JP3079163B2 - 現像液の磁気処理方法及びその装置 - Google Patents
現像液の磁気処理方法及びその装置Info
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- JP3079163B2 JP3079163B2 JP21489798A JP21489798A JP3079163B2 JP 3079163 B2 JP3079163 B2 JP 3079163B2 JP 21489798 A JP21489798 A JP 21489798A JP 21489798 A JP21489798 A JP 21489798A JP 3079163 B2 JP3079163 B2 JP 3079163B2
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、現像液に生ずる発
泡の抑制ないしは消失のための磁気処理方法及びその装
置に関するものである。
泡の抑制ないしは消失のための磁気処理方法及びその装
置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】例えばケミカルミーリングプリント基版
の製造の際にはアルカリ型現像機が使用される。現像作
業において発泡があるとプリント基版製造の障害となる
ため、従来は消泡材を添加して発泡を抑制する手段等が
講じられた。或る消泡材の主成分はポリオキシアルキレ
ンエーテル、グリセロールモノステアレート、ポリオキ
シエチレンソルビタンモノステアレート、ココナットア
ルコール等であるが、この消泡剤成分自体が現像機本体
や製品の汚染原因物質となっている。
の製造の際にはアルカリ型現像機が使用される。現像作
業において発泡があるとプリント基版製造の障害となる
ため、従来は消泡材を添加して発泡を抑制する手段等が
講じられた。或る消泡材の主成分はポリオキシアルキレ
ンエーテル、グリセロールモノステアレート、ポリオキ
シエチレンソルビタンモノステアレート、ココナットア
ルコール等であるが、この消泡剤成分自体が現像機本体
や製品の汚染原因物質となっている。
【0003】他方、現像されるレジスト成分は、例えば
R−C(C6 H5 )CH2 のようなスチレン型化合物、
メチルメタクリレート、エチルアクリレート、メタクリ
ル酸等でこれらの成分は不溶解性の結晶を生成する。ま
たその結晶物質も現像機本体及び製品の汚染原因物質と
なる。
R−C(C6 H5 )CH2 のようなスチレン型化合物、
メチルメタクリレート、エチルアクリレート、メタクリ
ル酸等でこれらの成分は不溶解性の結晶を生成する。ま
たその結晶物質も現像機本体及び製品の汚染原因物質と
なる。
【0004】上記の不溶解性結晶を除去するために、従
来は3%の塩酸水溶液や市販の洗浄剤が使われており、
またある場合には、主成分が苛性ソーダ、酢酸ソーダ、
ブチルジグリコール、界面活性剤系のものと、塩酸、ヒ
ドロキシカルボン酸系のものなどで洗浄している。しか
しこれらの方法は薬液洗浄費用と廃液処理費用とが負担
になり、またレジスト成分によっては十分な効果が得ら
れないという問題があった。
来は3%の塩酸水溶液や市販の洗浄剤が使われており、
またある場合には、主成分が苛性ソーダ、酢酸ソーダ、
ブチルジグリコール、界面活性剤系のものと、塩酸、ヒ
ドロキシカルボン酸系のものなどで洗浄している。しか
しこれらの方法は薬液洗浄費用と廃液処理費用とが負担
になり、またレジスト成分によっては十分な効果が得ら
れないという問題があった。
【0005】このような技術的状況下にあって、マグネ
ット式の水処理機が公知である。同機は、クラスター化
した水分子の会合を磁力により細分化し、活性を取り戻
させるというものであるから、所期の性能が発揮されれ
ば前記現像作業における消泡作業にも転用し得ると考え
られる。
ット式の水処理機が公知である。同機は、クラスター化
した水分子の会合を磁力により細分化し、活性を取り戻
させるというものであるから、所期の性能が発揮されれ
ば前記現像作業における消泡作業にも転用し得ると考え
られる。
【0006】しかし上記水処理機の場合、流れを挟んで
