JP3064979B2 - Dicing method for semiconductor wafer - Google Patents

Dicing method for semiconductor wafer

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JP3064979B2
JP3064979B2 JP22216397A JP22216397A JP3064979B2 JP 3064979 B2 JP3064979 B2 JP 3064979B2 JP 22216397 A JP22216397 A JP 22216397A JP 22216397 A JP22216397 A JP 22216397A JP 3064979 B2 JP3064979 B2 JP 3064979B2
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stretching
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置の製造方
法に関し、特に主面にバンプが付いた半導体チップをフ
ェイスダウンにて実装する半導体装置における半導体ウ
ェハのダイシング方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a semiconductor device, and more particularly to a method of dicing a semiconductor wafer in a semiconductor device in which a semiconductor chip having bumps on its main surface is mounted face down.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の半導体装置は、半導体ウェハ(以
下、ウェハと称する)に多数の素子を形成し、これを個
々に分離して半導体のチップを形成し、このチップをリ
ードフレームやパッケージ上に搭載し、所要の電気接続
を行うとともに、樹脂やセラミック等により封止する構
成がとられている。このような半導体装置の製造に際し
ては、前記したウェハを個々のチップに分離するダイシ
ング工程が必要であり、従来では、ウェハの一方の面を
粘着テープに貼り付けておき、ウェハの他方の面からダ
イシングブレードで切断分離する手法がとられている
が、このウェハを貼り付ける面を素子が形成されている
主面側にするか、反対側の裏面側にするかの違いで、異
なる方法が提案されている。
2. Description of the Related Art In a conventional semiconductor device, a large number of elements are formed on a semiconductor wafer (hereinafter, referred to as a wafer), and these are individually separated to form a semiconductor chip, and this chip is mounted on a lead frame or package. To perform required electrical connection and sealing with resin, ceramic, or the like. In manufacturing such a semiconductor device, a dicing step for separating the wafer into individual chips is necessary. Conventionally, one surface of the wafer is attached to an adhesive tape, and the other surface of the wafer is separated from the other surface. A method of cutting and separating with a dicing blade is used, but different methods are proposed depending on whether the surface to which this wafer is attached is on the main surface side where the elements are formed or on the opposite back side. Have been.

【0003】例えば、特開平4−298063号公報に
よるウェハのダイシング方法では、図4(a)のよう
に、素子が形成されているウェハ101の主面を、フレ
ーム103が貼り付けられたUVテープ102に貼付け
し、ウェハ101の裏面からダイシングプレード103
でフルカットダイシングし、チップ101Aに分離す
る。なお、この分離後は、UVテープ102にUV光を
照射し粘着力を弱めた後に、図4(b)のように、チッ
プエジェクタ105によって実装するチップ101Aを
UVテープ102の下側から突き上げ、上方からビック
アップコレット106でチップ101Aの裏面を吸着す
る。その後、図4(c)のように、ピックアップコレッ
ト106によりチップ101Aをリードフレーム107
上にまで搬送し、リードフレーム107上に押圧して超
音波ボンディング法等によりチップ101Aの主面に形
成されている図外の電極をリードフレーム面に接続す
る。
For example, in a wafer dicing method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-298063, as shown in FIG. 4A, a main surface of a wafer 101 on which elements are formed is bonded to a UV tape to which a frame 103 is attached. A dicing blade 103 from the back side of the wafer 101
And cut into chips 101A. After the separation, the UV tape 102 is irradiated with UV light to weaken the adhesive force, and then the chip 101A mounted by the chip ejector 105 is pushed up from below the UV tape 102 as shown in FIG. The back surface of the chip 101A is sucked by the big collet 106 from above. Thereafter, as shown in FIG. 4C, the chip 101A is attached to the lead frame 107 by the pickup collet 106.
The chip is conveyed upward, pressed onto the lead frame 107, and an electrode (not shown) formed on the main surface of the chip 101A is connected to the lead frame surface by an ultrasonic bonding method or the like.

【0004】しかしながら、このダイシング方法では、
ダイシング時にチップ主面の配線に切削屑が付着するこ
とを防ぐことができないため、電極にバンプを有するチ
ップでは、バンプ剥がれやルーズコンタクトを防ぐこと
ができないという問題がある。すなわち、近年における
移動体通信機器などの民生用電子機器は小型軽量が追求
され、低価格にて市場に提供されている。したがってそ
の内部に実装される半導体装置は小型薄型化とともに経
済性も厳しく要求されている。このように小型薄型化の
半導体装置としてはバンプ(金属バンプ)を用いたフェ
ースダウン構造の半導体装置が好ましい。しかしなが
ら、この種のバンプは、高さ20〜40μm、直径約1
00μmの球状、あるいはタブ状の金属が用いられるた
め、バンプが形成されているウェハの主面側に前記UV
テープを貼り付けてダイシングを行うと、バンプによっ
てできるUVテープとウェハ主面の間の空間にダイシン
グ時の純水が入り込み、同時に細かい切削粒子も入り込
む。また、ダイシング後の乾燥処理において、テープと
チップ主面の間の空間の洗浄と乾燥が充分できないこと
も理由である。さらに、バンプ側にUVテープを貼り付
けてダイシングあるいはチップ背面の角を切削するた
め、チップもしくはテープにダイシングの負荷を掛ける
ので、チップとバンプの界面に応力が働き、チッピング
が生じ易いことにもよる。
However, in this dicing method,
Since it is impossible to prevent cutting chips from adhering to the wiring on the chip main surface during dicing, there is a problem in that a chip having a bump on an electrode cannot prevent bump peeling or loose contact. That is, in recent years, consumer electronic devices such as mobile communication devices have been pursued to be smaller and lighter and have been offered to the market at lower prices. Therefore, the semiconductor device mounted inside the semiconductor device is strictly required to be small and thin and to be economical. As such a small and thin semiconductor device, a semiconductor device having a face-down structure using bumps (metal bumps) is preferable. However, bumps of this type have a height of 20-40 μm and a diameter of about 1 μm.
Since a spherical or tab-shaped metal of 00 μm is used, the UV
When the tape is attached and dicing is performed, pure water at the time of dicing enters the space between the UV tape formed by the bumps and the main surface of the wafer, and fine cutting particles enter at the same time. Another reason is that in the drying process after dicing, the space between the tape and the main surface of the chip cannot be sufficiently washed and dried. Furthermore, since a dicing load is applied to the chip or tape to apply dicing or cutting the corner of the chip back by attaching a UV tape to the bump side, stress acts on the interface between the chip and the bump, and chipping is likely to occur. According to

