JP3069170B2 - 反射率プラトーを有するテトラゾリウム塩指示薬を用いる分析方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、還元物質、特にニコチ
ンアミドアデニンジヌクレオチド（ＮＡＤＨ）の測定に
有用な色原性テトラゾリウム塩指示薬化合物に関する。

【０００２】

【従来の技術】テトラゾリウム塩は、還元物質に反応す
る色原指示試薬として十分公知である。還元に際して、
テトラゾリウム塩はホルマザン染料生成物に変換され
る。これらの指示試薬は、種々の広範な分野、特に細胞
染色並びに体液中の分析対象物、たとえば尿、乳汁、血
清、及び血漿の測定にとりわけ適用されてきた医学的診
断の分野における使用が知られている。一般に、体液分
析対象物の測定は、試験される試料中に存在する分析対
象物の量の関数としてＮＡＤＨが形成される、ＮＡＤ−
依存性酵素反応を包含する。その場合、生成したＮＡＤ
Ｈの量は、適切なテトラゾリウム塩指示試薬をそのホル
マザン染料生成物に還元的に変換することによって、測
定し得る。

【０００３】医学診断試験の分野では、テトラゾリウム
塩指示試薬は、種々の異なる種類の製品に有用である。
その中で特定されるものは試薬ストリップである。この
製品は、特定の分析対象物、例えばグルコース又はコレ
ステロールに反応する化学試薬を含浸され、又は別の方
法で混和された紙又はその他の多孔質担体を包含する固
体状態用具である。混和された試薬系は、マトリックス
に塗布される試料中の分析対象物の量の関数として発色
又は変色する色原性指示薬を含有する。その結果生じる
測色反応は肉眼で観察され、定性的又は半定量的に読み
取られる。定量的結果は、適切な計器（反射率メータ
ー）を用いて、一つ又はそれ以上の特定の波長で、マト
リックス表面の反射率を読み取ることにより観察でき
る。

【０００４】試験試料中に存在し得る主な妨害物質の吸
光度より長い波長で強力な吸光度を有するテトラゾリウ
ム指示試薬を開発する必要性が認識されている。たとえ
ば、ヘモグロビンの色による妨害は、試料が全血である
場合に特に問題である。約６４０ｎｍを超える有意の吸
収を示す指示試薬が、ヘモグロビン妨害を実質的に克服
するために必要である。一般に用いられるテトラゾリウ
ム塩指示試薬は、塩化２−（４−ヨードフェニル）−３
−（４−ニトロフェニル）−５−フェニルテトラゾリウ
ム（ＩＮＴ）、塩化３−（４，５−ジメチルチアゾール
−２−イル）−２，５−ジフェニルテトラゾリウム（Ｍ
ＴＴ）、及び塩化２，２’，５，５’−テトラフェニル
−３，３’−（３，３’−ジメトキシ−４，４’−ジフ
ェニレン）ジテトラゾリウム（ＮＢＴ）である。これら
の化合物は、４６５〜６０５ｎｍの範囲で最大吸収（Ｕ
Ｖｍａｘ）を示す。

【０００５】慣用的に用いられる従来技術のテトラゾリ
ウム塩指示試薬の別の欠点は、それらの測色反応を測定
するために用いられる計測の進展に関する。より小型
で、安価な反射率メーターの開発は、急速に進歩しつつ
ある。このような計量器のより高価な構成分の一つは、
光源、入射光又は反射光の波長を選択又は限定するため
のフィルター又はその他の分光要素、及びセンサーから
成る光学系である。光学系要素の機能を削除するか、又
は組み合わせるか、あるいはより安価な要素、たとえば
照明光源にＬＥＤを用いることによって、原価の顕著な
節減を実現することができる。しかしながら、市販のＬ
ＥＤは、製造のばらつき及び温度依存性により、有意に
変化し得る中心波長を有する光を発する。慣用的に用い
られるテトラゾリウム塩指示試薬ＩＮＴ、ＭＴＴ、及び
ＮＢＴは、それらのＵＶｍａｘを超える領域で強く傾斜
する反射スペクトルを有する。したがって、ＬＥＤの製
造のばらつきを修正するために各計器を個々に検量しな
ければ、そして温度によるばらつきを修正するためにテ
ストランを行わねば、検定結果に大きな誤差が生じ得
る。

【０００６】以下は、測色分析における種々のテトラゾ
リウム塩の使用に関して教示している従来の技術の代表
的なものである。Ｔａｎａｋａらの特開昭６１−８４号
（Ｃｈｅｍ．Ａｂｓｔ．１０４：２０３４６９ｙ）は、
ニッケル（ＩＩ）の存在下における２−（２−ベンゾチ
アゾリル）−３−（カルボキシフェニル）−５−フェニ
ル−２Ｈ−テトラゾリウムハロゲン化物の還元によって
得られるホルマザンキレートを用いるグルコースの検出
を記載している。Ｌｉｍｂａｃｈらの西独特許第３，２
４７，８９４号（Ｃｈｅｍ．Ａｂｓｔ．１０１：１２５
９２９ｖは、グルコース検定におけるＩＮＴの使用に関
する。Ｒｉｔｔｅｒｓｄｏｒｆらの西独特許第２，１４
７，４６６号は、還元物質、たとえば還元糖、アスコル
ビン酸、及びケトステロイドの測定における７種の２−
（２−ベンゾチアゾリル）−３−フェニル−５−（４−
［トリメチルアンモニオ］フェニル）テトラゾリウム塩
の使用を記載している。

【０００７】文献で公知の種々の２−チアゾリルテトラ
ゾリウム塩及び／又はそれらの対応するホルマザンの代
表的なものを以下に示す。Ｓｅｒｅｂｒｙａｋｏｖａ
ら，Ｋｈｉｍ．Ｇｅｔｅｒｏｔｓｉｋｌ．Ｓｏｅｄｉ
ｎ．１０：１４０３−１４０５（１９７０）は、ベンゾ
チアゾリル−３−フェニル−（メチル）−５−ｐ−ニト
ロ（ジメチルアミノ）フェニルホルマザンの合成及び染
色特性を記載している。著者らは、Ｎ−５フェニルのパ
ラ位置の電子求引性のニトロ基及びＮ−１位置のベンゾ
チアゾリル基がともに深色移動を示すと記載している。
Ｂｅｄｎｙａｇｉｎａ ら，Ｋｈｉｍ．Ｇｅｔｅｒｏｔ
ｓｉｋｌ．Ｓｏｅｄｉｎ．２：３４２−３４５（１９６
７）は、１−ベンゾチアゾリル−、及び１−ベンズオキ
サゾリル−３−メチル（又はフェニル）−５−アリール
ホルマザンの合成を記載している。色の深さと複素環の
塩基度との関係も考察されている。Ｇｕｌｅｍｅｎａ
ら，Ｋｈｉｍ．Ｇｅｔｅｒｏｔｓｉｋｌ．Ｓｏｅｄｉ
ｎ．６：７７４−７７７（１９７４）は、ベンゾチアゾ
リルホルマザンの構造及び特性に及ぼすｏ−ニトロ基の
効果を記載している。イオン化定数ならびにＩＲ及びＵ
Ｖスペクトルが測定され、構造と関連づけられた。Ｌｉ
ｐｕｎｏｖａら，Ｋｈｉｍ．Ｇｅｔｅｒｏｔｓｉｋｌ．
Ｓｏｅｄｉｎ．４：４９３−４９９（１９７４）は、３
−（メチル，イソプロピル，フェニル）−１−ベンゾチ
アゾリル−５−ニトロフェニルホルマザンの調製及びそ
れらのスペクトル特性を記載している。Ｇｌｕｅｍｉｎ
ａら，Ｚｈ．Ｐｒｉｋｌ．Ｓｐｅｋｔｒｏｓｋ．２２
（５）：９４１−９４３（１９７５）は、１−ベンゾチ
アゾリル−、１−チアゾリル−、及び１−（５−ブロモ
チアゾリル）−３−メチル−５−（ｐ−ニトロフェニ
ル）ホルマザンに関する、溶剤及び温度変化の条件によ
る正及び負の両方のＵＶ熱変色性の観察を記載してい
る。Ｐｏｎｙａｅｖら，Ｚｈ．Ｏｂｓｈｃｈ．Ｋｈｉ
ｍ．５５（１１）：２６１５−２６１７（１９８５）
は、光誘導形態の１−ベンゾチアゾリル−３−メチル−
５−フェニルホルマザン類似化合物の相互転換の動力学
的研究を記載している。これらの形態はトリフェニルホ
ルマザンより濃い色になることが示された。Ｌｉｐｕｎ
ｏｖａら，Ｋｈｉｍ．Ｇｅｔｅｒｏｔｓｉｋｌ．Ｓｏｅ
ｄｉｎ．（１９７１）８３１−８３５は、Ｎ−１−ベン
ゾチアゾリルホルマザンの可視スペクトルに及ぼすＮ−
５−ナフチル又はｏ−トリル基の深色効果を比較してい
る。Ｊｏｈｎｅら，Ｐｈａｒｍａｚｉｅ ３４：７９０
−７９４（１９７９）は、化合物１−（４−メチル−５
−カルボエトキシチアゾール−２−イル−３−（３−ピ
リジル）−５−（２−カルボキシフェニル）ホルマザン
及び１−（４−メチル−５−カルボエトキシチアゾール
−２−イル−３−（２−ピリジル）−５−（２−カルボ
キシフェニル）ホルマザン、ならびにある種の２−
（４，５−ジフェニルチアゾール−２−イル）テトラゾ
リウム塩を記載している。

【０００８】種々の２−ベンゾチアゾリルテトラゾリウ
ム塩及び関連化合物は、米国特許第３，６５５，３８２
号及び第４，２２１，８６４号の記載内容に代表される
ような、写真の分野にも用いられている。

【０００９】

【本発明の要約】以下のＡ式の２−チアゾリルテトラゾ
リウム塩は、約６００ｎｍを超える、好ましくは約６５
０ｎｍを超える広範なプラトーを示す反射スペクトルを
特徴とすることが見出された。このような反射率プラト
ーにより、試験試料を（ａ）分析対象物と反応して還元
物質、たとえばＮＡＤＨを生成する試薬、及び（ｂ）上
記還元物質により還元されて色原性染料物質を生成する
指示試薬化合物を含有する試験組成物と混和した固体担
体マトリックスを包含する試験具と接触させ、そして光
源で担体マトリックスを照射し、検出器構成分で反射光
を測定することにより、担体マトリックスの反射率を検
知することによって、色原性染料物質を測定する分析的
検定の精度が改良される。本化合物の反射率プラトー特
性は、ＬＥＤ光源を用いる場合、検出器要素に達する光
が狭い波長のバンドから成り、その中心波長が約±５ｎ
ｍを上回る変動に感受性である状況でに特に重要であ
る。

【００１０】本発明のチアゾリルテトラゾリウム塩は、
式Ａを有する。

【００１１】

【化９】

【００１２】式Ａにおいて、Ｒ³ はアリール又はスチリ
ルであり、Ｒ⁴ はアリールであり、Ｘは好適な対陰イオ
ンである。

【００１３】Ｒ¹ 及びＲ² 置換基に関して、便宜上、本
化合物は４つの主要群に分類される： １群化合物 − Ｒ¹ 及びＲ² が一緒になって、非置換
ベンゾ環を形成する非置換ベンゾチアゾリル、２群化合
物 − Ｒ¹及びＲ² が一緒になって、以下に記載され
るように置換されるベンゾ環を形成する置換ベンゾチア
ゾリル、３群化合物 − （ｉ）Ｒ¹はカルボキシル、
カルボアルコキシ、カルボアリールオキシ、カルバモイ
ル、又はシアノであり、Ｒ² はアルキル又はクロロであ
るか、あるいは （ｉｉ）Ｒ¹ はアルキル又はアリールであり、Ｒ² はカ
ルボキシル、カルボアルコキシ、カルボアリールオキ
シ、又はシアノであるか、あるいは （ｉｉｉ）Ｒ¹ はフルオロ置換基が式中のチアゾリル残
基に隣接する炭素上にあるジ又はトリフルオロアルキル
であり、Ｒ² はクロロである、特定のアルキル置換チア
ゾリル、ならびに４群化合物 − Ｒ¹ 又はＲ² の一方
又は両方が置換又は非置換フェニルであり、一方のみが
置換又は非置換フェニルである場合は他方は水素又はア
ルキルであるモノ−及びジフェニル置換チアゾリル。

【００１４】

【好ましい態様の説明】以下の定義が対象の開示に適用
される： ”Ｃ_1-4 ” − 残基を、たとえば炭素原子を含めた適
切な１〜４個の原子を含有する形態に限定するために用
いられる。たとえばＣ_1-4アルキル。 ”アルキル” − 一般式Ｃ_n Ｈ_2n+1の直鎖及び分枝鎖
炭化水素残基、好ましくは”低級アルキル”、たとえば
メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブ
チル、イソブチル、及びｔｅｒｔ−ブチルのＣ_1-4 アル
キル、ならびに高級アルキル、たとえばｎ−ペンチル、
ｎ−ヘキシル等。 ”アルコキシ” − 残基−ＯＲ（式中、Ｒはアルキル
である）。 ”アルキルアミド” − 残基−ＮＲＣ（＝Ｏ）Ｒ’
（式中、Ｒ及びＲ’は、同一であっても異なってもよ
く、アルキルである）。 ”アルキルチオ” − 残基−ＳＲ（式中、Ｒはアルキ
ルである）。 ”アミド” − 残基−ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｈ。 ”アミノ” − 残基−ＮＲＲ’（式中、Ｒ及びＲ’は
同一であっても異なってもよく、水素又はアルキルであ
る）。 ”アリール” − 芳香族炭素環式又は複素環式環又は
環系からこのような環又は環系に結合する水素原子を除
去することにより誘導される有機残基、たとえばフェニ
ル、ナフチル、ピリジル、オキサゾリル、キノリル、チ
アゾリル、チエニル、及びフラニル。 ”アリールアミド” − 残基−ＮＲＣ（＝Ｏ）Ｒ’
（式中、Ｒ及びＲ’は同一であっても異なってもよく、
アリールである）。 ”アリールオキシ” − 残基−ＯＲ（式中、Ｒはアリ
ールである）。 ”アリールチオ” − 残基−ＳＲ（式中、Ｒはアリー
ルである）。 ”カルボアルコキシ”−残基−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ（式中、
Ｒはアルキルである）。 ”カルバボアリールオキシ”−残基−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ
（式中、Ｒはアリールである）。 ”カルバモイル” − 残基−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲＲ’（式
中、Ｒ及びＲ’は同一であっても異なってもよく、水素
又はアルキルである）。 ”カルボキシル” − 残基−Ｃ（＝Ｏ）ＯＨ。 ”ハロ” − フルオロ、クロロ、及びブロモ。 ”イミダゾ” − 二価残基−Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ−。 ”メチレンジオキシ” − 式−Ｏ−ＣＨ₂ −Ｏ−の二
価残基。 ”フェニルアゾ” − 残基−Ｎ＝Ｎ−フェニル。 ”スチリル” − 残基−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ（式中、Ｒは
アリールである）。 ”スルホ” − 残基−ＳＯ₃ 。 ”スルファミド” − 残基−ＮＲＳＯ₂ Ｒ’（式中、
Ｒ及びＲ’は同一であっても異なってもよく、アルキ
ル、アリール、又は水素である）。 ”スルファモイル” − 残基−ＳＯ₂ ＮＲＲ’（式
中、Ｒ及びＲ’は同一であっても異なってもよく、アル
キル、アリール、又は水素である）。 ”トリアルキルアンモニオ” − 残基−ＮＲ₃ ⁺（式
中、Ｒはアルキルである）。 ”ウレイド” − 残基−ＮＲＣ（＝Ｏ）ＮＲ’（式
中、Ｒ及びＲ’は同一であっても異なってもよく、アル
キル、アリール、又は水素である）。

【００１５】特に別記しない限り、置換されることもあ
る残基、例えばアルキル、アリール、フェニルアゾ、及
びスチリルの場合における上記の用語の使用は、このよ
うな残基の合理的に置換された形態、ならびにそれらの
非置換形態を包含するように意図されると理解されるべ
きである。本発明の有用な化合物を生成する合理的な置
換は、当業者には明らかであって、いくつか名前を挙げ
ると、アルコキシ、アミノ、アルキルチオ、カルボアル
コキシ、カルボキシ、ヒドロキシ、スルホ、及びスルフ
ァモイルといった置換基を含むが、これらに限定される
ものではない。

【００１６】プラトー化合物 限定された反射率プラトー特性を有する２−チアゾリル
テトラゾリウム塩は、文献で公知の化合物と新規の化合
物とを包含する。このような化合物は、本発明の方法に
おいて使用が見出されるであろう。概して、このような
化合物は、４主要群に関して上記のようなＲ¹ 及びＲ²
置換基を有するＡ式を有する。２群（置換ベンゾチアゾ
リル）化合物に関しては、Ｒ¹及びＲ² が一緒になって
ベンゾ環を形成して式Ａ１：

【００１７】

【化１０】

【００１８】（式中、（ｉ）Ｒ⁵ 及びＲ⁶ 、又はＲ⁶ 及
びＲ⁷ 、又はＲ⁷ 及びＲ⁸ は一緒になって、アルコキ
シ、アリールオキシ、アルキル、アミド、アルキルアミ
ド、アリールアミド、アルキルチオ、アリールチオ、ア
ミノ、カルバモイル、カルボアルコキシ、シアノ、ハ
ロ、ヒドロキシル、スルホ、スルホンアミド、スルファ
モイル、トリアルキルアンモニオ、又はウレイドで置換
されることもあるベンゾ又はシクロヘキシル環を形成
し、そしてその他は、同一であっても異なってもよく、
水素、アルコキシ、アリールオキシ、アルキル、アミ
ド、アルキルアミド、アリールアミド、アルキルチオ、
アリールチオ、アミノ、カルバモイル、カルボアルコキ
シ、シアノ、ハロ、ヒドロキシル、スルホ、スルホンア
ミド、スルファモイル、トリアルキルアンモニオ、又は
ウレイドである、あるいは（ｉｉ）Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 及
びＲ⁸のうちの一つ又はそれ以上がアルコキシ、アリー
ルオキシ、アルキル、アミド、アルキルアミド、アリー
ルアミド、アルキルチオ、アリールチオ、アミノ、カル
バモイル、カルボアルコキシ、シアノ、ハロ、ヒドロキ
シル、スルホ、スルホンアミド、スルファモイル、トリ
アルキルアンモニオ、又はウレイドであり、その他が、
もしあれば、水素である）のベンゾチアゾリル残基を生
じるのが好ましい。