直交配置された、一対のマグネット間に生ずる磁力線に
被処理液をさらすもので、一対のマグネットを対向配置
することが不可欠である。故に目的箇所以外にも強力な
磁界が分布することになり、磁力が有効に使われず、磁
気損失が大きい、という問題がある。また一様な磁場の
みから成る上記水処理機を転用しても効果は期待薄であ
る。
直交配置された、一対のマグネット間に生ずる磁力線に
被処理液をさらすもので、一対のマグネットを対向配置
することが不可欠である。故に目的箇所以外にも強力な
磁界が分布することになり、磁力が有効に使われず、磁
気損失が大きい、という問題がある。また一様な磁場の
みから成る上記水処理機を転用しても効果は期待薄であ
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記の点に着
目してなされたものであり、その課題は、従来使われて
きた消泡剤を使用することなく現像作業において障害と
なる発泡を抑制し、乃至は消失可能とし、現像機本体及
び製品の汚染の問題を解決することにある。
目してなされたものであり、その課題は、従来使われて
きた消泡剤を使用することなく現像作業において障害と
なる発泡を抑制し、乃至は消失可能とし、現像機本体及
び製品の汚染の問題を解決することにある。
【0008】また本発明は、ケミカルミーリングプリン
ト基版製造において、安定した製品管理を実現すること
をひとつの目的とするものである。
ト基版製造において、安定した製品管理を実現すること
をひとつの目的とするものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】前記課題等を解決するた
め、本発明は、流路を流れる現像液中の水分子を活性化
する目的でN極とS極とに分極した磁気材料片とその各
極に一端側を配置した一対のヨークを有し、同ヨークの
他端側にて現像液の流路を囲むことにより、上記流路の
一方から他方へ向かう形態を取る磁束群を形成する磁気
回路を用いて、上記現像液に対して磁界を反転作用させ
るという手段を講じた。
め、本発明は、流路を流れる現像液中の水分子を活性化
する目的でN極とS極とに分極した磁気材料片とその各
極に一端側を配置した一対のヨークを有し、同ヨークの
他端側にて現像液の流路を囲むことにより、上記流路の
一方から他方へ向かう形態を取る磁束群を形成する磁気
回路を用いて、上記現像液に対して磁界を反転作用させ
るという手段を講じた。
【0010】本発明は、現像液に対して磁界を反転作用
させることを特徴とする。磁界の反転作用とは、本発明
において、或る領域で磁界の極性が切り替わることを意
味する。その結果現像液の流れは或る領域では例えば上
から下へ向かう磁束にさらされ、次の領域では例えば下
から上へ向かう磁束にさらされるため、その間に180
度の変化を受けることとなる。
させることを特徴とする。磁界の反転作用とは、本発明
において、或る領域で磁界の極性が切り替わることを意
味する。その結果現像液の流れは或る領域では例えば上
から下へ向かう磁束にさらされ、次の領域では例えば下
から上へ向かう磁束にさらされるため、その間に180
度の変化を受けることとなる。
【0011】クラスター化した現像液中の水分子等に対
して磁気を作用させ、会合を解く点では前述の水処理機
の場合と共通性を有するが、本発明のものは磁気極性の
転換に伴う運動エネルギーの変化をも作用として利用す
る。このため本発明によれば現像液中の水分子等に対し
て、変化する磁気エネルギーと運動エネルギーを作用さ
せることができる。
して磁気を作用させ、会合を解く点では前述の水処理機
の場合と共通性を有するが、本発明のものは磁気極性の
転換に伴う運動エネルギーの変化をも作用として利用す
る。このため本発明によれば現像液中の水分子等に対し
て、変化する磁気エネルギーと運動エネルギーを作用さ
せることができる。
【0012】このような本発明の方法は、N極とS極と
に分極した磁気材料片とその各極に一端側を配置した一
対のヨークを有し、同ヨークの他端側にて現像液の流路
を囲むことにより、上記流路の一方から他方へ向かう形
