JP3060016B1 - 汚濁物質付着抑制材およびその製造方法 - Google Patents
汚濁物質付着抑制材およびその製造方法Info
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- JP3060016B1 JP3060016B1 JP15754199A JP15754199A JP3060016B1 JP 3060016 B1 JP3060016 B1 JP 3060016B1 JP 15754199 A JP15754199 A JP 15754199A JP 15754199 A JP15754199 A JP 15754199A JP 3060016 B1 JP3060016 B1 JP 3060016B1
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Abstract
【要約】
【課題】 汚濁物質付着抑制材およびその製造方法を提
供する。 【解決手段】 基材と該基材表面に形成された汚濁物質
付着抑制膜とからなる材料であって、該基材は高分子、
セラミックス、金属などのいずれの材質においても、そ
の表面は、５０ｎｍ以上の凸凹差を有することを特徴と
する汚濁物質付着抑制材、基材に予め５０ｎｍ以上の凸
凹差を有する表面を形成し、真空紫外光などにより、該
基材表面を光洗浄した後に、フッ化炭素鎖や長鎖アルキ
ル鎖などを有するシランカップリング剤を該基材表面に
固定化することを特徴とする汚濁物質付着抑制材の製造
方法。 【効果】 基材の表面改質により、はっ水性が著しく向
上し、汚濁物質の付着が著しく抑制される。
供する。 【解決手段】 基材と該基材表面に形成された汚濁物質
付着抑制膜とからなる材料であって、該基材は高分子、
セラミックス、金属などのいずれの材質においても、そ
の表面は、５０ｎｍ以上の凸凹差を有することを特徴と
する汚濁物質付着抑制材、基材に予め５０ｎｍ以上の凸
凹差を有する表面を形成し、真空紫外光などにより、該
基材表面を光洗浄した後に、フッ化炭素鎖や長鎖アルキ
ル鎖などを有するシランカップリング剤を該基材表面に
固定化することを特徴とする汚濁物質付着抑制材の製造
方法。 【効果】 基材の表面改質により、はっ水性が著しく向
上し、汚濁物質の付着が著しく抑制される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規な汚濁物質付
着抑制材およびその製造方法に関するものであり、さら
に詳しくは、歯冠などといった歯科材料などの表面にヤ
ニや歯垢などの汚濁物質の付着を著しく抑制することを
可能とする新しい表面処理技術に関するものである。
着抑制材およびその製造方法に関するものであり、さら
に詳しくは、歯冠などといった歯科材料などの表面にヤ
ニや歯垢などの汚濁物質の付着を著しく抑制することを
可能とする新しい表面処理技術に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】歯の修復部分あるいは義歯の汚れは、食
品や嗜好品中の色素、および細菌性のプラーク（歯垢）
の代謝由来の色素に起因する。好野らは、義歯などの歯
科関連材料表面の汚濁を防止するために、フッ化炭素鎖
を有するシランカップリング剤を用いてそれらの基材表
面を改質した（化学と工業、１９９３年４６巻第１２
号）。得られた表面は処理した基材により異なるが、１
００〜１１５°の高いはっ水性を有し、汚濁物質の付着
が抑制された。
品や嗜好品中の色素、および細菌性のプラーク（歯垢）
の代謝由来の色素に起因する。好野らは、義歯などの歯
科関連材料表面の汚濁を防止するために、フッ化炭素鎖
を有するシランカップリング剤を用いてそれらの基材表
面を改質した（化学と工業、１９９３年４６巻第１２
号）。得られた表面は処理した基材により異なるが、１
００〜１１５°の高いはっ水性を有し、汚濁物質の付着
が抑制された。
【０００３】我が国は急激な高齢化による、老齢者人口
の増加が深刻な社会問題となっている。歯の磨けない寝
たきり老人をはじめ、義歯使用者にとって、義歯などへ
の汚濁物質付着抑制処理は、口腔の清浄化、健康維持に
役立つことが期待される。ところが、従来の方法では、
水滴接触角はたかだか１００〜１１５°であった。この
