JP3054627B2 - 画像形成方法 - Google Patents
画像形成方法Info
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- JP3054627B2 JP3054627B2 JP5253349A JP25334993A JP3054627B2 JP 3054627 B2 JP3054627 B2 JP 3054627B2 JP 5253349 A JP5253349 A JP 5253349A JP 25334993 A JP25334993 A JP 25334993A JP 3054627 B2 JP3054627 B2 JP 3054627B2
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- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Description
料を用いた画像形成方法に関するものであり、特に高照
度短時間露光において高感度低かぶり、かつ迅速処理適
性に優れた画像形成方法に関するものである。
を走査し、その画像信号に基づいてハロゲン化銀写真感
光材料上に露光を行い、原図の画像に対応するネガ画像
もしくはポジ画像を形成する所謂スキャナー方式による
画像形成方法が知られている。スキャナー方式による画
像形成方法を実用した記録装置は種々あるが、網点発生
器を用いる所謂ドットジェネレーター方式が現在では数
多く用いられている。これらのスキャナー方式記録装置
の記録用光源としては、従来グローランプ、キセノンラ
ンプ、水銀ランプ、タングステンランプ、発光ダイオー
ドなどが用いられてきた。しかしこれらの光源はいずれ
も出力が弱く寿命が短いという実用上の欠点を有してい
た。これらの欠点を補うものとして、He−Neレー
ザ、アルゴンレーザ、He−Cdレーザ、半導体レーザ
などのコヒーレントなレーザ光源をスキャナー方式の光
源として用いるスキャナーがある。これらのスキャナー
に使用される感光材料には種々の特性が要求されるが、
特に10-3〜10-8秒という短時間露光で露光されるた
め、このような条件下でも、高感度かつ高コントラスト
であることが必須条件となる。また、レーザー管の寿命
を長く保つために出力を絞るには、高感度な感光材料の
方が有利である。また良好な網点を得るためにはレーサ
ービームをスリットなどを用いて整形することも必要で
あり、それにより低下するレーサ出力に対応するために
は高感度な感光材料が必要となる。
率化、スピードアップは強く望まれており、スキャニン
グの高速化及び感光材料の処理時間の短縮化に対する広
範囲なニーズが存在している。これら印刷分野のニーズ
に応えるために、露光機(スキャナー・プロッター)に
おいてはスキャニングの高速化、および高画質化のため
の線数増加やビームのしぼり込みが望まれており、ハロ
ゲン化銀写真感光材料においては、高感度で処理安定性
に優れ、かつ迅速に現像処理することができることが望
まれている。
らず、撮影感材においても良好な網点画像及び線画画像
が求められている。これらの感材も高感度で処理安定性
に優れ、かつ迅速に現像処理できることが望まれてい
る。
は網点画像による連続階調の画像の再生あるいは線画像
の再生を良好ならしめるために、超硬調(特にγが10
以上)の写真性を示す画像形成システムが必要である。
高コントラストの写真特性を得る方法としては、古くか
らいわゆる“伝染現像効果”を利用したリス現像方式が
使用されてきたが、現像液が不安定で使いづらいという
欠点を有していた。良好な保存安定性を有する処理液で
現像し、超硬調な写真特性が得られる画像形成システム
が要望され、その1つとして米国特許第4,166,7
42号、同第4,168,977号、同第4,221,
857号、同第4,224,401号、同第4,24
3,739号、同第4,269,922号、同第4,2
72,606号、同第4,311,781号、同第4,
332号、878号、同第4,618,574号、同第
4,634,661号、同第4,681,836号、同
第5,650,746号等が開示されている。これらは
ヒドラジン誘導体を添加した表面潜像型のハロゲン化銀
写真感光材料を、pH11.0〜12.3の安定なMQ
またはPQ現像液で処理し、γが10を越える超硬調の
ネガ画像を得るシステムであり、この方法によれば超硬
調で高感度の写真特性が得られ、現像液中に高濃度の亜
硫酸塩を添加することができるので、現像液の空気酸化
に対する安定性は従来のリス現像液に比べて飛躍的に向
上する。
ゼン系現像主薬を現像主薬として用いた系であり、生態
学的見地および毒物学的見地からいくつかの不利な点が
ある。例えばハイドロキノンはアレルギー発現効果のた
め望ましくない成分であり、1−フェニル−3−ピラゾ
リドン類は生分解生が悪い成分である。また、高濃度の
亜硫酸塩は高いCOD(化学的酸素要求量)を示す。
類が現像主薬として機能することは公知であり、上記の
生態学上、あるいは毒物学上の問題のない現像主薬とし
て注目されている。例えば米国特許第2,668,54
9号、同3,826,654号では、少なくともpH1
2以上の高いアルカリ性の条件下で画像形成が可能であ