態を取る磁束群を形成する磁気回路を具備し、複数の磁
気回路を現像液の流れに沿って極性が反転するように交
互に配置した磁気処理装置によって実施することが望ま
しい。
に分極した磁気材料片とその各極に一端側を配置した一
対のヨークを有し、同ヨークの他端側にて現像液の流路
を囲むことにより、上記流路の一方から他方へ向かう形
態を取る磁束群を形成する磁気回路を具備し、複数の磁
気回路を現像液の流れに沿って極性が反転するように交
互に配置した磁気処理装置によって実施することが望ま
しい。
【0013】上記磁気回路は、最も面積の大きい面にて
N極とS極に分極させた磁気材料片と、上記分極面に一
端が磁気吸着し、他の部分が現像液の流路を囲むように
配置されたヨークとを含んで構成される。強く磁化され
た磁気材料片は即ち永久磁石であり、その面積の最も広
い面にN極とS極が分極することにより、単位面積当た
りの磁束を最大限度まで強化し、磁気回路により効率良
く目的箇所を磁化できることとなる。
N極とS極に分極させた磁気材料片と、上記分極面に一
端が磁気吸着し、他の部分が現像液の流路を囲むように
配置されたヨークとを含んで構成される。強く磁化され
た磁気材料片は即ち永久磁石であり、その面積の最も広
い面にN極とS極が分極することにより、単位面積当た
りの磁束を最大限度まで強化し、磁気回路により効率良
く目的箇所を磁化できることとなる。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明に係る現像液の磁気処理方
法は、現像液に生ずる発泡の抑制ないしは消失のための
処理方法であって、流路を流れる現像液中の水分子を活
性化する目的で上記現像液に対して磁界を反転作用させ
るものである。
法は、現像液に生ずる発泡の抑制ないしは消失のための
処理方法であって、流路を流れる現像液中の水分子を活
性化する目的で上記現像液に対して磁界を反転作用させ
るものである。
【0015】本発明に使用する磁気処理装置が、複数の
磁気回路を現像液の流れに沿って極性が反転するように
交互に配置して成るものであることはすでに述べたが、
これに用いられる磁気回路ユニット10の例を図に示す
と図1の形態となる。強く磁化された磁気材料片(いわ
ゆる永久磁石)11は好ましくは扁平な形状を持ち、そ
の最も面積の大きい面にてN極とS極が分極している。
磁気回路を現像液の流れに沿って極性が反転するように
交互に配置して成るものであることはすでに述べたが、
これに用いられる磁気回路ユニット10の例を図に示す
と図1の形態となる。強く磁化された磁気材料片(いわ
ゆる永久磁石)11は好ましくは扁平な形状を持ち、そ
の最も面積の大きい面にてN極とS極が分極している。
【0016】分極された各面には、一対のヨーク12、
13の一端が位置しており、同ヨーク12、13の他端
側は磁気作用のための目的箇所14として、現像液の流
路を囲むように構成される。ヨーク12、13は磁気材
料片よりなる版状部材15の収束体として構成すること
ができ、全体として略コ字形ないしC字形をなしている
磁気回路の磁束群は目的箇所14において一方から他方
へ向かう形態を取る。図1の矢印参照。
13の一端が位置しており、同ヨーク12、13の他端
側は磁気作用のための目的箇所14として、現像液の流
路を囲むように構成される。ヨーク12、13は磁気材
料片よりなる版状部材15の収束体として構成すること
ができ、全体として略コ字形ないしC字形をなしている
磁気回路の磁束群は目的箇所14において一方から他方
へ向かう形態を取る。図1の矢印参照。
【0017】面積の最も大きい面で分極させた永久磁石
である磁気材料片11と、各分極面に磁気吸着状態で接
続されるヨーク12、13とからなる強力な磁気回路ユ
ニット10は、複数個が現像液の流れに沿って反転する
ような姿勢でもって並べられる。この形態の1例を図2
に示す。
である磁気材料片11と、各分極面に磁気吸着状態で接
続されるヨーク12、13とからなる強力な磁気回路ユ
ニット10は、複数個が現像液の流れに沿って反転する
ような姿勢でもって並べられる。この形態の1例を図2
に示す。
【0018】例えば磁気回路ユニット10の一対のヨー