【００１９】４群（フェニル置換チアゾリル）化合物に
関しては、Ｒ¹及びＲ² の一方又は両方が非置換フェニ
ルであるか、又は独立してアルコキシ、アリールオキシ
（好ましくはフェノキシ）、アルキル、アミド、アルキ
ルアミド、アリールアミド（好ましくはフェニルアミ
ド）、アルキルチオ、アリールチオ（好ましくはベンズ
チオ）、アミノ、カルバモイル、カルボアルコキシ、カ
ルボアリールオキシ（好ましくはカルボフェノキシ）、
カルボキシ、シアノ、ハロ、ニトロ、スルホ、スルホン
アミド、スルファモイル、トリアルキルアンモニオ、又
はウレイドで置換されるフェニルであり、１個のみが置
換又は非置換フェニルである場合は、その他は水素、ア
ルキル、又はクロロであるのが好ましい。

【００２０】１ないし４群の各々に関しては、Ｒ³ 及び
Ｒ⁴ は広範に変化し得る。本質的に、Ｒ³ がアリール基
又はスチリル基でありＲ⁴ がアリール基である式Ａの任
意のテトラゾリウム塩は、本発明の所望の反射率プラト
ー特性を有する。しかしながら、Ｒ³ 及びＲ⁴ 位置での
特定のアリール残基の選択は、ホルマザンの強度（吸光
係数）、ならびにプラトーの位置（深色性）及び扁平度
に影響を及ぼす。

【００２１】好ましいＲ³ 及びＲ⁴ 残基 合成及びホルマザンの反射スペクトル特性の見地から、
本明細書に記載のような１ないし４群の各々に関して
は、Ｒ³ は好ましくは、以下の： （ａ₁ ）式Ｂ：

【００２２】

【化１１】

【００２３】（式中、Ｑは一重結合又は−ＣＨ＝ＣＨ−
であり、 （ｉ）Ｙ¹ はアルコキシ、アリールオキシ、アルキル、
アミド、アルキルアミド、アリールアミド、アルキルチ
オ、アリールチオ、ハロ、又は水素であり、Ｙ² はアル
コキシ、アリールオキシ、アルキル、アミド、アルキル
アミド、アリールアミド、アルキルチオ、アリールチ
オ、アミノ、カルバモイル、カルボアルコキシ、カルボ
キシル、シアノ、ハロ、水素、ニトロ、スルホ、スルホ
ンアミド、スルファモイル、トリアルキルアンモニオ、
又はウレイドであり、Ｙ³ はアルコキシ、アリールオキ
シ、アルキル、アミド、アルキルアミド、アリールアミ
ド、アルキルチオ、アリールチオ、カルバモイル、カル
ボアルコキシ、カルボアリールオキシ、カルボキシル、
シアノ、ハロ、水素、ヒドロキシル、ニトロ、スルホ、
スルホンアミド、スルファモイル、トリアルキルアンモ
ニオ、又はウレイドであり、Ｙ⁴ はアルコキシ、ハロ、
又は水素であるか、あるいは （ｉｉ）Ｙ² 及びＹ³ が一緒になってメチレンジオキシ
又はイミダゾを形成し、Ｙ¹ 及びＹ⁴ が水素である）の
残基、 （ｂ₁ ）２−、３−、又は４−ピリジル、 （ｃ₁ ）２−又は３−チエニル、及び （ｄ₁ ）２−又は３−フラニルから選択され、そしてＲ
⁴ が好ましくは以下の： （ａ₂ ）式Ｃ：

【００２４】

【化１２】

【００２５】（式中、Ｙ⁵ はアルコキシ、アリールオキ
シ、アルキル、アミド、アルキルアミド、アリールアミ
ド、アルキルチオ、アリールチオ、ハロ、水素、ニト
ロ、又はウレイドであり、Ｙ⁶ はアルコキシ、アリール
オキシ、アルキル、アミド、アルキルアミド、アリール
アミド、アルキルチオ、アリールチオ、カルバモイル、
カルボアルコキシ、カルボキシル、シアノ、ハロ、水
素、ニトロ、スルホ、スルホンアミド、スルファモイ
ル、トリアルキルアンモニオ、又はウレイドであり、Ｙ
⁷ はアルコキシ、アリールオキシ、アミド、アルキルア
ミド、アリールアミド、アルキルチオ、アリールチオ、
カルバモイル、カルボアルコキシ、カルボキシル、シア
ノ、水素、ヒドロキシル、ニトロ、フェニルアゾ、スル
ホ、スルホンアミド、スルファモイル、又はウレイドで
あり、Ｙ⁸ はアルコキシ、アリールオキシ、アルキル、
ハロ、水素又はニトロである）の残基、 （ｂ₂ ）式Ｄ：

【００２６】

【化１３】

【００２７】（式中、Ｙ⁹ はアルコキシ、アリールオキ
シ、アルキル、アミド、アルキルアミド、アリールアミ
ド、アルキルチオ、アリールチオ、カルバモイル、カル
ボアルコキシ、カルボキシル、シアノ、ハロ、水素、ニ
トロ、フェニルアゾ、スルホ、スルホンアミド、スルフ
ァモイル、トリアルキルアンモニオ、又はウレイドであ
る）の残基、（ｃ₂ ）２−、４−、６−、又は８−キノ
リル、あるいは２−メチルキノリル、及び（ｄ₂ ）アン
トラニルから選択される。

【００２８】最も好ましいＲ³ 及びＲ⁴ 残基 優れた反射率プラトーを有するものである１ないし４群
の最も好ましい化合物は、Ｒ³ が以下の： （ａ₁ ）式Ｅ：

【００２９】

【化１４】

【００３０】（式中、（ｉ）Ｙ² 、Ｙ³ 及びＹ⁴ は各々
Ｃ_1-4 アルコキシであり、 （ｉｉ）Ｙ⁴ が水素であり、Ｙ² 及びＹ³ がいずれもＣ
_1-4 アルコキシであるか、又は一緒になってメチレンジ
オキシを形成し、あるいは （ｉｉｉ）Ｙ² 及びＹ⁴ がいずれも水素であり、Ｙ³ が
Ｃ_1-4 アルコキシ、Ｃ_1-4 アルキル、Ｃ_1-4 アルキルア
ミド、Ｃ_1-4 アルキルチオ、カルバモイル、カルボ（Ｃ
_1-4 ）アルコキシ、カルボキシル、シアノ、ハロ、水
素、ニトロ、トリ（Ｃ_1-4 ）アルキルアンモニオ、又は
ウレイドである）の残基、及び（ｂ₁ ）２−又は３−チ
エニルから選択されるものである。

【００３１】製造された化合物の特性及び合成に基づけ
ば、Ｒ³ が以下の： ３，４，５−トリメトキシフェニル、３，４−ジメトキ
シフェニル、３，４−メチレンジオキシフェニル、４−
メトキシフェニル、４−アセトアミドフェニル、４−メ
チルチオフェニル、４−フェニル、４−ハロフェニル、
４−シアノフェニル、４−ニトロフェニル、２−チエニ
ル、及び３−チエニルから選択されるのが更に好まし
い。

【００３２】最も好ましいＲ⁴ 残基は、： （ａ₂ ）上記の式Ｃ （式中、（ｉ）Ｙ⁵ は水素であり、Ｙ⁶ 、Ｙ⁷ 、及びＹ
⁸ は各々Ｃ_1-4 アルコキシであり、（ｉｉ）Ｙ⁵ 及びＹ
⁸ はともに水素であり、Ｙ⁶ 及びＹ⁷ はともにＣ_{1- 4} ア
ルコキシであるか又は一緒になってメチレンジオキシを
形成し、（ｉｉｉ）Ｙ⁵ 、Ｙ⁶ 及びＹ⁸ は各々水素であ
り、Ｙ⁷ はＣ_1-4 アルコキシ、Ｃ_1-4 アルキルアミド、
Ｃ_1-4 アルキルチオ、ベンズアミド、カルバモイル、カ
ルボ（Ｃ_1-4 ）アルコキシ、カルボキシル、シアノ、ヒ
ドロキシル、ニトロ、フェニルアゾ、スルホ、スルホン
アミド、スルファモイル、又はウレイドであり、（ｉ
ｖ）Ｙ⁵ はアルコキシ又はアルキルであり、Ｙ⁶ 及びＹ
⁸ はいずれも水素であり、Ｙ⁷ はＣ_1-4 アルコキシ、Ｃ
_1-4 アルキルアミド、Ｃ_1-4 アルキルチオ、ベンズアミ
ド、カルバモイル、カルボ（Ｃ_1-4 ）アルコキシ、カル
ボキシル、シアノ、水素、ニトロ、フェニルアゾ、又は
ウレイドであり、（ｖ）Ｙ⁵ 及びＹ⁸ はＣ_1-4 アルコキ
シであり、あるいは（ｖｉ）Ｙ⁵ 及びＹ⁸ はＣ_1-4 アル
コキシであり、Ｙ⁷ はＣ_1-4 アルキルアミド又はベンズ
アミドである）の残基、及び （ｂ₂ ）上記の式Ｄ （式中、Ｙ⁹ はＣ_1-4 アルコキシ、Ｃ_1-4 アルキル、Ｃ
_1-4 アルキルアミド、Ｃ_1-4 アルキルチオ、ベンズアミ
ド、シアノ、ハロ、水素、ニトロ、スルホ、スルホンア
ミド、又はウレイドである）の残基、及び（ｃ₂ ）８−
キノリルである。

【００３３】製造された化合物の特性及び合成に基づけ
ば、Ｒ⁴ が以下の：３，４，５−トリメトキシフェニ
ル、３，４−ジメトキシフェニル、２，４−ジメトキシ
フェニル、３，４−メチレンジオキシフェニル、４−メ
トキシフェニル、４−アセトアミドフェニル、４−メチ
ルチオフェニル、４−カルボキシフェニル、４−ニトロ
フェニル、２−メトキシフェニル、２−メトキシ−４−
カルボキシフェニル、２，５−ジメトキシフェニル、
２，５−ジメトキシフェニル−４−ベンズアミドフェニ
ル、１−ナフチル、４−ニトロ−１−ナフチル、４−メ
トキシ−１−ナフチル、８−キノリル、２−メチル−４
−カルボキシフェニル、４−カルボメトキシフェニル、
４−シアノフェニル、及び４−シアノ−１−ナフチルか
ら選択されるのが更に好ましい。

【００３４】新規のテトラゾリウム塩本発明はさらに、
以下の１ないし４群内の新規のテトラゾリウム塩を提供
する： １群 式Ｆ：

【００３５】

【化１５】

【００３６】（式中、Ｒ³ 及びＲ⁴ は、上記のようなそ
れらの好ましい残基から選択される）の化合物。 ２群 式Ｇ：

【００３７】

【化１６】

【００３８】（式中、 （１）Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、及びＲ⁸ はすべて水素であり、Ｒ⁵
はアルコキシ、アリールオキシ、アルキル、カルバモイ
ル、カルボアルコキシ、又はカルボキシであるか、ある
いは （２）Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、及びＲ⁸ はすべて水素であり、Ｒ⁷
はアルコキシ、アリールオキシ、アルキル、アミド、ア
ルキルアミド、アリールアミド、アルキルチオ、アリー
ルチオ、カルバモイル、カルボアルコキシ、シアノ、ハ
ロ、ヒドロキシ、スルホ、スルホンアミド、スルファモ
イル、トリアルキルアンモニオ、又はウレイドである
か、あるいは （３）Ｒ⁵ は水素であり、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 及びＲ⁸ は独立し
てアルコキシ、アリールオキシ、又はアルキルである
か、あるいは （４）Ｒ⁶ 及びＲ⁸ はいずれも水素であり、Ｒ⁵ はアル
コキシ、アリールオキシ、アルキル、カルバモイル、カ
ルボアルコキシ、又はカルボキシであり、Ｒ⁷はアルコ
キシ、アリールオキシ、アルキル、アミド、アルキルア
ミド、アリールアミド、アルキルチオ、アリールチオ、
カルバモイル、カルボアルコキシ、シアノ、ハロ、ヒド
ロキシル、スルホ、スルホンアミド、スルファモイル、
トリアルキルアンモニオ、又はウレイドであるか、ある
いは （５）Ｒ⁵ 及びＲ⁶ は一緒になってベンゾ環を形成し、
Ｒ⁷ はアルコキシ、アリールオキシ、アルキル、アミ
ド、アルキルアミド、アリールアミド、アルキルチオ、
アリールチオ、カルバモイル、カルボアルコキシ、カル
ボキシ、シアノ、ハロ、水素、又はウレイドであり、Ｒ
⁸ は水素であるか、あるいは （６）Ｒ⁷ 及びＲ⁸ は一緒になってベンゾ環を形成し、
Ｒ⁵ 及びＲ⁶ はいずれも水素であるか、あるいは （７）Ｒ⁶ 及びＲ⁷ は一緒になってシクロヘキシル環を
形成し、Ｒ⁵ はアルキル、アルコキシ、ハロ、又は水素
であり、Ｒ⁸ は水素であって、そしてＲ³ 及びＲ⁴ が上
記のようなそれらの好ましい残基から選択される化合
物。

【００３９】最も好ましい化合物は、（ｉ）Ｒ⁵ 、Ｒ
⁶ 、Ｒ⁷ 、及びＲ⁸ のすべてが水素である、（ｉｉ）Ｒ
⁵ 、Ｒ⁶ 、及びＲ⁸ は水素であり、Ｒ⁷ はＣ_1-4 アルコ
キシ（特に好ましい）、Ｃ_1-4 アルキル、カルボキシ、
又はハロである、あるいは（ｉｉｉ）Ｒ⁵ 及びＲ⁶ は一
緒になってベンゾ環を形成し、Ｒ⁷は水素又はＣ_1-4 アR
>ルコキシであり、Ｒ⁸ は水素である化合物である。

【００４０】３群 上記の式Ａ（式中、（ａ）Ｒ¹ はカルボ（Ｃ_1-4 ）アル
コキシであり、Ｒ² はＣ_1-4 アルキル又はクロロである
か、あるいは（ｂ）Ｒ¹ はＣ_1-4 アルキル又はフェニル
であり、Ｒ² はカルボ（Ｃ_1-4 ）アルコキシであるか、
あるいは（ｃ）Ｒ¹ はジ−又はトリ−フルオロメチルで
あり、Ｒ² はクロロであって、Ｒ³ 及びＲ⁴ は上記のよ
うなそれらの好ましい残基から選択される）の化合物。
最も好ましいのは、Ｒ¹ がジ−又はトリフルオロメチル
であり、Ｒ²がクロロである化合物である。

【００４１】４群 上記の式Ａ（式中、 （ｉ）Ｒ¹ 及びＲ² の両方が非置換フェニルであるか、
又はアルコキシ、アリールオキシ、アルキル、アミド、
アルキルアミド、アリールアミド、アルキルチオ、アリ
ールチオ、カルバモイル、カルボアルコキシ、カルボア
リールオキシ、カルボキシ、シアノ、ハロ、トリアルキ
ルアンモニオ、及びウレイドでパラ置換されるフェニル
であるか、あるいは （ｉｉ）Ｒ¹ 及びＲ² の一方が非置換フェニルである
か、あるいはアルコキシ又はアリールオキシでパラ置換
されるフェニルであり、他方は水素である）の化合物。

【００４２】この群の最も好ましい化合物は、Ｒ¹ 及び
Ｒ² の両方が非置換フェニルであるか、一方が非置換フ
ェニルであり、他方がＣ_1-4 アルコキシでパラ置換され
るフェニルであるか、あるいはＲ¹ が非置換フェニル、
又はＣ_1-4 アルコキシ、Ｃ_{1- 4} アルキル、又はハロでパ
ラ置換されるフェニルであり、Ｒ² が水素であるもので
ある。

【００４３】好ましい新規の２−チアゾリルテトラゾリ
ウム塩指示試薬のさらなる記述は、本明細書とともに同
一日付けで提出された、それぞれ２−ベンゾチアゾリル
テトラゾリウム塩指示試薬、置換２−チアゾリルテトラ
ゾリウム塩指示試薬、及びフェニル置換２−チアゾリル
テトラゾリウム塩指示試薬という表題の、そして審理予
定番号ＭＳ−１６３４、ＭＳ−１６３５、及びＭＳ−１
６３６により確認される共通に譲渡された米国特許出願
に見出される。

【００４４】対陰イオン 対陰イオンの選択は、主として特定のテトラゾリウム塩
の安定性及び溶解性の考察に基づく。概して、塩化物、
臭化物、ヨウ化物、硝酸塩、フルオロホウ酸塩、過塩素
酸塩、及び硫酸塩などの無機陰イオン；ならびに酢酸
塩、シュウ酸塩、酒石酸塩、及びアリールスルホン酸塩
（ベンゼンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩）
などの有機陰イオンのような対陰イオンから選択され
る。

【００４５】合成方法 テトラゾリウム塩は、文献で十分公知の方法によって合
成される（Ｈｏｏｐｅｒ，Ｗ．Ｄ．，Ｒｅｖ．Ｐｕｒｅ
ａｎｄ Ａｐｐｌ．Ｃｈｅｍ．，１９６９，１９，２
２１；Ｐｕｔｔｅｒ，Ｒ．，ｉｎ Ｍｅｔｈｏｄｅｎ
ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，Ｈｏ
ｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ−Ｍｕｌｌｅｒ 編，Ｔｈｉｅｍｅ
Ｖｅｒｌａｇ：Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ，１９６５，Ｂ
ｄ．１０／３，ｐ．６３３；Ｎｉｎｅｈａｍ，Ａ．Ｗ．
Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，１９５５，ｐｐ．３５５−４８
３）。一般に、本発明のテトラゾリウム塩は、まず２−
ヒドラジノチアゾールをアルデヒドと反応させ、次にそ
の結果生じたヒドラゾンをジアゾ化アニリンで処理して
合成する。その結果生じたホルマザンを、次に十分公知
の方法によって酸化して、テトラゾリウム塩にする。そ
の結果として、合成は３つの主な出発原料、すなわちア
ルデヒド、アニリン、及び２−ヒドラジノチアゾールを
包含する。

【００４６】

【化１７】

【００４７】２−ヒドラジノチアゾールの合成 本発明の１群化合物は、非置換２−ヒドラジノベンゾチ
アゾール（Ｒ¹及びＲ² は一緒になって非置換ベンゾ環
を形成する）から合成する。

