより所定の共振周波数で共振する共振回路を形
成してなり、前記絶縁性薄膜の少なくとも前記導電性パ
ターン形成部位は所定厚さに薄膜化されていることを特
徴とする。そして例えば、前記薄膜化は、前記絶縁性薄
膜の厚さを前記導電性パターン形成部位の全面の厚さが
所定厚さとなるように薄膜化することを特徴とする。あ
るいは、前記薄膜化は、前記絶縁性薄膜の厚さを前記導
電性パターン形成部位のコンデンサ要素を備えるパター
ン形成部位の厚さが所定厚さとなるように薄膜化するこ
とを特徴とする。更に例えば、絶縁性薄膜の両面の導電
性パターンを電気的に導通状態として共振回路を形成す
ることを特徴とする。
【0010】以上の共振タグは、以下の工程で製造され
る。即ち、絶縁性薄膜の両面に所定厚さの導電性薄膜を
形成する被膜工程と、該被膜工程により形成された導電
性薄膜に耐エツチング性インクで少なくとも所定の共振
周波数で共振する共振回路パターンを印刷する印刷工程
と、該印刷工程に続いて非印刷部の導電性薄膜を除去す
るエツチング工程と、該エツチング工程で形成された共
振回路パターン配置位置を所望の厚さに薄膜化する薄膜
化工程と、前記絶縁性薄膜の両面の共振回路パターン間
を導通させ固有の共振周波数の共振回路を形成する回路
形成工程とより成ることを特徴とする。そして例えば、
エツチング工程又は回路形成工程後の導電性パターンの
形成された絶縁性薄膜を、可撓性を有する所定厚さの薄
膜に剥離可能に貼付ける貼付工程を更に備えることを特
徴とする。また例えば、薄膜化工程は、薄膜化部分を所
定温度に加熱した加熱押圧部材を所定時間、所定圧力で
押圧することを特徴とする。更に例えば、前記薄膜化工
程は、前記絶縁性薄膜の厚さを15ミクロン以下の薄さ
に薄膜化するものであることを特徴とする。
る。即ち、絶縁性薄膜の両面に所定厚さの導電性薄膜を
形成する被膜工程と、該被膜工程により形成された導電
性薄膜に耐エツチング性インクで少なくとも所定の共振
周波数で共振する共振回路パターンを印刷する印刷工程
と、該印刷工程に続いて非印刷部の導電性薄膜を除去す
るエツチング工程と、該エツチング工程で形成された共
振回路パターン配置位置を所望の厚さに薄膜化する薄膜
化工程と、前記絶縁性薄膜の両面の共振回路パターン間
を導通させ固有の共振周波数の共振回路を形成する回路
形成工程とより成ることを特徴とする。そして例えば、
エツチング工程又は回路形成工程後の導電性パターンの
形成された絶縁性薄膜を、可撓性を有する所定厚さの薄
膜に剥離可能に貼付ける貼付工程を更に備えることを特
徴とする。また例えば、薄膜化工程は、薄膜化部分を所
定温度に加熱した加熱押圧部材を所定時間、所定圧力で
押圧することを特徴とする。更に例えば、前記薄膜化工
程は、前記絶縁性薄膜の厚さを15ミクロン以下の薄さ
に薄膜化するものであることを特徴とする。
【0011】
【作用】以上の構成において、絶縁性薄膜の厚さを高精
度で所望の厚さに薄膜化することができ、例えば絶縁性
薄膜の厚さのばらつきが共振周波数の変動を招くコンデ
ンサ要素部分を所望厚さに薄膜化することにより、高精
度で設計値の共振周波数特性回路を内蔵した共振タグを
得ることができる。
度で所望の厚さに薄膜化することができ、例えば絶縁性
薄膜の厚さのばらつきが共振周波数の変動を招くコンデ
ンサ要素部分を所望厚さに薄膜化することにより、高精
度で設計値の共振周波数特性回路を内蔵した共振タグを
得ることができる。
【0012】
【実施例】以下、図面を参照して本発明に係る一実施例
を詳細に説明する。本実施例の共振タグは、可撓性を有
する絶縁性薄膜に、固有の共振周波数を有する共振回路
を形成してなる。この共振回路は、1個のR,L回路
(誘電子要素)と、1個のキヤパシタ(コンデンサ回路
要素)とが一体に形成され、或る特定の周波数に対しR
LC共振回路を形成する様に整調されている。
を詳細に説明する。本実施例の共振タグは、可撓性を有
する絶縁性薄膜に、固有の共振周波数を有する共振回路
を形成してなる。この共振回路は、1個のR,L回路
(誘電子要素)と、1個のキヤパシタ(コンデンサ回路
要素)とが一体に形成され、或る特定の周波数に対しR
LC共振回路を形成する様に整調されている。
【0013】本実施例共振タグのR,L回路及びコンデ
ンサ回路形成面の導電性金属箔パターンの例を図1に、
コンデンサ回路のみの形成面の導電性金属箔パターンの
例を図2に示す。図中1は誘電体を構成する絶縁性合成
樹脂フイルム、5は絶縁性合成樹脂フイルム1上に形成
された共振回路における誘電子回路、8,9は絶縁性合
成樹脂フイルム1上に形成された共振回路におけるコン
デンサ回路を構成する電極板、10は両回路を導通させ
るための導通用端子部である。5,8,9および10は
導電性金属箔で形成されている。
ンサ回路形成面の導電性金属箔パターンの例を図1に、
コンデンサ回路のみの形成面の導電性金属箔パターンの
例を図2に示す。図中1は誘電体を構成する絶縁性合成
樹脂フイルム、5は絶縁性合成樹脂フイルム1上に形成
された共振回路における誘電子回路、8,9は絶縁性合
成樹脂フイルム1上に形成された共振回路におけるコン
デンサ回路を構成する電極板、10は両回路を導通させ
るための導通用端子部である。5,8,9および10は
導電性金属箔で形成されている。
【0014】共振回路を形成するプリント基板材料に
は、図3に示す如く、絶縁性合成樹脂フイルム1と、そ
の両側に厚さの異なる導電性金属箔2,3を、押し出し
法、ヒート・ラミネーシヨン法等の方法により貼合した
複合材が使用される。絶縁性合成樹脂フイルム1の一方