ク12、13間に、配管等により代表される現像液の流
路16が位置するように、複数ユニットを所要の間隔L
で配置すると、図2の例では下から上、上から下と18
0度磁束の向きが変化する状態を作り出すことができ
る。
ク12、13間に、配管等により代表される現像液の流
路16が位置するように、複数ユニットを所要の間隔L
で配置すると、図2の例では下から上、上から下と18
0度磁束の向きが変化する状態を作り出すことができ
る。
【0019】磁気回路ユニット10をこのように配置す
ることにより、ヨーク間の目的箇所14を移動する現像
液は各ユニット毎に方向が180度異なる力を受けるこ
とになる。その変化は様々な態様を取り得るが、現像液
の流路と、現像液の移動に寄与するポンプ出力、配管内
流速とともに、本発明によって生ずる管内周波数を示す
と表1のとおりとなる。
ることにより、ヨーク間の目的箇所14を移動する現像
液は各ユニット毎に方向が180度異なる力を受けるこ
とになる。その変化は様々な態様を取り得るが、現像液
の流路と、現像液の移動に寄与するポンプ出力、配管内
流速とともに、本発明によって生ずる管内周波数を示す
と表1のとおりとなる。
【0020】
【表1】 表1によれば配管内径50φ、配管内流速3.0m/s
ecのとき60Hzという周波数の交流磁界が得られ、
配管内径20φ、管内流速4.2m/secのときに8
4Hzという周波数の得られることが分かる。流量調整
バルブにより流速を下げること、及びモーター出力上昇
により流速を上げることは夫々容易であるので少なくと
も20〜200Hzの周波数を持った交流磁界は問題な
く実現される。しかも上記は磁気回路ユニット10の間
隔Lが一定の場合であり、この間隔Lを変更することで
も周波数を変えることができる。
ecのとき60Hzという周波数の交流磁界が得られ、
配管内径20φ、管内流速4.2m/secのときに8
4Hzという周波数の得られることが分かる。流量調整
バルブにより流速を下げること、及びモーター出力上昇
により流速を上げることは夫々容易であるので少なくと
も20〜200Hzの周波数を持った交流磁界は問題な
く実現される。しかも上記は磁気回路ユニット10の間
隔Lが一定の場合であり、この間隔Lを変更することで
も周波数を変えることができる。
【0021】本発明における磁気回路ユニット10は永
久磁石の最大面積部に配置されたヨーク12、13を有
するが、このヨーク12、13が磁力線に沿った配置と
なっており、1個の磁石の能力を最大限効果的に生かす
ことができる。磁気材料片としてはネオジミウム(N
d)系のものを使用することができ、或るものは磁束密
度25000ガウスと非常に大きくかつ磁気振動数が非
常に高い。最大エネルギーを生産できる材料として知ら
れているネオジミウム−鉄−ボロン磁石等も有効であ
る。
久磁石の最大面積部に配置されたヨーク12、13を有
するが、このヨーク12、13が磁力線に沿った配置と
なっており、1個の磁石の能力を最大限効果的に生かす
ことができる。磁気材料片としてはネオジミウム(N
d)系のものを使用することができ、或るものは磁束密
度25000ガウスと非常に大きくかつ磁気振動数が非
常に高い。最大エネルギーを生産できる材料として知ら
れているネオジミウム−鉄−ボロン磁石等も有効であ
る。
【0022】以上のような磁気処理装置は、1000〜
5000ガウスの磁気回路ユニットを例えば20〜50
mm間隔で現像機の現像液を循環させる配管などに対し
て設置する。図3はケミカルミーリングプリント基版製
造の際に使用する、アルカリ形現像機に本発明を適用し
た状態を示している。この種の基版がレジスト皮膜を有
し、それがスチレン型化合物やメチルメタクリレート、
エチルアクリレート、メタクリル酸等の成分を含み、こ
れらが現像液中に溶出し、不溶解性の結晶を生成するこ
とはすでに説明したことである。
5000ガウスの磁気回路ユニットを例えば20〜50
mm間隔で現像機の現像液を循環させる配管などに対し
て設置する。図3はケミカルミーリングプリント基版製
造の際に使用する、アルカリ形現像機に本発明を適用し
