JP3074412B2 - スパークプラグ用絶縁体 - Google Patents

スパークプラグ用絶縁体

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JP3074412B2
JP3074412B2 JP04023428A JP2342892A JP3074412B2 JP 3074412 B2 JP3074412 B2 JP 3074412B2 JP 04023428 A JP04023428 A JP 04023428A JP 2342892 A JP2342892 A JP 2342892A JP 3074412 B2 JP3074412 B2 JP 3074412B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、内燃機関に装着され
るスパークプラグを構成する絶縁体、特に窒化アルミニ
ウム、窒化珪素及びそれらの酸窒化物焼結体からなる絶
縁体の構造に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、先端に中心電極を保持する絶縁体
は、アルミナ等により一体に成型されるものが一般的で
あるが、近年の内燃機関の高性能化により燃焼室内にお
いて大量に発生する熱を受けて高温となる絶縁体におい
ては、プレイグニッションの発生を防止すべく窒化アル
ミニウム、また、冷熱サイクルの熱衝撃性に対して優れ
た窒化アルミニウム、窒化珪素又はそれらの酸窒化物が
用いられることが提案されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のものにおいて、窒化アルミニウム、窒化珪素又はそ
れらの酸窒化物からなる絶縁体の場合、火花放電時に発
生する高電界により絶縁体表面、特に絶縁体脚部の表面
においては、極めて高温となり、窒化物が分解すること
で火花貫通が生じる。この絶縁体脚部の火花貫通によっ
て中心電極先端での電圧が降下し、失火が起こることか
ら、中心電極と接地電極との火花放電に必要な放電電圧
を一定の値に制限しなければならない問題点がある。
【0004】また、この絶縁体を構成する窒化物におけ
る分解反応を防止するために、絶縁体を構成する窒化ア
ルミニウム、窒化珪素又はそれらの酸窒化物よりも分解
温度が高く、かつ絶縁抵抗が大きいパイロリティック・
ボロン・ナイトライド(以下、PBNとする。)によ
り、絶縁体、特に絶縁体脚部表面を被覆し、熱による窒
化物等の分解反応を抑制することが提案されている(特
願平2−201656号)。しかし絶縁体表面を被覆す
るPBN層の熱膨張係数が、絶縁体を構成する窒化物等
の結晶方向における熱膨張係数の違いにより、PBN層
形成工程、或は内燃機関に装着して使用する場合、PB
N層の剥離が生じ易く、十分な膜厚を確保することがで
きず、25kv以上の高電圧中においては十分な効果が
得られなかった。
【0005】そこで、この発明は上記従来のものの持つ
欠点を改善するものであり、高電圧中であっても絶縁体
を構成する窒化物等の熱分解反応により発生する火花貫
通を防止しようとするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】そのために、窒化アルミ
ニウム、窒化珪素及びそれらの酸窒化物焼結体からなる
絶縁体の表面に、結晶方向において等方としたPBN
膜を形成し、更に、この縁体表面に形成されるPBN膜
の厚さを20〜500μmとしてなるものである。
【0007】また、絶縁体表面に形成されるPBN膜に
おいて、焼結体側に結晶方向が等方性のPBN膜と、そ
の上に異方性のPBN膜を形成し、積層構造とし、等方
性である膜を5μm以上、異方性である膜を15μm以
上設け、更に、絶縁体表面に形成されるPBN膜の厚さ
を20〜500μmとしてなるものである。
【0008】
【作用】上記の構成を具えるので、絶縁体表面を被覆す
るPBN膜は等方性を有する構造であり、かつその等方
性を有するPBN膜の熱膨張係数は、絶縁体を構成する
窒化物焼結体の有するそれに近いもの(5×0.000
001/℃)であるから、PBN膜形成工程時、或はス
パークプラグとしての使用時における冷熱サイクルにお
いても容易に剥離が発生することがない。そして、耐電