程度の接触角では、水滴と表面が30％程度接触している
ことになるため、長期間の使用過程で汚濁物質の付着が
生じ、初期性能が低下する問題があった。また、処理過
程が多く、大量の水、有機溶媒を使用するなど、決して
環境に優しい処理プロセスではなかった。
の増加が深刻な社会問題となっている。歯の磨けない寝
たきり老人をはじめ、義歯使用者にとって、義歯などへ
の汚濁物質付着抑制処理は、口腔の清浄化、健康維持に
役立つことが期待される。ところが、従来の方法では、
水滴接触角はたかだか１００〜１１５°であった。この
程度の接触角では、水滴と表面が30％程度接触している
ことになるため、長期間の使用過程で汚濁物質の付着が
生じ、初期性能が低下する問題があった。また、処理過
程が多く、大量の水、有機溶媒を使用するなど、決して
環境に優しい処理プロセスではなかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このような状況に鑑み
て、本発明者らは鋭意研究を進めた結果、材料表面に、
エッチング、ＰＶＤ、メッキ、ＣＶＤなどにより、人工
的に凸凹を形成した後、その表面にフッ化炭素鎖や長鎖
アルキル鎖などを導入すると、はっ水性が著しく向上
し、汚濁物質の付着が著しく抑制されることを見いだ
し、本発明を完成するに至った。本発明は、歯冠などに
優れた耐汚濁物質付着性を付与した歯科用材料などとし
て特に有用な新規な汚濁物質付着抑制材およびその製造
方法を提供するものである。
て、本発明者らは鋭意研究を進めた結果、材料表面に、
エッチング、ＰＶＤ、メッキ、ＣＶＤなどにより、人工
的に凸凹を形成した後、その表面にフッ化炭素鎖や長鎖
アルキル鎖などを導入すると、はっ水性が著しく向上
し、汚濁物質の付着が著しく抑制されることを見いだ
し、本発明を完成するに至った。本発明は、歯冠などに
優れた耐汚濁物質付着性を付与した歯科用材料などとし
て特に有用な新規な汚濁物質付着抑制材およびその製造
方法を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明は、以下の技術的手段から構成される。 （１）表面に凸凹差を形成した基材と該基材表面に形成
された汚濁物質付着抑制膜とからなる材料であって、基
材に凸凹差を有する被覆層を形成するか、あるいは基材
に凸凹差を有する表面層を形成し必要によりさらに被覆
することにより、基材に５０ｎｍ以上で５００ｎｍ未満
の凸凹差を有する表面を形成し、さらに該基材表面にフ
ッ化炭素鎖ないし長鎖アルキル鎖を有するシランカップ
リング剤を固定化し汚濁物質付着抑制膜を形成して、基
材表面の汚濁物質付着性を抑制させるようにしたことを
特徴とする汚濁物質付着抑制材。 （２）基材に凸凹差を有する被覆層を形成するか、ある
いは基材に凸凹差を有する表面層を形成することによ
り、基材に予め５０ｎｍ以上で５００ｎｍ未満の凸凹差
を有する表面を形成し、真空紫外光などにより、該基材
表面を光洗浄した後に、フッ化炭素鎖ないし長鎖アルキ
ル鎖を有するシランカップリング剤を該基材表面に固定
化することを特徴とする汚濁物質付着抑制材の製造方
法。 （３）基材に凸凹差を有する表面層を形成し、さらに被
覆することにより、基材に５０ｎｍ以上で５００ｎｍ未
満の凸凹差を有する表面を形成する前記（２）記載の方
法。
明は、以下の技術的手段から構成される。 （１）表面に凸凹差を形成した基材と該基材表面に形成
された汚濁物質付着抑制膜とからなる材料であって、基
材に凸凹差を有する被覆層を形成するか、あるいは基材
に凸凹差を有する表面層を形成し必要によりさらに被覆
することにより、基材に５０ｎｍ以上で５００ｎｍ未満
の凸凹差を有する表面を形成し、さらに該基材表面にフ
ッ化炭素鎖ないし長鎖アルキル鎖を有するシランカップ
リング剤を固定化し汚濁物質付着抑制膜を形成して、基
材表面の汚濁物質付着性を抑制させるようにしたことを
特徴とする汚濁物質付着抑制材。 （２）基材に凸凹差を有する被覆層を形成するか、ある
いは基材に凸凹差を有する表面層を形成することによ
り、基材に予め５０ｎｍ以上で５００ｎｍ未満の凸凹差
を有する表面を形成し、真空紫外光などにより、該基材
表面を光洗浄した後に、フッ化炭素鎖ないし長鎖アルキ
ル鎖を有するシランカップリング剤を該基材表面に固定
化することを特徴とする汚濁物質付着抑制材の製造方