【0005】これに対し、特開平4ー58547号公報
によるウェハのダイシング方法では、図5(a)のよう
に、素子が形成されていないウェハ201の裏面を、第
1フレーム203を貼り付けた第1UVテープ202に
貼付け、素子が形成されているウェハ201の主面側か
らダイシングプレード204でウェハ201を全厚さに
わたってフルカットダイシングし、個々のチップ201
Aに分離する。その後、図5(b)のように、ウェハ2
01の主面に第2フレーム206を貼り付けた第2UV
テープ205を貼り付ける一方、ウェハ201の裏面か
らUV光を放射し、第1UVテープ202の粘着力を弱
めた上で図5(c)のようにウェハ201の裏面の第1
UVテープ202を剥がす。次に、図5(d)のよう
に、第2UVテープ205に保持されたウェハ201の
裏面を、刃の厚い第2のダイシングプレード207で削
り取っている。これにより最初のダイシング時に形成さ
れたチップ201Aの裏面に生じるチッピングXを除去
する。
On the other hand, in the wafer dicing method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 4-58547, as shown in FIG. 5A, a first frame 203 is attached to the back surface of a wafer 201 on which no elements are formed. The wafer 201 is affixed to the first UV tape 202 and full-cut diced from the main surface side of the wafer 201 on which the elements are formed with a dicing blade 204 over the entire thickness.
Separate into A. Thereafter, as shown in FIG.
01 with a second frame 206 attached to the main surface of
While affixing the tape 205, UV light is emitted from the back surface of the wafer 201 to weaken the adhesive force of the first UV tape 202, and then the first UV tape 202 as shown in FIG.
Peel off the UV tape 202. Next, as shown in FIG. 5D, the back surface of the wafer 201 held by the second UV tape 205 is scraped off by a second dicing blade 207 having a thick blade. Thus, chipping X generated on the back surface of the chip 201A formed at the time of the first dicing is removed.

【0006】このダイシング方法では、主面にバンプが
形成されているウェハに適用した場合でも、ダイシング
時にはウェハの主面側が開放されているため、前記した
ようなチップ主面の配線に切削屑が付着することを防止
する上で有効であり、かつバンプ剥がれやルーズコンタ
クトを防ぐ上で有効である。しかしながら、チッピング
がウェハ側に残り易いため、チップを第2のダイシング
ブレードで削り取る工程が必要であり、この第2のダイ
シングブレードによる工程時間が長いために、製造効率
が極めて悪いものとなる。また、前記第1の従来技術と
同様であるが、ウェハの周辺部に存在する素子が形成さ
れていない無効チップがテープ上に残されることになる
ため、後工程においてチップをリードフレーム等に搭載
する際に、有効チップと無効チップを観察しながら区分
けしてチップのハンドリングを行う作業が必要となり、
実装作業が煩雑なものとなり易い。
In this dicing method, even when the present invention is applied to a wafer having a bump formed on the main surface, since the main surface side of the wafer is open at the time of dicing, cutting chips are formed on the wiring on the chip main surface as described above. This is effective in preventing adhesion, and is effective in preventing bump peeling and loose contact. However, since chipping is likely to remain on the wafer side, a step of shaving chips with a second dicing blade is required. Since the process time of the second dicing blade is long, manufacturing efficiency is extremely poor. Also, similar to the first prior art, an ineffective chip on the peripheral portion of the wafer, on which no element is formed, is left on the tape, so that the chip is mounted on a lead frame or the like in a later process. When doing, it is necessary to perform the task of handling chips while observing valid chips and invalid chips,
Mounting work tends to be complicated.