【００４８】２群化合物のための置換２−ヒドラジノベ
ンゾチアゾールは、まずチオシアン酸塩で１−ハロ−２
−ニトロアレン（１）を置換してニトロチオシアン酸塩
（２）を生成することによって該ハロゲン化物から合成
する。次にこれをスズのような還元剤で還元して、その
結果生じたアミノチオシアン酸塩（３）を環化して、２
−アミノベンゾチアゾール（４）にする。

【００４９】

【化１８】

【００５０】アミンをチオシアノゲンで処理することに
よっても、同じアミノチオシアン酸塩（３）を合成し得
る（Ｍｅｔｚｇｅｒ，Ｊ．Ｖ．， Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎ
ｓｉｖｅ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔ
ｒｙ，Ａ．Ｒ．Ｋａｔｒｉｔｚｋｙ，Ｃ．Ｗ．Ｒｅｅｓ
編；Ｐｅｒａｇａｍｏｎ：Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９８
４；Ｖｏｌ．６，Ｐａｒｔ ４ｂ，ｐ．３２４）。

【００５１】

【化１９】

【００５２】次に、１４０℃でエチレングリコール中で
ヒドラジンを２−アミノベンゾチアゾール（４）と反応
させて、２−ヒドラジノベンゾチアゾール（５）を合成
する（Ｌｉｕ，Ｋ−Ｃ．，Ｓｈｉｈ，Ｂ−Ｊ．，Ａｒｃ
ｈ．Ｐｈａｒｍ．，１９８５，１８，２８３）。

【００５３】

【化２０】

【００５４】２−アミノベンゾチアゾール（４）のその
他の合成方法は、芳香族アミン（６）を無機酸及びチオ
シアン酸塩と反応させてチオウレア（８）を生成する
（Ｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．，Ｃｏｌｌ．Ｖｏｌ．ＩＶ，１
８０）か、又は芳香族アミンをＮ−ベンゾイルチオシア
ン酸塩と反応させてＮ−ベンゾイルチオウレア（７）を
形成し、次いでベンゾイル基を加水分解してチオウレア
を生成する（Ｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．，Ｃｏｌｌ．Ｖｏ
ｌ．ＩＩＩ，６３５）。これらの文献には、チオウレア
のその他の合成方法も見出される。次に、これらのチオ
ウレアを臭素のような試薬で酸化して、２−アミノベン
ゾチアゾールを生成する（Ｂｈａｒｇａｖｅ，Ｐ．Ｎ．
Ｂａｌｉｇａ Ｂ．Ｔ．，Ｊ．Ｉｎｄ．Ｃｈｅｍ．，１
９５８，５，８０７）。

【００５５】

【化２１】

【００５６】本発明の種々の種類の３群化合物に必要な
２−ヒドラジノベンゾチアゾリルは、以下のようにして
合成する。

【００５７】既知の２−クロロ−４−メチルチアゾール
（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９１９，ｐｐ．１０７１−
１０９０）を１００℃で塩素化すると、主として２，５
−ジクロロ−４−ジクロロメチルチアゾール（１４）が
生じ、１６０℃では２，５−ジクロロ−４−トリクロロ
メチルチアゾール（９）が生じる。

【００５８】４−カルボアルコキシ−５−クロロチアゾ
ールは、４−トリクロロメチル−２，５−ジクロロチア
ゾール（９）を加水分解してカルボン酸（１０）とする
ことにより合成する（欧州特許公告第３４８，７３５
号）。塩化チオニルのような試薬で処理すると、酸塩化
物を生じ、それはアルコール又はアミンと反応して、４
−カルボアルコキシ（１１）又はＮ−アルキルカルバモ
イル（１２）チアゾールを生じる。４−カルバモイル−
２，５−ジクロロチアゾールの脱水は、文献で十分公知
の方法により達成されて、４−シアノ−２，５−ジクロ
ロチアゾール（１３）を生じる（Ｍａｒｃｈ，Ｊ．Ａｄ
ｖａｎｃｅｄ ＯｒｇａｎｉｃＣｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｔ
ｈｉｒｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ；Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ａ
ｎｄ Ｓｏｎｓ：Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９８５，ｐｐ．
９３２−９３３）。

【００５９】

【化２２】

【００６０】４−ジ及びトリフルオロメチル−５−クロ
ロ−２−ヒドラジノチアゾールの合成には、それぞれ中
間物質４−ジクロロメチル−２，５−ジクロロチアゾー
ル（１４）及びトリクロロメチル化合物（９）を用い
る。各々をフッ化水素で処理すると、フルオロメチル化
合物（１５及び１６）が生じ、これをヒドラジンに暴露
すると２−ヒドラジン誘導体が生じる。

【００６１】

【化２３】

【００６２】チアゾール、４−アルキル又はアリール−
５−カルボアルコキシ、アミド、あるいはシアノ−２−
置換チアゾールは、適切なβ−ケトエステルをハロゲン
化し、それをチオウレア又はチオセミカルバゾンと反応
させることによって合成する（Ｍｅｔｚｇｅｒ．Ｊ．
Ｖ．， Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ Ｈｅｔｅｒｏｃ
ｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｋａｔｒｉｔｚｋ
ｙ，Ａ．Ｒ．，Ｒｅｅｓ，Ｃ．Ｗ．編；Ｐｅｒａｇａｍ
ｏｎ：Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９８５；ｖｏｌ．６，Ｐａ
ｒｔ ４ ｐ．２９７；Ｂｅｙｅｒ，Ｈ．，Ｂｕｌｋ
ａ，Ｅ．，Ｚ．Ｃｈｅｍ．，１９６２，２，３２１−３
２８）。

【００６３】

【化２４】

【００６４】上記の模式図（式中、Ｒ¹ は水素であり、
Ｒ² はアリールである）中のチアゾールは、適切なα−
ハロアセトフェノン（Ｒ¹ ＝Ｈ、及びＲ² ＝アリール）
から合成することができる。

【００６５】４群化合物の場合、必要な出発原料は、以
下のように合成する：

【００６６】２つの方法により４，５−ジフェニル−２
−ヒドラジノチアゾールを合成する。１つは、まず２つ
のアルデヒド間にベンゾイン縮合（１７）物質を形成す
ることによるものである（Ｉｄｅ，Ｗ．Ｓ．，Ｂｕｃ
ｋ，Ｊ．Ｓ．，Ｏｒｇ．Ｒｅａｃｔ．，１９４８，Ｖｏ
ｌ．４，２６９）。この方法で得られないベンゾイン
は、フェニル置換”アシル陰イオン等価物”と別のアル
デヒドを縮合し、その後カルボニル保護基を除去するこ
とにより合成する（Ｂｅｒｔｚ，Ｓ．，Ｊ．Ｃｈｅｍ．
Ｓｏｃ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，１９８０，１７，８
３１）。特定の例としては、金属化したＯ−トリメチル
シリルシアノヒドリン（１９）とアリールアルデヒドと
の縮合がある。この物質（２０）を、酢酸水溶液を用い
て脱保護化して、ベンゾイン物質（１７）を生じる。

【００６７】

【化２５】

【００６８】次に、ベンゾイン物質を、塩化チオニルの
ような慣用試薬を用いてハロゲン化物（１８）に変換し
て、α−ハロケトン（１８）を生成し、これをチオウレ
アと反応させて４，５−ジフェニル−２−アミノチアゾ
ールを生成する（Ｔｒａｕｍａｎｎ，Ｖ．，Ｌｉｅｂｉ
ｇｓ Ａｎｎ．Ｃｈｅｍ．，１８８８，２５０，３１；
Ｄｏｄｓｏｎ ら，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１
９４５，６７，２４４２）。これらを、ベンゾ化合物の
実施例に関して記載されているように、ヒドラジンを用
いて２−ヒドラジノ化合物に変換し得る。

【００６９】同じα−ハロケトンは、チオシアン酸塩と
反応して、α−チオシアノケトン（２１）を生じ、それ
は容易に環化される。たとえば、塩化水素ガスと反応さ
せた場合、２−クロロチアゾール（２２）が得られる
が、これはヒドラジンと反応して２−ヒドラジノチアゾ
ールを生じる。

【００７０】

【化２６】

【００７１】あるいは、α−ハロケトンは、ハロケトン
をＮ−アリールチオセミカルバゾン（２３）で処理する
ことにより、必要なヒドラゾン（２４）を直接生成する
ために用い得る（Ｊｏｈｎ，Ｓ．，Ｓｃｈａｋｓ，
Ａ．，Ｈａｒｔｕｎｇ，Ｓ．，Ｓｃｈａｒｆ，Ｋ．−
Ｄ．及び Ｎｏｖｅｒ，Ｌ．，Ｐｈａｒｍａｚｉｅ，１
９７９，３４，７９０）。

【００７２】

【化２７】

【００７３】アルデヒドの合成 アルデヒドは、市販品を購入するか、あるいは当業者に
よく知られた方法で合成することもできる。

【００７４】たとえば、アリールメタンのベンジル酸化
（Ｍａｒｃｈ，Ｊ．，Ａｄｖａｎｃｅｓ Ｏｒｇａｎｉ
ｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｔｈｉｒｄ Ｅｄｉｔｉｏ
ｎ；Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ Ｓｏｎｓ：Ｎｅｗ
Ｙｏｒｋ，１９８５；ｐ．１０７９）、アリール酸塩
化物（同書 ｐ．３９６）、又はアリール酸誘導体の還
元（Ｌａｒｏｃｋ，Ｒ．Ｃ．，Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉ
ｖｅ ＯｒｇａｎｉｃＴｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏｎ
ｓ；ＶＣＨ：Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９８９；ｐｐ．６０
４−６０５）により、アルデヒドを合成する。

【００７５】アルデヒドを合成するために、アリールハ
ロゲン化物を用いてもよい。この方法では、金属転位反
応は、アルデヒドを生成するために、種々の試薬、例え
ばジメチルホルムアミドで処理できるアリール金属種を
生じる（同書 ｐ．６８１−６８３）。

【００７６】前述のアリールアルデヒド、酸、メタン、
及びハロゲン化合物は、テトラゾリウム塩に転換される
前に種々の官能基で誘導される。これは、芳香族求核性
置換（Ｍａｒｃｈ，Ｊ．，Ａｄｖａｎｃｅｓ Ｏｒｇａ
ｎｉｃ ＣｈｅｍｉｓｔｒｙＴｈｉｒｄ Ｅｄｉｔｉｏ
ｎ；Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ Ｓｏｎｓ：Ｎｅｗ
Ｙｏｒｋ，１９８５；ｐｐ．５７６−６０７）、芳香
族求電子性置換（同書 ｐｐ．４４７−５１１）、又は
ヘテロ原子向性金属化反応（Ｇｓｃｈｗｅｎｄ，Ｈ．
Ｗ．，Ｒｏｄｒｉｇｕｅｚ，Ｈ，Ｒ．， Ｏｒｇａｎｉ
ｃ Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ａｎ
ｄ Ｓｏｎｓ：Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９７９；Ｖｏｌ．
２６，１）によって達成される。

【００７７】テトラゾリウム塩のアルデヒド部分がフェ
ノール又はアミンを含有する場合は、この基は、これら
とテトラゾリウム塩を合成するために用いられるジアゾ
化アニリン又は酸化剤との間の反応が起きないよう、保
護されねばならない。

【００７８】これは、酢酸塩としてヒドロキシアリール
アルデヒドを保護し、ホルマザンを生成するための一連
の反応を実施し、ついでｐＨ１０で酢酸塩を加水分解す
ることによって達成される。ｐＨ５に酸性化し、ついで
濾過すると、所望のホルマザンが生じる。

【００７９】テトラゾリウム塩の合成に際して、その結
果生じたホルマザンを酸化剤と反応させる場合は、フェ
ノールをジヒドロピランのような酸性で不安定な基によ
って保護し（Ｇｒｅｅｎｅ，Ｔ．Ｗ．，Ｐｒｏｔｅｃｔ
ｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎＯｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔ
ｈｅｓｉｓ，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ Ｓｏｎ
ｓ：Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ；１９８１，ｐｐ．８７−１１
３）、これを酸性条件下でテトラゾリウム塩を攪拌する
ことにより除去する。

【００８０】同様に、アルデヒド部分におけるアミン
は、それらの反応を阻止するために保護されねばならな
い。これは、酸性で不安定なカルバミド酸塩を用いるこ
とによって、最もよく成し遂げられ（同書 ｐｐ．２１
８−２４７）、そのカルバミド酸塩は、酸性条件下でテ
トラゾリウム塩を攪拌することにより、後に除去され
る。

【００８１】アリールアミンの合成 アリールアミンは、対応するニトロ又はアジド化合物の
還元（Ｌａｒｏｃｋ，Ｐ．Ｃ．，Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓ
ｉｖｅ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏ
ｎｓ；ＶＣＨ：Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９８９；ｐｐ．４
１２−４１５又は４０９−４１０）、アリール金属化合
物と求電子性窒素試薬間との反応（同書ｐｐ．３９９−
４００）、又はアシルアジド又は酸化アミドの転位（同
書 ｐｐ．４３１−４３２）により合成する。

【００８２】アルデヒドの場合と同様に、求電子性及び
求核性の芳香族置換を用いて、異なる官能基をアリール
アミン又は合成前駆体に導入することができる。

【００８３】

【発明の効果】

分析方法 本発明は、本明細書に記載された２−チアゾリルテトラ
ゾリウム塩指示試薬が、約６００ｎｍを超えるその反射
スペクトルにおいて広範なプラトーを示す、という所見
を利用する。本発明の最も好ましい指示試薬化合物は、
約６５０ｎｍを超えるプラトーを有する（すなわち、最
も平坦な約５０ｎｍ幅部分が６４０〜６６０ｎｍで始ま
る）。このような反射率プラトーは、試薬ストリップか
らの反射率の測定を基準にした分析試験の精度を改良す
る。

【００８４】試薬ストリップは、当該分析対象物を含有
する液体試験試料と接触させると反応して変色する試験
組成物を包含する固体担体マトリックスからなる分析具
として、当業界で公知である。このような試験組成物
は、本発明の場合、（ａ）分析対象物と反応して還元物
質を生じる単数又は複数の試薬、及び（ｂ）このような
還元物質により還元されて色原性ホルマザン染料物質を
生じ得る、本明細書に記載されているような２−チアゾ
リルテトラゾリウム塩を包含する。このような試薬スト
リップの呈色応答は、肉眼で観察されて半定量的値を示
すが、しかしながら、定量的結果は、あらかじめ確定さ
れた波長で担体マトリックスの反射率を測定することに
よって得られる。このような測定は、反応した担体マト
リックスを光源で照射し、検出器要素で反射光を測定す
ることにより、担体マトリックスの反射率を検知するこ
とを含む。

【００８５】反射率プラトーを有するテトラゾリウム塩
指示試薬の所見を用いると、その光学系（光源、検出器
要素、スペクトル制御要素、たとえばフィルター、及び
その他の部分の組合）の中心波長のばらつきを受けやす
い計器を用いて試薬ストリップからの反射率を読み取る
場合に、特に有益である。光学系の中心波長のばらつき
は、種々の因子、たとえば主照明光源又はフィルターの
ようなスペクトル制御要素の中心波長のばらつきによっ
て引き起こされる。たとえば、光源として発光ダイオー
ド（ＬＥＤ）を用いると、放射される光の波長は、一般
にひとつの計器内では±４ｎｍ変化し、製造のばらつき
のために、異なる計器のＬＥＤ間では±８ｎｍまで変化
する。さらに、ＬＥＤは温度効果によっても、同様に中
心波長の変化を受けやすい。広帯光源をフィルターとと
もに用いて中心波長のスペクトル制御を提供する場合、
ひとつの計器内のばらつきは一般に１ｎｍ以下である
が、しかしながら計器間では、ばらつきは±６ｎｍとい
う高さである。したがって、本発明は、計器中の検出要
素に反応する光の中心波長が約±５ｎｍの範囲のばらつ
きを受ける場合に適用可能である。

【００８６】本発明に用いるための試薬ストリップを製
造する場合、担体マトリックスの選択、分析対象物と反
応して還元物質を生じる試験試薬、及びこのような試薬
及びテトラゾリウム指示試薬が担体マトリックスに包含
される方法は、試薬ストリップの当業界には十分公知で
ある。ちょうど２〜３の実施例を詳述するために、一般
的担体マトリックスは多孔性かつ吸収性の紙、布、ガラ
ス繊維フィルター、重合性膜及びフィルム等である。組
込み方法には、１つ又はそれ以上の工程での、溶液、懸
濁液、又はその他の液体形態の試験組成物による形成さ
れた担体マトリックスの含浸、その後のマトリックスの
乾燥；たとえば、フィルム又は膜形成処方物の溶液の注
ぎ込み又は層形成による、試験組成物の１つ又はそれ以
上の成分の存在下でのマトリックスの形成が含まれる。

【００８７】試薬ストリップに包含される試験試薬に関
しては、本発明のテトラゾリウム塩はＮＡＤＨの検出に
特に有益である。ＮＡＤＨは種々の生化学物質に特異的
な酵素触媒検出反応で生成されるため、本化合物は、グ
ルコース及びコレステロールの測定におけるような医学
的診断試験に特に有用である。しかしながら、概して、
ＮＡＤＨのみならずその他の還元物質、たとえば硫化水
素ガス、ジボラン、水素化ヒ素、又は水素化リンも、検
出可能である。

【００８８】

【実施例】以下の実施例で本発明をさらに説明するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。

【００８９】Ａ．化合物合成 ヒドラゾンの合成 １２５mlの無水エタノール中の２５ｍｍｏｌの適切なア
ルデヒド及び２５ｍｍｏｌの適切なヒドラジンのスラリ
ーを、３時間還流した。ソックレー抽出器中で、モレキ
ュラーシーブ３Ａを用いて水を除去した。混合液を室温
に冷却し、次いで濾過して、ヒドラゾンを生成した。

【００９０】ホルマザンの合成 ６０mlの３Ｎ ＨＣｌ中の８．５ｍｍｏｌのアミンのス
ラリー又は溶液を５℃に冷却することにより、まずジア
ゾニウム塩を合成した。次に、５mlの水に溶解した亜硝
酸ナトリウム（０．７０ｇ、１０．１５ｍｍｏｌ）を滴
下した。３０分攪拌後、混合液を、１２０mlの１：１
（容量比）ＤＭＦ−ピリジン混液に溶解した８．５ｍｍ
ｏｌのヒドラゾンの冷（−２５℃）混合液に滴下した。
反応は、滴下中は−１５℃より高温にしない。２時間の
攪拌を行いつつ、その混合液を室温まで加温した。濾過
により、黒色固体としてホルマザンを生じた。不純物
は、メタノールで何度も洗浄するか、又はメタノールに
溶解した固体を還流し、熱い間に濾過することにより除
去することができた。