面には、図1に示した如くの誘電子回路パターン(R,
L回路パターン)5と、コンデンサ回路パターン(電極
板)8が形成され、絶縁性合成樹脂フイルム1を挟んだ
他方の面(裏面)には、図2に示すコンデンサ回路パタ
ーン(電極板)9が形成されている。そして、両パター
ン5,8および9とで共振回路を形成している。コンデ
ンサ回路パターン9の導通用端子部10は絶縁性合成樹
脂フイルム1を挟んでR,L回路パターンの導通用端子
部10と正反対の位置(面対称)に設けられ、例えば両
導通用端子部10間を導通状態に加工することにより共
振回路を形成する。
は、図3に示す如く、絶縁性合成樹脂フイルム1と、そ
の両側に厚さの異なる導電性金属箔2,3を、押し出し
法、ヒート・ラミネーシヨン法等の方法により貼合した
複合材が使用される。絶縁性合成樹脂フイルム1の一方
面には、図1に示した如くの誘電子回路パターン(R,
L回路パターン)5と、コンデンサ回路パターン(電極
板)8が形成され、絶縁性合成樹脂フイルム1を挟んだ
他方の面(裏面)には、図2に示すコンデンサ回路パタ
ーン(電極板)9が形成されている。そして、両パター
ン5,8および9とで共振回路を形成している。コンデ
ンサ回路パターン9の導通用端子部10は絶縁性合成樹
脂フイルム1を挟んでR,L回路パターンの導通用端子
部10と正反対の位置(面対称)に設けられ、例えば両
導通用端子部10間を導通状態に加工することにより共
振回路を形成する。
【0015】この両回路要素パターンは、シルクスクリ
ーン印刷、フレキソ印刷、凸版印刷、グラビヤ印刷等の
各種印刷方法により印刷することができる。絶縁性合成
樹脂フイルム1と導電性金属箔2,3の選択であるが、
該絶縁性合成樹脂フイルム1は、物理特性の誘電正接値
が比較的小さく、かつ設計された回路の周波数に相応
し、正確な厚さ公差が維持できるポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリスチレン、或いはポリエステル等の如き
合成樹脂で構成されることが望ましい。
ーン印刷、フレキソ印刷、凸版印刷、グラビヤ印刷等の
各種印刷方法により印刷することができる。絶縁性合成
樹脂フイルム1と導電性金属箔2,3の選択であるが、
該絶縁性合成樹脂フイルム1は、物理特性の誘電正接値
が比較的小さく、かつ設計された回路の周波数に相応
し、正確な厚さ公差が維持できるポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリスチレン、或いはポリエステル等の如き
合成樹脂で構成されることが望ましい。
【0016】一方、金属箔は導電性能の良いものであれ
ば、金、銀、銅、アルミニウム等の金属、または種々の
合金を用いることができる。しかし、原料コスト面では
ポリエチレン樹脂とアルミニウム箔が他材料と比較し安
価である。物性面、特に接着性に関しても、アルミニウ
ム箔はポリエチレン樹脂に接着しやすいため特に好まし
い。導電性金属箔の可撓性に関してもアルミニウム箔が
特に優れている。
ば、金、銀、銅、アルミニウム等の金属、または種々の
合金を用いることができる。しかし、原料コスト面では
ポリエチレン樹脂とアルミニウム箔が他材料と比較し安
価である。物性面、特に接着性に関しても、アルミニウ
ム箔はポリエチレン樹脂に接着しやすいため特に好まし
い。導電性金属箔の可撓性に関してもアルミニウム箔が
特に優れている。
【0017】このため、本実施例では、絶縁性合成樹脂
フイルム1としてポリエチレン樹脂を、導電性金属箔と
してアルミニウム箔を用いている。本実施例で用いてい
る絶縁性合成樹脂フイルムであるポリエチレン樹脂は、
アルミニウム箔との接着性に優れており、密度としては
低密度、中密度、高密度のいずれも使用可能であるが、
タグとしての性能及び機械加工上の材料強度の点から中
密度以上のものを用いることが望ましい。
フイルム1としてポリエチレン樹脂を、導電性金属箔と
してアルミニウム箔を用いている。本実施例で用いてい
る絶縁性合成樹脂フイルムであるポリエチレン樹脂は、
アルミニウム箔との接着性に優れており、密度としては
低密度、中密度、高密度のいずれも使用可能であるが、
タグとしての性能及び機械加工上の材料強度の点から中
密度以上のものを用いることが望ましい。
【0018】以上の構成より成る本実施例の共振タグの
製造工程を図4に従い以下に説明する。本実施例の共振
タグを製造するにあたつて、まずステツプS1で絶縁性
合成樹脂フイルム1と、該フイルム1の両面に形成され
た導電性金属箔2,3を形成した図3に示す可撓性シー
トを作る。
製造工程を図4に従い以下に説明する。本実施例の共振
タグを製造するにあたつて、まずステツプS1で絶縁性
合成樹脂フイルム1と、該フイルム1の両面に形成され
た導電性金属箔2,3を形成した図3に示す可撓性シー
トを作る。
【0019】本実施例では、導電性金属箔として、AA
規格(アメリカ,アルミニウム協会制定の規格)の10
50,1100,1235等に相当する品種のアルミニ
ウム箔が使用可能である。アルミニウム箔等の金属箔の
厚さは、設計上の電気抵抗値、及びインダクタンス、エ
ツチング加工精度、及びコスト等により決定されるが、
本実施例では、R,L回路パターン回路等に使用される
金属箔の箔厚は、電気抵抗値を低くするために厚い箔2
が使用される。他方のコンデンサパター板回路に使用さ
れる金属箔は、コンデンサの電極板及び導通用端子とし
て使用されるだけであることと、回路作成のためのエツ
チング加工コストをできるだけ低減させることを理由
に、薄い箔3が使用される。