【0007】そこで、無効チップを除去する技術として
は、特開平3−167839号公報では、図6(a)の
ように、ウェハ301の両面に第1、第2のUVテープ
302,303を貼付け、一方の面、ここでは第2UV
テープ303側からUVテープごとウェハ301をダイ
シングブレード309によりフルカットダイシングし、
個々のチップ301Aに分離する。これにより、ダイシ
ング時の切削屑の飛散を防いでいる。次に、図6(b)
のように、第1、第2マスク304,305を介して第
1、第2紫外線鰐射ランプ306,307からの紫外線
を照射する。これにより、第1UVテープ302のウェ
ハ301の周辺の無効チップ301B部分の粘着力を残
留させ、第2UVテープ303の無効チップ301B部
分の粘着力を低下させる。次に、図6(c)のように、
第2UVテープ303の上から第3テープ308を貼り
付けた上で、この第3テープ308を剥がすと、無効チ
ップ301Bと切断された第2UVテープ303が除去
され、有効チップ301Aが第1UVテープ302に貼
り付けられた状態となる。
As a technique for removing invalid chips, Japanese Patent Laid-Open Publication No. Hei 3-167839 discloses a technique in which first and second UV tapes 302 and 303 are attached to both surfaces of a wafer 301 as shown in FIG. , On one side, here the second UV
Full cut dicing of the wafer 301 together with the UV tape from the tape 303 side by a dicing blade 309,
Separate into individual chips 301A. Thereby, scattering of cutting chips at the time of dicing is prevented. Next, FIG.
As described above, the ultraviolet rays from the first and second ultraviolet alligator lamps 306 and 307 are irradiated through the first and second masks 304 and 305. As a result, the adhesive force of the invalid chip 301B around the wafer 301 of the first UV tape 302 remains, and the adhesive force of the invalid chip 301B of the second UV tape 303 decreases. Next, as shown in FIG.
When the third tape 308 is peeled off after attaching the third tape 308 from above the second UV tape 303, the invalid chip 301B and the cut second UV tape 303 are removed, and the effective chip 301A is attached to the first UV tape 302. It is in a state of being pasted on.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】この第3の技術では、
前記第1の従来技術と同様に1回のダイシングで済み、
かつ無効チップを取り除くことができるが、第3のテー
プが必要であるために、コスト高になる。また、バンプ
が形成されたウェハの場合には、ウェハの裏面側をダイ
シングしたときには前記第1の従来技術と同様な問題が
生じる。また、ウェハの主面側をダイシングしたときに
はチッピング残りが生じ易く、チップをリードフレーム
等に搭載する際にチッピングが異物となって電気的な短
絡事故を生じる原因となる。さらに、前記各従来技術
は、いずれもダイシングした状態でチップが配列されて
いるため、隣接するチップ間の間隔が狭く、各チップを
角錐コレット等によりハンドリングすることができな
い。したがって、平面コレットによりハンドリングせざ
るを得ず、リードフレーム等への搭載時に超音波ボンデ
ィングを実施することが困難であり、信頼性の高いチッ
プボンディングを行うことが難しいという問題がある。
In the third technique,
Only one dicing is required as in the first prior art,
In addition, the invalid chips can be removed, but the cost is high because the third tape is required. Further, in the case of a wafer on which bumps are formed, the same problem as in the first related art occurs when dicing the rear surface side of the wafer. Further, when dicing the main surface side of the wafer, chipping residue is apt to occur, and chipping becomes a foreign matter when mounting a chip on a lead frame or the like, which causes an electrical short circuit accident. Further, in each of the prior arts described above, since the chips are arranged in a diced state, an interval between adjacent chips is narrow, and each chip cannot be handled by a pyramid collet or the like. Therefore, there is a problem that it has to be handled by a flat collet, it is difficult to perform ultrasonic bonding at the time of mounting on a lead frame or the like, and it is difficult to perform highly reliable chip bonding.

【0009】本発明の目的は、製造工程を煩雑化するこ
となく、チッピングの発生を防止するとともに、バンプ
剥がれやルーズコンタクトを防ぎ、しかも無効チップを
除去することが可能なダイシング方法を提供することに
ある。また、本発明の目的は、ダイシングされたチップ
の隣接間隔を大きくし、角錐コレット等によるハンドリ
ングを可能にし、信頼性の高いチップボンディングを行
うことを可能にした半導体ウェハのダイシング方法を提
供することにある。
An object of the present invention is to provide a dicing method capable of preventing occurrence of chipping, preventing peeling of bumps and loose contacts, and removing an invalid chip without complicating a manufacturing process. It is in. Another object of the present invention is to provide a method of dicing a semiconductor wafer, in which the distance between adjacent diced chips is increased, handling by a pyramid collet or the like is enabled, and highly reliable chip bonding can be performed. It is in.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、主面に素子及
びバンプが形成されたウェハの裏面に第1テープを貼り
付ける工程と、前記ウェハを前記主面側からフルカット
ダイシングして個々のチップに分離する工程と、分離さ
れたチップのうち有効チップのみを前記第1テープの裏
面から持ち上げるように前記第1テープを引き伸ばす工
程と、前記第1テープの粘着力を低下させる工程と、第
2テープを前記持ち上げられた有効チップの主面に貼り
付ける工程と、前記第1テープを前記各チップの裏面か
ら引き剥がす工程とを含んでいる。
According to the present invention, there is provided a process of attaching a first tape to a back surface of a wafer having a main surface on which elements and bumps are formed, and performing a full cut dicing of the wafer from the main surface side. Separating the first tape, so as to lift only the effective chips of the separated chips from the back surface of the first tape, and reducing the adhesive force of the first tape, The method includes a step of attaching a second tape to a main surface of the lifted effective chip, and a step of peeling the first tape from the back surface of each chip.