た状態を示している。この種の基版がレジスト皮膜を有
し、それがスチレン型化合物やメチルメタクリレート、
エチルアクリレート、メタクリル酸等の成分を含み、こ
れらが現像液中に溶出し、不溶解性の結晶を生成するこ
とはすでに説明したことである。
【0023】現像液としては例えばNa 2 CO3 、[N
(CH3 )4 ]2 CO3 、[N(CH3 )4 ]HCO3
の各重量1パーセントの混合溶液が使用される。この場
合、現像液は、循環ポンプP3により装置内を配管で循
環し、加熱手段H1と冷却手段H2との連携下に所定の
処理温度に管理される。また現像液の流量は流量調節弁
V3によって調節され、また現像作業時にコンベアC上
のプリント基版Dに対して現像液を噴霧するためスプレ
ーポンプP1、P2を稼働させるときには、同ポンプ用
の流量調節弁V1、V2により配管内圧及び流量の調整
を行なう。
(CH3 )4 ]2 CO3 、[N(CH3 )4 ]HCO3
の各重量1パーセントの混合溶液が使用される。この場
合、現像液は、循環ポンプP3により装置内を配管で循
環し、加熱手段H1と冷却手段H2との連携下に所定の
処理温度に管理される。また現像液の流量は流量調節弁
V3によって調節され、また現像作業時にコンベアC上
のプリント基版Dに対して現像液を噴霧するためスプレ
ーポンプP1、P2を稼働させるときには、同ポンプ用
の流量調節弁V1、V2により配管内圧及び流量の調整
を行なう。
【0024】従って本発明に係る磁気処理装置Aは循環
ポンプP3と、スプレーポンプP2の吐出側配管に対し
て設置される。同装置Aは数組の磁気回路ユニット10
から成る。また現像液の量に対して、どの程度の強度、
磁束密度、周波数等の条件をもって磁気を作用させるか
等は実験によって確認することができる。
ポンプP3と、スプレーポンプP2の吐出側配管に対し
て設置される。同装置Aは数組の磁気回路ユニット10
から成る。また現像液の量に対して、どの程度の強度、
磁束密度、周波数等の条件をもって磁気を作用させるか
等は実験によって確認することができる。
【0025】以下実施例により、本発明を具体的に説明
する。
する。
【0026】
【実施例1】図3に示した現像機を用い、処理基版(3
36×336×1mmにアルカリ現像型ドライフィルム
フォトレジスト(旭化成(株)社製AQ4036 40
ミクロンタイプ)を両面にラミネートしたもの)Dを用
い、[N(CH3 )4 ]2 CO3 及び[N(CH3 )
4 ]HCO3 の1重量パーセントの混合溶液を現像液と
して現像処理を行なった。準備作業として現像液は仕様
に従って温度管理し、循環ポンプP3で循環させ、その
際、加熱手段H1と冷却手段H2とを用い、また流量調
節弁V3により循環ポンプ流量を調整した。現像処理に
は、現像液を配管内圧を調整してスプレーポンプP1、
P2により供給した。
36×336×1mmにアルカリ現像型ドライフィルム
フォトレジスト(旭化成(株)社製AQ4036 40
ミクロンタイプ)を両面にラミネートしたもの)Dを用
い、[N(CH3 )4 ]2 CO3 及び[N(CH3 )
4 ]HCO3 の1重量パーセントの混合溶液を現像液と
して現像処理を行なった。準備作業として現像液は仕様
に従って温度管理し、循環ポンプP3で循環させ、その
際、加熱手段H1と冷却手段H2とを用い、また流量調
節弁V3により循環ポンプ流量を調整した。現像処理に
は、現像液を配管内圧を調整してスプレーポンプP1、
P2により供給した。
【0027】 U=W/(1/2・d)2 π/60sec×1/100
から算出される。 スプレーポンプ配管内流速=2.97m/sec 循環ポンプ配管内流速=4.25m/sec スプレーポンプ配管側周波数 2.97×1000/5
0=59.4Hz 循環ポンプ配管側周波数 4.25×1000/50=
85.0Hz 磁気回路ユニット:磁束密度4000ガウスのネオジミ
ウム系永久磁石を用いた磁気回路ユニット4組を、ポン
プP3の吐出側配管に0.4m2 /lで、また現像時に
はポンプP2の吐出側配管に0.6m2 /lで、25m
m間隔でN−S極が反転配置されるように交互配列し
た。