規格(アメリカ,アルミニウム協会制定の規格)の10
50,1100,1235等に相当する品種のアルミニ
ウム箔が使用可能である。アルミニウム箔等の金属箔の
厚さは、設計上の電気抵抗値、及びインダクタンス、エ
ツチング加工精度、及びコスト等により決定されるが、
本実施例では、R,L回路パターン回路等に使用される
金属箔の箔厚は、電気抵抗値を低くするために厚い箔2
が使用される。他方のコンデンサパター板回路に使用さ
れる金属箔は、コンデンサの電極板及び導通用端子とし
て使用されるだけであることと、回路作成のためのエツ
チング加工コストをできるだけ低減させることを理由
に、薄い箔3が使用される。
【0020】本実施例においては、R,L回路パターン
及びコンデンサ回路パターン形成面には厚さ50ミクロ
ン(μ)の、コンデンサ回路パターンのみの形成面には
厚さ12ミクロン(μ)の厚さのAA規格1235に相
当するアルミ箔が使用される。しかし、この厚さは本例
に限るものではなく、形成する共振回路に適した任意の
厚さ、大きさとすることができる。
及びコンデンサ回路パターン形成面には厚さ50ミクロ
ン(μ)の、コンデンサ回路パターンのみの形成面には
厚さ12ミクロン(μ)の厚さのAA規格1235に相
当するアルミ箔が使用される。しかし、この厚さは本例
に限るものではなく、形成する共振回路に適した任意の
厚さ、大きさとすることができる。
【0021】一方、ポリエチレン等の合成樹脂フイルム
の厚さは、共振タグの商品設計(サイズ,周波数,性能
等)や、製膜に使用される機械の厚さ制御精度、エツチ
ング加工を含めたそれ以後の機械加工に耐え得る材料強
度等を充分に満たす範囲で決められる。また、共振回路
のQ値を上げるには、コンデンサ回路パターン部分の絶
縁性合成樹脂フイルム1は薄い方がよく、コンデンサ回
路パターンの電極板面積は小さい方がよい。
の厚さは、共振タグの商品設計(サイズ,周波数,性能
等)や、製膜に使用される機械の厚さ制御精度、エツチ
ング加工を含めたそれ以後の機械加工に耐え得る材料強
度等を充分に満たす範囲で決められる。また、共振回路
のQ値を上げるには、コンデンサ回路パターン部分の絶
縁性合成樹脂フイルム1は薄い方がよく、コンデンサ回
路パターンの電極板面積は小さい方がよい。
【0022】しかし、共振回路のコンデンサ回路のコン
デンサ容量が所定の設計値の範囲内に納まるには、絶縁
性合成樹脂フイルム1の厚さのばらつきを所定範囲内に
納めなければならない。設計上要求される押し出しでの
厚さのばらつきは、要求される厚さによりその誤差範囲
が異なる。例えば、厚さが25ミクロンの場合は、プラ
スマイナス3ミクロンが要求され、13ミクロンの場合
は0.5ミクロンが要求される。
デンサ容量が所定の設計値の範囲内に納まるには、絶縁
性合成樹脂フイルム1の厚さのばらつきを所定範囲内に
納めなければならない。設計上要求される押し出しでの
厚さのばらつきは、要求される厚さによりその誤差範囲
が異なる。例えば、厚さが25ミクロンの場合は、プラ
スマイナス3ミクロンが要求され、13ミクロンの場合
は0.5ミクロンが要求される。
【0023】プラスマイナス3ミクロンの厚さ制御は可
能であるが歩留まりは悪く、0.5ミクロンについては
制御可能限度を越えており、プラスマイナス0.5ミク
ロンの厚さ精度は部分的には可能であつても、生産性、
コスト面を考慮した場合、量産性のある厚さ制御範囲と
は言えない。しかし、主に共振周波数に影響があるのは
コンデンサ回路形成部分のみであり、他の部分の厚さの
ばらつきはさほど共振周波数を変動させない。そこで、
本実施例では、まず合成樹脂フイルムの厚さを26ミク
ロンプラスマイナス5ミクロンとし、後述するように全
ての回路パターンを形成した後にコンデンサ回路部分を
ヒートプレスして所望の高精度での合成樹脂フイルム厚
さとする様に制御される。なお、合成樹脂フイルム厚さ
は26ミクロンに限定されるものではなく、誤差範囲も
従来の同種製品製造時の如き厳密なものでもない。本実
施例においては、後述するヒートプレス工程を行なうた
め、合成樹脂フイルム厚さは、いままでに具備している
製造設備等に合せた任意の厚さのフイルムを利用でき
る。
能であるが歩留まりは悪く、0.5ミクロンについては
制御可能限度を越えており、プラスマイナス0.5ミク
ロンの厚さ精度は部分的には可能であつても、生産性、
コスト面を考慮した場合、量産性のある厚さ制御範囲と
は言えない。しかし、主に共振周波数に影響があるのは
コンデンサ回路形成部分のみであり、他の部分の厚さの
ばらつきはさほど共振周波数を変動させない。そこで、
本実施例では、まず合成樹脂フイルムの厚さを26ミク
ロンプラスマイナス5ミクロンとし、後述するように全
ての回路パターンを形成した後にコンデンサ回路部分を
ヒートプレスして所望の高精度での合成樹脂フイルム厚
さとする様に制御される。なお、合成樹脂フイルム厚さ
は26ミクロンに限定されるものではなく、誤差範囲も
従来の同種製品製造時の如き厳密なものでもない。本実
施例においては、後述するヒートプレス工程を行なうた
め、合成樹脂フイルム厚さは、いままでに具備している
製造設備等に合せた任意の厚さのフイルムを利用でき
る。
【0024】ここで、導電性金属箔2,3によつて絶縁
性合成樹脂フイルム1を被覆する方法としては、 (1)樹脂を溶融し、押出し機のTダイより押出された
フイルム1と導電性金属箔2,3とを直接貼合する方
法、 (2)所定の温度に加熱された加工機械のロール間を通
す事により、ロール間の圧力により接着を可能にする熱
圧着による方法 の2つの方法がある。