【0011】また、本発明においては、第1テープを引
き伸ばす工程において、断面形状が内周側を頂点とし外
周側に向けて傾斜しており、内周側の項点部がウェハの
中心側に存在する有効チップとウェハの周辺側に存在す
る無効チップとの境界に位置される引伸ばしリングを用
い、この引伸ばしリングを前記第1テープの裏面側から
押圧して第1テープを引伸ばしたときに、前記無効チッ
プが存在する領域の前記第1テープをテープ平面方向に
対して傾斜した状態にすることが好ましい。さらに、第
1テープを引き伸ばす工程において、前記引伸ばしリン
グの外周側よりもさらに外周位置において前記第1テー
プの表面側から押圧するテープ押えリングを用い、この
テープ押さえリングと前記引伸ばしリングとで前記第1
テープの傾斜角度を高めることが好ましい。
Further, in the present invention, in the step of stretching the first tape, the cross-sectional shape is inclined toward the outer periphery with the inner periphery being the apex, and the point on the inner periphery is closer to the center of the wafer. Using a stretching ring located at the boundary between the existing valid chips and the invalid chips existing on the peripheral side of the wafer, the first tape was stretched by pressing the stretching ring from the back side of the first tape. At this time, it is preferable that the first tape in a region where the invalid chip exists is inclined with respect to the tape plane direction. Further, in the step of stretching the first tape, a tape holding ring that presses from the surface side of the first tape at an outer peripheral position further than the outer peripheral side of the stretching ring is used, and the tape holding ring and the stretching ring are used. The first
It is preferable to increase the inclination angle of the tape.

【0012】フルカットダイシングされたウェハが貼り
付けられている第1テープを引き伸ばしする際に、ダイ
シングによって生じたチップ背面のチッピングはチップ
から引き離される。このため、第2テープをチップ主面
に貼り付けた後に第1テープを剥がすと、チップのみが
第2テープへ移り、チッピングは第1テープに残存さ
れ、チッピングを除去できる。また、この第1テープの
引き伸ばしによってチップ間の間隔が拡大され、角錐コ
レット等によるハンドリングを可能にし、信頼性の高い
チップボンディングが可能となる。さらに、第1テープ
を引き伸ばす際にテープを傾斜状態にすることで、無効
チップもテープに沿って傾斜状態となり、第2テープに
貼り付けられることがなく、無効チップを自動的に除去
することが可能となる。
When the first tape to which the full-cut dicing wafer is attached is stretched, chipping on the back surface of the chip caused by dicing is separated from the chip. Therefore, when the first tape is peeled off after the second tape is attached to the chip main surface, only the chip moves to the second tape, and the chipping remains on the first tape, and the chipping can be removed. Further, the expansion of the first tape expands the interval between the chips, enables handling with a pyramid collet or the like, and enables highly reliable chip bonding. Furthermore, when the first tape is stretched, the tape is inclined so that the invalid chips are also inclined along the tape, so that the invalid chips can be automatically removed without being attached to the second tape. It becomes possible.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施形態を図面を
参照して説明する。図1(a)〜(e)および図2
(a)〜(d)は、本発明の第1の実施形態を工程順に
示す断面図である。先ず、図1(a)のように、多数の
素子が形成され、かつ各素子に対応してそれぞれバンプ
2が形成されたウェハ1を、前記バンプ2が形成されて
いる主面を上にむけ、その反対面である背面を下にして
第1UVテープ3の粘着層の上に貼り付ける。また、前
記UVテープ3の粘着層に対しては、第1フレーム4を
前記ウェハ1のセンタを基準に貼り付ける。この時、第
1フレーム4の外周からはみ出す第1UVテープ3を切
り落とす。次いで、図1(b)のように、前記第1フレ
ーム4で保持された前記ウェハ1と第1UVテープ3を
ダイシング装置(図示せず)のチャッキングテーブル5
上に載せ、高速で回転するダイシングプレード6をウェ
ハ1の主面のダイシングライン(図示せず)に沿って移
動させながら前記ウェハ1をその全厚さにわたってフル
カットダイシングする。このダイシング時は、放熱や切
削屑を除去するため、切削部位に純水を掛けながら行な
う。また図示しないが、ダイシング後に純水で洗浄し、
遠心脱水にて乾燥する。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. 1 (a) to 1 (e) and FIG.
(A)-(d) is sectional drawing which shows 1st Embodiment of this invention in order of a process. First, as shown in FIG. 1A, a wafer 1 on which a large number of elements are formed and bumps 2 are formed corresponding to the respective elements is turned upward with the main surface on which the bumps 2 are formed. Then, it is stuck on the adhesive layer of the first UV tape 3 with the back surface opposite to the lower surface facing down. Further, the first frame 4 is attached to the adhesive layer of the UV tape 3 based on the center of the wafer 1. At this time, the first UV tape 3 protruding from the outer periphery of the first frame 4 is cut off. Next, as shown in FIG. 1B, the wafer 1 and the first UV tape 3 held by the first frame 4 are attached to a chucking table 5 of a dicing apparatus (not shown).
The wafer 1 is fully cut dicing over its entire thickness while being moved on a dicing line (not shown) on the main surface of the wafer 1 while the dicing blade 6 rotating at high speed is moved. The dicing is performed while spraying pure water on the cut portion in order to remove heat radiation and cutting chips. Although not shown, after dicing, washing with pure water,
Dry by centrifugal dehydration.