【００９１】テトラゾリウム塩の合成 １．５ｍｍｏｌのホルマザンのスラリーを、２０mlの酢
酸及び４mlの亜硝酸イソアミルとともに１６〜４８時間
攪拌した。次に、その混合液を濾過して、テトラゾリウ
ム塩を得た。その塩が沈殿しない場合は、エテールで希
釈すると沈殿を生じた。

【００９２】２，５−ジクロロ−４−ジクロロメチルチ
アゾール 最初は８０℃で、発熱反応が徐々に終了した後は１００
℃で、約１００時間、５８８８ｇ（４２．９ｍｏｌ）９
７．３％２−クロロ−４−メチル−チアゾール中に、塩
素を激しく流し込んだ（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９１
９，ｐｐ．１０７１−１０９０）。室温に冷却して一夜
放置後、生じた２，５−ジクロロ−４−ジクロロメチル
チアゾールの結晶沈殿物を濾し取り、セラミッククレー
上で脱水した。収量３９０７ｇ（理論値の３８．４
％）。

【００９３】塩素化混合液の液体画分を、２ｍの充填カ
ラム中で分別蒸留した。１０１〜１０３℃／６ｍｂａｒ
で得られた蒸留物の大部分を結晶化し、ついでセラミッ
ククレー上で脱水した。分別蒸留による２，５−ジクロ
ロ−４−ジクロロメチルチアゾールの収量：２７３３ｇ
（理論値の２６．９％）。

【００９４】総収量６６４０ｇ（理論値の６５．３
％）。融点４２〜４４℃（石油エーテルから再結晶
化）。¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 中）：δ＝６．７８ｐｐｍ．

【００９５】２，５−ジクロロ−４−トリクロロメチル
チアゾール 攪拌器、温度計、還流冷却器及びガス導入管を装備した
三つ口フラスコ中で、１０９３ｇ（８．１９ｍｏｌ）の
２−クロロ−４−メチルチアゾールと４リットルの塩化
メチレンの混合液に、室温で塩素ガスを通しはじめた。
発熱反応が止んだ後、塩素を持続的に導入しながら徐々
に温度を上げて、塩化メチレンを留去した；溶融液を約
１６０℃まで徐々に加熱した。約１６０℃で、ガスクロ
マトグラムがほとんど専ら所望の化合物２，５−ジクロ
ロ−４−トリクロロメチルチアゾールを示すまで、余剰
の塩素ガスの大部分（漏出ガスのかすかに緑がかった色
で認知できる）を発泡させた。塩素化の総持続時間は４
０〜５０時間であった。

【００９６】１４ｍｂａｒで１５０℃の頭頂温度までの
粗蒸留により、約９５％の純度の２，５−ジクロロ−４
−トリクロロメチルチアゾール２０５７ｇが生じたが、
これは純生成物における理論収量の８８％に相当する。
銀被覆２２０ｃｍ充填カラムによる精密蒸留で、２，５
−ジクロロ−４−トリクロロメチルチアゾールが得られ
た。１６ｍｂａｒでの沸点は１２３〜１２５℃であっ
た。

【００９７】２，５−ジクロロ−４−ジフルオロメチル
チアゾール １０１０ｇ（４．２６ｍｏｌ）の２，５−ジクロロ−４
−ジクロロメチルチアゾールを、ＶＡオートクレーブ
中、１４５℃／２５ｂａｒで、１５００ｍｌの無水フッ
化水素酸によりフッ素化した。生成したＨＣｌを連続的
に除去した。反応終了時に、室温、真空下で、余剰のフ
ッ化水素酸を吸引除去した。残渣を氷水中に注ぎ、ジク
ロロメタン中に取り出して、硫酸ナトリウム上で脱水
し、蒸留した。収量は７５３ｇ（理論値の８６．６％）
の２，５−ジクロロ−４−ジフルオロメチルチアゾール
であった。融点７４〜７５℃／１８ｍｂａｒ；ｎ_D ²⁰ ＝
１．５１７１。

【００９８】２，５−ジクロロ−４−トリフルオロメチ
ルチアゾール ７５０ｇ（２．７６ｍｏｌ）の２，５−ジクロロ−４−
トリクロロメチルチアゾールを、１３０℃／１９〜２０
ｂａｒのＶＡオートクレーブ中で、１００ｍｌ無水フッ
化水素酸でフッ素化した。生成したＨＣｌを絶えず除去
した。反応終了時に室温、真空下で、余剰のフッ化水素
酸を吸引除去した。残渣を氷水に注ぎ入れ、ジクロロメ
タン中に取り出して、硫酸ナトリウム上で脱水し、蒸留
した。

【００９９】収量は５７０ｇ（理論値の９３％）の２，
５−ジクロロ−４−トリフルオロメチルチアゾールであ
った。融点１６４℃；ｎ_D ²⁰ ＝１．４７７４。

【０１００】５−クロロ−２−ヒドラジノ−４−トリフ
ルオロメチルチアゾール ７５ｇ（１．５ｍｏｌ）のヒドラジン水和物を、２５℃
の反応温度を超えないような速度で、１１１ｇ（０．５
ｍｏｌ）の２，５−ジクロロ−４−トリフルオロメチル
チアゾール及び５００ジオキサンの混合物に添加した。
室温でさらに２０時間攪拌後、反応混合液を２．５リッ
トル氷水中で攪拌した。ついで濾別し、残渣を水で洗浄
して、脱水した。

【０１０１】収量は８７．３ｇ（理論値の８０．３％）
の５−クロロ−２−ヒドラジノ−４−トリフルオロメチ
ルチアゾールであった。融点１３６〜１３７℃。

【０１０２】５−クロロ−２−ヒドラジノ−４−ジフル
オロメチルチアゾール５−クロロ−２−ヒドラジノ−４
−トリフルオロメチルチアゾールと同様に、２，５−ジ
クロロ−４−ジフルオロメチルチアゾールから５−クロ
ロ−２−ヒドラジノ−４−トリフルオロメチルチアゾー
ルが、収率５１．３％で得られた。融点１３２℃（分
解）（シクロヘキサンからの再結晶化後）。

【０１０３】少量の化合物が、７０℃／０．１ｍｂａｒ
で昇華された。

【０１０４】Ｂ．試薬ストリップの調製 各指示試薬を試薬ストリップに含浸し、既知量のグルコ
ース、コレステロール、又はＮＡＤＨを含有する溶液で
試験した。試薬ストリップは、単一の試薬パッドが付着
するポリスチレンハンドルからなる。試薬パッドは０．
２ｘ０．２インチ四方で、適切な分析対象物を含有する
試料のアリコートを用いた場合に計器で読み取れる変色
をさせる試薬を含有する。乾相試薬パッドは、実施例の
ようにセルロース繊維又はナイロン膜から成る固体支持
体である。試薬パッドをまず、メタノールのような溶剤
に溶解した当該テトラゾリウム塩（０．８Ｍ／リット
ル）及び洗剤（０．３％）の溶液で含浸した。試薬パッ
ドに含浸される第二溶液は、以下の成分を含有した：

【０１０５】

【表１】

【０１０６】０〜３３ｍＭ／リットルの少なくとも５つ
の異なる分析対象物濃度を有する約０．０１ｍｌのいく
つかの試験溶液（血清、血漿、水溶液）を、乾燥試薬パ
ッドの中央に塗布した。約６０秒の遅滞時間後、各指示
試薬の反射スペクトルを、４００〜１１００ｎｍの波長
範囲にわたって、５ｎｍ増分で測定した。

【０１０７】Ｃ．実用性データ 以下は、本発明の種々の合成されたテトラゾリウム塩に
固有のスペクトル及びその他の分析データの表である。
化合物は、それらのベンゾチアゾリル残基の形態によ
り、ついでそれらのＲ⁴ 置換基により、最後にそれらの
Ｒ³ 置換基によって、順にまとめられている。たとえ
ば、示された最初の化合物は、Ａ．１．ａ）であり、Ａ
式（式中、Ｒ¹ 及びＲ² は一緒になって非置換ベンゾチ
アゾリル環を形成し、Ｒ⁴ は４−ニトロフェニルであ
り、Ｒ³ は４−アセトアミドフェニルである）を有し；
第二の化合物Ａ．１．ｂ）は、化合物Ａ．１．ａ）と同
じＲ¹ 、Ｒ² 、及びＲ⁴ 置換基を有するが、しかしＲ³
はフェニルである；等。

【０１０８】テトラゾリウム塩の反射スペクトルは、そ
れらが観察又は測定される周囲の状況によるものと理解
される。個々のテトラゾリウム塩を比較するために、以
下のデータは６００ｎｍより大きい波長での反射スペク
トルの最も平坦な部分の相対的扁平度の測定値を含み、
スペクトルは上記のパートＢに記載されたように調製さ
れたグルコース又はコレステロール試薬ストリップを用
いて発生される。スペクトルの相対的扁平度は、下記の
ように検出された分析対象物のレベルに関して標準化さ
れるＫ／Ｓ単位のデータで表される。

【０１０９】Ｋ／Ｓは、式：（１−Ｒ）² ／２Ｒ（式
中、Ｒは計器で読み取る反射率単位である）で定義され
る。Ｋ／Ｓのパーセント変化（百分率で表される）は、
５０ｎｍの範囲にわたる変化を、このような範囲での高
及び低Ｋ／Ｓ値の平均で割った値である。

【０１１０】本化合物のプラトー特性は、本発明の目的
に関しては、約６００ｎｍを超える波長で始まる３０〜
５０ｎｍ波長スパンにわたる約１７％未満の反射スペク
トルのパーセント変化（上記の段落に記載されているよ
うなＫ／Ｓにより表される）と理解されるべきである。
最も好ましいのは、テトラゾリウム塩指示試薬が５０ｎ
ｍ波長スパンにわたって約５％又はそれ未満のＫ／Ｓの
パーセント変化を示すものである。

【０１１１】図面を参照すると、図１〜４は、グルコー
スの種々の濃度で、従来技術のテトラゾリウム塩ＩＮ
Ｔ、ＭＴＴ、ＮＢＴ、及びＵＳＳＲを還元した場合に生
じるホルマザンの反射スペクトルを示す。比較のため
に、図５〜１６は、本発明の選択された化合物に関する
対応スペクトルを示す。本化合物からのホルマザンのス
ペクトルにおけるプラトーの存在、及び従来の技術から
のホルマザンの場合のその不在は、容易に明らかであ
る。

【０１１２】上記の４つの従来技術の化合物は、以下の
ように６５０〜７００ｎｍの波長範囲にわたるＫ／Ｓの
パーセント変化を示す： ＩＮＴ ７１％ ＭＴＴ １７８％ ＮＢＴ ７３％ ＵＳＳＲ ２８％

【０１１３】ホルマザンに関するパーセントＫ／Ｓが低
いほど、テトラゾリウム塩は反射率の測定に、それゆえ
分析対象物濃度の測定に用いる光学系の中心波長のばら
つきに、より多く対応できる。

【０１１４】以下の非標準的略語を、以後の文中に用い
る： ”ＵＶ” − ホルマザンのＵＶ反射スペクトルの最大
反射率ピークの波長（ｎｍ）。吸光係数及び測定中に用
いる溶剤は、括弧内に示される。 ”ｎｍ” − ５０ｎｍ波長スパンにわたるホルマザン
の反射スペクトルの最も扁平な部分の位置（開始及び収
量波長（ｎｍ）で表される）。 ”Ｋ／Ｓ” − 反射スペクトルの上記の最も平坦な５
０ｎｍ部分のＫ／Ｓにおけるパーセント変化。反射スペ
クトルを生じるために用いられる分析対象物の濃度は、
括弧内に示される。Ｍｍｏｌは、ｍｍｏｌ／リットルで
の濃度を示す。

【０１１５】以下は、反射スペクトルが図面の図５〜１
６に示される化合物の一覧である。以下の表中のそれら
の簡略参照番号及び所在は、化合物名の前の大括弧中に
示される。 ［ＭＢＬ１０］［Ａ−２−６］ ２−（ベンゾチアゾー
ル−２−イル）−３−（４−メトキシフェニル）−５−
フェニルテトラゾリウム塩 ［ＨＴＣ１５］［Ｂ−６−ａ］ ２−（６−エトキシベ
ンゾチアゾール−２−イル）−３−（１−ナフチル）−
５−（４−アセトアミドフェニル）テトラゾリウム塩 ［ＬＮＨ８２］［Ｇ−１−ａ］ ２−（ナフト［１，２
−ｄ］チアゾール−２−イル）−３−（２−メトキシ−
４−カルボキシフェニル）−５−（３，４−メチレンジ
オキシフェニル）テトラゾリウム塩 ［ＨＴＣ５７］［Ｇ−１７−ａ］ ２−（ナフト［１，
２−ｄ］チアゾール−２−イル）−３−（４−カルボキ
シフェニル）−５−（４−アセトアミドフェニル）テト
ラゾリウム塩 ［ＨＴＣ４２］［Ｇ−２３−ａ］ ２−（ナフト［１，
２−ｄ］チアゾール−２−イル）−３−（４−メチルチ
オフェニル）−５−（４−アセトアミドフェニル）テト
ラゾリウム塩 ［ＨＴＣ４１］［Ｈ−１−ａ］ ２−（８−メトキシナ
フト［１，２−ｄ］チアゾール−２−イル）−３−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−５−（４−メ
トキシフェニル）テトラゾリウム塩 ［ＬＮＨ５０］［Ｉ−１−ａ］ ２−（４−ジフルオロ
メチル−５−クロロチアゾール−２−イル）−３−（４
−メトキシフェニル）−５−［４−（２−（２−（２−
エトキシ）エトキシ）エトキシ）フェニル］テトラゾリ
ウム塩 ［ＫＪＥ１６６７］［Ｉ−１−ｄ］ ２−（４−ジフル
オロメチル−５−クロロチアゾール−２−イル）−３−
（４−メトキシフェニル）−５−（３，４−メチレンジ
オキシフェニル）テトラゾリウム塩 ［ＫＪＥ１７４５］［Ｉ−２−ａ］ ２−（４−ジフル
オロメチル−５−クロロチアゾール−２−イル）−３−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−５−（３，４
−メチレンジオキシフェニル）テトラゾリウム塩 ［ＨＴＣ４５］［Ｉ−９−ａ］ ２−（４−ジフルオロ
メチル−５−クロロチアゾール−２−イル）−３−（２
−メトキシフェニル）−５−（３，４−メチレンジオキ
シフェニル）テトラゾリウム塩 ［ＫＪＥ１６８９］［Ｊ−４−ａ］ ２−（４−トリフ
ルオロメチル−５−クロロチアゾール−２−イル）−３
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−５−（３，
４−メチレンジオキシフェニル）テトラゾリウム塩 ［ＫＪＥ１２６４］［Ｑ−１−ａ］ ２−（４，５−ビ
ス（４−メトキシフェニル）チアゾール−２−イル）−
３−（４−カルボキシフェニル）−５−（２−チエニ
ル）テトラゾリウム塩

【０１１６】 表 Ａ．ベンゾチアゾール−２−イル １． Ｒ⁴ ＝４−ニトロフェニル ａ）Ｒ³ ＝４−アセトアミドフェニル ＵＶ：４７８ｎｍ（７．８ｘ１０³ ，ジオキサン） ｎｍ：６２０−６７０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：９％（１１．１ｍ
ｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３４４１，１６９１，１６８４，１６
１４，１６００，１５３５，１４８６，１４６０，１４
２５，１３８５，１３１８，１２６２，１１８３，９７
９，８５３ｃｍ^-1 ＮＭＲ（３００ＮＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ）： δ ８：６７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，ＡｒＮＯ₂
Ｈ），８．３３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．
３６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．３Ｈｚ，ＡｒＨ），８．３７
−８．４１（ｍ，１Ｈ，ＡｒＨ），７．９９（ｄ，２
Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，ＡｒＨ），７．９６−７．９９
（ｍ，１Ｈ，ベンゾチアゾールＨ），７．６７−７．７
８（ｍ，３Ｈ，ベンゾチアゾールＨ）． 質量スペクトル ＦＡＢ ｍ／ｅ：１２０（８１．
１），１６２（１００） ｂ）Ｒ³ ＝フェニル ＵＶ：５４０ｎｍ（４．７９ｘ１０³ ，ジオキサン）； ｃ）Ｒ³ ＝フェニル ＵＶ：５７６ｎｍ（３．８９ｘ１０³ ，ジオキサン）； ｎｍ：６５０−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：７．５％（１１．
１ｍｍｏｌ） ｄ）Ｒ³ ＝４−ニトロスチリル ＵＶ：５１２ｎｍ（１１．２ｘ１０³ ，ジオキサン）； ｅ）Ｒ³ ＝４−メトキシスチリル ＵＶ：５１４ｎｍ（７．１７ｘ１０³ ，ジオキサン）； ｆ）Ｒ³ ＝４−ニトロフェニル ＵＶ：５４２ｎｍ（２．１ｘ１０³ ，ジオキサン）； ｇ）Ｒ³ ＝４−フェニルフェニル ＵＶ：５５８ｎｍ（１４．１ｘ１０³ ，ジオキサン）； ｈ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：５８４ｎｍ（４．８ｘ１０³ ，ジオキサン）； ｎｍ：５７０−６２０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１６％（９．１ｍ
ｍｏｌ） ｉ）Ｒ³ ＝４−フェノキシフェニル ＵＶ：５６４ｎｍ（１０．３ｘ１０³ ，ジオキサン）； ｊ）Ｒ³ ＝２−チエニル ＵＶ：５６６ｎｍ（６．３ｘ１０³ ，ジオキサン）； ｋ）Ｒ³ ＝５−ニトロ−２−チエニル ＵＶ：５１４ｎｍ（１５．２ｘ１０³ ，ジオキサン）； ｌ）Ｒ³ ＝３，４−ジメトキシフェニル ＵＶ：５８８ｎｍ（２．３ｘ１０³ ，ジオキサン）； ｎｍ：６００−６５０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１４％（１１．１
ｍｍｏｌ） ｍ）Ｒ³ ＝４−ピリジル ＵＶ：５１６ｎｍ（８．６ｘ１０³ ，ジオキサン）； ｎ）Ｒ³ ＝５−ブロモ−２−チエニル ＵＶ：５１８ｎｍ（６．１ｘ１０³ ，ジオキサン）； ｏ）Ｒ³ ＝３−チエニル ＵＶ：５１２ｎｍ（７．５ｘ１０³ ，ジオキサン）； ｐ）Ｒ³ ＝２−ピリジル ＵＶ：４７８ｎｍ（９．６ｘ１０³ ，ジオキサン）； ｑ）Ｒ³ ＝４−フルオロフェニル ＵＶ：５４６ｎｍ（２．９６ｘ１０³ ，ジオキサン）； ｒ）Ｒ³ ＝４−ヒドロキシフェニル ＵＶ：５８２ｎｍ（１．０ｘ１０³ ，ジオキサン）； ｓ）Ｒ³ ＝３，４，５−トリメトキシフェニル ＵＶ：５７８ｎｍ（１．０ｘ１０³ ，ジオキサン）；ｎ
ｍ：５６０−６１０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１０％（１１．１ｍ
ｍｏｌ） ｔ）Ｒ³ ＝４−（メチルチオ）フェニル ＵＶ：５７６ｎｍ（１．５ｘ１０³ ，ジオキサン）； ｕ）Ｒ³ ＝１，４−ベンゾジオキシル ＵＶ：５８２ｎｍ（４．８ｘ１０³ ，ジオキサン）；