から算出される。 スプレーポンプ配管内流速=2.97m/sec 循環ポンプ配管内流速=4.25m/sec スプレーポンプ配管側周波数 2.97×1000/5
0=59.4Hz 循環ポンプ配管側周波数 4.25×1000/50=
85.0Hz 磁気回路ユニット:磁束密度4000ガウスのネオジミ
ウム系永久磁石を用いた磁気回路ユニット4組を、ポン
プP3の吐出側配管に0.4m2 /lで、また現像時に
はポンプP2の吐出側配管に0.6m2 /lで、25m
m間隔でN−S極が反転配置されるように交互配列し
た。
【0028】以上の条件によって試験を行ない、それか
ら求めた液負荷量と発泡量を表2に示す。
ら求めた液負荷量と発泡量を表2に示す。
【0029】
【表2】 液負荷量計算方法は次の通りである。 0.336×0.336×2×処理基版数÷380l=
液負荷量(m2 /l) 発泡量測定方法は次の通りである。
液負荷量(m2 /l) 発泡量測定方法は次の通りである。
【0030】現像液を貯槽に貯溜し、図4に示す計測量
に基づき発泡量を計測した。 H1 :水運転時、発泡0状態での液面高(120mm) H2 :現像運転時発泡状態での液面高(mm) H3 =H1 −H2 (mm) H4 :処理基版に付着した現像液持ち出しによる液面低
下分(mm) H5 (真発泡量)=H3 +(H4 /H4 での処理基版
数)×計測時の処理基版数(mm) 以上により、消泡剤を使用しなくても液負荷量を0.9
m2 /lまで上げられることが分かる。
に基づき発泡量を計測した。 H1 :水運転時、発泡0状態での液面高(120mm) H2 :現像運転時発泡状態での液面高(mm) H3 =H1 −H2 (mm) H4 :処理基版に付着した現像液持ち出しによる液面低
下分(mm) H5 (真発泡量)=H3 +(H4 /H4 での処理基版
数)×計測時の処理基版数(mm) 以上により、消泡剤を使用しなくても液負荷量を0.9
m2 /lまで上げられることが分かる。
【0031】
【比較例1】図3の現像機を用い、磁気回路ユニット1
0を全部取り外したほかは実施例1と同様の条件で実験
を行なった。結果を表3に示す。
0を全部取り外したほかは実施例1と同様の条件で実験
を行なった。結果を表3に示す。
【0032】
【表3】 この場合、液負荷量0.22m2 /lを越えると消泡剤
を添加しなければ現像処理を継続することができない。
を添加しなければ現像処理を継続することができない。
【0033】
【比較例2】図3の現像機を用い、従来の磁気処理ユニ
ットを循環ポンプ系配管に装着し、他は実施例1と同じ
条件で試験を行なった。結果を表4に示す。
ットを循環ポンプ系配管に装着し、他は実施例1と同じ
条件で試験を行なった。結果を表4に示す。
【0034】
【表4】 従来の磁気処理ユニットは従来の技術でも言及したタイ
プであるが、表4を見ると、液負荷量0.3m2 /lで
異常発泡状態が継続し、効果の限界と判断された。
プであるが、表4を見ると、液負荷量0.3m2 /lで
異常発泡状態が継続し、効果の限界と判断された。
【0035】
【比較例3】
【実施例2】現像液としてNa2 CO3 1重量パーセン
ト水溶液を用いるほかは比較例1と同様に磁場を与える
ことなく現像処理した。この場合、液負荷量0.3m2
/lで異常発泡を生じたので消泡剤150ccを添加し
た。これを比較例3とする。またこの時点で採取した現
像液中のスカムの顕微鏡写真を画像処理した図を図5と
して示す。
ト水溶液を用いるほかは比較例1と同様に磁場を与える
ことなく現像処理した。この場合、液負荷量0.3m2
/lで異常発泡を生じたので消泡剤150ccを添加し
た。これを比較例3とする。またこの時点で採取した現
像液中のスカムの顕微鏡写真を画像処理した図を図5と
して示す。
【0036】上記比較例3の終了時点で、本発明に係る
磁気回路ユニット10を実施例1と同じ位置に配置し、
1時間処理した。これを実施例2とする。採取した現像
液中のスカムの顕微鏡写真を画像処理した図を図6とし
て示す。
磁気回路ユニット10を実施例1と同じ位置に配置し、
1時間処理した。これを実施例2とする。採取した現像