【0014】次に、図1(c)のように、引伸ばしリン
グ7を前記第1UVテープ3の下側から前記ウェハ1の
下向きの主面側に押し当て、その状態で引伸ばしリング
7を上方に押し上げて第1UVテープ3を引伸ばす。前
記引伸ばしリング7の断面形状は、その外周面7bが上
方から下方に向けて拡径されるように傾斜されており、
内周側の頂点部7aが前記第1UVテープ3の裏面に当
接される。また、引伸ばしリング7の前記項点部7a
は、ウェハ1の外周部の素子が形成されている有効チッ
プ1Aと素子が形成されていいない周辺部の無効チップ
1Bの境界に位置している。これにより、前記したよう
に第1UVテープ3を引伸ばした時に、引伸ばしリング
7の内周から第1フレーム4の下側にかけて第1UVテ
ープ3は断面が斜めになり、ウェハ外周部の無効チップ
1Bはテープ3に沿って斜めな状態になる。また、前記
ダイシングによって個々に分離された各チップの背面角
にチッピングXが生じた場合でも、このチッピングXは
前記第1UVテープ3が引き伸ばされることによって各
チップ1A,1Bから離される。
Next, as shown in FIG. 1C, the stretching ring 7 is pressed from below the first UV tape 3 to the downward main surface of the wafer 1, and in this state, the stretching ring 7 is pressed. Push up to stretch the first UV tape 3. The cross-sectional shape of the stretching ring 7 is inclined such that its outer peripheral surface 7b is expanded in diameter from above to below.
The apex 7a on the inner peripheral side is in contact with the back surface of the first UV tape 3. Further, the above-mentioned point portion 7a of the stretching ring 7
Are located at the boundary between an effective chip 1A on the peripheral portion of the wafer 1 on which elements are formed and an invalid chip 1B on the peripheral portion where no elements are formed. As a result, when the first UV tape 3 is stretched as described above, the cross section of the first UV tape 3 becomes oblique from the inner periphery of the stretching ring 7 to the lower side of the first frame 4, and the invalid chip on the outer periphery of the wafer 1B is inclined along the tape 3. Further, even when chipping X occurs at the back corner of each chip separated individually by the dicing, the chipping X is separated from each chip 1A, 1B by stretching the first UV tape 3.

【0015】次に、図1(d)のように、第1UVテー
プ2aの裏面側から紫外線を席射し、第1UVテープ3
の粘着力を低下させる。続いて、図1(e)のように、
第第2フレーム8を貼り付けた第2UVテープ9の粘着
層側を前記第1UVテープ3上のチップ1Aの主面に当
接し、チップ1Aの主面を第2UVテープ9に貼りつけ
る。このとき、第1UVテープ3と共に斜め状態にされ
ている無効チップ1Bには第2UVテープ9が貼り付け
られることはない。しかる上で、図2(a)のように、
前記第1UVテープ3を剥がす。このとき、前記無効チ
ップ1BとチッピングXは第1UVテープ3に接着され
たまま剥がされることになり、結果として有効チップ1
Aのみが第2UVテープ9側に移される。
Next, as shown in FIG. 1D, ultraviolet rays are irradiated from the back side of the first UV tape 2a,
Reduces the adhesive strength of Subsequently, as shown in FIG.
The adhesive layer side of the second UV tape 9 to which the second frame 8 has been attached is brought into contact with the main surface of the chip 1A on the first UV tape 3, and the main surface of the chip 1A is attached to the second UV tape 9. At this time, the second UV tape 9 is not attached to the invalid chip 1B that is inclined with the first UV tape 3. Then, as shown in FIG.
The first UV tape 3 is peeled off. At this time, the invalid chip 1B and the chipping X are peeled off while being bonded to the first UV tape 3, and as a result, the valid chip 1
Only A is transferred to the second UV tape 9 side.

【0016】次に、図2(b)のように、第2UVテー
プ9の裏面側から紫外線を照射し、粘着力を弱める。次
いで、図2(c)のように、第2UVテープ9をチップ
ハンドリング位置に設置し、角錐コレット10により第
2UVテープ9上のチップ1Aの背面を真空吸着してハ
ンドリングする。そして、図2(d)のように、前記チ
ップ1Aを、ボンディングステージ12上のリードフレ
ーム11にまで搬送した上でバンプ2によりフェースダ
ウンボンディングを行い、実装する。このとき、超音波
発生装置13により角錐コレット12を振動させ、バン
プの接続を行うことはこれまでと同様である。
Next, as shown in FIG. 2B, ultraviolet light is irradiated from the back side of the second UV tape 9 to weaken the adhesive force. Next, as shown in FIG. 2C, the second UV tape 9 is set at the chip handling position, and the back surface of the chip 1A on the second UV tape 9 is vacuum-adsorbed and handled by the pyramid collet 10. Then, as shown in FIG. 2D, the chip 1A is transported to the lead frame 11 on the bonding stage 12, and then subjected to face-down bonding using the bumps 2 and mounted. At this time, the pyramid collet 12 is vibrated by the ultrasonic generator 13 to connect the bumps, as in the conventional case.

【0017】この実施形態では、主面に素子及びバンプ
2が形成されたウェハ1の裏面に第1テープ3を貼り付
け、かつこれをフルカットダイシングして個々のチップ
に分離しているので、バンプ2が形成されたウェハ1の
主面に第1テープ3を貼った状態でダイシングされるこ
とがなく、またダイシング後に改めてチップの裏面側を
切削することがないため、ダイシング時におけるバンプ
2への負担がなく、バンプ剥がれを防ぐことができ、し
かも製造工程の簡略化が可能となる。また、ダイシング
後に、有効チップ1Aのみを第1テープ3の裏面から持
ち上げるように第1テープ3を引き伸ばし、その上で持
ち上げられた有効チップ1Aの主面に第2テープ9を貼
り付け、かつ第1テープ3をチップの裏面から引き剥が
しているので、フルカットダイシングにより形成された
複数のチップ1A,1Bが貼り付けられている第1テー
プ3を引き伸ばしする際に、ダイシングによって生じた
チップ背面のチッピングXはチップ1A,1Bから引き
離され、これを除去することが可能となる。さらに、こ
の第1テープ3の引き伸ばしによってチップ間の間隔が
拡大され、角錐コレット10によるハンドリングを可能
にし、信頼性の高いチップボンディングが可能となる。
In this embodiment, the first tape 3 is attached to the back surface of the wafer 1 on which the elements and the bumps 2 are formed on the main surface, and this is separated into individual chips by full-cut dicing. Since the dicing is not performed with the first tape 3 adhered to the main surface of the wafer 1 on which the bumps 2 are formed, and the rear surface of the chip is not cut again after dicing, the dicing is performed on the bumps 2 at the time of dicing. , The bumps can be prevented from peeling, and the manufacturing process can be simplified. Further, after dicing, the first tape 3 is stretched so that only the effective chip 1A is lifted from the back surface of the first tape 3, and the second tape 9 is attached to the main surface of the lifted effective chip 1A. Since the one tape 3 is peeled off from the back surface of the chip, when the first tape 3 to which the plurality of chips 1A and 1B formed by full-cut dicing are adhered is stretched, the back surface of the chip generated by dicing is removed. The chipping X is separated from the chips 1A and 1B, and can be removed. Further, the extension of the first tape 3 enlarges the interval between the chips, enables handling by the pyramid collet 10, and enables highly reliable chip bonding.