【０１１７】２． Ｒ⁴ ＝４−メトキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝フェニル ＵＶ：４６８ｎｍ（１４．５ｘ１０³ ，ジオキサン），
４７６ｎｍ（水） ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１５％（２２ｍｍ
ｏｌ） ｂ）Ｒ³ ＝アセトアミドフェニル（ＭＢＬ１０） ｎｍ：６６５−７１５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１０％（３３ｍｍ
ｏｌ）

【０１１８】３． Ｒ⁴ ＝４−メトキシ−１−ナフチル ａ）Ｒ³ ＝フェニル ＵＶ：５０４ｎｍ（７．８ｘ１０³ ，ジオキサン），４
９５ｎｍ（水）

【０１１９】４． Ｒ⁴ ＝４−ブロモフェニル ａ）Ｒ³ ＝４−アセトアミドフェニル ＵＶ：４８０ｎｍ（７．７ｘ１０³ ，ジオキサン）

【０１２０】Ｂ．６−エトキシベンゾチアゾール−２−
イル １． Ｒ⁴ ＝４−ニトロフェニル ａ）Ｒ³ ＝４−アセトアミドフェニル ＵＶ：５９８ｎｍ（３．２ｘ１０³ ，ジオキサン） ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：９％（１４ｍｍｏ
ｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３４４７，１６０１，１５３５，１４
５９，１２５５，１１８３，８５３ｃｍ^-1 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ）：δ ８：４２−８．７０（５
Ｈ），８．１６−８．３２（２Ｈ），８．０３−８．１
２（１Ｈ），７．６９−７．８４（２Ｈ），７．１６−
７．２７（１Ｈベンゾチアゾール），４．１８（ｑ，２
Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），２．５６（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝７．
４Ｈｚ）．１．４６（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），
１．１７（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ） ｂ）Ｒ³ ＝４−ヒドロキシフェニル ＵＶ：６０１ｎｍ（１３ｘ１０³ ，ジオキサン）； ｃ）Ｒ³ ＝４−（２，３−ジヒドロキシプロピルチオ）
フェニル ＵＶ：６０４ｎｍ（８．４ｘ１０³ ，ジオキサン）； ｄ）Ｒ³ ＝４−（トリメチルアンモニウム）フェニル ＵＶ：６０４ｎｍ（５．０ｘ１０³ ，ジオキサン）； ｎｍ：５４０−５９０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１５％（１１．１
ｍｍｏｌ）

【０１２１】２． Ｒ⁴ ＝フェニル ａ）Ｒ³ ＝４−（ジヒドロキシプロピルチオ）フェニル ＵＶ：５３０ｎｍ（１．０ｘ１０³ ，ジオキサン） ｂ）Ｒ³ ＝４−（トリメチルアンモニウム）フェニル ＵＶ：５３０ｎｍ（８．３ｘ１０³ ，ジオキサン） ｃ）Ｒ³ ＝４−アセトアミドフェニル ＵＶ：５４５ｎｍ（水） ｎｍ：６２０−６７０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１８％（１１．１
ｍｍｏｌ）

【０１２２】３． Ｒ⁴ ＝４−ニトロ−１−ナフチル ａ）Ｒ³ ＝４−アセトアミドフェニル ＵＶ：６１２ｎｍ（３．４ｘ１０³ ，ジオキサン） ｎｍ：６７５−７２５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：５％（１４．１ｍ
ｍｏｌ） ｂ）Ｒ³ ＝（４−トリメチルアンモニウム）フェニル ＵＶ：６３４ｎｍ（４．６ｘ１０³ ，ジオキサン） ｎｍ：６４０−６９０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１５％（１１．１
ｍｍｏｌ）

【０１２３】４． Ｒ⁴ ＝８−キノリル ａ）Ｒ³ ＝４−アセトアミドフェニル ＵＶ：６２８ｎｍ（１２．１ｘ１０³ ，４２０） ｎｍ：６５０−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：８％（８．１ｍｍ
ｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３４３６，１６８４，１６００，１５
３１，１４５８，１４２３，１３８５，１３１８，１２
５８，９５９，９３９，８３４ｃｍ^-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）：δ １０．８（ｓ，１Ｈ，
ＮＨ），８．６７−８．８３（ｍ，３Ｈ），８．３４
（ｄ，２４，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ｐＨ），８．１１（ｔ，
１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．０４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝
８．８Ｈｚ，ｐＨ），７．８７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．５
Ｈｚ），７．７４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，４．
３Ｈｚ）．７．４６（１Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），７．１
２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２．６Ｈｚ），４．
１０（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，−ＣＨ₂ −Ｍｅ），
２．２６（ｓ，３４，ＣＨ₃ −ＣＯ），１．３５（ｔ，
３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，Ｍｅ）． 質量スペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：５０８（Ｍ⁺ −１，
１８．７），３５３（２４．１），１２８（１００）

【０１２４】５． Ｒ⁴ ＝３，４−メチレンジオキシフ
ェニル ａ）Ｒ³ ＝４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：５０４ｎｍ（ε５．９ｘ１０³ ，ジオキサン） ｎｍ：６７０−７２０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１４％（１１．１
ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３４６５，１６０２，１５４０，１５
０１，１４６２，１３８４，１２５４，１１７９，１１
１７，１０３７，９３２，８１３ｃｍ^-1 ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）：δ ８．０
１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０８），７．９３（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝８．１４Ｈｚ，１．７９Ｈｚ），７．９２
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．４６Ｈｚ），７．５３−７．６１
（ｍ，２Ｈ），７．２６−７．３６（ｍ，３Ｈ），６．
３４（ｓ，２Ｈ，−ＯＣＨ₂ Ｏ−），６．２６（ｓ，２
Ｈ，−ＯＣＨ₂ Ｏ−），４．１７（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝６．
９９Ｈｚ，−ＣＨ₂ ＣＨ₃ ），１．４０（ｔ，３Ｈ，Ｊ
＝６．９４Ｈｚ，−ＣＨ₂ ＣＨ₃）． 質量スペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：９３．１（１０
０），１８５．２（２７．８），３４０（１６．９），
４４８（３．０，Ｍ⁺ −１），４８９（１．４，Ｍ
⁺ ），４９０（７．６，Ｍ⁺ ＋１）．

【０１２５】６． Ｒ⁴ ＝１−ナフチル ａ）Ｒ³ ＝４−アセトアミドフェニル（ＨＴＣ１５） ＵＶ：５３２ｎｍ（１３ｘ１０³ ，ジオキサン） ６３２ｎｍ（水） ｎｍ：６６０−７１０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：３％（１１．１ｍ
ｍｏｌ）¹ ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，８０：２０ ＣＤ
Ｃｌ₃ ／ＤＭＳＯ−ｄ₆）： １０．３５（ｓ，１Ｈ），８．４０（ｄ，Ｊ＝８，１
Ｈ），８．２８（ｍ，２Ｈ），８．１７（ｄ，Ｊ＝８，
１Ｈ），８．０３（ｄ，Ｊ＝８．５，２Ｈ），７．９５
（ｄ，Ｊ＝８，１Ｈ），７．８−７．６（ｍ，３Ｈ），
７．５８（ｄ，Ｊ＝７．５，１Ｈ），７．４５（ｄ，Ｊ
＝９，１Ｈ），７．０８（ｄｄ，Ｊ＝２．５９，９，１
Ｈ），４．１３（ｑ，Ｊ＝７，２Ｈ），２．２（ｓ，３
Ｈ），１．４３（ｔ，Ｊ＝７，３Ｈ）． ｂ）Ｒ³ ＝４−ニトロフェニル（ＨＴＣ１５） ＵＶ：６００ｎｍ（８．４ｘ１０³ ，ジオキサン） ６２０ｎｍ（水） ｎｍ：６４５−６９５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：７％（９．４ｍｍ
ｏｌ）

【０１２６】７．Ｒ⁴ ＝２−メチル−４−カルボキシフ
ェニル ａ）Ｒ³ ＝４−アセトアミドフェニル ＵＶ：６００−６３０ｎｍ（１１ｘ１０³ ，ジオキサ
ン） ｎｍ：６１５−６６５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：５％（１１．１ｍ
ｍｏｌ）

【０１２７】８．Ｒ⁴ ＝４−カルボキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝４−アセトアミドフェニル ＵＶ：５９２ｎｍ（９．５ｘ１０³ ，ジオキサン） ６１０ｎｍ（水） ｎｍ：６１５−６６５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：２％（８．１ｍｍ
ｏｌ）

【０１２８】９．Ｒ⁴ ＝４−メトキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝フェニル ＵＶ：４８８ｎｍ（１４．５ｘ１０³ ，ジオキサン）

【０１２９】１０．Ｒ⁴ ＝４−クロロ−１−ナフチル ａ）Ｒ³ ＝４−アセトアミドフェニル ＵＶ：６００ｎｍ（水） ｎｍ：６１０−６６０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：３％（８．３ｍｍ
ｏｌ）

【０１３０】１１．Ｒ⁴ ＝４−シアノ−１−ナフチル ａ）Ｒ³ ＝４−アセトアミドフェニル ＵＶ：６３２ｎｍ（９．１ｘ１０³ ，ジオキサン） ６０６ｎｍ（水） ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１１％（８．３ｍ
ｍｏｌ）

【０１３１】Ｃ．（５，６，７，８）−テトラヒドロナ
フト［２，３−ｄ］チアゾール−２−イル １． Ｒ⁴ ＝４−ニトロナフチル ａ）Ｒ³ ＝４−アセトアミドフェニル ＵＶ：６２４ｎｍ（５．１ｘ１０³ ，ジオキサン） ｎｍ：６３５−６８５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１４％（１４ｍｍ
ｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：１６３５，１５４０，１５００，１４
７０，１４４０，１３９０，１２６０，１１２０，１０
４０，９２０ｃｍ^-1 ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ）：δ ８．９９−
９．１２（ｍ，１Ｈ，ナフタレン），８．６０（ｄ，１
Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），８．２５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．
９Ｈｚ，ナフタレン），７．７２−７．９４（ｍ，６
Ｈ，ナフタレン及びベンゾチアゾール），７．５５
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，ＰｈＮＨＡＣ），７．１
２−７．２３（ｍ，２Ｈ，ナフタレン），７．０１
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＰｈＮＨＡＣ），２．７
０−２．９０（ｂｒ Ｓ，４Ｈ，−ＣＨ₂ −），１．８
０−２．９５（ｍ，７Ｈ，ＣＨ₃ ＣＯ−及び−ＣＨ₂
−）． 質量スペクトル（Ｅ２）ｍ／ｅ：１２１（２２．４），
１４９（１００），１６５（３４．７），１６４（２
０．７），２０５（２６．２），３４９（Ｍ⁺ −１−Ｃ
₁₀Ｈ₂ ＮＯ₂ ，１２．１）． 質量スペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：３５０（Ｍ⁺ −Ｃ₁₀
Ｈ₂ ＮＯ₂ ，１００）． ｂ）Ｒ³ ＝４−メトキシフェニル ＵＶ：５９０ｎｍ（９．０ｘ１０³ ，ジオキサン）； ｎｍ：６４０−６９０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：７．１％（１４ｍ
ｍｏｌ） ｃ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：６２６ｎｍ（１．２ｘ１０³ ，ジオキサン）； ｎｍ：６６０−７１０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：５％（９．１ｍｍ
ｏｌ） ｄ）Ｒ³ ＝４−フルオロフェニル ＵＶ：６１２ｎｍ（３．４ｘ１０³ ，ジオキサン）； ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：８．５％（１４ｍ
ｍｏｌ）

【０１３２】２． Ｒ⁴ ＝４−ニトロフェニル ａ）Ｒ³ ＝４−アセトアミドフェニル ＵＶ：５９６ｎｍ（２．０ｘ１０³ ，ジオキサン） ｎｍ：６４０−６９０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１６％（１４ｍｍ
ｏｌ） ｂ）Ｒ³ ＝４−メトキシフェニル ＵＶ：５９０ｎｍ（９．０ｘ１０³ ，ジオキサン） ｎｍ：６４５−６９５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：８％（１４ｍｍｏ
ｌ） ｃ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：５９８ｎｍ（４．４ｘ１０³ ，ジオキサン） ｎｍ：６４０−６９０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：２０％（１４ｍｍ
ｏｌ） ｄ）Ｒ³ ＝４−ヒドロキシフェニル ＵＶ：５９８ｎｍ（６．０ｘ１０³ ，ジオキサン）

【０１３３】３． Ｒ⁴ ＝１−ナフチル ａ）Ｒ³ ＝４−（２−（２−（２−エトキシ）エトキ
シ）エトキシ）フェニル ＵＶ：４３６ｎｍ（１２ｘ１０³ ，Ｈ₂ Ｏ）

【０１３４】Ｄ．６−メチルベンゾチアゾール−２−イ
ル １．Ｒ⁴ ＝３，４，５−トリメトキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシ ＵＶ：４９２ｎｍ（４．７ｘ１０³ ，ジオキサン） ｎｍ：６５５−７０５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：２０％（１１．１
ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：１６０４，１５４０，１４９６，１４
６４，１４３２，１３７０，１３１７，１２５４，１１
２３，１０３７，９９３，８２２，７７０，７３５ｃｍ
^-1 ＮＭＲ（３００ ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）：δ８．１
７（ｓ，１Ｈ、ＰｈＨ），８．０１（ｄ，１Ｈ，Ｊ−
８．４８Ｈｚ）．７．９５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１３
Ｈｚ，１．７６Ｈｚ），７．８５（ｄ，１Ｈ，Ｆ＝１．
７２Ｈｚ），７．５７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１９Ｈ
ｚ，１．５３Ｈｚ），７．４９（ｓ，２Ｈ），７．３２
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１６Ｈｚ），６．３０（ｓ，２
４，−ＯＣＨ₂ −Ｏ），３８５（ｓ．３Ｈ，−ＯＭ
ｅ），３．７９（ｓ，６Ｈ，ＯＭｅ），２．５４（ｓ，
３Ｈ，−ＣＨ₃ ） 質量スペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：９３．２（１００，
１８５（６２．８），３１０（２５．９），３２５
（４．１），５０４（１０．９，Ｍ⁺ −１） ｂ）Ｒ³ ＝４−アセトアミドフェニル ＵＶ：４９２ｎｍ（３．６×１０³ ，ジオキサン） ｎｍ：６５０−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１０％（１１．１
ｍｍｏｌ） ｃ）Ｒ³ ＝３，４，５−トリメトキシフェニル ＵＶ：４９２ｎｍ（４．９×１０³ ，ジオキサン） ｎｍ：６５５−７０５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：８％（１１．１ｍ
ｍｏｌ）

【０１３５】２．Ｒ＝４−メトキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝４−アセトアミドフェニル ＵＶ：４８８ｎｍ（３．９×１０³ ，ジオキサン） ｎｍ：６５０−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：８％（１７．７ｍ
ｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：１６９０，１５９９，１５３１，１５
０１，１４５９，１４２２，１３７０，１３１７，１２
６５，１１８１，１１６４，１０２１，９７７，８３
７，７４７，６９５ｃｍ^-1 ＮＭＲ（３００ ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）：δ１０．
４５（６，１Ｈ，−ＮＨＡｃ），８．３０（ｄ，２Ｈ，
Ｊ＝８．７５Ｈｚ，Ｐｈ−Ｈ），８．１７（ｓ，１Ｈ，
ＰｈＨ），７．９０−８．１１（ｍ，５Ｈ），７．２６
−７．４０（ｍ，１Ｈ），３．８４（ｓ，３Ｈ，−ＯＭ
ｅ），２．５０（ｓ，３Ｈ，−Ｍｅ），２．１４（ｓ，
３Ｈ，ＣＨ₃ ） 質量スペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：９３，１００，１４
９（８．１），１６３（１９．９），１８５（９１．
１），３２３（２１．６）４５７（７．１，Ｍ⁺ −１）

【０１３６】Ｅ．６−カルボキシベンゾチアゾール−２
−イル １．Ｒ⁴ ＝３，４，５−トリメトキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシ ＵＶ：４０８ｎｍ（４．９ｘ１０³ ，ジオキサン） ｎｍ：６５５−７３５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１０％（１１．１
ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３４０５，３２００−２５００（ｂｒ
ｏａｄ），１７００，１６０２，１５００，１４５１，
１２５９，１１２２，１０３４，９９０，８１５，７７
１ｃｍ^-1 ＮＭＲ（３００ ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）：δ８．５
７（ｓ，１Ｈ、ＰｈＨ），７．９５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
８．０９，１．６８Ｈｚ）．７．８５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝
１．７０Ｈｚ），７．１７−７．４３（ｍ，４Ｈ），
７．０２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），６．１１
（ｓ，２Ｈ），３．９０（ｓ．３Ｈ，ＯＭｅ），３．７
４（ｓ，６Ｈ，ＯＭｅ） 質量スペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：９３．１（５７．
１），１６７．２（１００），１８５．２（５０．
８），３４０．１（４８．１，Ｍ⁺ −Ｃ₈ Ｈ₅ ＮＳＯ
₂ ）