圧性能を高めるべくPBN膜の厚さを大きく採ることが
できる。なお、異方性とは、絶縁体表面と垂直方向に結
晶が成長したものを言い、等方性とはあらゆる方向の結
晶が混じり合った構造のものを言う。
【0009】また、そのPBN膜の厚さも、20μm
であると通常火花放電に必要とされる電圧(25kv
以下)に耐えることができず、500μmより過大であ
ると熱膨張係数の差による被膜の剥離を防止できないの
で、PBN膜の厚さを20〜500μmとすることによ
り、被膜の剥離を発生させることなく高電圧に耐え得る
ようにすることができる。
【0010】更に、絶縁体表面に、焼結体側に等方性の
PBN膜と、その上に異方性のPBN膜を形成すること
により、等方性のPBN膜では被膜の剥離を防止し、異
方性のPBN膜では絶縁性及び耐電圧性能を高めること
ができる。また、この絶縁体の表面を被覆するPBN膜
において、焼結体側に結晶方向が等方性であるPBN膜
を5μm以上、異方性のPBN膜を15μn以上設け、
積層構造とすることにより、高電圧(30kv以上)の
下、結晶方向が異方であるPBN膜の剥離を防止しつ
つ積層構造となるPBN膜の厚さを薄くすることができ
る。更には、上記構成において、等方性と異方性のPB
N膜の厚さを、20μm未満にすると30KV以上の高
電圧に耐えることができず、500μmより大きいと熱
膨張差による被膜の剥離を防止することができないの
で、PBN膜の厚さを20〜500μmとすることによ
り、被膜の剥離を防止し、より高電圧に耐えることがで
きる。
【0011】
【実施例】この発明を図に示す実施例により更に説明す
る。(1)は、この発明の実施例を具える内燃機関用ス
パークプラグであり、この内燃機関用スパークプラグ
(1)は、軸孔(3)の先端に中心電極(4)を保持す
ると共に、その軸孔(3)の後端内に導電性ガラスシー
ル材(7)を挟んで抵抗体(5)及び端子電極(6)を
内封、固持する絶縁体(2)と、この絶縁体(2)を保
持し、先端に上記中心電極(4)の対向する位置に接地
電極(9)を配置してなる主体金具(8)から構成され
る。
【0012】そして、軸孔(3)の先端に中心電極
(4)を保持し、その軸孔(3)の後端内において導電
性ガラスシール材(7)を挟んで抵抗体(5)及び端子
電極(6)を内封、固持してなる絶縁体(2)は、窒化
アルミニウム、窒化珪素又はそれらの酸窒化物焼結体か
らなるものであって、この絶縁体(2)の表面に、その
結晶方向において等方としたPBN膜(10)を熱C
VD法により形成し、更に、この熱CVD法により絶縁
体(2)の表面に形成されるPBN膜(10)の厚さを
20〜500μmとしてなるものである(図2)。
【0013】なお、絶縁体(2)の表面にPBN膜を形
成するにあたって使用される熱CVD法は、塩化硼素、
アンモニア等の気体原料を、1500〜1900℃、
0.1〜0.001Torrの減圧下で、反応装置内で
窒化アルミニウム、窒化珪素、或はそれらの酸窒化物焼
結体からなる絶縁体(2)の表面において直接形成する
ものであり、結晶方向の等方性、異方性は気体原料の割
合、圧力、温度により制御し、膜厚は反応時間を長くす
れば厚くなるものである。
【0014】また、図3に示すように絶縁体(2)の表
面に形成されるPBN膜(10)において、焼結体側に
結晶方向が等方である膜(11)を5μm以上、さら
に異方性である膜(12)を15μm以上設け、積層構
造としてなるものである。
【0015】この発明は以上の構成を具えるので、内燃
機関用スパークプラグ(1)を構成する絶縁体(2)表
面を被覆するPBN膜(10)は、等方性を有する構造
であり、かつその等方性を有するPBN膜(10)の熱
膨張係数は5×0.000001/℃であり、絶縁体
(2)を構成するALN(4〜5.5×0.00000
1/℃),Si(2.8〜3.8×0.0000
01/℃),SiAlON(2.2〜3.4×0.00
0001/℃)等、窒化物焼結体の有するそれに近いも
のであるから、PBN膜(10)の形成工程時、或はス
パークプラグ(1)として内燃機関に装着して使用する
場合における冷熱サイクルにおいても、燃焼室内で発生
する大量の熱を受けて絶縁体(2)が膨張しても、絶縁
体(2)とその絶縁体(2)の表面に形成されるPBN