【0018】また、第1テープ3を引き伸ばす工程にお
いて、断面形状が内周側の頂点部7aから外周側に向け
た傾斜面7bを有し、かつ前記項点部7aが有効チップ
1Aと無効チップ1Bとの境界に位置されている引伸ば
しリング7を用い、この引伸ばしリング7を第1テープ
3の裏面側から押圧して第1テープ3を引伸ばしたとき
に、無効チップ1Bが存在する領域の前記第1テープ3
をテープ平面方向に対して傾斜した状態にすることによ
り、無効チップ1Bもテープに沿って傾斜状態となり、
第2テープ9に貼り付けられることがなく、無効チップ
1Bを自動的に除去することが可能となる。
Further, in the step of stretching the first tape 3, the cross-sectional shape has an inclined surface 7b extending from the vertex portion 7a on the inner peripheral side to the outer peripheral side, and the terminating portion 7a has the valid chip 1A and the invalid chip When the stretching ring 7 positioned at the boundary with the first tape 3 is pressed from the back surface side of the first tape 3 and the first tape 3 is stretched, the invalid chip 1B is present. Area of the first tape 3
Is inclined with respect to the tape plane direction, so that the invalid chip 1B is also inclined along the tape,
The invalid chip 1B can be automatically removed without being attached to the second tape 9.

【0019】次に、本発明の第2の実施形態を図3を参
照して説明する。図3(a)〜(c)は第2の実施形態
の工程の一部を示す断面図であり、前記第1の実施形態
と等価な部分には同一符号を付してある。この実施形態
では、図3(a)のように、ウェハダイシング後の第1
UVテープ3を引伸ばす工程において、引伸ばしリング
7Aとテープ押さえリング7Bとで第1UVテープ3を
挟み込む構成となっている。前記第1の実施形態と同様
に引伸しリング7Aで第1UVテープ3を引き伸ばした
後、テープ押えリング7Bを第1UVテープ3の反対側
から押圧しでウェハ外周の無効チップ1Bの領域の第1
UVテープ3を斜めの状態とする。前記引伸しリング7
Aの断面形状は、内周部と外周部に凸部7c,7dを有
し外周部の凸部7d厚さは内周部の凸部7cより0.1
〜0.2mm厚くする。したがって、引伸しリング7A
の外周部の凸部7dにて第1UVテープ3を引き伸ばす
ことになる。また、内周部の凸部7cの先端は無効チッ
プ1Bと有効チップ1Aとの境界に位置している。テープ
押えリング7Bは、外径が引伸しリング7Aの外周部の
凸部7dの内側に入り込み、内径が引伸しリング7Aの
内周から充分離れた位置とする。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIGS. 3A to 3C are cross-sectional views showing a part of the process of the second embodiment, and the same reference numerals are given to the portions equivalent to those of the first embodiment. In this embodiment, as shown in FIG.
In the process of stretching the UV tape 3, the first UV tape 3 is sandwiched between the stretching ring 7A and the tape pressing ring 7B. After the first UV tape 3 is stretched by the stretching ring 7A in the same manner as in the first embodiment, the tape pressing ring 7B is pressed from the opposite side of the first UV tape 3 so as to press the first UV tape 3 in the area of the invalid chip 1B around the wafer.
The UV tape 3 is in an oblique state. The expansion ring 7
The cross-sectional shape of A has convex portions 7c and 7d on the inner peripheral portion and the outer peripheral portion, and the thickness of the convex portion 7d on the outer peripheral portion is 0.1% greater than that of the convex portion 7c on the inner peripheral portion.
0.20.2 mm thick. Therefore, the extension ring 7A
The first UV tape 3 is stretched by the convex portion 7d on the outer peripheral portion of the first UV tape 3. Further, the tip of the convex portion 7c on the inner peripheral portion is located at the boundary between the invalid chip 1B and the valid chip 1A. The tape pressing ring 7B has an outer diameter that extends inside the convex portion 7d on the outer peripheral portion of the ring 7A, and an inner diameter that is sufficiently far from the inner periphery of the ring 7A.

【0020】その後、第1UVテープ3の裏面側から紫
外線を照射した後、図3(b)のように、第2UVテー
プ9を貼り付け、さらに図3(c)のように第1UVテ
ープ3を剥がすことにより、無効チップ1Bやチッピン
グXは第1UVテープ3に残り、有効チップ1Aのみが
第2UVテープ9に貼り付けられた状態となる。以降の
工程は前記第1の実施形態と同じである。
Then, after irradiating ultraviolet rays from the back side of the first UV tape 3, a second UV tape 9 is attached as shown in FIG. 3B, and the first UV tape 3 is further applied as shown in FIG. By peeling off, the invalid chips 1B and chipping X remain on the first UV tape 3, and only the valid chips 1A are stuck to the second UV tape 9. Subsequent steps are the same as in the first embodiment.