【０１３７】２．Ｒ⁴ ＝４−ニトロフェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：５６８ｎｍ（０．６×１０³ ，ジオキサン）

【０１３８】Ｆ．５，６，７−トリメトキシベンゾチア
ゾール−２−イル １．Ｒ⁴ ＝４−カルボキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝４−メトキシフェニル ＵＶ：５９４ｎｍ（ジオキサン） ５１６ｎｍ（水） ｎｍ：６３０−６８０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１９％（８．３ｍ
ｍｏｌ）¹ ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）：８．３３（ｍ，３
Ｈ），８．２０（ｄ，Ｊ＝７，２Ｈ），７，３５（ｍ，
３Ｈ），４．１０（ｓ，３Ｈ），３．９５（ｓ，３
Ｈ），３．８５（ｓ，６Ｈ）

【０１３９】Ｇ．ナフト〔１，２−α〕チアゾール−２
−イル １．Ｒ⁴ ＝２−メトキシ−４−カルボキシフェニル（Ｌ
ＨＮ８２） ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：５６８ｎｍ（４．５ｘ１０³ ，４２０） ｎｍ：６５０−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１２％（１１．１
ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：１７１３，１６０５，１４９９，１４
６６，１４３３，１３１５，１２５９，１２０９，１０
３７，７４１ｃｍ^-1 ＮＭＲ（３００ ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）：δ８．４
２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，−Ｐｈ），８．１７−
８．１７（ｍ，３Ｈ），８．００−７．９６（ｍ，２
Ｈ），７．８７−７．６６（ｍ，５Ｈ），７．３３
（ｄ，１Ｈ，Ｊ−８．１Ｈｚ），６．３０（ｓ，２４，
ＯＣＨ₂ Ｏ９，３．８２（ｓ，３Ｈ，−ＯＭｅ） 質量スペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：９３（１００），１
８５（４７），３４６（１８），５２４（２３，Ｍ⁺ −
１） ｂ）Ｒ＝４−（２−（２−（ヒドロキシエトキシ）エト
キシ）エトキシ）フェニル ＵＶ：５６６ｎｍ（３．２ｘ１０³ ．Ｈ₂ Ｏ） ｎｍ：６５０−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：６％（１１．１ｍ
ｍｏｌ）

【０１４０】２．Ｒ＝４⁴ −アセトアミドフェニル ａ）Ｒ³ ＝４−シアノフェニル ＵＶ：５２４ｎｍ（９×１０³ ，Ｈ₂ Ｏ） ｎｍ：６５０−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１６％（８．１ｍ
ｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３４３７，３０４７，１６９４，１５
９４，１５３７，１５０３，１４６２，１４１４，１３
８４，１２６５，１１７２，９８５，８４８ｃｍ^-1 ＮＭＲ（３００ ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）：δ１０．
８５（ｓ，１Ｈ，ＮＨＡｃ），８．５９（ｄ，２４，Ｊ
＝８．４Ｈｚ），８．４１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈ
ｚ），８．３０−８．６４（ｍ，９４），７．７９−
７．７６（ｍ，２Ｈ），２．１８（ｓ，３Ｈ，−ＮＨＣ
ＯＣＨ₃ ） 質量スペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：９１（１００），１
０９（２８），１８１（５６），２１７（４５），２３
２（１３），３２７（８），４８８（１０，Ｍ⁺ −
１），４８７（４，Ｍ⁺ ） ｂ）Ｒ³ ＝４−カルボメトキシフェニル ＵＶ：５５８ｎｍ（１２ｘ１０³ ，４２０） ｎｍ：６６０−７１０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：６％（８．３ｍｍ
ｏｌ） ｃ）Ｒ³ ＝メチレンジオキシフェニル ｎｍ：６８５−７３５；Ｋ／Ｓ：７％（８．１ｍｍｏ
ｌ）

【０１４１】３．Ｒ⁴ ＝３，４，５−トリメトキシフェ
ニル ａ）Ｒ³ ＝４−（３−トリメチルアンモニオプロポキ
シ）フェニル ＵＶ：５２０ｎｍ（１１ｘ１０³ ，水） ｎｍ：６７０−７２０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１３％（８．３ｍ
ｍｏｌ） ｂ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：５６５ｎｍ（１０．３ｘ１０³ ，Ｈ₂ Ｏ） ｎｍ：６７５−７２５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：２０％（８．３ｍ
ｍｏｌ） ｃ）Ｒ³ ＝４−（２−（２−（２−ヒドロキシ）エトキ
シ）エトキシ）フェニル ＵＶ：５９２ｎｍ（１１．４ｘ１０³ ，Ｈ₂ Ｏ）

【０１４２】４．Ｒ⁴ ＝３，４−メチレンジオキシ ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシ ＵＶ：５４４ｎｍ（１０．７ｘ１０³ ，Ｈ₂ Ｏ） ｎｍ：６８５−７３５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：２６％（８．３ｍ
ｍｏｌ）

【０１４３】５．Ｒ⁴ ＝４−メトキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：５４６ｎｍ（７．９ｘ１０³ ，Ｈ₂ Ｏ） ｎｍ：６７５−７２５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１４％（８．３ｍ
ｍｏｌ）

【０１４４】６．Ｒ⁴ ＝１−アントリル ａ）Ｒ⁴ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：６４４ｎｍ（４．１ｘ１０³ ，Ｈ₂ Ｏ） ｎｍ：７５０−８００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：３２％（８．３ｍ
ｍｏｌ）

【０１４５】７．Ｒ⁴ ＝８−キノリル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：６４０ｎｍ（３．９ｘ１０³ ，Ｈ₂ Ｏ） ｎｍ：６５０−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：５％（８．３ｍｍ
ｏｌ） ｂ）Ｒ³ ＝３，４，５−トリメトキシフェニル ＵＶ：６２８ｎｍ（１２．１ｘ１０³ ，Ｈ₂ Ｏ） ｎｍ：６５０−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：４％（８．３ｍｍ
ｏｌ）

【０１４６】８．Ｒ⁴ ＝２，５−ジメトキシ−４−ニト
ロフェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシ ＵＶ：６５４ｎｍ（７．０ｘ１０³ ，Ｈ₂ Ｏ） ｎｍ：６５５−７０５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１７％（８．３ｍ
ｍｏｌ）

【０１４７】９．Ｒ⁴ ＝２−メトキシ−４−カルボメト
キシフェニル ａ）ＵＶ：６３０ｎｍ（６．３ｘ１０³ ，Ｈ₂ Ｏ） ｎｍ：６５０−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１２％（８．３ｍ
ｍｏｌ）

【０１４８】１０．Ｒ⁴ ＝２−メトキシ−５−アセトア
ミドフェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：５８４ｎｍ（７．０ｘ１０³ ，Ｈ₂ Ｏ） ｎｍ：６６０−７１０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１１％（８．３ｍ
ｍｏｌ）

【０１４９】１１．Ｒ⁴ ＝２−メトキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシ ＵＶ：６１８ｎｍ（１０．４ｘ１０³ ，Ｈ₂ Ｏ） ｎｍ：６５０−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１０％（８．３ｍ
ｍｏｌ）

【０１５０】１２．Ｒ⁴ ＝２，４−ジメトキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ｎｍ：６７５−７２５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：３３％（８．３ｍ
ｍｏｌ）

【０１５１】１３．Ｒ⁴ ＝２−メトキシ−４−ニトロフ
ェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：６５０ｎｍ（１４ｘ１０³ ，Ｈ₂ Ｏ） ｎｍ：６５０−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１４％（８．３ｍ
ｍｏｌ）

【０１５２】１４．Ｒ⁴ ＝２，５−ジメトキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシ ｎｍ：６６５−７１５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：３６％（８．３ｍ
ｍｏｌ）

【０１５３】１５．Ｒ⁴ ＝４−ニトロナフチル ａ）Ｒ³ ＝４−フルオロフェニル ＵＶ：６２２ｎｍ（１５．６ｘ１０³ ，ジオキサン） ６３２ｎｍ（水） ｎｍ：６２５−７２５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１２％（１３．８
ｍｍｏｌ） ｂ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ｎｍ：６０５−６５５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：４％（１５ｍｍｏ
ｌ） ｃ）Ｒ³ ＝フェニル ＵＶ：６１８ｎｍ（１２．６ｘ１０³ ，ジオキサン） ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：８％（１４ｍｍｏ
ｌ） ｄ）Ｒ⁴ ＝４−（２−（２−（２−ヒドロキシエトキ
シ）エトキシ）エトキシフェニル ＵＶ：６２８（６．７ｘ１０³ ，Ｈ₂ Ｏ） ｅ）Ｒ⁴ ＝４−（１′−（ヒドロキシメチル）−２′，
３′−ジヒドロキシプロピルチオ）フェニル ＵＶ：６２４ｎｍ（５．１８ｘ１０³ ，ジオキサン） ｎｍ：６３５−６８５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１５％（１１．１
ｍｍｏｌ）

【０１５４】１６．Ｒ⁴ ＝４−ニトロフェニル ａ）Ｒ³ ＝４−（２′，３′−ジヒドロキシプロピルチ
オ）フェニル ＵＶ：６０４ｎｍ（４．９ｘ１０³ ，ジオキサン） ｎｍ：６３５−６８５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：４％（１１．１ｍ
ｍｏｌ） ｂ）Ｒ³ ＝４−（トリメチルアンモニウム）フェニル ＵＶ：５７２ｎｍ（１４．７ｘ１０³ ，ジオキサン）

【０１５５】１７．Ｒ＝４−カルボキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝４−アセトアミドフェニル（ＨＴＣ５７） ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）：δ１０．４６（ｓ，１
Ｈ），８．５−８．２２（ｍ，１Ｈ），８．１７
（ｄ，，Ｊ＝８，１Ｈ），８．０２（ｄ，Ｊ＝８．８，
２Ｈ），７．８５（ｄｄ，Ｊ＝７．６，０．９，１
Ｈ），７．７８−７．６５（ｍ，３Ｈ），２．０８
（ｓ，３Ｈ） ＵＶ：５９８ｎｍ（ジオキサン） ６１４ｎｍ（１０．５ｘ１０³ ，水） ｎｍ：６５０−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：７．５％（１３．
８ｍｍｏｌ） ｂ）Ｒ³ ＝４−（３−トリメチルアンモニオプロポキ
シ）フェニル ＵＶ：６３２ｎｍ（１４．７ｘ１０³ ，Ｈ₂ Ｏ） ｎｍ：６４０−６９０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１１％（８．６ｍ
ｍｏｌ） ｃ）Ｒ³ ＝４−（２′，３′−ジヒドロキシプロピルチ
オ）フェニル ＵＶ：６５４ｎｍ（１．０ｘ１０³ ，ジオキサン） ｎｍ：６４５−６９５；Ｋ／Ｓ：１１％（１１．１ｍｍ
ｏｌ） ｄ）Ｒ³ ＝４−（２−（２−（２−（ヒドロキシエトキ
シ）エトキシ）エトキシ）フェニル ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：６．５％（８．３
ｍｍｏｌ） ｅ）Ｒ³ ＝カルボメトキシフェニル ｎｍ：６０５−６５５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１１．５％（８．
３ｍｍｏｌ）

【０１５６】１８．Ｒ⁴ ＝２−メチル−４−カルボキシ
フェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：６２０−６４０ｎｍ（ジオキサン） ６１４ｎｍ（８．４ｘ１０³ ，水） ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：３％（１４ｍｍｏ
ｌ）

【０１５７】１９．Ｒ⁴ ＝２−メチル−４−ニトロフェ
ニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：６４４ｎｍ（１１．３ｘ１０³ ，ジオキサン） ６２５ｎｍ（９．２ｘ１０³ ，水） ｎｍ：６５５−７１５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：６％（１４ｍｍｏ
ｌ）

【０１５８】２０．Ｒ⁴ ＝フェニル ａ）Ｒ³ ＝４−アセトアミドフェニル ＵＶ：５１６ｎｍ（７．１ｘ１０³ ，ジオキサン） ５２６ｎｍ（７．１ｘ１０³ ，水）

【０１５９】２１．Ｒ⁴ ＝４−メトキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝４−アセトアミドフェニル ＵＶ：５０２ｎｍ（９．５ｘ１０³ ，ジオキサン） ５００ｎｍ（水）

【０１６０】２２．Ｒ⁴ ＝４−フェニエルアゾフェニル ａ）Ｒ³ ＝４−メトキシフェニル ＵＶ：６１４ｎｍ（ジオキサン） ６１８ｎｍ（水） ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１１％（８．３ｍ
ｍｏｌ）

【０１６１】２３．Ｒ⁴ ＝４−メチルチオフェニル（Ｈ
ＴＣ４２） ａ）Ｒ³ ＝４−アセトアミドフェニル ＵＶ：５２４ｎｍ（ジオキサン） ５２６ｎｍ（水） ｎｍ：６７５−７２５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１８％（８．３ｍ
ｍｏｌ）

【０１６２】２４．Ｒ⁴ ＝４−（３，４−ジヒドロキシ
ブチルアミド）フェニル ａ）Ｒ³ ＝４−メトキシフェニル ＵＶ：５８８ｎｍ（９ｘ１０³ ，ジオキサン） ５７８ｎｍ（１２ｘ１０³ ，水）

【０１６３】２５．Ｒ⁴ ＝４−カルボメトキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝４−メトキシフェニル ＵＶ：５９８ｎｍ（９．４ｘ１０³ ，ジオキサン） ５８１ｎｍ（９．１ｘ１０³ ，水） ｎｍ：６３０−６８０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：２０％（８．３ｍ
ｍｏｌ）

【０１６４】２６．Ｒ⁴ ＝４−シアノフェニル ａ）Ｒ³ ＝３−メトキシフェニル ＵＶ：６０２ｎｍ（１２．３ｘ１０³ ，ジオキサン） ６０８ｎｍ（水） ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：８％（８．３ｍｍ
ｏｌ）

【０１６５】２７．Ｒ⁴ ＝４−ベンズアミド−５−メチ
ル−２−メトキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ｎｍ：６９０−７４０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１５％（１０．３
ｍｍｏｌ）

【０１６６】２８．Ｒ⁴ ＝４−ベンズアミド−２，５−
ジメトキシフェニル ａ）ｎｍ：７１５−７６５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１７％（１
０．３ｍｍｏｌ）

【０１６７】Ｈ．８−メトキシナフト〔１，２−α〕チ
アゾール−２−イル １．Ｒ⁴ ＝３，４，５−トリメトキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝４−メトキシフェニル（ＨＴＣ４１） ＵＶ：４６６（９．２ｘ１０³ ，ジオキサン） ５３０（９ｘ１０³ ，水） ｎｍ：６７０−７２０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１２％（８．３ｍ
ｍｏｌ） ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＪＳＯ−ｄ₆ ）：δ ８．
３３（ｍ，３Ｈ），７．９７（ｍ，１Ｈ），７．９０
（ｓ，１Ｈ），７．７５（ｍ，２Ｈ），７．５５（ｓ，
２Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝９，２Ｈ），４．１０
（ｓ，３Ｈ），３．９３（ｓ，３Ｈ），３．８８（ｓ，
３Ｈ），３．７８（ｓ，６Ｈ）

【０１６８】Ｉ．４−ジフルオロメチル−５−クロロチ
アゾール−２−イル １．Ｒ⁴ ＝４−メトキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝４−（２−（２−（２−エトキシ）エトキ
シ）エトキシ）フェニル（ＬＮＨ５０） ＵＶ：４８０ｎｍ（１２．８ｘ１０³ ，ジオキサン） ｎｍ：６４５−６９５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：６％（１７．７ｍ
ｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：２９４２，１６１２，１５０４，１４
６４，１４５１，１２６１，１１７８，１１２６，１０
６１，８３７，６５８ｃｍ^-1 ＮＭＲ（３００Ｍ Ｈｚ，ＤＭＪＳＯ−ｄ₆ ）：δ
８．２４（ｅ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ．Ｐｈ−ＯＭ
ｅ），７．９２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，Ｐｈ−Ｏ
−），７．２７−７．３３（ｍ，４Ｈ，ＰｈＨ），７．
２６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０４Ｈｚ，−ＣＨＦ₂ ），
４．２２−４．３２（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ₂ Ｏ），３．９
０（ｓ，３Ｈ，−ＯＭｅ），３．２０−３．６８（ｍ，
１０Ｈ，−ＯＣＨ₂ ＣＨ₂ −） 質量スペクトル（ＦＡＢ）：１０７（１００），１３５
（６５．４），５６８（４．５，Ｍ⁺ −Ｈ），５７０
（１．９，Ｍ⁺¹） ｂ）Ｒ³ ＝４−（２−（２−（２−メトキシ）エトキ
シ）エトキシ）フェニル ＵＶ：４６８ｎｍ（１０．２ｘ１０³ ，ジオキサン）； ｃ）Ｒ³ ＝４−（２−（２−（２−ヒドロキシエトキ
シ）エトキシ）エトキシ）フェニル ＵＶ：４６６ｎｍ（７．６ｘ１０³ ，ジオキサン）； ｎｍ：６４５−６９５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：５％（１１．１ｍ
ｍｏｌ） ｄ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル（ＫＪＥ
１６６７） ｎｍ：６５０−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：７％（１１．１ｍ
ｍｏｌ）

【０１６９】２．Ｒ³ ＝３，４，５−トリメトキシフェ
ニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル（ＫＪＥ
１７４５） ＵＶ：５００ｎｍ（５．６６ｘ１０³ ，水） ｎｍ：６６５−７１５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：５％（１７．７ｍ
ｍｏｌ） ＮＭＲ（３００Ｍ Ｈｚ，ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）：δ ７．
９１（ｄｄ，１Ｈ），７．８２（ｄ，１Ｈ），７．３５
（ｓ，３Ｈ），７．３１（ｔ，１Ｈ，ＣＨＦ₂ ），７．
３０（ｄ，１Ｈ），６．２８（ｓ，２Ｈ），３．７９
（ｓ，９Ｈ） ｂ）Ｒ³ ＝４−（２−（２−（２−ヒドロキシ）エトキ
シ）エトキシ）フェニル ＵＶ：４９２ｎｍ（３．６２ｘ１０³ ，ジオキサン）； ｎｍ：６６０−７１０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１４％（１１．１
ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３４３６，１６１１，１４５６，１３
８４，１３０９，１２４１，１１８０，１１２６，１０
５３，９９２ｃｍ^-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆ ，３００Ｍ Ｈｚ）：δ ８．
２６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８９，Ｐｈ），７．４０
（ｓ．３Ｈ，ＰｈＨ），７，３３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．
９０Ｈｚ，Ｐｈ），７．３０（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５２．
３，ＨＦ₂ ），４．２９（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝５．６６，
４．０Ｈｚ，ＣＨ₂ −ＯＨ），３．９１（５．６４，−
ＯＭｅ），３．８５（ｓ，３Ｈ，ＯＭｅ），３．６４−
３．４１（ｍ，１０Ｈ，−ＣＨ₂ Ｏ） 質量スペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：６２８（１３．
５），６３０（６．０）