性合成樹脂フイルム1を被覆する方法としては、 (1)樹脂を溶融し、押出し機のTダイより押出された
フイルム1と導電性金属箔2,3とを直接貼合する方
法、 (2)所定の温度に加熱された加工機械のロール間を通
す事により、ロール間の圧力により接着を可能にする熱
圧着による方法 の2つの方法がある。
【0025】絶縁性合成樹脂フイルム1と導電性金属箔
との接着に関し、貼り合わせ後の加工を考慮した場合、
層間接着強度としては300g/cm以上が必要であ
る。より高い接着強度を得るためには、両方の材料或い
はどちらか片方の材料の表面を活性化させる必要があ
り、コロナ放電処理がその方法の1つである。一方、両
材料間に接着剤層を設けることも考えられる。この場合
には、接着剤としては使用された絶縁性合成樹脂1と同
一の樹脂系のものを選択することが望ましい。
との接着に関し、貼り合わせ後の加工を考慮した場合、
層間接着強度としては300g/cm以上が必要であ
る。より高い接着強度を得るためには、両方の材料或い
はどちらか片方の材料の表面を活性化させる必要があ
り、コロナ放電処理がその方法の1つである。一方、両
材料間に接着剤層を設けることも考えられる。この場合
には、接着剤としては使用された絶縁性合成樹脂1と同
一の樹脂系のものを選択することが望ましい。
【0026】続いてステツプS2で耐エツチング性を有
する耐酸性或いは耐アルカリ性のインク(本実施例では
ポリエステル系の耐エツチング性インク)を使用して、
導電性金属箔2,3の表面にそれぞれ図1及び図2の如
きR,L回路パターン5,8,10及びコンデンサ回路
パターン9,10より成る共振回路パターンをグラビヤ
方式等により印刷する。この耐エツチング性インク印刷
後の複合材の断面図を図5に示す。図5において、4は
導電性金属箔面に付着した耐エツチング性印刷インクを
示す。
する耐酸性或いは耐アルカリ性のインク(本実施例では
ポリエステル系の耐エツチング性インク)を使用して、
導電性金属箔2,3の表面にそれぞれ図1及び図2の如
きR,L回路パターン5,8,10及びコンデンサ回路
パターン9,10より成る共振回路パターンをグラビヤ
方式等により印刷する。この耐エツチング性インク印刷
後の複合材の断面図を図5に示す。図5において、4は
導電性金属箔面に付着した耐エツチング性印刷インクを
示す。
【0027】次にステップS3でエツチング処理を行な
い導電性金属箔2,3の両面に対する印刷パターン部以
外の金属箔部分を公知の酸性(塩化第二他等)或いはア
ルカリ(苛性ソーダー等)溶液等の基本薬剤に各種添加
剤を混入したエツチング液を用いて除去するエツチング
加工を施すことにより電気回路を形成する。このエツチ
ング工程において使用される薬液は除去すべき導電性金
属箔の種類により異なるが、本実施例のアルミニウム箔
の場合は、塩化第二鉄溶液で処理され、金属箔の溶解
量、設計回路のパターン内容、エツチング速度等に従つ
てエツチング溶液の温度、濃度を適確に制御して使用さ
れる。
い導電性金属箔2,3の両面に対する印刷パターン部以
外の金属箔部分を公知の酸性(塩化第二他等)或いはア
ルカリ(苛性ソーダー等)溶液等の基本薬剤に各種添加
剤を混入したエツチング液を用いて除去するエツチング
加工を施すことにより電気回路を形成する。このエツチ
ング工程において使用される薬液は除去すべき導電性金
属箔の種類により異なるが、本実施例のアルミニウム箔
の場合は、塩化第二鉄溶液で処理され、金属箔の溶解
量、設計回路のパターン内容、エツチング速度等に従つ
てエツチング溶液の温度、濃度を適確に制御して使用さ
れる。
【0028】更にはスプレイ方式の場合は、溶液噴射ノ
ズル先端の液圧等をも適確に制御しながら使用される。
このエツチング処理により所定の回路パターンが形成さ
れた複合材の断面図を図6に示す。図6において、5は
図1に示すR,L回路パターン、6は図1に示すコンデ
ンサ回路パターン、7は図2に示すコンデンサ回路パタ
ーンである。
ズル先端の液圧等をも適確に制御しながら使用される。
このエツチング処理により所定の回路パターンが形成さ
れた複合材の断面図を図6に示す。図6において、5は
図1に示すR,L回路パターン、6は図1に示すコンデ
ンサ回路パターン、7は図2に示すコンデンサ回路パタ
ーンである。
【0029】エツチング加工が終了すると続いてステツ
プS4でヒートプレス処理工程を行なう。このヒートプ
レス処理工程を実行するプレス治具の詳細を図7に示
す。図7において、12は内部に不図示の発熱体の配設
されたスチール等の金属より成る加熱板であり、任意の
温度に発熱コントロール可能であるとともに、不図示の
昇降機構によりステンレス板14方向に任意の圧力で押
圧できる。13は本実施例の図6に示すエツチング処理
の終了した共振タグのコンデンサ回路の電極板パター
ン、14はステンレス板、15はシリコンゴム、あるい
はテフロン等で構成された耐熱性ゴム、16は受台であ
る。
プS4でヒートプレス処理工程を行なう。このヒートプ
レス処理工程を実行するプレス治具の詳細を図7に示
す。図7において、12は内部に不図示の発熱体の配設
されたスチール等の金属より成る加熱板であり、任意の
温度に発熱コントロール可能であるとともに、不図示の
昇降機構によりステンレス板14方向に任意の圧力で押
圧できる。13は本実施例の図6に示すエツチング処理
の終了した共振タグのコンデンサ回路の電極板パター
ン、14はステンレス板、15はシリコンゴム、あるい
はテフロン等で構成された耐熱性ゴム、16は受台であ
る。
【0030】このヒートプレス処理は以下の様に行なわ