るとなされている。しかしこれらの画像形成方法では従
来のジヒドロキシベンゼン系現像主薬に比べやや低感で
現像進行性が遅く、迅速処理適性がないことが問題であ
った。ここでいう迅速処理とは、フィルムの先端を自動
現像機に挿入してから、現像槽、定着槽、水洗槽、乾燥
部分を通過してフィルムの先端が乾燥部から出て来た時
間が15〜60秒である処理を言う。
処理適性をつけるには、ハロゲン化銀乳剤の塩化銀含有
率を上げれば良いことがわかっているが、これは低感化
と物理現像ムラの悪化を起こす。また、かぶりも上昇す
る傾向にある。
化銀粒子をセレン化合物またはテルル化合物の少なくと
も1種で化学増感することによって高感、迅速処理に適
することを発見した。しかし、ジヒドロキシベンゼン系
現像液ではかぶりが増大して軟調化を引き起こし、画質
を損なうことがわかった。
度でかぶりが少なく物理現像ムラのない、ハロゲン化銀
写真感光材料を用いた画像形成方法を提供することにあ
る。本発明の更に別の目的は高照度短時間露光用ハロゲ
ン化銀写真感光材料に、迅速処理を行っても高感度で、
かつ良好な画質を与える現像処理方法を提供することに
ある。本発明の更に別の目的は、生態系や作業環境に対
して問題のない現像液を用いて高感度で良好な画像を得
ることができる新規な画像形成方法を提供することにあ
る。本発明の更に別の目的は高いコントラストの画像
が、生態系や作業環境に対して問題のない現像液を用い
て得られる新規な画像形成方法を提供することにある。
持体上に少なくとも一層の、セレン化合物またはテルル
化合物の少なくとも1種で化学増感されたハロゲン化銀
乳剤からなる層を有することを特徴とするハロゲン化銀
写真感光材料を画像露光後、現像主薬として実質的にジ
ヒドロキシベンゼン系主薬を含有せず、下記一般式
(I)で表わされる現像主薬を含有する現像液で現像処
理することを特徴とする画像形成方法により達成され
た。一般式(I)
基、アミノ基、アシルアミノ基、アルキルスルホニルア
ミノ基、アリールスルホニルアミノ基、アルコキシカル
ボニルアミノ基、メルカプト基またはアルキルチオ基を
表す。P、Qはヒドロキシ基、カルボキシル基、アルコ
キシ基、ヒドロキシアルキル基、カルボキシアルキル
基、スルホ基、スルホアルキル基、アミノ基、アミノア
ルキル基、アルキル基またはアリール基を表すか、また
は、PとQは結合して、R1 、R2 が置換している二つ
のビニル炭素原子とYが置換している炭素原子と共に5
〜8員環を形成する原子群を表す。Yは=O、または=
N−R3 を表す。R3 は水素原子、ヒドロキシル基、ア
ルキル基、アシル基、ヒドロキシアルキル基、スルホア
ルキル基、カルボキシアルキル基を表す。
説明する。本発明のハロゲン化銀乳剤は化学増感された
ものである。特にセレン化合物またはテルル化合物の少
なくとも1種で化学増感されたものである。
は、従来公知の特許に開示されているセレン化合物を用
いることができる。すなわち通常、不安定型セレン化合
物および/または非不安定型セレン化合物を添加して、
高温、好ましくは40℃以上で乳剤を一定時間攪拌する
ことにより用いられる。不安定型セレン化合物としては
特公昭44−15748号、特公昭43−13489
号、特開平4−25832号、特開平4−109240
号、特願平3−82929号、同3−53693号など
に記載の化合物を用いることが好ましい。具体的な不安
定セレン増感剤としては、イソセレノシアネート類(例
えばアリルイソセレノシアネートの如き脂肪族イソセレ
ノシアネート類)、セレノ尿素類、セレノケトン類、セ
レノアミド類、セレノカルボン酸類(例えば、2−セレ
ノプロピオン酸、2−セレノ酪酸)、セレノエステル
類、ジアシルセレニド類(例えば、ビス(3−クロロ−
2,6−ジメトキシベンゾイル)セレニド)、セレノホ
スフェート類、ホスフィンセレニド類、コロイド状金属
セレンなどがあげられる。不安定型セレン化合物の好ま
しい類型を上に述べたがこれらは限定的なものではな
い。当業技術者には写真乳剤の増感剤としての不安定型
セレン化合物といえば、セレンが不安定である限りに於
いて該化合物の構造はさして重要なものではなく、セレ
ン増感剤分子の有機部分はセレンを担持し、それを不安
定な形で乳剤中に存在せしめる以外何らの役割をもたな
いことが一般に理解されている。本発明においては、か
かる広範な概念の不安定セレン化合物が有利に用いられ
る。本発明で用いられる非不安定型セレン化合物として
は特公昭46−4553号、特公昭52−34492号
および特公昭52−34491号に記載の化合物が用い
られる。非不安定型セレン化合物としては例えば亜セレ
ン酸、セレノシアン化カリウム、セレナゾール類、セレ
ナゾール類の四級塩、ジアリールセレニド、ジアリール
ジセレニド、ジアルキルセレニド、ジアルキルジセレニ
ド、2−セレナゾリジンジオン、2−セレノオキサゾリ
ジンチオンおよびこれらの誘導体等があげられる。これ
らのセレン化合物のうち、好ましくは以下の一般式(II
I)および(IV)があげられる。一般式(III)
異なっていてもよく、アルキル基(例えば、メチル基、
エチル基、t−ブチル基、アダマンチル基、t−オクチ
ル基)、アルケニル基(例えば、ビニル基、プロペニル