【０１７０】３．Ｒ⁴ ＝１−ナフチル ａ）Ｒ³ ＝４−（２−（２−（２−ヒドロキシエトキ
シ）エトキシ）エトキシ）フェニル ＵＶ：４４０ｎｍ（６．３２ｘ１０³ ，ジオキサン）；

【０１７１】４．１−フェニル ｂ）Ｒ³ ＝４−（２−（２−（２−エトキシ）エトキ
シ）エトキシ）フェニル ＵＶ：４７４ｎｍ（１３．１ｘ１０³ ，ジオキサン）； ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：２５％（１１．１
ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３９７，３３０４，２９５０，１６
１２，１４５２，１２６０，１１８０，１１２７，１０
６１，８４２ｃｍ^-1 ＮＭＲ（３００Ｍ Ｈｚ，ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）：δ ８．
２５（ｄ，２Ｈ），Ｊ＝８．７３Ｈｚ，Ｐｈ−Ｏ−），
８．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．８７Ｈｚ，ＰｈＨ），
７．８８−７．９３（ｍ，１Ｈ，ＰｈＨ），７．８０
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．９０Ｈｚ，ＰｈＨ），７．３２
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８１Ｈｚ，ＰｈＯ−），７．２２
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０４．３Ｈｚ，−ＣＨＦ₂ ），４．
２６−４．３０（ｍ，２Ｈ，ＣＨＣＨ₂ −），３．７９
−３．８２（ｍ，２Ｈ，ＣＨ₂ ＣＨ₂ ＯＨ），３．３１
−３，．２６（ｍ，８Ｈ，−ＯＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｏ−） 質量スペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：３０１（１４．
２），４３２（２３．９），５３８（３５．７，Ｍ⁺ −
１），５３９（１１．５，Ｍ⁺），５４０（１５．８，
Ｍ⁺ ＋１）．

【０１７２】５．Ｒ⁴ ＝４−（２−（２−（２−ヒドロ
キシエチル）エオキシ）エトキシ）フェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４，５−トリメトキシフェニル ＵＶ：５１６ｎｍ（９ｘ１０³ ，Ｈ₂ Ｏ）； ｂ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：５１２ｎｍ（１３ｘ１０³ ，Ｈ₂ Ｏ）

【０１７３】６．Ｒ⁴ ＝４−（２−ヒドロキシエトキ
シ）フェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：４９２ｎｍ（１２ｘ１０³ ，Ｈ₂ Ｏ）；

【０１７４】７．Ｒ⁴ ＝４−（２−（２−ヒドロキシエ
チル）エトキシ）フェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：５１４ｎｍ（１１．３ｘ１０³ ，Ｈ₂ Ｏ）；

【０１７５】８．Ｒ⁴ ＝３，４−ジメトキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：４１０ｎｍ（５．３４ｘ１０³ ，水）； ｎｍ：６７５−７２５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１５％（１１．１
ｍｍｏｌ）

【０１７６】９．Ｒ⁴ ＝２−メトキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル（ＨＴＣ
４５） ＵＶ：６１０−６４０（７．５ｘ１０³ ） ｎｍ：６３５−６８５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：７％（８．２ｍｍ
ｏｌ）

【０１７７】Ｊ．４−トリフルオロメチル−５−クロロ
チアゾール２−イル １．Ｒ⁴ ＝４−カルボキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝４−（２−（２−（２−（エトキシ）エトキ
シ）エトキシ）フェニル ＵＶ：５６０ｎｍ（５．９ｘ１０³ ，ジオキサン） ｎｍ：６３０−６８０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１８％（１１．１
ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３４６１，１６１２，１４５５，１３
８５，１２６３，１１７８，９９３ｃｍ^-1 ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）：δ ８．２
０−８．３２（ｍ，５Ｈ），８．０８−８．１４（ｍ，
１Ｈ，Ｐｈ），７．３２（３，１Ｈ，Ｊ＝８．９２Ｈ
ｚ，−ＰｈＨ），７．１８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８９，
−ＰｈＨ），４．１６−４．３２（ｍ，２Ｈ，ＣＨＣＨ
₃ ）３．３９−３．３８（ｍ，８Ｈ，エチレングリコー
ル），１．０９（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝６．９９，−ＣＨ₃ ） 質量スペクトル（ＦＡＢ）：３２０（１５．６），４３
６（１８．８０，５８４（１３．９，Ｍ⁺ −Ｈ） ｂ）Ｒ³ ＝４−（２−（２−（２−ヒドロキシエトキ
シ）エトキシ）エトキシ）フェニル ＵＶ：４９２ｎｍ（５．４ｘ１０³ ，ジオキサン） ｎｍ：６４０−６９０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１４％（１１．１
ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３０１３，１６１０，１５１８，１４
５０，１２０３，１０５０，９２８，７１７，６６４ｃ
ｍ^-1 ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）：δ ８．２
４−８．３３（ｍ，４Ｈ，ＰｈＨ），８．１２（ｄ，２
Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＰｈＣＯ₂ Ｈ），７．３２（ｄ，
２Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，ＰｈＣＯ₂ Ｈ），４，２７−
４．２９（ｍ，２Ｈ，ＯＣＨＣＨ₂ −），３．７９−
３．８２（ｍ，２Ｈ，−ＯＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｏ），３．４０
−３．６３（ｍ，８Ｈ，−Ｏ−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −Ｏ−） 質量スペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：１２１（１００），
１４６（２９．５），１４９（２６．５），６００
（９．６，Ｍ⁺ −Ｈ），６０２（４．２，Ｍ⁺ ＋１） ｃ）Ｒ³ ＝メトキシフェニル ｎｍ：６３０−６８０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１０％（１１．１
ｍｍｏｌ）

【０１７８】２．フェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：５２０ｎｍ（水，４．０８ｘ１０³ ） ｎｍ：６３５−６８５ｎｍ；Ｋ／Ｓ；２１％（１１．１
ｍｍｏｌ） ｂ）Ｒ³ ＝４−（２−（２−（２−（エトキシ）エトキ
シ）エトキシ）フェニル ＵＶ：５８０ｎｍ（７．７ｘ１０³ ，ジオキサン） ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ；０．６０（１１．
１ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３５８２，３４６２，１６３６，１６
１４，１４８６，１４５６，１３８４，１１７９，１１
３７，１０５１，９９３，９８６，８４８，７６５，７
４５，６９１ｃｍ^-1 ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）：δ ８．２
６（３，１Ｈ，Ｊ＝８．５４Ｈｚ，Ｐｈ−Ｏ−），８．
１５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４８，ＰｈＯ−），８．００
−７．７７（ｎ，５Ｈ，−Ｐｈ），７．３２（ｄ，１
Ｈ，Ｊ＝８．７３），７．１２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．６
７，Ｐｈ−），３，３４−４，２８（ｍ，１０Ｈ，エチ
レングリコール），１．０９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９
２，−ＣＨ₃ ） 質量スペクトル（ＦＡＢ）： ５４０（Ｍ−Ｈ）⁺ ｃ）Ｒ³ ＝４−（トリメチルアンモニウム）フェニル ＵＶ：４９６ｎｍ（１１．４ｘ１０³ ，ジオキサン）

【０１７９】３．４−ニトロフェニル ａ）Ｒ³ ＝４−（トリメチルアンモニウム）フェニル ＵＶ：５９０ｎｍ（４．７ｘ１０³ ，ジオキサン） ｎｍ：５２５−５７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ；１４％（１１．１
ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３４３１，３０６５，１７５１，１７
２５，１４８６，１４６９，１３０８，１２０９，１１
８２，１１４７，９９０ｃｍ^-1 ＮＭＲ（３００ＮＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）：δ ８．８
５＝８．９５（ｍ，１Ｈ，Ｐｈ−），８．５９（ｄ，１
Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＰｈＮＯ₂ ），８．４７−８，５
５（ｍ，１Ｈ），８，４４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈ
ｚ，ＰｈＮＯ₂ ），８．２２−８．３５（ｍ，２Ｈ，Ｐ
ｈＨ），７．９６−８．０５（ｍ，１Ｈ，ＰｈＨ，７．
８０−７．８７（ｍ，１Ｈ）３，７５（ｓ，９Ｈ） 質量スペクトル（ＦＡＢ）：１６４（１００，ＮＣＰｈ
⁺ ＮＭＲ₃ ），１８５（２２．６），５１１（１２．
１，Ｍ⁺ ）

【０１８０】４．Ｒ⁴ ＝３，４，５−トリメトキシフェ
ニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル（ＫＪＥ
１６８９） ＵＶ：５００ｎｍ（６．６８ｘ１０³ ，水） ｎｍ：６７５−７２５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：５％（１１．１ｍ
ｍｏｌ） ｂ）Ｒ³ ＝４−アセトアミドフェニル ＵＶ：４９０ｎｍ（７．２４ｘ１０³ ，水）

【０１８１】５．Ｒ⁴ ＝４−（３−ジメチルアンモニオ
プロピルアミド）フェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：４００ｎｍ（水）

【０１８２】６．Ｒ³ ＝２−メトキシ−５−トリメチア
ウアンモニオフェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：５４０ｎｍ（水）

【０１８３】７．Ｒ⁴ ＝４−メトキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：５００ｎｍ（水）

【０１８４】８．Ｒ³ ＝４−メトキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：５００ｎｍ（水）

【０１８５】９．Ｒ⁴ ＝３，５−ジカルボキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ｎｍ：６３５−６８５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１６％（１２．２
ｍｏｍｌ）

【０１８６】１０．Ｒ³ ＝ナフチル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ｎｍ：６８５−７３５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：５％（９．４ｍｏ
ｍｌ）

【０１８７】Ｋ．４−カルボキシエチル−５−クロロチ
アゾール−２−イル １．Ｒ⁴ ＝４−メトキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：４９０ｎｍ（４．９ｘ１０³ ，水）

【０１８８】Ｌ．４−カルボメトキシ−５−クロロチア
ゾール−２−イル １．Ｒ⁴ ＝チエニル ａ）Ｒ³ ＝３−チエニル ＵＶ：４９６ｎｍ（７．６６ｘ１０³ ，水） ｂ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ｎｍ：６２０−６７０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：２１％（１１．１
ｍｍｏｌ）

【０１８９】Ｍ．４−カルボキシイソプロピル−５−ク
ロロチアゾール−２−イル １．Ｒ⁴ ＝フェニル ａ）Ｒ³ ＝３−チエニル ＵＶ：４６８ｎｍ（７．８ｘ１０³ ，水）

【０１９０】２．Ｒ⁴ ＝フェニル ａ）Ｒ³ ＝２−チエニル ＵＶ：４９０ｎｍ（７．６ｘ１０³ ，水）

【０１９１】３．Ｒ⁴ ＝フェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：６％（９．４ｍｍ
ｏｌ）

【０１９２】Ｎ．４−フェニル−５−カルボメトキシチ
アゾール−２−イル １．Ｒ⁴ ＝４−メトキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：５００ｎｍ（９．８２ｘ１０³ ，水）

【０１９３】２．Ｒ⁴ ＝３，４−ジメトキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝３−チエニル ＵＶ：５１０ｎｍ（９，７６ｘ１０³ ，水）

【０１９４】３．Ｒ⁴ ＝カルボキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：５００ｎｍ（５．１０ｘ１０³ ，水） ｎｍ：６６０−７１０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１３％（２２ｍｍ
ｏｌ）

【０１９５】４．Ｒ⁴ ＝３，４，５−トリメトキシフェ
ニル ａ）Ｒ³ ＝４−メトキシフェニル ＵＶ：５００ｎｍ（９．４４ｘ１０³ ，水） ｎｍ：６７０−７２０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：２０％（２２ｍｍ
ｏｌ）

【０１９６】Ｏ．４−フェニル−５−カルボメトキシチ
アゾール−２−イル １．Ｒ⁴ ＝４−カルボキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：５００ｎｍ（７．８２ｘ１０³ ，水） ｎｍ：６７０−７２０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１４％（２２ｍｍ
ｏｌ）

【０１９７】２．Ｒ⁴ ＝４−フェニル ａ）Ｒ³ ＝４−メトキシフェニル ｎｍ：６５０−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１４％（９．４ｍ
ｍｏｌ） ｂ）Ｒ³ ＝３，４−チエチル ＵＶ：４８０ｎｍ（８．７６ｘ１０³ ，水） ｃ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：５００ｎｍ（６．１８ｘ１０³ ，水）

【０１９８】Ｐ．４−カルボメトキシ−５−エチルチア
ゾール−２−イル １．Ｒ⁴ ＝３，４，５−トリメトキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝３−チエニル ＵＶ：５００ｎｍ（７．３８ｘ１０³ ，水） ｎｍ：６４０−６９０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１４％（８．３ｍ
ｍｏｌ）

【０１９９】２．Ｒ⁴ ＝３，４，５−トリメトキシフェ
ニル ａ）Ｒ³ ＝４−メトキシフェニル ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１４％（８．３ｍ
ｍｏｌ） ｂ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：４９０ｎｍ（７．９６ｘ１０³ ，水） ｎｍ：６５０−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：８％（８．３ｍｍ
ｏｌ）

【０２００】３．Ｒ⁴ ＝３，４−ジメトキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：４９０ｎｍ（５．２６ｘ１０³ ，水） ｎｍ：６６５−７１５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：５％（８．３ｍｍ
ｏｌ） ｂ）Ｒ³ ＝３−チエニル ｎｍ：６３５−６８５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１１％（８．３ｍ
ｍｏｌ）

【０２０１】Ｑ．４，５−ビス（４−メトキシフェニ
ル）チアゾール−２−イル １．Ｒ⁴ ＝４−カルボキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝２−チエチル（ＫＪＥ１２６４） ＵＶ：６２３（１１．６ｘ１０³ ，水） ｎｍ：６６０−７１０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：９％（１４ｍｍｏ
ｌ）

【０２０２】Ｒ．４，５−ジフェニルチアゾール−２−
イル １．Ｒ⁴ ＝カルボキシニフェル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：４９０ｎｍ（１２．９ｘ１０³ ，水） ｎｍ：６３０−６８０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１６％（１５ｍｍ
ｏｌ） ｂ）Ｒ³ ＝４−メトキシフェニル ＵＶ：６１３ｎｍ（８．６６ｘ１０³ ，水） ｎｍ：６３０−６８０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１７％（８ｍｍｏ
ｌ） ｃ）Ｒ³ ＝２−チエチル ＵＶ：６０２ｎｍ（８．２２ｘ１０³ ，水） ｎｍ：６３５−６８５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１８％（９ｍｍｏ
ｌ） ｄ）Ｒ³ ＝３−チエチル ＵＶ：５９９ｎｍ（１１．８ｘ１０³ ，水） ｅ）Ｒ³ ＝４−フルオロフェニル ＵＶ：５９２ｎｍ（１３．６ｘ１０³ ，水） ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１１％（３３ｍｍ
ｏｌ） ｆ）Ｒ³ ＝４−ヒドロキシフェニル ＵＶ：６２０ｎｍ（１１．２ｘ１０³ ，水）

【０２０３】２．Ｒ⁴ ＝フェニル ａ）Ｒ³ ＝２−チエチル ＵＶ：５７１ｎｍ（９ｘ１０³ ，水） ｎｍ：６４０−６９０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：４％（１４ｍｍｏ
ｌ）

【０２０４】３．Ｒ⁴ ＝３−ピリジル ａ）Ｒ³ ＝４−メトキシフェニル ＵＶ：５８９ｎｍ（１１．８ｘ１０³ ，水） ｎｍ：６２０−６７０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１５％（１５ｍｍ
ｏｌ）

【０２０５】４．Ｒ⁴ ＝８−キノリル ａ）Ｒ³ ＝フェニル ＵＶ：６０７ｎｍ（１４．４ｘ１０³ ，水） ｎｍ：６２０−６８０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：２１％（１５ｍｍ
ｏｌ）

【０２０６】５．Ｒ⁴ ＝４−ニトロナフチル ａ）Ｒ³ ＝３−チエニル ＵＶ：６９６ｎｍ（１０．４ｘ１０³ ，水） ｎｍ：６２０−６７０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１２％（１４ｍｍ
ｏｌ）

【０２０７】６．Ｒ⁴ ＝４−スルホフェニル ａ）Ｒ³ ＝２−チエニル ＵＶ：６１０ｎｍ（６．０ｘ１０³ ，水）

【０２０８】７．Ｒ⁴ ＝３，５−ジカルボキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ＵＶ：５９７ｎｍ（５．２ｘ１０³ ，水） ｎｍ：６２０−６７０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：７％（１４ｍｍｏ
ｌ）

【０２０９】Ｓ．４−フェニルチアゾ−２−イル １．Ｒ⁴ ＝３，４，５−トリメトキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ｎｍ：６４５−６９５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：２８％（８．３ｍ
ｍｏｌ）

【０２１０】２．Ｒ⁴ ＝４−カルボキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ｎｍ：６２０−６７０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１１％（８．３ｍ
ｍｏｌ） ｂ）Ｒ³ ＝４−メチルフェニル

【０２１１】Ｔ．４（ｐ−フルオロフェニル）チアゾー
ル−２−イル １．Ｒ⁴ ＝３，４，５−トリメトキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ｎｍ：６４５−６９５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１９％（８．３ｍ
ｍｏｌ）

【０２１２】２．Ｒ⁴ ＝４−カルボキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１２％（８．３ｍ
ｍｏｌ）

【０２１３】Ｕ．４−フェニル−５−メチルチアゾール
−２−イル １．Ｒ⁴ ＝３，４，５−トリメトキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：２２％（８．３ｍ
ｍｏｌ）