れる。ステンレス板14上に位置決め載置されたコンデ
ンサ回路パターンの電極板8に、或る設定温度に加熱さ
れた加熱板12を、所定圧力で所定時間の間圧接して加
熱する。これにより、電極板間のポリエチレン樹脂フイ
ルム、即ち誘電体は電極板を通して加熱され、溶融状態
となり、薄膜化されて他より厚さが薄く成る。プレート
加圧時の圧力と時間を調整することにより電極板間の誘
電体の厚さを任意の厚さに高精度で調整することができ
る。
れる。ステンレス板14上に位置決め載置されたコンデ
ンサ回路パターンの電極板8に、或る設定温度に加熱さ
れた加熱板12を、所定圧力で所定時間の間圧接して加
熱する。これにより、電極板間のポリエチレン樹脂フイ
ルム、即ち誘電体は電極板を通して加熱され、溶融状態
となり、薄膜化されて他より厚さが薄く成る。プレート
加圧時の圧力と時間を調整することにより電極板間の誘
電体の厚さを任意の厚さに高精度で調整することができ
る。
【0031】この加熱板12の発熱温度、及びコンデン
サ回路パターン8の電極板への押圧圧力及び押圧時間
は、この電極板の面積、及び電極板間の誘電体厚さをど
の厚さにするのかを考慮して最適値を決定すればよい。
この場合において、コンデンサ回路の容量は、誘電体の
厚さと、コンデンサ回路パターンの大きさにより一義的
に定まり、共振回路の共振周波数を何ヘルツにするか
で、最適の値にすればよい。例えば、1つの共振タグの
サイズを40mm×40mmとし、共振周波数を8.2MHz
とする場合には表1の様になる。
サ回路パターン8の電極板への押圧圧力及び押圧時間
は、この電極板の面積、及び電極板間の誘電体厚さをど
の厚さにするのかを考慮して最適値を決定すればよい。
この場合において、コンデンサ回路の容量は、誘電体の
厚さと、コンデンサ回路パターンの大きさにより一義的
に定まり、共振回路の共振周波数を何ヘルツにするか
で、最適の値にすればよい。例えば、1つの共振タグの
サイズを40mm×40mmとし、共振周波数を8.2MHz
とする場合には表1の様になる。
【0032】表1
【0033】
【0034】図7に示すヒートプレス治具においては、
コンデンサ回路パターンの電極板の面積を表1の左方に
示す様に設定した場合には、共振周波数を8.2MHzと
するには、誘電体厚さを表1の右方に示す厚さにしなけ
ればならない。この場合には、発熱体12の発熱温度を
一定として電極板8への押圧圧力及び押圧時間を制御す
る方法や、電極板8への押圧圧力を一定として発熱温度
及び電極板8への押圧時間を制御する方法等が考えられ
る。
コンデンサ回路パターンの電極板の面積を表1の左方に
示す様に設定した場合には、共振周波数を8.2MHzと
するには、誘電体厚さを表1の右方に示す厚さにしなけ
ればならない。この場合には、発熱体12の発熱温度を
一定として電極板8への押圧圧力及び押圧時間を制御す
る方法や、電極板8への押圧圧力を一定として発熱温度
及び電極板8への押圧時間を制御する方法等が考えられ
る。
【0035】本実施例のヒートプレス工程を用いた場
合、治具を以下のように制御すればよい。なお、以下に
示す表2及び表3は、いずれもプレス前の絶縁性合成樹
脂フイルムの厚さが26ミクロンで、電極板の大きさが
0mm×10mmで誘電体厚さを16ミクロンに制御する場
合、電極板の大きさが7.5mm×7.5mmで誘電体厚さ
を8ミクロンに制御する場合の条件を示している。本実
施例においては、いずれの場合においても、同一の条件
で上記厚さに薄膜化することができた。発熱体12の発
熱温度を250℃一定に制御した場合の、発熱体12の
電極板8への押圧圧力と押圧時間との関係を表2に示
す。
合、治具を以下のように制御すればよい。なお、以下に
示す表2及び表3は、いずれもプレス前の絶縁性合成樹
脂フイルムの厚さが26ミクロンで、電極板の大きさが
0mm×10mmで誘電体厚さを16ミクロンに制御する場
合、電極板の大きさが7.5mm×7.5mmで誘電体厚さ
を8ミクロンに制御する場合の条件を示している。本実
施例においては、いずれの場合においても、同一の条件
で上記厚さに薄膜化することができた。発熱体12の発
熱温度を250℃一定に制御した場合の、発熱体12の
電極板8への押圧圧力と押圧時間との関係を表2に示
す。
【0036】表2
【0037】
【0038】発熱体12の電極板8への押圧圧力を4K
g一定に制御した場合の、発熱体12の発熱温度制御
と、電極板8への押圧時間の関係を表3に示す。 表3
g一定に制御した場合の、発熱体12の発熱温度制御
と、電極板8への押圧時間の関係を表3に示す。 表3
【0039】
【0040】本実施例のヒートプレス処理によりコンデ
ンサ回路パターンの電極板を加熱押圧すると、電極板間
の誘電体の厚さを、全面に渡つて均一にかつ所望の厚さ
に高精度で薄膜化できる。このように、コンデンサ回路
パターンの電極板間の誘電体を薄膜化したヒートプレス
処理の終了状態を図8に示す。本実施例においては、こ
のように誘電体の薄膜化する部分は略図1に示すコンデ
ンサ回路パターン8部分のみであり、他の周辺部分は厚
いままである。このため、以後の機械加工処理時におい
ても、更にはユーザでの使用によるストレスに対しても
共振タグ全体として十分な強度を維持できる。
ンサ回路パターンの電極板を加熱押圧すると、電極板間
の誘電体の厚さを、全面に渡つて均一にかつ所望の厚さ
に高精度で薄膜化できる。このように、コンデンサ回路
パターンの電極板間の誘電体を薄膜化したヒートプレス
処理の終了状態を図8に示す。本実施例においては、こ
のように誘電体の薄膜化する部分は略図1に示すコンデ