法。 （３）基材に凸凹差を有する表面層を形成し、さらに被
覆することにより、基材に５０ｎｍ以上で５００ｎｍ未
満の凸凹差を有する表面を形成する前記（２）記載の方
法。
【０００６】
【発明の実施の形態】次に、本発明についてさらに詳細
に説明する。本発明は、様々な基材の表面に、ＰＶＤ、
メッキ、ＣＶＤなどにより、５０ｎｍ以上の凸凹差を有
する被覆層を形成するか、あるいはドライエッチング、
化学エッチングなどにより、５０ｎｍ以上の凸凹差を有
する表面層を形成し、必要により、被覆層を形成した
後、該処理基材の表面上に、フッ化炭素鎖や長鎖アルキ
ル鎖などを有するシランカップリング剤を化学反応（脱
水縮合反応）により強固に固定化し、基材表面に汚濁物
質付着抑制膜を形成して、該処理基材の汚濁物質付着性
を著しく抑制させる点に最大の特徴を有する。
に説明する。本発明は、様々な基材の表面に、ＰＶＤ、
メッキ、ＣＶＤなどにより、５０ｎｍ以上の凸凹差を有
する被覆層を形成するか、あるいはドライエッチング、
化学エッチングなどにより、５０ｎｍ以上の凸凹差を有
する表面層を形成し、必要により、被覆層を形成した
後、該処理基材の表面上に、フッ化炭素鎖や長鎖アルキ
ル鎖などを有するシランカップリング剤を化学反応（脱
水縮合反応）により強固に固定化し、基材表面に汚濁物
質付着抑制膜を形成して、該処理基材の汚濁物質付着性
を著しく抑制させる点に最大の特徴を有する。
【０００７】本発明では、様々な基材が用いられるが、
本発明で使用しうる基材としては、例えば、金属、セラ
ミックス、ガラス、プラスチックス、高分子素材などの
適宜の材料を任意に使用することができる。基材の具体
例としては、例えば、歯冠、人工歯などの歯科材料など
が好適なものとして例示されるが、これらに限らず、耐
汚濁物質付着性が求められる適宜の材料、製品がその対
象とされる。また、５０ｎｍ以上の凸凹差を有する被覆
層の形成には、任意の材料を使用することが可能であ
り、その種類は制限されないが、好適な例をあげれば、
例えば、アルミナ、サファイア、ジルコニア、酸化シリ
コンなどのセラミックスを用いることができる。また、
凸凹のある被覆層を形成する方法は、例えば、スパッタ
リング、プラズマＣＶＤ、蒸着、分散メッキ、電着塗装
法、粉末を用いた複合メッキ、プラズマ溶射などを任意
に使用することができる。具体的には、例えば、基材に
スパッタリングなどを用いて酸化シリコンなどの皮膜を
形成した後、ドライエッチングなどを用いて凸凹差を形
成する。また、凸凹差を有する表面層を形成する方法
は、例えば、ドライエッチング、化学エッチングなどを
任意に使用することができる。凸凹差を有する表面層を
形成した後、上記被覆層を形成してもよい。
本発明で使用しうる基材としては、例えば、金属、セラ
ミックス、ガラス、プラスチックス、高分子素材などの
適宜の材料を任意に使用することができる。基材の具体
例としては、例えば、歯冠、人工歯などの歯科材料など
が好適なものとして例示されるが、これらに限らず、耐
汚濁物質付着性が求められる適宜の材料、製品がその対
象とされる。また、５０ｎｍ以上の凸凹差を有する被覆
層の形成には、任意の材料を使用することが可能であ
り、その種類は制限されないが、好適な例をあげれば、
例えば、アルミナ、サファイア、ジルコニア、酸化シリ
コンなどのセラミックスを用いることができる。また、
凸凹のある被覆層を形成する方法は、例えば、スパッタ
リング、プラズマＣＶＤ、蒸着、分散メッキ、電着塗装
法、粉末を用いた複合メッキ、プラズマ溶射などを任意
に使用することができる。具体的には、例えば、基材に
スパッタリングなどを用いて酸化シリコンなどの皮膜を
形成した後、ドライエッチングなどを用いて凸凹差を形
成する。また、凸凹差を有する表面層を形成する方法
は、例えば、ドライエッチング、化学エッチングなどを
任意に使用することができる。凸凹差を有する表面層を
形成した後、上記被覆層を形成してもよい。
【０００８】次に、上記の通り、凸凹のある被覆層や表
面層を形成した基材表面を、紫外線、オゾン、プラズマ
などにより光洗浄し、表面の有機物を除去する。この場
合、好ましくは、波長の短い真空紫外光（１７２ｎｍの
エキシマランプ光）を使用する。続いて、被覆層表面の
水酸基とフッ化炭素鎖や長鎖アルキル鎖などを有するシ