液中のスカムの顕微鏡写真を画像処理した図を図6とし
て示す。
【0037】図5に示すスカムは放射状に成長している
のに対して、本発明により磁気処理した図6では図5の
ような放射状構造の形成されていないことを確認するこ
とができる。放射状構造を持つスカムは不溶解性結晶構
成分子間の結合力が大きく、消泡剤により発泡を止めて
もこれを除去することは困難である。放射状構造を持た
ない本発明では、スケルが生成されても比較的容易に分
解し得るような状態にあるので、装置、製品への汚染の
影響が極く軽減される。
のに対して、本発明により磁気処理した図6では図5の
ような放射状構造の形成されていないことを確認するこ
とができる。放射状構造を持つスカムは不溶解性結晶構
成分子間の結合力が大きく、消泡剤により発泡を止めて
もこれを除去することは困難である。放射状構造を持た
ない本発明では、スケルが生成されても比較的容易に分
解し得るような状態にあるので、装置、製品への汚染の
影響が極く軽減される。
【0038】
【発明の効果】本発明は以上のように構成されかつ作用
するものであるので、現像作業において懸念される現像
液の発泡を抑制ないしは消失することができ、消泡剤を
使用する必要がなくなり、かつ現像機本体及び製品の汚
染の問題を解決し、また製品の品質を高めることがで
き、特にケミカルミーリングプリント基版の製造におい
て安定した製品管理を実現することができる。
するものであるので、現像作業において懸念される現像
液の発泡を抑制ないしは消失することができ、消泡剤を
使用する必要がなくなり、かつ現像機本体及び製品の汚
染の問題を解決し、また製品の品質を高めることがで
き、特にケミカルミーリングプリント基版の製造におい
て安定した製品管理を実現することができる。
【図1】本発明に係る現像液の磁気処理方法の実施に直
接使用する磁気回路ユニットの1例を示す斜視図。
接使用する磁気回路ユニットの1例を示す斜視図。
【図2】同じく磁気処理装置の説明のための断面図。
【図3】実施例1で使用した現像機全体の模式図。
【図4】発泡量の計測の条件を示す説明図。
【図5】比較例3のスカムを示す顕微鏡写真の画像処理
図。
図。
【図6】実施例2のスケルを示す顕微鏡写真の画像処理
図。
図。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 実用新案登録3036860(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03F 7/00 - 7/42
Claims (5)
- 【請求項1】 現像液に生ずる発泡の抑制ないしは消失
のための処理方法であって、現像液中の水分子を活性化
する目的で、N極とS極とに分極した磁気材料片とその
各極に一端側を配置した一対のヨークを有し、同ヨーク
の他端側にて現像液の流路を囲むことにより、上記流路
の一方から他方へ向かう形態を取る磁束群を形成する磁
気回路を用いて、流路を流れる上記現像液に対して磁界
を反転作用させることを特徴とする現像液の磁気処理方
法。 - 【請求項2】 現像液がケミカルミーリングプリント基
版の製造の際に使用するアルカリ型現像機用の現像液で
ある請求項1記載の現像液の磁気処理方法。 - 【請求項3】 現像液に生ずる発泡の抑制ないしは消失
のための処理装置であって、流路を流れる現像液に対し
て磁気処理を行なうために、N極とS極とに分極した磁
気材料片とその各極に一端側を配置した一対のヨークを
有し、同ヨークの他端側にて現像液の流路を囲むことに
より、上記流路の一方から他方へ向かう形態を取る磁束
群を形成する磁気回路を具備し、複数の磁気回路を現像
液の流れに沿って極性が反転するように交互に配置した
ことを特徴とする現像液の磁気処理装置。 - 【請求項4】 磁気回路は、最も面積の大きい面にてN
極とS極に分極させた磁気材料片と、上記分極面に一端
が磁気吸着し、他の部分が現像液の流路を囲むように配
置された2個のヨークとを含んでおり、1個の磁気材料
片と2個のヨークが全体として略コ字形ないしC字形を
なしている請求項3記載の現像液の磁気処理装置。 - 【請求項5】 現像液の流路は流量調節手段を具備し、