基)、アラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル
基)、アリール基(例えば、フェニル基、ペンタフルオ
ロフェニル基、4−クロロフェニル基、3−ニトロフェ
ニル基、4−オクチルスルファモイルフェニル基、α−
ナフチル基)、複素環基(例えば、ピリジル基、チエニ
ル基、フリル基、イミダゾリル基)、−NR1(R2)、−
OR3 または−SR4 を表す。R1 、R2 、R3 および
R4 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、アルキル
基、アラルキル基、アリール基または複素環基を表す。
アルキル基、アラルキル基、アリール基または複素環基
としてはZ1 と同様な例があげられる。ただし、R1 お
よびR2 は水素原子またはアシル基(例えば、アセチル
基、プロパノイル基、ベンゾイル基、ヘプタフルオロブ
タノイル基、ジフルオロアセチル基、4−ニトロベンゾ
イル基、α−ナフトイル基、4−トリフルオロメチルベ
ンゾイル基)であってもよい。一般式(III)中、好まし
くはZ1 はアルキル基、アリール基または−NR1(R2)
を表し、Z2 は−NR5(R6)を表す。R1 、R2 、R5
およびR6 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水
素原子、アルキル基、アリール基、またはアシル基を表
す。一般式(III)中、より好ましくはN,N−ジアルキ
ルセレノ尿素、N,N,N’−トリアルキル−N’−ア
シルセレノ尿素、テトラアルキルセレノ尿素、N,N−
ジアルキル−アリールセレノアミド、N−アルキル−N
−アリール−アリールセレノアミドを表す。 一般式(IV)
じでも異なっていてもよく、脂肪族基、芳香族基、複素
環基、−OR7 、−NR8(R9)、−SR10、−Se
R11、X、水素原子を表す。R7 、R10およびR11は脂
肪族基、芳香族基、複素環基、水素原子またはカチオン
を表し、R8 およびR9 は脂肪族基、芳香族基、複素環
基または水素原子を表し、Xはハロゲン原子を表す。一
般式(IV)において、Z3 、Z4 、Z5 、Z7 、Z8 、
Z9 、Z10およびR 11で表される脂肪族基は直鎖、分岐
または環状のアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アラルキル基(例えば、メチル基、エチル基、n−
プロピル基、イソプロピル基、t−ブチル基、n−ブチ
ル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ヘキサデシ
ル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アリル
基、2−ブテニル基、3−ペンテニル基、プロパルギル
基、3−ペンチニル基、ベンジル基、フェネチル基)を
表す。一般式(IV)において、Z3 、Z4 、Z5 、
R7 、R8 、R9 、R10およびR 11で表される芳香族基
は単環または縮環のアリール基(例えば、フェニル基、
ペンタフルオロフェニル基、4−クロロフェニル基、3
−スルホフェニル基、α−ナフチル基、4−メチルフェ
ニル基)を表す。一般式(IV)において、Z3 、Z4 、
Z5 、R7 、R8 、R9 、R10およびR 11で表される複
素環基は窒素原子、酸素原子または硫黄原子のうち少な
くとも一つを含む3〜10員環の飽和もしくは不飽和の
複素環基(例えば、ピリジル基、チエニル基、フリル
基、チアゾリル基、イミダゾリル基、ベンズイミダゾリ
ル基)を表す。一般式(IV)において、R7 、R10およ
びR11で表されるカチオンはアルカリ金属原子またはア
ンモニウムを表し、Xで表されるハロゲン原子は、例え
ばフッ素原子、塩素原子、臭素原子または沃素原子を表
す。一般式(IV)中、好ましくはZ3 、Z4 またはZ5
は脂肪族基、芳香族基または−OR7 を表し、R7 は脂
肪族基または芳香族基を表す。一般式(IV)中、より好
ましくはトリアルキルホスフィンセレニド、トリアリー
ルホスフィンセレニド、トリアルキルセレノホスフェー
トまたはトリアリールセレノホスフェートを表す。以下
に一般式(III) および(IV)で表される化合物の具体例
を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
は、例えば、米国特許第1,623,499号、同第
3,320,069号、同第3,772,031号、英
国特許第235,211号、同第1,121,496
号、同第1,295,462号、同第1,396,69
6号、カナダ特許第800,958号、特願平2−33
3819号、同3−53693号、同3−131598
号、同4−129787号、ジャーナル・オブ・ケミカ
ル・ソサイアティー・ケミカル・コミュニケーション
(J.Chem.Soc.Chem.Commun.)635(1980)、ibid
1102(1979)、ibid 645(1979)、
ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイアティー・パーキ
ン・トランザクション(J.Chem.Soc.Perkin Trans.)