ンサ回路パターン8部分のみであり、他の周辺部分は厚
いままである。このため、以後の機械加工処理時におい
ても、更にはユーザでの使用によるストレスに対しても
共振タグ全体として十分な強度を維持できる。
【0041】このため、先のステツプS1での押し出し
機械での押し出し絶縁性合成樹脂フイルム1に厚さのば
らつきがあつても、ほとんど影響なく非常な高精度でコ
ンデンサ回路パターンの電極板間の誘電体を薄膜化でき
る。更に、誘電体の厚さも、容易に制御することがで
き、例えば26ミクロン厚さの誘電体フイルムを0.2
ミクロンの厚さ、又はそれ以下の厚さにも容易に薄膜化
することができる。
機械での押し出し絶縁性合成樹脂フイルム1に厚さのば
らつきがあつても、ほとんど影響なく非常な高精度でコ
ンデンサ回路パターンの電極板間の誘電体を薄膜化でき
る。更に、誘電体の厚さも、容易に制御することがで
き、例えば26ミクロン厚さの誘電体フイルムを0.2
ミクロンの厚さ、又はそれ以下の厚さにも容易に薄膜化
することができる。
【0042】更に、ヒートプレス治具の端部に、厚さ規
制治具を取り付ける等することにより、プレス圧力やプ
レス時間に影響されずに確実かつ高精度での誘電体厚さ
制御も行なえる。上記誘電体厚さ制御について更に詳細
に説明する。通常、押出し方法により成膜された誘電体
(26ミクロン)から作られたコンデンサの絶縁破壊電
圧は例えば200V以上である。ところで、このような
電圧は、不作動化可能な共振タグに使用するには高過ぎ
るという問題がある。しかしながら、誘電体を薄くする
ことができれば、その薄い誘電体から作られた共振タグ
を、僅か2乃至3V程度の小さな超過電圧を加えるだけ
で不作動化することが可能である。即ち、かかる低超過
電圧でもって容易にアーク放電を起こすことができ、コ
ンデンサ回路パターンの電極板間を導通状態にすること
が可能である。この共振タグを不作動化するという観点
から、誘電体の厚さとの関連について言及する。タグを
実用上問題無い程度に不作動化するためには、誘電体の
厚さは約15ミクロンあれば十分である。また、完全に
不作動化するためには、厚さを8ミクロン以下に設定す
ればよい。
制治具を取り付ける等することにより、プレス圧力やプ
レス時間に影響されずに確実かつ高精度での誘電体厚さ
制御も行なえる。上記誘電体厚さ制御について更に詳細
に説明する。通常、押出し方法により成膜された誘電体
(26ミクロン)から作られたコンデンサの絶縁破壊電
圧は例えば200V以上である。ところで、このような
電圧は、不作動化可能な共振タグに使用するには高過ぎ
るという問題がある。しかしながら、誘電体を薄くする
ことができれば、その薄い誘電体から作られた共振タグ
を、僅か2乃至3V程度の小さな超過電圧を加えるだけ
で不作動化することが可能である。即ち、かかる低超過
電圧でもって容易にアーク放電を起こすことができ、コ
ンデンサ回路パターンの電極板間を導通状態にすること
が可能である。この共振タグを不作動化するという観点
から、誘電体の厚さとの関連について言及する。タグを
実用上問題無い程度に不作動化するためには、誘電体の
厚さは約15ミクロンあれば十分である。また、完全に
不作動化するためには、厚さを8ミクロン以下に設定す
ればよい。
【0043】電極間にあつて、誘電体を構成する低温熱
溶融性を有し、誘電損(tanδ)が低いポリエツレン
等の合成樹脂薄膜が、電極板の片側、あるいは両側か
ら、或る温度に加熱された電極板と略同面積を有するヒ
ートプレス治具により一定速度で外圧が加えられ、8ミ
クロン以下の厚さに薄くされた場合、誘電体物質は、電
極板金属としてアルミニウム箔の如き非常に熱伝導性に
優れた金属が使用されることにより、ヒートプレス治具
に加えられた温度の影響を直接受ける。このため、誘電
体物質の分子構造に変化が生じる。特に、厚さ方向の変
化が著しく、炭素分子が厚さ方向に集中する。これによ
り、絶縁特性(耐電圧)が劣化し、低い電界強度にも反
応し、その特性が破壊される。この現象により、更新周
波数回路が破壊され、不作動化が生じる。
溶融性を有し、誘電損(tanδ)が低いポリエツレン
等の合成樹脂薄膜が、電極板の片側、あるいは両側か
ら、或る温度に加熱された電極板と略同面積を有するヒ
ートプレス治具により一定速度で外圧が加えられ、8ミ
クロン以下の厚さに薄くされた場合、誘電体物質は、電
極板金属としてアルミニウム箔の如き非常に熱伝導性に
優れた金属が使用されることにより、ヒートプレス治具
に加えられた温度の影響を直接受ける。このため、誘電
体物質の分子構造に変化が生じる。特に、厚さ方向の変
化が著しく、炭素分子が厚さ方向に集中する。これによ
り、絶縁特性(耐電圧)が劣化し、低い電界強度にも反
応し、その特性が破壊される。この現象により、更新周
波数回路が破壊され、不作動化が生じる。
【0044】このように、誘電体の厚さを制御すること
は絶縁破壊を発生させるための電圧を変更することにな
る。換言すれば、誘電体の厚さを制御することにより、
即ち、適当な薄さに変更することにより、絶縁破壊を可
能にするための予備的な加工(これは従来では必要であ
った)をそのフイルムに施すということが不要となるわ
けである。
は絶縁破壊を発生させるための電圧を変更することにな
る。換言すれば、誘電体の厚さを制御することにより、
即ち、適当な薄さに変更することにより、絶縁破壊を可
能にするための予備的な加工(これは従来では必要であ
った)をそのフイルムに施すということが不要となるわ
けである。
【0045】コンデンサ回路パターンの電極板が、R.