【０２１４】２．Ｒ⁴ ＝４−カルボキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝２−チエニル ｎｍ：６００−６５０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１０％（１０．３
ｍｍｏｌ） ｂ）Ｒ³ ＝４−メチルフェニル ｎｍ：５８０−６３０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：５％（１０．３ｍ
ｍｏｌ）

【０２１５】Ｖ．４−ナフチル−５−フェニルチアゾー
ル−２−イル １．Ｒ⁴ ＝４−カルボキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ｎｍ：６２０−６７０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１０％（８．３ｍ
ｍｏｌ） ｂ）Ｒ³ ＝２−チエチル ｎｍ：６００−６５０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：４％（１０．３ｍ
ｍｏｌ）

【０２１６】Ｗ．４−スチリル−５−フェニルチアゾー
ル−２−イル １．Ｒ⁴ ＝３，４，５−トリメトキシフェニル ａ）Ｒ³ ＝３，４−メチレンジオキシフェニル ｎｍ：６７０−７２０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：２１％（１０．３
ｍｍｏｌ）

【０２１７】本発明を、上記に特定的に説明し、例示し
た。本発明のその他の変更及び修正は、本発明の精神及
び範囲を逸脱しない限りにおいてなされ得る。

【図面の簡単な説明】

【図１】種々のグルコース濃度での、テトラゾリウム塩
ＩＮＴを還元した場合に生じたホルマザン反射スペクト
ルを示す図である。

【図２】種々のグルコース濃度での、テトラゾリウム塩
ＭＴＴを還元した場合に生じたホルマザン反射スペクト
ルを示す図である。

【図３】種々のグルコース濃度での、テトラゾリウム塩
ＮＢＴを還元した場合に生じたホルマザン反射スペクト
ルを示す図である。

【図４】種々のグルコース濃度での、２−（ベンゾチア
ゾール−２−イル）−３−（１−ナフチル）−５−フェ
ニルテトラゾリウム塩（ＵＳＳＲ）を還元した場合に生
じたホルマザン反射スペクトルを示す図である。

【図５】本発明の指示薬化合物ＭＢＬ１０からのホルマ
ザンの対応するスペクトルを示す図である。

【図６】本発明の指示薬化合物ＨＣＴ１５からのホルマ
ザンの対応するスペクトルを示す図である。

【図７】本発明の指示薬化合物ＬＮＨ８２からのホルマ
ザンの対応するスペクトルを示す図である。

【図８】本発明の指示薬化合物ＨＴＣ５７からのホルマ
ザンの対応するスペクトルを示す図である。

【図９】本発明の指示薬化合物ＨＴＣ４２からのホルマ
ザンの対応するスペクトルを示す図である。

【図１０】本発明の指示薬化合物ＨＴＣ４１からのホル
マザンの対応するスペクトルを示す図である。

【図１１】本発明の指示薬化合物ＬＮＨ５０からのホル
マザンの対応するスペクトルを示す図である。

【図１２】本発明の指示薬化合物ＫＪＥ１６６７からの
ホルマザンの対応するスペクトルを示す図である。

【図１３】本発明の指示薬化合物ＫＪＥ１７４５からの
ホルマザンの対応するスペクトルを示す図である。

【図１４】本発明の指示薬化合物ＴＨＣ４５からのホル
マザンの対応するスペクトルを示す図である。

【図１５】本発明の指示薬化合物ＫＪＥ１６８９からの
ホルマザンの対応するスペクトルを示す図である。

【図１６】本発明の指示薬化合物ＫＪＥ１２６４からの
ホルマザンの対応するスペクトルを示す図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ナン−ホーン・リン アメリカ合衆国、イリノイ州、60060、 マンデライン、ナイツブリッジ 220 (72)発明者 スコット・ルッテン アメリカ合衆国、インデイアナ州、 46530、グレンジャー、コパー・チェイ ス・コート 1004 (72)発明者 クラウス・ヴェーリンク ドイツ連邦共和国、ヴッペルタル １、 ディー−5600、アム・ローム 121 (56)参考文献 特開 昭61−84（ＪＰ，Ａ) 国際公開88／8882（ＷＯ，Ａ１) 西独国実用新案2147466（ＤＥ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G01N 33/50 G01N 31/22 122 G01N 33/52

Claims (11)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 試料を、（ａ）分析対象物と反応して還
   元物質を生成する試薬、及び（ｂ）上記還元物質により
   還元されて色原性染料物質を生成する指示試薬化合物を
   含有する試験組成物と混和した固体担体マトリックスを
   包含する試験具と接触させ、そして製造のばらつきや温
   度効果により変動する、６００nmを超える中心波長を有
   する光源で担体マトリックスを照射し、検出器構成分で
   反射光を測定することにより担体マトリックスの反射率
   を検知することによって色原性染料物質を測定する液体
   試料中の分析対象物の測定方法において、 上記指示試薬化合物として式Ａ： 【化１】 （式中、（ａ）Ｒ¹ 及びＲ² は一緒になって、置換され
   ていてもよいベンゾ環を形成し、あるいは （ｂ）Ｒ¹ はカルボキシル、カルボアルコキシ、カルボ
   アリールオキシ、カルバモイル、又はシアノであり、Ｒ
   ² はアルキル又はクロロであるか、あるいは （ｃ）Ｒ¹ はアルキル又はアリールであり、Ｒ² はカル
   ボキシル、カルボアルコキシ、カルボアリールオキシ、
   又はシアノであるか、あるいは （ｄ）Ｒ¹ はフルオロ置換基が式中のチアゾリル残基に
   隣接する炭素上にあるジ又はトリフルオロアルキルであ
   り、Ｒ² はクロロである、あるいは （ｅ）Ｒ¹ 又はＲ² の一方又は両方が置換又は非置換フ
   ェニルであり、一方のみが置換又は非置換フェニルであ
   る場合は他方は水素又はアルキルであり； Ｒ³ はアリール又はスチリルであり、Ｒ⁴ はアリールで
   あり、そしてＸ^-は対陰イオンである）のチアゾリルテ
   トラゾリウム塩（ここで、該テトラゾリウム塩が、還元
   性物質により対応するホルマザンに還元された際、該ホ
   ルマザンの反射率の変化量は、６００nm以上の波長にお
   いて、５０nm波長スパンにわたり１７％未満である）を
   用いることを含む改良された測定方法。
2. 【請求項２】 Ｒ¹ 及びＲ² が一緒になって、非置換の
   ベンゾ環を形成する請求項１記載の方法。
3. 【請求項３】 Ｒ¹ 及びＲ² が一緒になってベンゾ環を
   形成して、式Ａ１： 【化２】 （式中、（ｉ）Ｒ⁵ 及びＲ⁶ 、又はＲ⁶ 及びＲ⁷ 、又は
   Ｒ⁷ 及びＲ⁸ は一緒になって、アルコキシ、アリールオ
   キシ、アルキル、アミド、アルキルアミド、アリールア
   ミド、アルキルチオ、アリールチオ、アミノ、カルバモ
   イル、カルボアルコキシ、シアノ、ハロ、ヒドロキシ
   ル、スルホ、スルホンアミド、スルファモイル、トリア
   ルキルアンモニオ、又はウレイドで置換されることもあ
   るベンゾ又はシクロヘキシル環を形成し、そしてその他
   は、同一であっても異なってもよく、水素、アルコキ
   シ、アリールオキシ、アルキル、アミド、アルキルアミ
   ド、アリールアミド、アルキルチオ、アリールチオ、ア
   ミノ、カルバモイル、カルボアルコキシ、シアノ、ハ
   ロ、ヒドロキシル、スルホ、スルホンアミド、スルファ
   モイル、トリアルキルアンモニオ、又はウレイドである
   が、但しＲ⁶ 及びＲ⁷ は一緒になってベンゾ又はシクロ
   ヘキシル環を形成し、Ｒ⁵ は水素でない、あるいは （ｉｉ）Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 及びＲ⁸ のうちの一つ又はそ
   れ以上がアルコキシ、アリールオキシ、アルキル、アミ
   ド、アルキルアミド、アリールアミド、アルキルチオ、
   アリールチオ、アミノ、カルバモイル、カルボアルコキ
   シ、シアノ、ハロ、ヒドロキシル、スルホ、スルホンア
   ミド、スルファモイル、トリアルキルアンモニオ、又は
   ウレイドであり、その他が、もしあれば、水素である）
   を有するベンゾチアゾリル残基を生じる請求項１記載の
   方法。
4. 【請求項４】 （ａ）Ｒ¹ がカルボキシル、カルボアル
   コキシ、カルボアリールオキシ、カルバモイル、又はシ
   アノであり、Ｒ² がアルキル又はクロロであるか、ある
   いは （ｂ）Ｒ¹ がアルキル又はアリールであり、Ｒ² がカル
   ボキシル、カルボアルコキシ、カルボアリールオキシ、
   カルバモイル、又はシアノであるか、あるいは （ｃ）Ｒ¹ がフルオロ置換基が式中のチアゾリル残基に
   隣接する炭素上にあるジ又はトリフルオロアルキルであ
   り、Ｒ² はクロロである請求項１記載の方法。
5. 【請求項５】 Ｒ¹ 及びＲ² の一方又は両方が非置換フ
   ェニルであるか、又は独立してアルコキシ、アリールオ
   キシ、アルキル、アミド、アルキルアミド、アリールア
   ミド、アルキルチオ、アリールチオ、アミノ、カルバモ
   イル、カルボアルコキシ、カルボアリールオキシ、カル
   ボキシ、シアノ、ハロ、ニトロ、スルホ、スルホンアミ
   ド、スルファモイル、トリアルキルアンモニオ、又はウ
   レイドで置換されるフェニルであり、１個のみが置換又
   は非置換フェニルである場合は、他方は水素、アルキ
   ル、又はクロロである請求項１記載の方法。
6. 【請求項６】 Ｒ³ が以下の： （ａ₁ ）式Ｂ： 【化３】 （式中、Ｑは一重結合又は−ＣＨ＝ＣＨ−であり、
   （ｉ）Ｙ¹ はアルコキシ、アリールオキシ、アルキル、
   アミド、アルキルアミド、アリールアミド、アルキルチ
   オ、アリールチオ、ハロ、又は水素であり、Ｙ² はアル
   コキシ、アリールオキシ、アルキル、アミド、アルキル
   アミド、アリールアミド、アルキルチオ、アリールチ
   オ、アミノ、カルバモイル、カルボアルコキシ、カルボ
   キシル、シアノ、ハロ、水素、ニトロ、スルホ、スルホ
   ンアミド、スルファモイル、トリアルキルアンモニオ、
   又はウレイドであり、Ｙ³ はアルコキシ、アリールオキ
   シ、アルキル、アミド、アルキルアミド、アリールアミ
   ド、アルキルチオ、アリールチオ、カルバモイル、カル
   ボアルコキシ、カルボアリールオキシ、カルボキシル、
   シアノ、ハロ、水素、ヒドロキシル、ニトロ、スルホ、
   スルホンアミド、スルファモイル、トリアルキルアンモ
   ニオ、又はウレイドであり、Ｙ⁴ はアルコキシ、ハロ、
   又は水素であるか、あるいは（ｉｉ）Ｙ² 及びＹ³ が一
   緒になってメチレンジオキシ又はイミダゾを形成し、Ｙ
   ¹ 及びＹ⁴ が水素である）、 （ｂ₁ ）２−、３−、又は４−ピリジル、 （ｃ₁ ）２−又は３−チエニル、及び （ｄ₁ ）２−又は３−フラニル から選択され、そしてＲ⁴ が以下の： （ａ₂ ）式Ｃ： 【化４】 （式中、Ｙ⁵ はアルコキシ、アリールオキシ、アルキ
   ル、アミド、アルキルアミド、アリールアミド、アルキ
   ルチオ、アリールチオ、ハロ、水素、ニトロ、又はウレ
   イドであり、Ｙ⁶ はアルコキシ、アリールオキシ、アル
   キル、アミド、アルキルアミド、アリールアミド、アル
   キルチオ、アリールチオ、カルバモイル、カルボアルコ
   キシ、カルボキシル、シアノ、ハロ、水素、ニトロ、ス
   ルホ、スルホンアミド、スルファモイル、トリアルキル
   アンモニオ、又はウレイドであり、Ｙ⁷ はアルコキシ、
   アリールオキシ、アミド、アルキルアミド、アリールア
   ミド、アルキルチオ、アリールチオ、カルバモイル、カ
   ルボアルコキシ、カルボキシル、シアノ、水素、ヒドロ
   キシル、ニトロ、フェニルアゾ、スルホ、スルホンアミ
   ド、スルファモイル、又はウレイドであり、Ｙ⁸ はアル
   コキシ、アリールオキシ、アルキル、ハロ、水素又はニ
   トロである）、 （ｂ₂ ）式Ｄ： 【化５】 （式中、Ｙ⁹ はアルコキシ、アリールオキシ、アルキ
   ル、アミド、アルキルアミド、アリールアミド、アルキ
   ルチオ、アリールチオ、カルバモイル、カルボアルコキ
   シ、カルボキシル、シアノ、ハロ、水素、ニトロ、フェ
   ニルアゾ、スルホ、スルホンアミド、スルファモイル、
   トリアルキルアンモニオ、又はウレイドである）、 （ｃ₂ ）２−、４−、６−、又は８−キノリル、あるい
   は２−メチルキノリル、及び （ｄ₂ ）アントラニル から選択される請求項１ないし５のいずれか１項に記載
   の方法。
7. 【請求項７】 Ｒ³ が以下の： （ａ₁ ）式Ｅ： 【化６】 （式中、（ｉ）Ｙ² 、Ｙ³ 及びＹ⁴ は各々Ｃ_1-4 アルコ
   キシであり、 （ｉｉ）Ｙ⁴ が水素であり、Ｙ² 及びＹ³ がいずれもＣ
   _1-4 アルコキシであるか、又は一緒になってメチレンジ
   オキシを形成し、あるいは （ｉｉｉ）Ｙ² 及びＹ⁴ がいずれも水素であり、Ｙ³ が
   Ｃ_1-4 アルコキシ、Ｃ_1-4 アルキル、Ｃ_1-4 アルキルア
   ミド、Ｃ_1-4 アルキルチオ、カルバモイル、カルボ（Ｃ
   _1-4 ）アルコキシ、カルボキシル、シアノ、ハロ、水
   素、ニトロ、トリ（Ｃ_1-4 ）アルキルアンモニオ、又は
   ウレイドである）、及び （ｂ₁ ）２−又は３−チエニルから選択され、そしてＲ
   ⁴ が以下の： （ａ₂ ）式Ｃ： 【化７】 （式中、（ｉ）Ｙ⁵ は水素であり、Ｙ⁶ 、Ｙ⁷ 、及びＹ
   ⁸ は各々Ｃ_1-4 アルコキシであり、（ｉｉ）Ｙ⁵ 及びＹ
   ⁸ はいずれも水素であり、Ｙ⁶ 及びＹ⁷ はいずれもＣ
   _1-4 アルコキシであるか、又は一緒になってメチレンジ
   オキシを形成し、（ｉｉｉ）Ｙ⁵ 、Ｙ⁶ 及びＹ⁸ は各々
   水素であり、Ｙ⁷ はＣ_1-4 アルコキシ、Ｃ_1-4 アルキル
   アミド、Ｃ_1-4 アルキルチオ、ベンズアミド、カルバモ
   イル、カルボ（Ｃ_1-4 ）アルコキシ、カルボキシル、シ
   アノ、ニトロ、ヒドロキシ、フェニルアゾ、スルホ、ス
   ルホンアミド、スルファモイル、又はウレイドであり、
   （ｉｖ）Ｙ⁵ はアルコキシ又はアルキルであり、Ｙ⁶ 及
   びＹ⁸ はいずれも水素であり、Ｙ⁷ はＣ_1-4 アルコキ
   シ、Ｃ_1-4 アルキルアミド、Ｃ_1-4 アルキルチオ、ベン
   ズアミド、カルバモイル、カルボ（Ｃ_1-4 ）アルコキ
   シ、カルボキシル、シアノ、水素、ニトロ、フェニルア
   ゾ、又はウレイドであり、（ｖ）Ｙ⁵ 及びＹ⁸ はＣ_1-4
   アルコキシであり、あるいは（ｖｉ）Ｙ⁵ 及びＹ⁸ はＣ
   _1-4 アルコキシであり、Ｙ⁷ はＣ_1-4 アルキルアミド又
   はベンズアミドである）、及び （ｂ₂ ）式Ｄ： 【化８】 （式中、Ｙ⁹ はＣ_1-4 アルコキシ、Ｃ_1-4 アルキル、Ｃ
   _1-4 アルキルアミド、Ｃ_1-4 アルキルチオ、ベンズアミ
   ド、シアノ、ハロ、水素、ニトロ、スルホ、スルホンア
   ミド、又はウレイドである）、及び （ｃ₂ ）８−キノリルから選択される請求項１ないし５
   のいずれか１項に記載の方法。
8. 【請求項８】 Ｒ³ が以下の： ３，４，５−トリメトキシフェニル、３，４−ジメトキ
   シフェニル、３，４−メチレンジオキシフェニル、４−
   メトキシフェニル、４−アセトアミドフェニル、及び４
   −メチルチオフェニルから選択され、Ｒ⁴ が以下の：
   ３，４，５−トリメトキシフェニル、３，４−ジメトキ
   シフェニル、２，４−ジメトキシフェニル、３，４−メ
   チレンジオキシフェニル、４−メトキシフェニル、４−
   アセトアミドフェニル、４−メチルチオフェニル、４−
   カルボキシフェニル、４−ニトロフェニル、２−メトキ
   シフェニル、２−メトキシ−４−カルボキシフェニル、
   ２，５−ジメトキシフェニル、２，５−ジメトキシ−４
   −ベンズアミドフェニル、１−ナフチル、４−ニトロ−
   １−ナフチル、４−メトキシ−１−ナフチル、８−キノ
   リル、２−メチル−４−カルボキシフェニル、４−カル
   ボメトキシフェニル、４−シアノフェニル、及び４−シ
   アノ−１−ナフチルから選択される請求項１ないし５の
   いずれか１項に記載の方法。
9. 【請求項９】 検出器要素に達する光が狭波長バンドか
   らなり、その中心波長が約±５ｎｍを上回る変動に感受
   性である請求項１記載の方法。
10. 【請求項１０】 上記光源がＬＥＤである請求項９記載
    の方法。
11. 【請求項１１】 上記還元物質がＮＡＤＨである請求項
    １記載の方法。