ランカップリング剤中の水酸基間の脱水縮合反応を利用
して、処理表面にこれらのシランカップリング剤を強固
に固定化させる。処理表面の水酸基とフッ化炭素鎖や長
鎖アルキル鎖を有するシランカップリング剤を固定化す
る方法は特に限定されるものではないが、好ましくは、
高価な反応装置、長い処理時間、高い処理温度を必要と
せず、非常に少量の原料で処理が可能な化学気相反応法
を用いる。この場合、例えば、処理温度は１５０℃、処
理時間は３時間であることが望ましい。また、使用する
シランカップリング剤量は０．１ｃｃ程度で十分であ
る。
面層を形成した基材表面を、紫外線、オゾン、プラズマ
などにより光洗浄し、表面の有機物を除去する。この場
合、好ましくは、波長の短い真空紫外光（１７２ｎｍの
エキシマランプ光）を使用する。続いて、被覆層表面の
水酸基とフッ化炭素鎖や長鎖アルキル鎖などを有するシ
ランカップリング剤中の水酸基間の脱水縮合反応を利用
して、処理表面にこれらのシランカップリング剤を強固
に固定化させる。処理表面の水酸基とフッ化炭素鎖や長
鎖アルキル鎖を有するシランカップリング剤を固定化す
る方法は特に限定されるものではないが、好ましくは、
高価な反応装置、長い処理時間、高い処理温度を必要と
せず、非常に少量の原料で処理が可能な化学気相反応法
を用いる。この場合、例えば、処理温度は１５０℃、処
理時間は３時間であることが望ましい。また、使用する
シランカップリング剤量は０．１ｃｃ程度で十分であ
る。
【０００９】上記の処理による基材の表面改質により、
はっ水性が著しく向上し、汚濁物質の付着が著しく抑制
される、という作用効果が得られる。この現象は、表面
に人工的に凸凹を形成して表面積を増やし、非常に濡れ
にくい空気層を形成するという物理的な処理と、表面張
力の低い物質で表面を覆って基材表面の表面エネルギー
を下げるという化学的な処理との相乗効果によるもので
あって、これら両方の処理を組み合わせることによりは
じめて発現する。そして、上記物理的な処理による凸凹
は、５０ｎｍ以上の凸凹が望ましい。なぜなら、５０ｎ
ｍ未満では水滴が凸凹内に入り込み、空気層を十分に確
保できないため、はっ水性が向上しないからである。さ
らに、凸凹は５００ｎｍ未満であることが望ましい。な
ぜなら、５００ｎｍ以上では汚濁物がかえって凸凹に付
着しやすくなるためである。上記の処理基材が高い耐汚
濁物質付着性を示す理由は、上記の通り、上記物理的な
処理と化学的な処理の組み合わせによるものであって、
処理表面に固定化されたフッ化炭素鎖や長鎖アルキル鎖
による化学的な効果と、処理表面に存在する凸凹による
物理的な効果の相乗効果により発現するものと推定され
る。本発明の上記汚濁物質付着抑制処理により、基材へ
の汚濁物質の付着を抑制し、使用過程における基材の変
質、変色、初期性能の低下などを確実に防止することが
できる。
はっ水性が著しく向上し、汚濁物質の付着が著しく抑制
される、という作用効果が得られる。この現象は、表面
に人工的に凸凹を形成して表面積を増やし、非常に濡れ
にくい空気層を形成するという物理的な処理と、表面張
力の低い物質で表面を覆って基材表面の表面エネルギー
を下げるという化学的な処理との相乗効果によるもので
あって、これら両方の処理を組み合わせることによりは
じめて発現する。そして、上記物理的な処理による凸凹
は、５０ｎｍ以上の凸凹が望ましい。なぜなら、５０ｎ
ｍ未満では水滴が凸凹内に入り込み、空気層を十分に確
保できないため、はっ水性が向上しないからである。さ
らに、凸凹は５００ｎｍ未満であることが望ましい。な
ぜなら、５００ｎｍ以上では汚濁物がかえって凸凹に付
着しやすくなるためである。上記の処理基材が高い耐汚
濁物質付着性を示す理由は、上記の通り、上記物理的な
処理と化学的な処理の組み合わせによるものであって、
処理表面に固定化されたフッ化炭素鎖や長鎖アルキル鎖
による化学的な効果と、処理表面に存在する凸凹による
物理的な効果の相乗効果により発現するものと推定され
る。本発明の上記汚濁物質付着抑制処理により、基材へ
の汚濁物質の付着を抑制し、使用過程における基材の変
質、変色、初期性能の低下などを確実に防止することが
できる。
【００１０】
【実施例】以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説