【0021】この実施形態においても、前記第1の実施
形態と同様に、バンプ剥がれを防止するとともに、工程
の簡略化が実現でき、しかもチッピングを除去するとと
もに、無効チップを自動的に除去することができる。さ
らに、この第2の実施形態では、引伸しリング7aの外
周部を起点として第1UVテープ2aを引伸ばすことに
なるので、引伸し領域を広く取ることができ、引き伸し
の割合が中央部と外周部で比較的均等にでき、チップの
配列も均等にできる。また、テープ押えリング7bに
て、バンプ6が形成されていないウェハ外周部の無効チ
ップ10を充分引き離すことができる利点もある。
In this embodiment as well, similar to the first embodiment, it is possible to prevent the peeling of the bumps, to simplify the process, and to remove chipping and automatically remove invalid chips. Can be. Further, in the second embodiment, the first UV tape 2a is stretched from the outer periphery of the stretching ring 7a as a starting point, so that the stretching area can be made wider, and the stretching ratio can be increased between the central portion and the outer periphery. And the arrangement of chips can be made uniform. There is also an advantage that the tape holding ring 7b can sufficiently separate the invalid chips 10 on the outer peripheral portion of the wafer on which the bumps 6 are not formed.

【0022】[0022]

【発明の効果】以上説明したように本発明は、主面に素
子及びバンプが形成されたウェハの裏面に第1テープを
貼り付け、かつこれをフルカットダイシングして個々の
チップに分離した後、有効チップのみを第1テープの裏
面から持ち上げるように第1テープを引き伸ばし、その
上で第2テープを持ち上げられた有効チップの主面に貼
り付け、かつ第1テープをチップの裏面から引き剥がし
ているので、フルカットダイシングされたウェハが貼り
付けられている第1テープを引き伸ばしする際に、ダイ
シングによって生じたチップ背面のチッピングはチップ
から引き離される。このため、第2テープをチップ主面
に貼り付けた後に第1テープを剥がすと、チップのみが
第2テープへ移り、チッピングは第1テープに残存さ
れ、チッピングを除去できる。また、この第1テープの
引き伸ばしによってチップ間の間隔が拡大され、角錐コ
レット等によるハンドリングを可能にし、信頼性の高い
チップボンディングが可能となる。
As described above, according to the present invention, the first tape is attached to the back surface of the wafer having the elements and the bumps formed on the main surface, and the first tape is separated into individual chips by full-cut dicing. Stretching the first tape so as to lift only the effective chip from the back surface of the first tape, affixing the second tape to the main surface of the lifted effective chip, and peeling the first tape from the back surface of the chip Therefore, when the first tape to which the full-cut dicing wafer is attached is stretched, chipping on the back surface of the chip caused by dicing is separated from the chip. Therefore, when the first tape is peeled off after the second tape is attached to the chip main surface, only the chip moves to the second tape, and the chipping remains on the first tape, and the chipping can be removed. Further, the expansion of the first tape expands the interval between the chips, enables handling with a pyramid collet or the like, and enables highly reliable chip bonding.

【0023】また、本発明においては、第1テープを引
き伸ばす工程において、断面形状が内周側を頂点とし外
周側に向けて傾斜しており、内周側の項点部がウェハの
中心側に存在する有効チップとウェハの周辺側に存在す
る無効チップとの境界に位置される引伸ばしリングを用
い、この引伸ばしリングを第1テープの裏面側から押圧
して第1テープを引伸ばしたときに、無効チップが存在
する領域の前記第1テープをテープ平面方向に対して傾
斜した状態にすることにより、無効チップもテープに沿
って傾斜状態となり、第2テープに貼り付けられること
がなく、無効チップを自動的に除去することが可能とな
る。
Also, in the present invention, in the step of stretching the first tape, the cross-sectional shape is inclined toward the outer periphery with the inner periphery as the apex, and the point on the inner periphery is closer to the center of the wafer. When using a stretching ring positioned at the boundary between an existing effective chip and an invalid chip existing on the peripheral side of the wafer, and pressing the stretching ring from the back side of the first tape to extend the first tape In addition, by making the first tape in a region where an invalid chip is present inclined with respect to the tape plane direction, the invalid chip is also inclined along the tape, without being attached to the second tape, Invalid chips can be automatically removed.

【0024】さらに、本発明では、バンプが形成された
ウェハ主面に第1テープを貼った状態でダイシングされ
ることがなく、またダイシング後に改めてチップの裏面
側を切削することがないため、ダイシング時におけるバ
ンプへの負担がなく、バンプ剥がれを防ぐことができ、
しかも製造工程の簡略化が可能となる。
Furthermore, in the present invention, dicing is not performed with the first tape adhered to the main surface of the wafer on which the bumps are formed, and the back surface of the chip is not cut again after dicing. There is no burden on the bumps at the time, and it is possible to prevent the bumps from peeling,
In addition, the manufacturing process can be simplified.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の半導体ウェハのダイシング方法を工程
順に示す断面図のその1である。
FIG. 1 is a first sectional view showing a semiconductor wafer dicing method of the present invention in the order of steps.

【図2】本発明の半導体ウェハのダイシング方法を工程
順に示す断面図のその2である。
FIG. 2 is a second sectional view showing the semiconductor wafer dicing method of the present invention in the order of steps;

【図3】本発明の他の実施形態の主要工程を示す断面図
である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing main steps of another embodiment of the present invention.