C回路パターン(コイル)の中央部に位置した場合、電
磁界中では、電磁束の通過を妨げることになる。このた
め、共振タグの性能を向上させるためには電極板面積を
縮小することが望ましい。しかも電極板の面積は、共振
タグの総合的性能を決定する最重要因子ではなく、周波
数変動要因として誘電体の厚さ等と共に性能に影響を与
える重要因子であるといえる。
C回路パターン(コイル)の中央部に位置した場合、電
磁界中では、電磁束の通過を妨げることになる。このた
め、共振タグの性能を向上させるためには電極板面積を
縮小することが望ましい。しかも電極板の面積は、共振
タグの総合的性能を決定する最重要因子ではなく、周波
数変動要因として誘電体の厚さ等と共に性能に影響を与
える重要因子であるといえる。
【0046】このため、本実施例のヒートプレス処理を
行なうことにより誘電体厚さを任意の厚さに制御でき、
しかも、押し出し機械では不可能な厚さに、高精度で薄
膜化できる。絶縁性合成樹脂フイルム1の厚さを薄くす
ればそれだけコンデンサ回路パターンの電極板の面積も
小さくすることができ、共振タグとしてのQ値も上げる
ことができる。従つて、上述のヒートプレス処理はこの
共振回路のQ値を上げることにも多大の貢献がある。続
いてステツプS5で共振タグの小型化のため、両導通用
端子部10間を導通させ、共振周波数回路を形成する。
この状態を図9に示す。図9において、20で示すのが
導通用端子部10の電気的短結部分である。
行なうことにより誘電体厚さを任意の厚さに制御でき、
しかも、押し出し機械では不可能な厚さに、高精度で薄
膜化できる。絶縁性合成樹脂フイルム1の厚さを薄くす
ればそれだけコンデンサ回路パターンの電極板の面積も
小さくすることができ、共振タグとしてのQ値も上げる
ことができる。従つて、上述のヒートプレス処理はこの
共振回路のQ値を上げることにも多大の貢献がある。続
いてステツプS5で共振タグの小型化のため、両導通用
端子部10間を導通させ、共振周波数回路を形成する。
この状態を図9に示す。図9において、20で示すのが
導通用端子部10の電気的短結部分である。
【0047】そして続くステツプS6でR,L回路パタ
ーン面に、例えば平米当り重量55gの上質紙をアクリ
ル系樹脂接着剤等を用いて貼り合わせる。それととも
に、コンデンサ回路面にはゴム系接着剤等で例えば平米
当り重量60gの離型紙を貼り合わせる。この紙及び離
型紙が貼り合わせられた多層積層材である可撓性シート
の断面図を図10に示す。
ーン面に、例えば平米当り重量55gの上質紙をアクリ
ル系樹脂接着剤等を用いて貼り合わせる。それととも
に、コンデンサ回路面にはゴム系接着剤等で例えば平米
当り重量60gの離型紙を貼り合わせる。この紙及び離
型紙が貼り合わせられた多層積層材である可撓性シート
の断面図を図10に示す。
【0048】図中21がR,L回路パターン面の接着
剤、22が上質紙、23がコンデンサ回路面の接着剤、
24が離型紙である。これにより、所望商品に容易に貼
付けできる形に商品化することができる、なお、以上の
共振タグは、説明の簡略化のために1つのみを示した
が、実際には、850mm×1000mのロール上に多数
同時に金属箔形成、パターン印刷、エツチング処理、ヒ
ートプレス処理、紙及び剥離し張り合せ処理が行なわれ
る。このため、ステツプS6で紙及び離型紙が貼り合わ
せられた多層積層材は、平圧式ダイス型カツタにより、
離型紙のみを残し、不必要な部分はまきとり除去され、
40mm×40mmの製品サイズに合せてキスカツトさ
れ、更に離型紙を表にし1個のシート状タグを有するロ
ール(巻取り品)に加工される。ロールの長さは通常1
00mである。
剤、22が上質紙、23がコンデンサ回路面の接着剤、
24が離型紙である。これにより、所望商品に容易に貼
付けできる形に商品化することができる、なお、以上の
共振タグは、説明の簡略化のために1つのみを示した
が、実際には、850mm×1000mのロール上に多数
同時に金属箔形成、パターン印刷、エツチング処理、ヒ
ートプレス処理、紙及び剥離し張り合せ処理が行なわれ
る。このため、ステツプS6で紙及び離型紙が貼り合わ
せられた多層積層材は、平圧式ダイス型カツタにより、
離型紙のみを残し、不必要な部分はまきとり除去され、
40mm×40mmの製品サイズに合せてキスカツトさ
れ、更に離型紙を表にし1個のシート状タグを有するロ
ール(巻取り品)に加工される。ロールの長さは通常1
00mである。
【0049】なお、以上の説明においては、多層積層材
は紙及び離型紙を貼り合わせた場合を例に説明したが、
貼り合せるのは紙及び離型紙に限るものではなく、共振
回路部を有効に保持し、使用時に剥離できるものであれ
ばその材質は任意のものでよい。例えばプラスチックシ
ート等であつてもよい。上述した実施例の共振タグは、
ステツプS1での誘電体厚さのばらつきに影響されず、
設計値通りの所望共振周波数の共振タグを容易にかつ廉
価で製造でき、本実施例共振タグの通過等を検知する装
置においても、発信周波数の範囲を非常に狭い範囲とす
ることができ、非常な高感度の、検出誤動作の少ないシ
ステムとすることができる。
は紙及び離型紙を貼り合わせた場合を例に説明したが、
貼り合せるのは紙及び離型紙に限るものではなく、共振
回路部を有効に保持し、使用時に剥離できるものであれ
ばその材質は任意のものでよい。例えばプラスチックシ
ート等であつてもよい。上述した実施例の共振タグは、
ステツプS1での誘電体厚さのばらつきに影響されず、
設計値通りの所望共振周波数の共振タグを容易にかつ廉
価で製造でき、本実施例共振タグの通過等を検知する装
置においても、発信周波数の範囲を非常に狭い範囲とす
ることができ、非常な高感度の、検出誤動作の少ないシ
ステムとすることができる。
【0050】また、薄膜化はコンデンサ回路パターンの
電極板部分のみ行なう例について説明したが、この薄膜
化の範囲は以下の例に限定されるものではなく、共振回
路全面に渡り誘電体厚さを設計値に合せて均一化するた
めに行なつても、本発明の範囲に含まれることは勿論で
ある。この場合には、厚さ規制治具により所望厚さに規
制する方法等が適している。
電極板部分のみ行なう例について説明したが、この薄膜