現像液流の流速を変えることで磁界の極性反転に係る周
波数を変更可能とした請求項3記載の現像液の磁気処理
装置。
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---|---|---|---|
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IT1999MI001547A IT1313206B1 (it) | 1998-07-14 | 1999-07-13 | Apparecchiatura di trattamento magnetico per fluidi e procedimento peril suo impiego. |
US09/352,204 US6270666B1 (en) | 1998-07-14 | 1999-07-13 | Magnetic treatment apparatus for fluids and method for using same |
DE19932938A DE19932938A1 (de) | 1998-07-14 | 1999-07-14 | Magnetbehandlungsvorrichtung für Fluide und Verfahren für deren Verwendung |
KR1019990028446A KR100337652B1 (ko) | 1998-07-14 | 1999-07-14 | 유체의 자기처리장치 및 그 사용방법 |
TW088111906A TW429236B (en) | 1998-07-14 | 1999-07-14 | Magnetic treatment apparatus for fluids and method for using same |
US09/880,981 US6491825B2 (en) | 1998-07-14 | 2001-06-14 | Method for using a magnetic treatment apparatus for fluids |
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JP21489798A JP3079163B2 (ja) | 1998-07-14 | 1998-07-14 | 現像液の磁気処理方法及びその装置 |
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JP2000029229A JP2000029229A (ja) | 2000-01-28 |
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JP21489798A Expired - Fee Related JP3079163B2 (ja) | 1998-07-14 | 1998-07-14 | 現像液の磁気処理方法及びその装置 |
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JP (1) | JP3079163B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115608719A (zh) * | 2022-12-06 | 2023-01-17 | 哈尔滨金百鸿科技发展有限公司 | 一种电脉冲除垢仪 |
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- 1998-07-14 JP JP21489798A patent/JP3079163B2/ja not_active Expired - Fee Related
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CN115608719A (zh) * | 2022-12-06 | 2023-01-17 | 哈尔滨金百鸿科技发展有限公司 | 一种电脉冲除垢仪 |
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