【図4】従来のダイシング方法の第1の方法を工程順に
示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a first method of the conventional dicing method in the order of steps.

【図5】従来のダイシング方法の第2の方法を工程順に
示す断面図である。
FIG. 5 is a sectional view showing a second method of the conventional dicing method in the order of steps.

【図6】従来のダイシング方法の第3の方法を工程順に
示す断面図である。
FIG. 6 is a sectional view showing a third method of the conventional dicing method in the order of steps.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ウェハ 1A 有効チップ 1B 無効チップ 2 バンプ 3 第1UVテープ 4 第1フレーム 6 ダイシングブレード 7,7A 引伸しリング 7B 押えリング 8 第2フレーム 9 第2UVテープ 10 角錐コレット 11 リードフレーム 13 超音波発生装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Wafer 1A Effective chip 1B Invalid chip 2 Bump 3 1st UV tape 4 1st frame 6 Dicing blade 7, 7A Extension ring 7B Holding ring 8 2nd frame 9 2nd UV tape 10 Pyramid collet 11 Lead frame 13 Ultrasonic wave generator

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭58−37932(JP,A) 特開 昭63−286302(JP,A) 特開 平4−30558(JP,A) 特開 昭59−21038(JP,A) 特開 平6−252262(JP,A) 特開 平8−195361(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/301 H01L 21/68 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (56) References JP-A-58-37932 (JP, A) JP-A-63-286302 (JP, A) JP-A-4-30558 (JP, A) JP-A-59-379 21038 (JP, A) JP-A-6-252262 (JP, A) JP-A-8-195361 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H01L 21/301 H01L 21 / 68

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 主面に素子及びバンプが形成された半導
体ウェハの裏面に第1テープを貼り付ける工程と、前記
半導体ウェハを前記主面側からフルカットダイシングし
て個々のチップに分離する工程と、分離されたチップの
うち有効チップのみを前記第1テープの裏面から持ち上
げるように前記第1テープを引き伸ばす工程と、前記第
1テープの粘着力を低下させる工程と、第2テープを前
記持ち上げられた有効チップの主面に貼り付ける工程
と、前記第1テープを前記各チップの裏面から引き剥が
す工程とを含むことを特徴とする半導体ウェハのダイシ
ング方法
1. A step of attaching a first tape to a back surface of a semiconductor wafer having elements and bumps formed on a main surface, and a step of separating the semiconductor wafer into individual chips by full-cut dicing from the main surface side Elongating the first tape so as to lift only effective chips of the separated chips from the back surface of the first tape, reducing the adhesive force of the first tape, and lifting the second tape A dicing method for a semiconductor wafer, comprising: a step of attaching the first tape to a main surface of the obtained effective chip; and a step of peeling the first tape from the back surface of each of the chips.
【請求項2】 前記第1テープは紫外線照射により粘着
力を失う粘着層を有し、前記粘着力を低下させる工程
は、前記第1テープに対して紫外線を照射する工程であ
る請求項1に記載の半導体ウェハのダイシング方法
2. The method according to claim 1, wherein the first tape has an adhesive layer that loses adhesive strength when irradiated with ultraviolet rays, and the step of reducing the adhesive strength is a step of irradiating the first tape with ultraviolet rays. Semiconductor wafer dicing method
【請求項3】 前記第1テープを引き伸ばす工程におい
て、断面形状が内周側を頂点とし外周側に向けて傾斜し
ており、内周側の項点部が前記半導体ウェハの中心側に
存在する有効チップと半導体ウェハの周辺側に存在する
無効チップとの境界に位置される引伸ばしリングを用
い、この引伸ばしリングを前記第1テープの裏面側から
押圧して第1テープを引伸ばしたときに、前記無効チッ
プが存在する領域の前記第1テープをテープ平面方向に
対して傾斜した状態にすることを特徴とする請求項1ま
たは2に記載の半導体ウェハのダイシング方法。
3. In the step of stretching the first tape, the cross-sectional shape is inclined toward the outer periphery with the inner periphery being the apex, and the point on the inner periphery is located at the center of the semiconductor wafer. When using a stretching ring positioned at the boundary between an effective chip and an invalid chip present on the peripheral side of the semiconductor wafer, and pressing the stretching ring from the back side of the first tape to stretch the first tape 3. The method for dicing a semiconductor wafer according to claim 1, wherein the first tape in a region where the invalid chip exists is inclined with respect to a tape plane direction.
【請求項4】 前記第1テープを引き伸ばす工程におい
て、前記引伸ばしリングの外周側よりもさらに外周位置
において前記第1テープの表面側から押圧するテープ押
えリングを用い、このテープ押さえリングと前記引伸ば
しリングとで前記第1テープの傾斜角度を高めることを
特徴とする請求項3に記載の半導体ウェハのダイシング
方法。
4. In the step of stretching the first tape, a tape holding ring that presses from a surface side of the first tape at an outer circumferential position further than an outer circumferential side of the stretching ring is used, and the tape holding ring and the pulling ring are used. 4. The method according to claim 3, wherein an inclination angle of the first tape is increased with a stretching ring.
【請求項5】 前記第1テープに対する紫外線の照射
は、前記引伸ばしリングをマスクとし、この引伸ばしリ
ングの内周領域に対応する第1テープ領域にのみ照射を
行う請求項3または4に記載の半導体ウェハのダイシン
グ方法。
5. The irradiation of the first tape with ultraviolet rays using the stretching ring as a mask and irradiating only the first tape area corresponding to the inner peripheral area of the stretching ring. Semiconductor wafer dicing method.
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