膜(10)との間に熱膨張係数の差によって生じる応力
を小さいものとすることができるので、この絶縁体
(2)の表面に形成されたPBN膜(10)が、絶縁体
(2)の表面から容易に剥離することがなく、PBN膜
(10)の厚さを大きく採ることができることから、耐
電圧性能を高めることができる。
【0016】また、そのPBN膜(10)の厚さも20
〜500μmとすることにより、20μm未満であると
通常火花放電に必要とされる電圧(25kv以下)に耐
えることができず、500μmより過大であると熱膨張
係数の差によるPBN膜(10)の剥離を防止できない
ことから、PBN膜(10)の絶縁体(2)の表面から
の剥離を発生させることなく、高電圧にも耐え得るよう
にすることができる。
【0017】更に、この絶縁体(2)の表面を被覆する
PBN膜(10)において、焼結体 側に結晶方向が等方
性のPBN膜(11)と、その上に異方性のPBN膜
(12)を積層構造とし、特に結晶方向が等方である
PBN膜(11)が5μm未満であると、このPBN膜
(11)の上部に形成される結晶方向が異方であるP
BN膜(12)の剥離を招き、一方結晶方向が異方
あるPBN膜(12)の膜厚を15μm未満とすると高
電圧に耐え得ることができない。そこで図3に示すよう
に焼結体側に結晶方向が等方であるPBN膜(10)
を5μm以上、さらに異方性であるPBN膜(12)を
15μm以上設けて積層構造とすることにより、高電圧
(30kv以上)の下、結晶方向が異方であるPBN
膜(12)の剥離を防止しつつ積層構造となるPBN膜
(10)の厚さを薄くすることができる。そして、等方
性と異方性のPBN膜の膜厚を20〜500μmとする
ことにより、被膜の剥離を防止し、より高電圧に耐える
ことができる。
【0018】そこで、この発明の実施例である絶縁体
(2)を具える内燃機関用スパークプラグ(1)につい
て、実機に装着して従来例との比較を行なった。このと
き、この発明の実施例である内燃機関用スパークプラグ
(1)を構成する絶縁体(2)は、窒化珪素(Si
90wt%、Ywt%、Alwt
%)、サイアロン(Si68.8wt%、Al
N9.1wt%、Al19.1wt%、Y
wt%)、窒化アルミニウム(AlN95.5wt
%、Y4.0wt%、MgO0.5wt%)の各
原料とも平均粒径2μm以下のものを使用し、トリクロ
エタンとワックス系バーインダーおよび若干の分散剤
を添加し、約20時間湿式混合を行ったスラリーをスプ
レードライヤーにより100μm以下の粒径に造粒し、
これを約100MPの圧力にてラバーブレス成形した
後、外径を削り成形して所望のスパークプラグ用絶縁体
形状とした。次いで500℃Nガス中で5時間、更に
大気中500℃で2時間成形体を加熱し、脱脂及び残炭
分を除去した。本焼成は窒化珪素の場合は、1700
℃×5時間、サイアロンは1750℃×2時間、窒
化アルミニウムは1800℃×2時間いずれもNガス
中BN製の焼成容器にて常圧焼成を行い、その表面を超
音波洗浄した。そして、上記に述べたように、PBNの
被覆を形成した。これら絶縁体(2)内に中心電極
(4)及び端子電極(6)等を固定した後、主体金具
(8)に組み付けたスパークプラグを夫々用意した(図
4)。
【0019】次いで、これら実施例NO.1〜20の材
料を用いて、耐電圧テストを行った。テスト結果の条件
Aとは、レシプロエンジンを用いて、6000rpm×
スロットル全開で放電電圧25〜27KVで100時間
運転したときのPBN被膜の状態を示したものであり、
また、条件Bとは、同じエンジン及び同じ条件で放電電
圧30〜32KVで100時間運転したときの状態を示
した。尚、O印は異常のない状態を示し、×印は途中で
火花貫通して失火したものを示す。
【0020】テスト結果は図4に示すように、等方性P
BN被膜のないもの及び膜厚20μm未満のNO.1〜
3は条件Aで火花が貫通して失火する。膜厚が20〜5
00μmのNO.4〜8のものは条件Aで異常はない。
しかしNO.4、5は条件Bでは貫通する。また、膜厚
が500μmより大きいNo.9、10は条件Aでテス
ト途中に被膜が剥離し貫通失火する。更に異方性PBN
被膜のNO.11、12のものは条件Aのテスト途中で