明する。以下の実施例は本発明の好適な例を示すもので
あり、本発明は該実施例により何ら限定されるものでは
ない。 実施例１ 陶歯（義歯用人口歯）に高周波マグネトロンスパッタリ
ングを用いて、約７００ｎｍの酸化シリコン皮膜を形成
後、ドライエッチング装置（反応ガス：ＣＨＦ3 ガス、
反応圧力：１５０Ｐａ、処理時間４８０秒）を用いて、
表面に約１００ｎｍの凸凹差を形成した。この基材表面
を、エキシマランプ光に約１０分さらした後、フッ化炭
素鎖を有するシランカップリング剤（信越化学製 ＫＢ
Ｍ７８０３）０．１ｃｃをガラス容器に入れ、洗浄した
試料とともに、テフロン製の容器に入れ、１５０℃の電
気炉中で約３時間放置した後、水滴接触角を測定したと
ころ、約１５０°の超はっ水性を示した。また、たばこ
を１０本水中に浸して作製した溶液中に、処理した試料
を放置したが、約３ヶ月放置しても、変色はほとんど観
察されなかった。
明する。以下の実施例は本発明の好適な例を示すもので
あり、本発明は該実施例により何ら限定されるものでは
ない。 実施例１ 陶歯（義歯用人口歯）に高周波マグネトロンスパッタリ
ングを用いて、約７００ｎｍの酸化シリコン皮膜を形成
後、ドライエッチング装置（反応ガス：ＣＨＦ3 ガス、
反応圧力：１５０Ｐａ、処理時間４８０秒）を用いて、
表面に約１００ｎｍの凸凹差を形成した。この基材表面
を、エキシマランプ光に約１０分さらした後、フッ化炭
素鎖を有するシランカップリング剤（信越化学製 ＫＢ
Ｍ７８０３）０．１ｃｃをガラス容器に入れ、洗浄した
試料とともに、テフロン製の容器に入れ、１５０℃の電
気炉中で約３時間放置した後、水滴接触角を測定したと
ころ、約１５０°の超はっ水性を示した。また、たばこ
を１０本水中に浸して作製した溶液中に、処理した試料
を放置したが、約３ヶ月放置しても、変色はほとんど観
察されなかった。
【００１１】比較例１ 陶歯（義歯用人口歯）表面を、エキシマランプ光に約１
０分さらした後、フッ化炭素鎖を有するシランカップリ
ング剤（信越化学製 ＫＢＭ７８０３）０．１ｃｃをガ
ラス容器に入れ、洗浄した試料とともに、テフロン製の
容器に入れ、１５０℃の電気炉中で約３時間放置した
後、水滴接触角を測定したところ、約１１２°のはっ水
性を示した。また、たばこを１０本水中に浸して作製し
た溶液中に処理した試料放置したところ、約２週間で明
らかな変色（茶褐色）が観察された。
０分さらした後、フッ化炭素鎖を有するシランカップリ
ング剤（信越化学製 ＫＢＭ７８０３）０．１ｃｃをガ
ラス容器に入れ、洗浄した試料とともに、テフロン製の
容器に入れ、１５０℃の電気炉中で約３時間放置した
後、水滴接触角を測定したところ、約１１２°のはっ水
性を示した。また、たばこを１０本水中に浸して作製し
た溶液中に処理した試料放置したところ、約２週間で明
らかな変色（茶褐色）が観察された。
【００１２】比較例２ ＰＵＤＭＡ（シリカフィラー３２％含有、義歯用人口
歯）表面を、酸素プラズマ中に約１０分さらした後、長
鎖アルキル鎖を有するシランカップリング剤（東京化成
工業製 ｎ−オクタデシルトリメトキシシラン）０．１
ｃｃをガラス容器に入れ、洗浄した試料とともに、テフ
ロン製の容器に入れ、１５０℃の電気炉中で約３時間放
置した後、水滴接触角を測定したところ、約１０８°の
はっ水性を示した。また、たばこを１０本水中に浸して
作製した溶液中に処理した試料放置したところ、約２週
間で明らかな変色（茶褐色）が観察された。
歯）表面を、酸素プラズマ中に約１０分さらした後、長
鎖アルキル鎖を有するシランカップリング剤（東京化成
工業製 ｎ−オクタデシルトリメトキシシラン）０．１
ｃｃをガラス容器に入れ、洗浄した試料とともに、テフ
ロン製の容器に入れ、１５０℃の電気炉中で約３時間放
置した後、水滴接触角を測定したところ、約１０８°の
はっ水性を示した。また、たばこを１０本水中に浸して
作製した溶液中に処理した試料放置したところ、約２週
間で明らかな変色（茶褐色）が観察された。
【００１３】実施例２ 陶歯（義歯用人口歯）にゾルーゲル法を用いて、約６０
０ｎｍの酸化シリコン皮膜を形成した。コーティング液
（Ｓｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）4 テトラエトキシシラン：２５