1,2191(1980)、S.パタイ(S.Patai)編、
ザ・ケミストリー・オブ・オーガニック・セレニウム・
アンド・テルリウム・カンパウンズ(The Chemistry o
f Organic Selenium and Tellurium compounds) ,Vol
1(1986)、同Vol 2(1987)に記載の化合物
を用いることが好ましい。具体的なテルル増感剤として
は、例えばコロイド状テルル、テルロ尿素類(例えばア
リルテルロ尿素、N,N−ジメチルテルロ尿素、テトラ
メチルテルロ尿素、N−カルボキシエチル−N′,N′
−ジメチルテルロ尿素、N,N′−ジメチルエチレンテ
ルロ尿素、N,N′−ジフェニルエチレンテルロ尿
素)、イソテルロシアナート類(例えばアリルイソテル
ロシアナート)、テルロケトン類(例えばテルロアセト
フェノン)、テルロアミド類(例えばテルロアセトアミ
ド、N,N−ジメチルテルロベンズアミド)、テルロヒ
ドラジド(例えばN,N′,N′−トリメチルテルロベ
ンズヒドラジド)、テルロエステル(例えばt−ブチル
−t−ヘキシルテルロエステル)、ホスフィンテルリド
類(例えばトリブチルホスフィンテルリド、トリシクロ
ヘキシルホスフィンテルリド、トリイソプロピルホスフ
ィンテルリド、ブチル−ジイソプロピルホスフィンテル
リド、ジブチルフェニルホスフィンテルリド)、ジアシ
ル(ジ)テルリド類(例えばビス(ジフェニルカルバモ
イル)ジテルリド、ビス(N−フェニル−N−メチルカ
ルバモイル)ジテルリド、ビス(N−フェニル−N−メ
チルカルバモイル)テルリド、ジエチルカルバモイルテ
ルリド、ビス(エトキシカルボニル)テルリド)、
(ジ)テルリド類、他のテルル化合物(例えば英国特許
第1,295,462号記載の負電荷のテルライドイオ
ン含有ゼラチン、ポタシウムテルリド、ポタシウムテル
ロシアナート、テルロペンタチオネートナトリウム塩、
アリルテルロシアネート)があげられる。これらのテル
ル化合物のうち、好ましくは下記に示す一般式(V)、
(VI) および(VII) があげられる。
13は脂肪族基、芳香族基、複素環基、OR14、NR
15(R16) 、SR17、OSiR18(R19) (R20) 、X
または水素原子を表す。R14およびR17は脂肪族基、芳
香族基、複素環基、水素原子またはカチオンを表し、R
15およびR16は脂肪族基、芳香族基、複素環基または水
素原子を表し、R18、R19およびR20は脂肪族基を表
し、Xはハロゲン原子を表す。次に一般式(V)につい
て詳細に説明する。一般式(V)において、R11、
R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19およ
びR20で表される脂肪族基は好ましくは炭素数1〜30
のものであって、特に炭素数1〜20の直鎖、分岐また
は環状のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ア
ラルキル基である。アルキル基、アルケニル基、アルキ
ニル基、アラルキル基としては、例えばメチル、エチ
ル、n−プロピル、イソプロピル、t−ブチル、n−オ
クチル、n−デシル、n−ヘキサデシル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、アリル、2−ブテニル、3−ペン
テニル、プロパルギル、3−ペンチニル、ベンジル、フ
ェネチルがあげられる。一般式(V)において、R11、
R12、R13、R14、R15、R16およびR17で表される芳
香族基は好ましくは炭素数6〜30のものであって、特
に炭素数6〜20の単環または縮環のアリール基であ
り、例えばフェニル、ナフチルがあげられる。一般式
(V)において、R11、R12、R13、R14、R15、R16
およびR17で表される複素環基は窒素原子、酸素原子お
よび硫黄原子のうち少なくとも一つを含む3〜10員環
の飽和もしくは不飽和の複素環基である。これらは単環
であってもよいし、さらに他の芳香環もしくは複素環と
縮合環を形成してもよい。複素環基としては、好ましく
は5〜6員環の芳香族複素環基であり、例えばピリジ
ル、フリル、チエニル、チアゾリル、イミダゾリル、ベ
ンズイミダゾリルがあげられる。一般式(V)におい
て、R14およびR17で表されるカチオンはアルカリ金
属、アンモニウムを表す。一般式(V)においてXで表
されるハロゲン原子は、例えばフッ素原子、塩素原子、
臭素原子および沃素原子を表す。また、この脂肪族基、
芳香族基および複素環基は置換されていてもよい。置換
基としては以下のものがあげられる。代表的な置換基と
しては例えば、アルキル基、アラルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、
ウレタン基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、
カルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル基、アル
キルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル
基、アシル基、アシルオキシ基、リン酸アミド基、ジア
シルアミノ基、イミド基、アルキルチオ基、アリールチ
オ基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、カルボキシ
基、ヒドロキシ基、ホスホノ基、ニトロ基、およびヘテ
ロ環基等があげられる。これらの基はさらに置換されて
いてもよい。置換基が2つ以上あるときは同じでも異な
っていてもよい。R11、R12、R13は互いに結合してリ
ン原子と一緒に環を形成してもよく、また、R15とR16
は結合して含窒素複素環を形成してもよい。一般式
(V)中、好ましくはR11、R12およびR13は脂肪族基
または芳香族基を表し、より好ましくはアルキル基また
は芳香族基を表す。
香族基、複素環基または−NR23(R24)を表し、R22
は−NR25(R26)、−N(R27)N(R28) R29また
は−OR30を表す。R23、R24、R25、R26、R27、R