化の範囲は以下の例に限定されるものではなく、共振回
路全面に渡り誘電体厚さを設計値に合せて均一化するた
めに行なつても、本発明の範囲に含まれることは勿論で
ある。この場合には、厚さ規制治具により所望厚さに規
制する方法等が適している。
【0051】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、絶
縁性薄膜の厚さを高精度で所望の厚さに薄膜化すること
ができ、例えば絶縁性薄膜の厚さのばらつきが共振周波
数の変動を招くコンデンサ要素部分を要望厚さに薄膜化
することにより、高精度で設計値の共振周波数特性回路
を内蔵した共振タグを得ることができる。
縁性薄膜の厚さを高精度で所望の厚さに薄膜化すること
ができ、例えば絶縁性薄膜の厚さのばらつきが共振周波
数の変動を招くコンデンサ要素部分を要望厚さに薄膜化
することにより、高精度で設計値の共振周波数特性回路
を内蔵した共振タグを得ることができる。
【図1】本発明に係る一実施例のR,L回路パターンを
示す図、
示す図、
【図2】本実施例のコンデンサ回路パターンを示す図、
【図3】本実施例の導電性金属箔の固着された可撓性シ
ートを示す図、
ートを示す図、
【図4】本実施例共振タグの製造工程を示すフローチヤ
ート、
ート、
【図5】本実施例のパターンの印刷された可撓性シート
の断面図を示す図、
の断面図を示す図、
【図6】本実施例のエツチグ処理後の可撓性シートの断
面図を示す図、
面図を示す図、
【図7】本実施例のヒートプレス治具の構成を示す図、
【図8】本実施例のヒートプレス処理後の可撓性シート
の断面図を示す図、
の断面図を示す図、
【図9】本実施例の導通部短結処理後の可撓性シートの
断面図を示す図、
断面図を示す図、
【図10】本実施例の紙及び離型紙が貼り合わせられた
可撓性シートの断面図である。
可撓性シートの断面図である。
1 絶縁性合成樹脂フイルム 2,3 導電性金属箔 4 耐エツチング性インク 5 R,L回路パターン 6〜9,13 コンデンサ回路パターン 10 導通端子部 11 薄膜化された誘電体フイルム 12 加熱板 11 ステンレス板 15 耐熱性ゴム 16 受台 21,22 接着剤 22 上質紙 24 離型紙
フロントページの続き (72)発明者 樋村 晃一 神奈川県茅ケ崎市矢畑1071番地 東海電 子株式会社内 (72)発明者 羽田 忠義 神奈川県茅ケ崎市矢畑1071番地 東海電 子株式会社内 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G08B 13/24
Claims (9)
- 【請求項1】 絶縁性薄膜の両面に導電性パターンを形
成し、前記導電性パターンにより所定の共振周波数で共
振する共振回路を形成してなり、 前記絶縁性薄膜の少なくとも前記導電性パターン形成部
位は所定厚さに薄膜化されていることを特徴とする共振
タグ。 - 【請求項2】 前記薄膜化は、前記絶縁性薄膜の厚さを
前記導電性パターン形成部位の全面の厚さが所定厚さと
なるように薄膜化することを特徴とする請求項1記載の
共振タグ。 - 【請求項3】 前記薄膜化は、前記絶縁性薄膜の厚さを
前記導電性パターン形成部位のコンデンサ要素を備える
パターン形成部位の厚さが所定厚さとなるように薄膜化
することを特徴とする請求項1記載の共振タグ。 - 【請求項4】 前記薄膜化は、前記絶縁性薄膜の厚さを
15ミクロン以下の薄さに薄膜化するものであることを
特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の共
振タグ。 - 【請求項5】 絶縁性薄膜の両面の導電性パターンを電
気的に導通状態として共振回路を形成することを特徴と
する請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の共振タ
グ。 - 【請求項6】 絶縁性薄膜の両面に所定厚さの導電性薄
膜を形成する被膜工程と、 該被膜工程により形成された導電性薄膜に耐エツチング
性インクで少なくとも所定の共振周波数で共振する共振
回路パターンを印刷する印刷工程と、 該印刷工程に続いて非印刷部の導電性薄膜を除去するエ
ツチング工程と、 該エツチング工程で形成された共振回路パターン配設位
置を所望の厚さに薄膜化する薄膜化工程と、 前記絶縁性薄膜の両面の共振回路パターン間を導通させ
固有の共振周波数の共振回路を形成する回路形成工程と
より成ることを特徴とする共振タグの製造方法。 - 【請求項7】 エツチング工程又は回路形成工程後の導
電性パターンの形成された絶縁性薄膜を、可撓性を有す
る所定厚さの薄膜に剥離可能に貼付ける貼付工程を更に
備えることを特徴とする請求項6記載の共振タグの製造
方法。 - 【請求項8】 薄膜化工程は、薄膜化部分を所定温度に
加熱した加熱押圧部材を所定時間、所定圧力で押圧する
ことを特徴とする請求項6又は請求項7のいずれかに記
載の共振タグの製造方法。 - 【請求項9】 前記薄膜化工程は、前記絶縁性薄膜の厚
さを15ミクロン以下の薄さに薄膜化するものであるこ
とを特徴とする請求項6乃至請求項8のいずれかに記載
の共振タグの製造方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP20679190 | 1990-08-06 | ||
JP2-206791 | 1990-09-27 | ||
JP25521090 | 1990-09-27 | ||
JP2-255210 | 1990-09-27 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04169995A JPH04169995A (ja) | 1992-06-17 |
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---|---|---|---|
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Country | Link |
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