ｇ、Ｃ2 Ｈ5 ＯＨエタノール：３８ｇ、Ｈ2 Ｏ水：２４
ｇ、ＨＣＬ塩酸：０．３ｇ）にあらかじめポリエチレン
グリコール（分子量２０００）をアルコキシドに対して
約７ｗｔ．％入れておき、成膜後、約５００℃で焼成し
てやることにより、ポリエチレングリコールを酸化分解
し、表面に約１００〜１５０ｎｍの凸凹差を形成した。
この基材表面を、エキシマランプ光に約１０分さらした
後、フッ化炭素鎖を有するシランカップリング剤（信越
化学製 ＫＢＭ７８０３）０．１ｃｃをガラス容器に入
れ、洗浄した試料とともに、テフロン製の容器に入れ、
１５０℃の電気炉中で約３時間放置した後、水滴接触角
を測定したところ、約１４０°のはっ水性を示した。ま
た、たばこを１０本水中に浸して作製した溶液中に、処
理した試料を放置したが、約２ヶ月放置しても、変色は
ほとんど観察されなかった。
０ｎｍの酸化シリコン皮膜を形成した。コーティング液
（Ｓｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）4 テトラエトキシシラン：２５
ｇ、Ｃ2 Ｈ5 ＯＨエタノール：３８ｇ、Ｈ2 Ｏ水：２４
ｇ、ＨＣＬ塩酸：０．３ｇ）にあらかじめポリエチレン
グリコール（分子量２０００）をアルコキシドに対して
約７ｗｔ．％入れておき、成膜後、約５００℃で焼成し
てやることにより、ポリエチレングリコールを酸化分解
し、表面に約１００〜１５０ｎｍの凸凹差を形成した。
この基材表面を、エキシマランプ光に約１０分さらした
後、フッ化炭素鎖を有するシランカップリング剤（信越
化学製 ＫＢＭ７８０３）０．１ｃｃをガラス容器に入
れ、洗浄した試料とともに、テフロン製の容器に入れ、
１５０℃の電気炉中で約３時間放置した後、水滴接触角
を測定したところ、約１４０°のはっ水性を示した。ま
た、たばこを１０本水中に浸して作製した溶液中に、処
理した試料を放置したが、約２ヶ月放置しても、変色は
ほとんど観察されなかった。
【００１４】
【発明の効果】以上詳述したとおり、本発明は、基材と
該基材表面に形成された汚濁物質付着抑制膜とからなる
材料であって、該基材は高分子、セラミックス、金属な
どのいずれの材質においても、その表面は、５０ｎｍ以
上の凸凹差を有することを特徴とする汚濁物質付着抑制
材およびその製造方法に係わるものであり、本発明によ
り、１）新規な汚濁物質付着抑制材を提供することがで
きる、２）歯冠などの歯科用材料に優れた耐汚濁物質付
着性を付与することができる、３）汚濁物質の付着を著
しく抑制する新しい表面処理技術を提供することができ
る、４）簡便なプロセスで優れた耐汚濁物質付着性を有
する材料を作製することができる、等の格別の効果が奏
される。
該基材表面に形成された汚濁物質付着抑制膜とからなる
材料であって、該基材は高分子、セラミックス、金属な
どのいずれの材質においても、その表面は、５０ｎｍ以
上の凸凹差を有することを特徴とする汚濁物質付着抑制
材およびその製造方法に係わるものであり、本発明によ
り、１）新規な汚濁物質付着抑制材を提供することがで
きる、２）歯冠などの歯科用材料に優れた耐汚濁物質付
着性を付与することができる、３）汚濁物質の付着を著
しく抑制する新しい表面処理技術を提供することができ
る、４）簡便なプロセスで優れた耐汚濁物質付着性を有
する材料を作製することができる、等の格別の効果が奏
される。
【図１】本発明の実施例１に係わる被覆層の断面の概略
図を示すものである。
図を示すものである。
【図２】本発明の実施例２に係わる被覆層の断面の概略
図を示すものである。
図を示すものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭58−169443（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−213750（ＪＰ，Ａ) 化学と工業 第46巻第12号（1993) ｐ．1836−1838 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) A61C 5/08,13/00,13/08
Claims (3)
- 【請求項１】 表面に凸凹差を形成した基材と該基材表
面に形成された汚濁物質付着抑制膜とからなる材料であ
って、基材に凸凹差を有する被覆層を形成するか、ある