28、R29およびR30は水素原子、脂肪族基、芳香族基、
複素環基またはアシル基を表す。ここでR21とR25、R
21とR27、R21とR28、R21とR30、R23とR25、R23
とR27、R23とR28およびR23とR30は結合して環を形
成してもよい。次に一般式(VI)について詳細に説明す
る。一般式(VI)において、R21、R23、R24、R25、
R26、R27、R28、R29およびR30で表される脂肪族
基、芳香族基および複素環基は一般式(II)と同意義を
表す。一般式(VI)において、R23、R24、R25、
R26、R27、R28、R29およびR 30で表されるアシル基
は好ましくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素
数1〜20の直鎖または分岐のアシル基であり、例えば
アセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイル、デカノ
イルがあげられる。ここでR21とR25、R21とR27、R
21とR28、R21とR30、R23とR25、R23とR27、R23
とR28およびR23とR30が結合して環を形成する場合は
例えばアルキレン基、アリーレン基、アラルキレン基ま
たはアルケニレン基等があげられる。また、この脂肪族
基、芳香族基および複素環基は一般式(V)であげた置
換基で置換されていてもよい。一般式(VI)中、好まし
くはR21は脂肪族基、芳香族基または−NR23(R24)
を表し、R22は−NR25(R26)を表す。R23、R24、
R25およびR26は脂肪族基または芳香族基を表す。一般
式(VI)中、より好ましくはR21は芳香族基または−N
R23(R24)を表し、R22は−NR25(R26)を表す。
R23、R24、R25およびR26はアルキル基または芳香族
基を表す。ここで、R21とR25およびR23とR25はアル
キレン基、アリーレン基、アラルキレン基またはアルケ
ニレン基を介して環を形成することもより好ましい。
じであっても異なっていてもよく、脂肪族基、芳香族
基、複素環基、−(C=Y′)−R33を表す。R33は水
素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、NR
34(R35) 、OR36またはSR37を表し、Y′は酸素原
子、硫黄原子またはNR38を表す。R34、R35、R36、
R37およびR38は水素原子、脂肪族基、芳香族基または
複素環基を表し、nは1または2を表す。次に一般式(V
II) について詳細に説明する。一般式(VII) においてR
31、R32、R33、R34、R35、R36、R37およびR38で
表される脂肪族基、芳香族基または複素環基は一般式
(V)の各々と同意義を表す。また、R31、R32、
R33、R34、R35、R36、R37およびR38で表される脂
肪族基、芳香族基および複素環基は一般式(V)であげ
た置換基で置換されていてもよい。ここで、R31とR32
およびR34とR35は結合して環を形成してもよい。一般
式(VII)中、好ましくはR31およびR32は複素環基また
は−(C=Y′)−R33を表す。R33はNR34(R35)
またはOR36を表し、Y′は酸素原子を表す。R34、R
35およびR36は脂肪族基、芳香族基または複素環基を表
す。一般式(VII) 中、より好ましくはR31およびR32は
−(C=Y′)−R33を表す。R33はNR34(R35) を
表し、Y′は酸素原子を表す。R34およびR35は脂肪族
基、芳香族基または複素環基を表す。下記化18〜化3
2に本発明の一般式(IV)、(V) および(VI) で表さ
れる化合物の具体例を示すが、本発明はこれに限定され
るものではない。
ゲン化銀乳剤粒子表面又は粒子内部に、増感核となると
推定されるテルル化銀を生成せしめる化合物である。ハ
ロゲン化銀乳剤中のテルル化銀生成速度については、以
下の試験ができる。多量添加(例えば、1×10-3モル
/モルAg)すると、生成したテルル化銀が可視域に吸
収をもつ。従って、イオウ増感剤について、E.Moisarが
Journal ofPhotographic Science,14巻,181頁
(1966年)や、同,16巻,102頁(1968
年)に記載された方法を適用できる。ハロゲン化銀乳剤
中での生成硫化銀量を、可視域(520nm)での乳剤の
無限反射率(infinite reflectivity)からKubelka −Mu
nkの式を用いて求めたのと同様の方法で、相対的なテル
ル化銀生成速度を簡便に求めることができる。また、こ
の反応は、見かけ上一次反応に近いので、擬一次反応速
度定数も求めることができる。例えば、平均粒子径0.
5μmの臭化銀8面体乳剤(1Kg乳剤中にAgBr0.
75モル、ゼラチン80gを含有)をpH=6.3、p
Ag=8.3に保ちつつ50℃に保温し、有機溶剤(メ
タノールなど)に溶解したテルル化合物を1×10-3モ
ル/モルAg添加する。積分球をもつ分光々度計で1cm
厚みのセルに乳剤を入れ、ブランクの乳剤を参照にして
520nmでの反射率(R)を時間を追って測定してい
く。反射率をKubelka −Munkの式(1−R)2 /2Rに
代入しその値の変化から擬一次反応速度定数k(min
-1) を求める。テルル化銀を生成しなければ常にR=
1のためKubelka −Munkの値はテルル化合物のない時と
同じで0のままである。このテスト法と全く同一条件で
の見かけの1次反応速度定数kが1×10-8〜1×10
0 min -1の化合物が好ましい。また、可視域の吸収が検
出しにくいより少量の添加量域では、生成したテルル化
銀を未反応テルル増感剤から分離し定量できる。例え
ば、ハロゲン塩水溶液や、水溶性メルカプト化合物の水
溶液などへの浸漬で分離したあと、原子吸光法などによ
り、微量のTeを定量分析する。この反応速度は、化合
物の種類は勿論のこと被検乳剤のハロゲン化銀組成、試
験する温度、pAgやpHなどで数ケタの範囲で大きく
変動する。本発明で好ましく用いられるテルル増感剤
は、用いようとするハロゲン組成、晶癖を有する具体的
なハロゲン化銀乳剤に対してテルル化銀を生成しうる化