剥離し貫通失火する。等方性の膜厚が5μm未満及び異
方性の膜厚が15μm以上の積層被膜であるNO.13
条件Aでは貫通失火しないが、条件Bで貫通失火す
る。この発明の積層被膜であるNO.14〜17は条件
A、Bともで異常は認められない。また等方性と異方性
の全膜厚が500μm以上のNO.20のものは剥離が
生じ、貫通失火する。このため、条件Bでは等方性の膜
厚は100μm以上(No,6〜8)必要であるが、異
方性PBN積層すれば100μmより薄くても異常は生
じない。なお、NO.19は等方性の膜厚が250μm
のため条件A及び条件Bで異常はない。従って、特許請
求の範囲に示した膜厚においてその結果が十分に認めら
れた。
【0021】なお、この発明のスパークプラグ(1)の
絶縁体(2)は全体を窒化アルミニウム、窒化珪素及び
それらの酸窒化物焼結体で形成したものを用いたが、絶
縁体(2)を燃焼室側の脚長部と頭部側に分割した構造
とし、前記脚長部側の絶縁体を前記窒化アルミニウム、
窒化珪素及び酸窒化物焼結体で形成すると共に、その表
面にこの発明のPBN被膜(10)を形成し、頭部側の
絶縁体をアルミナで形成したスパークプラグにも適用す
ることができる。
【0022】
【発明の効果】以上のとおり、絶縁体の表面に所定の膜
厚を有するPBN膜の等方性或は等方性と異方性の積層
構造を形成することによりPBN膜の剥離を防止し、
電圧下においても分解反応を発生して火花貫通すること
もなく、高性能化した内燃機関に対応してその出力を十
分に発揮させることができる優れた効果を有するもので
ある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施例である内燃機関用スパークプ
ラグの部分断面図である。
【図2】その第一実施例である絶縁体の要部拡大断面図
である。
【図3】その他の実施例である絶縁体の要部拡大断面図
である。
【図4】この発明の実施例に対する実機試験の結果であ
る。
【符号の説明】
1 内燃機関用スパークプラグ 2 絶縁体 3 軸孔 4 中心電極 5 抵抗体 6 端子電極 7 導電性ガラスシール材 8 主体金具 9 接地電極 10 PBN膜 11 結晶方向が等方的であるPBN膜 12 結晶方向が異方的であるPBN膜
フロントページの続き (72)発明者 小西 雅弘 名古屋市瑞穂区高辻町14番18号 日本特 殊陶業株式会社内 (56)参考文献 特開 平4−149985(JP,A) 特開 平4−87286(JP,A) 特開 平2−152185(JP,A) 特開 平2−27684(JP,A) 特開 昭61−163582(JP,A) 特開 平3−237067(JP,A) 特開 昭61−219787(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01T 13/00 - 13/56 C04B 41/87

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 窒化アルミニウム、窒化珪素及びそれら
    の酸窒化物焼結体からなる絶縁体の表面に、結晶方向に
    おいて等方としたパイロリティック・ボロン・ナイト
    ライド(以下、PBNとする。)膜を形成してなるスパ
    ークプラグ用絶縁体。
  2. 【請求項2】 絶縁体表面に形成されるPBN膜の厚さ
    を20〜500μmとしてなる請求項1記載のスパーク
    プラグ用絶縁体。
  3. 【請求項3】 窒化アルミニウム、窒化珪素及びそれら
    の酸窒化物焼結体からなる絶縁体の表面に、焼結体側に
    結晶方向が等方性のPBN膜と、その上に異方性のPB
    N膜を形成し、積層構造としてなるスパークプラグ用絶
    縁体。
  4. 【請求項4】 絶縁体表面に形成されるPBN膜におい
    て、結晶方向が等方である膜を5μm以上、異方性で
    ある膜を15μm以上設け積層構造としてなる請求項
    3記載のスパークプラグ用絶縁体。
  5. 【請求項5】 絶縁体表面に形成されるPBN膜の厚さ
    を20〜500μmとしてなる請求項3又は4記載のス
    パークプラグ用絶縁体。
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