いは基材に凸凹差を有する表面層を形成し必要によりさ
らに被覆することにより、基材に５０ｎｍ以上で５００
ｎｍ未満の凸凹差を有する表面を形成し、さらに該基材
表面にフッ化炭素鎖ないし長鎖アルキル鎖を有するシラ
ンカップリング剤を固定化し汚濁物質付着抑制膜を形成
して、基材表面の汚濁物質付着性を抑制させるようにし
たことを特徴とする汚濁物質付着抑制材。 - 【請求項２】 基材に凸凹差を有する被覆層を形成する
か、あるいは基材に凸凹差を有する表面層を形成するこ
とにより、基材に予め５０ｎｍ以上で５００ｎｍ未満の
凸凹差を有する表面を形成し、真空紫外光などにより、
該基材表面を光洗浄した後に、フッ化炭素鎖ないし長鎖
アルキル鎖を有するシランカップリング剤を該基材表面
に固定化することを特徴とする汚濁物質付着抑制材の製
造方法。 - 【請求項３】 基材に凸凹差を有する表面層を形成し、
さらに被覆することにより、基材に５０ｎｍ以上で５０
０ｎｍ未満の凸凹差を有する表面を形成する請求項２記
載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15754199A JP3060016B1 (ja) | 1999-06-04 | 1999-06-04 | 汚濁物質付着抑制材およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15754199A JP3060016B1 (ja) | 1999-06-04 | 1999-06-04 | 汚濁物質付着抑制材およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP3060016B1 true JP3060016B1 (ja) | 2000-07-04 |
| JP2000342602A JP2000342602A (ja) | 2000-12-12 |
Family
ID=15651944
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15754199A Expired - Lifetime JP3060016B1 (ja) | 1999-06-04 | 1999-06-04 | 汚濁物質付着抑制材およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3060016B1 (ja) |
Families Citing this family (4)
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|---|---|---|---|---|
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| WO2008108438A1 (ja) | 2007-03-06 | 2008-09-12 | Tokyo University Of Science Educational Foundation Administrative Organization | 耐熱性、耐久性、離型性、及び防汚性シランカップリング剤、並びにそれらの化合物の製造方法 |
| JP4697162B2 (ja) * | 2007-03-16 | 2011-06-08 | セイコーエプソン株式会社 | 表面処理装置及び方法 |
| WO2012057252A1 (ja) * | 2010-10-29 | 2012-05-03 | 学校法人神奈川歯科大学 | 歯科用陶材焼き付け用基材の処理方法、歯科用陶材焼き付け用基材、歯冠修復材の製造方法、歯冠修復材の処理方法、及び歯冠修復材 |
-
1999
- 1999-06-04 JP JP15754199A patent/JP3060016B1/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 化学と工業 第４６巻第１２号（１９９３）ｐ．１８３６−１８３８ |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000342602A (ja) | 2000-12-12 |
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