合物である。総括的に言えば、臭化銀乳剤に対して、温
度40〜95℃、pH3〜10、またはpAg6〜11
のいずれかの範囲で、テルル化銀を生成しうる化合物が
本発明に対して好ましく用いられ、この範囲で、上記テ
スト法による擬一次反応速度定数kが、1×10-7〜1
×10-1min -1の範囲に入る化合物がテルル増感剤とし
てより好ましい。
I) で表される化合物は既に知られている方法に準じて
合成することができる。例えばジャーナル・オブ・ケミ
カル・ソサイアティ(J.Chem.Soc. (A))1969,
2927;ジャーナル・オブ・オルガノメタリック・ケ
ミストリー(J.Organomet.Chem. )4,320(196
5):ibid, 1,200(1963);ibid, 113,
C35(1976);フォスフォラス・サルファー(Ph
osphorusSulfur)15,155(1983);ヘミッシ
ェ・ベリヒテ(Chem.Ber. )109,2996(197
6);ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイアティ・ケ
ミカル・コミュニケーション(J.Chem.Soc.Chem.Commu
n. )635(1980);ibid, 1102(197
9);ibid, 645(1979);ibid, 820(19
87);ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイアティ・
パーキン・トランザクション(J.Chem.Soc.Perkin.Tran
s.)1,2191(1980);S.パタイ(S.Patai
)編,ザ・ケミストリー・オブ・オルガノ・セレニウ
ム・アンド・テルリウム・アンド・テルリウム・カンパ
ウンズ(The Chemistry of Organo Seleniumand Tellur
ium Compounds )2巻の216〜267(1987)、
テトラヘドロン・レターズ(Tetrahedron Letters )3
1,3587(1990)、ジャーナル・オブ・ケミカ
ル・リサーチ,シノプシーズ(J.Chem.Res.,Synopses)
2,56(1990)、ブレタン・オブ・ザ・ケミカル
・ソサイアティ・オブ・ジャパン(Bull.Chem.Soc.Japa
n )62,2117(1989)、ibid, 60,771
(1987)、ジャーナル・オブ・オルガノメタリック
・ケミストリー(J.Organometallic Chem.)338,9
(1988)、ibid, 306,C36(1986)、日
本化学会誌7巻,1475(1987)、ツァイトシュ
リフト・フュアー・ヘミー(Zeitschrift Chemie)2
6,179(1986)、ケミストリー・レターズ(Ch
emistry Letters )3,475(1987)、インディ
アン・ジャーナル・オブ・ケミストリー(Indian Journ
al of Chemistry ,Section A)25A,57(198
6)、アンゲバンテ・ヘミー(Angewandte Chemie )9
7,1051(1985)、スペクトロキミカ・アクタ
(Spectrochimica Acta ,PartA)38A,185(1
982)、オーガニック・プレパレーション・アンド・
プロセディア・インターナショナル(Organic Preparat
ions and ProceduresInternational )10,289
(1978)、オルガノメタリックス(Organometallic
s )1,470(1982)に記載の方法で合成するこ
とができる。
はテルル増感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒
子、化学熟成条件等により変わるが、一般にハロゲン化
銀1モル当り10-8〜10-2モル、好ましくは10-7〜
5×10-3モル程度を用いる。
特に制限はないが、pAgとしては6〜11、好ましく
は7〜10であり、温度としては40〜95℃、好まし
くは45〜85℃である。
ム、イリジウム等の貴金属増感剤を併用することが好ま
しい。特に、金増感剤を使用することは好ましく、具体
的には、塩化金酸、カリウムクロロオーレート、カリウ
ムオーリチオシアネート、硫化金、金セレナイド等が挙
げられ、ハロゲン化銀1モル当り、10-7〜10-2モル
程度を用いることができる。
することも好ましい。具体的には、チオ硫酸塩(例え
ば、ハイポ)、チオ尿素類(例えば、ジフェニルチオ尿
素、トリエチル尿素、アリルチオ尿素)、ローダニン類
等の公知の不安定硫黄化合物が挙げられ、ハロゲン化銀
1モル当り10-7〜10-2モル程度を用いることができ
る。
することも好ましい。
用することも可能であり具体的には、塩化第1スズ、ア
ミノイミノメタンスルフィン酸、ヒドラジン誘導体、ボ
ラン化合物(例えばジメチルアミンボラン)、シラン化
合物、ポリアミン化合物、等が挙げられる。
剤の存在下で、セレン増感またはテルル増感を行うのが
好ましい。
オシアン酸カリウム)、チオエーテル化合物(例えば、
米国特許第3,021,215号、同3,271,15
7号、特公昭58−30571号、特開昭60−136
736号等に記載の化合物、特に、例えば、3,6−ジ
チア−1,8オクタンジオール)、四置換チオ尿素化合
物(例えば、特公昭59−11892号、米国特許第
4,221,863号等に記載の化合物、特に、例えば
テトラメチルチオ尿素)、更に、特公昭60−1134
1号に記載のチオン化合物、特公昭63−29727号
に記載のメルカプト化合物、特開昭60−163042
号に記載のメソイオン化合物、米国特許第4,782,
013号に記載のセレノエーテル化合物、特開平2−1
18566号に記載のテルロエーテル化合物、亜硫酸塩
等が挙げられる。特に、これらの中で、チオシアン酸
塩、チオエーテル化合物、四置換チオ尿素化合物とチオ
ン化合物は好ましく用いることができる。使用量として
は、ハロゲン化銀1モル当り10-5〜10-2モル程度用
いることができる。
るハロゲン化銀乳剤はハロゲン化銀として塩化銀含有率
50モル%以上を含有する塩臭化銀、沃塩臭化銀である
ことが好ましい。沃化銀含有率は3モル%以下、より好
ましくは0.5モル%以下が好ましい。ハロゲン化銀粒
子の形状は、立方体、十四面体、八面体、不定型、板状
いずれでも良いが、立方体が好ましい。ハロゲン化銀の
平均粒径は0.1μm〜0.7μm が好ましいが、より
好ましくは0.2〜0.5μm であり、{(粒径の標準
偏差)/(平均粒径)}×100で表される変動係数が
15%以下、より好ましくは10%以下の粒径分布の狭
いものが好ましい。ハロゲン化銀粒子は内部と表層が均
一な層からなっていても、異なる層からなっていても良
い。本発明に用いられる写真乳剤は、P.Glafkides 著 C
himie et Physique Photographique (Paul Montel 社
刊、1967年) 、G.F.Dufin 著 Photographic EmulsionCh
emistry (The Forcal Press 刊、1966年) 、V.L.Zelikm
an et al著 Making and Coating Photographic Emulsio
n (The Focal Press刊、1964年) などに記載された方法
を用いて調製することができる。
る方法としては、片側混合法、同時混合法、それらの組
み合わせなどのいずれを用いても良い。粒子を銀イオン
過剰の下において形成させる方法(いわゆる逆混合法)
を用いることもできる。同時混合法の一つの型式として
ハロゲン化銀の生成される液相中のpAgを一定に保つ
方法、すなわち、いわゆるコントロールド・ダブルジェ
ット法を用いることもできる。またアンモニア、チオエ
ーテル、四置換チオ尿素等のいわゆるハロゲン化銀溶剤
を使用して粒子形成させることが好ましい。より好まし
くは四置換チオ尿素化合物であり、特開昭53−824
08号、同55−77737号に記載されている。好ま
しいチオ尿素化合物はテトラメチルチオ尿素、1,3−
ジメチル−2−イミダゾリジンチオンである。コントロ
ールド・ダブルジェット法およびハロゲン化銀溶剤を使
用した粒子形成方法では、結晶型が規則的で粒子サイズ
分布の狭いハロゲン化銀乳剤を作るのが容易であり、本
発明に用いられるハロゲン化銀乳剤を作るのに有用な手
段である。また、粒子サイズ均一にするためには、英国
特許第1,535,016号、特公昭48−36890
号、同52−16364号に記載されているように、硝
酸銀やハロゲン化アルカリの添加速度を粒子成長速度に
応じて変化させる方法や、英国特許第4,242,44
5号、特開昭55−158124号に記載されているよ
うに水溶液の濃度を変化させる方法を用いて、臨界飽和
度を越えない範囲において早く成長させることが好まし
い。
られるハロゲン化銀粒子には高コントラストおよび低カ
ブリを達成するために、ロジウム、イリジウムから選ば
れる少なくとも一種の金属を含有することが好ましい。
この含有率は銀1モルに対して1×10-9モル〜1×1
0-5モルの範囲が好ましく、さらには1×10-8〜5×
10-6モルの範囲が好ましい。これらの金属は2種以上
併用しても良い。これらの金属はハロゲン化銀粒子中に
均一に含有させることもできるし、特開昭63−296
03号、特開平2−306236号、同3−16754
5号、同4−76534号、特願平4−68305号、
同4−258187号等に記載されているように粒子内
に分布をもたせて含有させることもできる。
は、水溶性ロジウム化合物を用いることができる。たと
えば、ハロゲン化ロジウム(III) 化合物、またはロジウ
ム錯塩で配位子としてハロゲン、アミン類、オキザラト
等を持つもの、たとえば、ヘキサクロロロジウム(III)
錯塩、ヘキサブロモロジウム(III) 錯塩、ヘキサアンミ
ンロジウム(III) 錯塩、トリザラトロジウム(III) 錯塩
等が挙げられる。これらのロジウム化合物は、水あるい
は適当な溶媒に溶解して用いられるが、ロジウム化合物
の溶液を安定化させるために一般によく行われる方法、
すなわち、ハロゲン化水素水溶液(たとえば塩酸、臭
酸、フッ酸等)、あるいはハロゲン化アルカリ(たとえ
ばKCl、NaCl、KBr、NaBr等)を添加する
方法を用いることができる。水溶性ロジウムを用いる代
わりにハロゲン化銀調製時に、あらかじめロジウムをド
ープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させ
ることも可能である。
剤粒子の製造時及び乳剤を塗布する前の各段階において
適宜行うことができるが、特に乳剤形成時に添加し、ハ
ロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましい。
ては種々のものを使用できるが、例えばヘキサクロロイ
リジウム、ヘキサアンミンイリジウム、トリオキザラト
イリジウム、ヘキサシアノイリジウム等が挙げられる。
これらのイリジウム化合物は、水あるいは適当な溶媒に
溶解して用いられるが、イリジウム化合物の溶液を安定
化させるために一般によく行われる方法、すなわち、ハ
ロゲン化水素水溶液(たとえば塩酸、臭酸、フッ酸
等)、あるいはハロゲン化アルカリ(たとえばKCl、
NaCl、KBr、NaBr等)を添加する方法を用い
ることができる。水溶性イリジウムを用いる代わりにハ
ロゲン化銀調製時に、あらかじめイリジウムをドープし
てある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させること
も可能である。
ウム、ルテニウム、オスミウムをドープしてもよい。本
発明に用いられるレニウム、ルテニウム、オスミニウム
は特開昭63−2042号、特開平1−285941
号、同2−20852号、同2−20855号等に記載
された水溶性錯塩の形で添加される。特に好ましいもの
として、以下の式で示される六配位錯体が挙げられる。 〔ML6 〕-n ここでMはRu、Re、またはOsを表し、nは0、
1、2、3または4を表す。Lは配位子を表わす。nは
価数を表わす。この場合、対イオンは重要性を持たず、
アンモニウムもしくはアルカリ金属イオンが用いられ
る。また好ましい配位子としてはハロゲン化物配位子、
シアン化物配位子、シアン酸化物配位子、ニトロシル配
位子、チオニトロシル配位子等が挙げられる。以下に本
発明に用いられる具体的錯体の例を示すが、本発明はこ
れに限定されるものではない。
剤粒子の製造時及び乳剤を塗布する前の各段階において
適宜行うことができるが、特に乳剤形成時に添加し、ハ
ロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましい。これ
らの化合物をハロゲン化銀の粒子形成中に添加してハロ
ゲン化銀粒子中に組み込むには、金属錯体の粉末もしく
はNaCl、KClと一緒に溶解した水溶液を、粒子形
成中の水溶性塩または水溶性ハライド溶液中に添加して
おく方法、あるいは銀塩とハライド溶液が同時に混合さ
れるとき第3の溶液として添加し、3液同時混合の方法
でハロゲン化銀粒子を調製する方法、あるいは粒子形成
中に必要量の金属錯体の水溶性を反応容器に投入する方
法などがある。特に粉末もしくはNaCl、KClと一
緒に溶解した水溶液を、水溶性ハライド溶液に添加する
方法が好ましい。粒子表面に添加するには、粒子形成直
後または物理熟成時途中もしくは終了時または化学熟成
時に必要量の金属錯体の水溶液を反応容器に投入するこ
ともできる。
の重金属塩をドープしても良い。特にK4 〔Fe(C
N)6 〕のごときFe塩のドープが有利に行われる。さ
らに本発明に用いられるハロゲン化銀粒子に、コバル
ト、ニッケル、パラジウム、白金、金、タリウム、銅、
鉛等の金属原子を含有してもよい。上記金属はハロゲン
化銀1モルあたり1×10-9〜1×10-4モルが好まし
い。また、上記金属を含有せしめるには単塩、複塩、ま
たは錯塩の形の金属塩にして粒子調製時に添加すること
ができる。
しては、ゼラチンを用いるのが有利であるが、それ以外
の親水性コロイドも用いることができる。例えばゼラチ
ン誘導体、ゼラチンと他の高分子とのグラフトポリマ
ー、アルブミン、カゼイン等の蛋白質、ヒドロキシエチ
ルセルロース、カルボキシメチルセルロース、セルロー
ス硫酸エステルのごときセルロース誘導体、アルギン酸
ソーダ、澱粉誘導体等の糖誘導体、ポリビニルアルコー
ル、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリル
アミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルブチラー
ル等の単一あるいは共重合体のごとき多種の合成親水性
高分子物質を用いることができる。
は、α−オレフィンポリマ−(例えばポリエチレン、ポ
リプロピレン、エチレン/ブテン共重合体)等をラミネ
−トした紙、合成紙の可撓性支持体、金属などが含まれ
る。中でも、ポリエチレンテレフタレ−トが特に好まし
い。本発明に用いることのできる下引き層としては特開
昭9−3972号記載のポリヒドロキシベンゼン類を含
む有機溶剤系での下引き加工層、特開昭49−1111
8号、同52−10491号等に記載の水系ラテックス
下引き加工層が挙げられる。又、該下引き層は通常、表
面を科学的ないし物理的に処理することができる。該処
理としては薬品処理、機械処理、コロナ放電処理、など
の表面活性化処理が挙げられる。
説明する。本発明の現像液には、前述のように実質的に
ジヒドロキシベンゼン系の現像主薬は含有されておら
ず、主たる現像主薬は一般式(I)で表される化合物で
ある。本発明の現像液には補助現像主薬として、1−フ
ェニル−3−ピラゾリドン系の補助現像主薬および/ま
たはp−アミノフェノ−ル系補助現像主薬を含有してい
るのが好ましい。
表される化合物について詳しく説明する。一般式(I)
において、R1 、R2 はそれぞれヒドロキシ基、アミノ
基(置換基としては炭素数1〜10のアルキル基、例え
ばメチル基、エチル基、n−ブチル基、ヒドロキシエチ
ル基などを置換基として有するものを含む。)、アシル
アミノ基(アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基な
ど)、アルキルスルホニルアミノ基(メタンスルホニル
アミノ基など)、アリールスルホニルアミノ基(ベンゼ
ンスルホニルアミノ基、p−トルエンスルホニルアミノ
基など)、アルコキシカルボニルアミノ基(メトキシカ
ルボニルアミノ基など)、メルカプト基、アルキルチオ
基(メチルチオ基、エチルチオ基など)を表す。R1 、
R2 として好ましい例として、ヒドロキシ基、アミノ
基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニル
アミノ基を挙げることができる。
ル基、カルボキシル基、カルボキシアルキル基、スルホ
基、スルホアルキル基、アミノ基、アミノアルキル基、
アルキル基、アルコキシ基、メルカプト基、アリール基
を表すほか、またはPとQは結合して、R1 、R2 が置
換している二つのビニル炭素原子とYが置換している炭
素原子と共に5〜8員環を形成するのに必要な原子群を
表す。環構造の具体例として、−O−、−C(R4)(R
5)−、−C(R6)=、−C(=O)−、−N(R7)−、
−N=、を組み合わせて構成される。ただしR4 、
R5 、R6 、R7 は水素原子、炭素数1〜10の置換し
てもよいアルキル基(置換基としてヒドロキシ基、カル
ボキシ基、スルホ基を挙げることが出来る)、炭素数6
〜15の置換としてもよいアリール基(置換基としてア
ルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ
基、スルホ基を挙げることができる)、ヒドロキシ基、
カルボキシル基を表す。更にこの5〜8員環には飽和あ
るいは不飽和の縮合環を形成してもよい。
ノン環、ジヒドロピロン環、ピラノン環、シクロペンテ
ノン環、シクロヘキセノン環、ピロリノン環、ピラゾリ
ノン環、ピリドン環、アザシクロヘキセノン環、ウラシ
ル環などが挙げられ、好ましい5〜7員環の例として、
ジヒドロフラノン環、シクロペンテノン環、シクロヘキ
セノン環、ピラゾリノン環、アザシクロヘキセノン環、
ウラシル環を挙げることができる。
る。ここでR3 は水素原子、ヒドロキシル基、アルキル
基(例えばメチル基、エチル基)、アシル基(例えばア
セチル基)、ヒドロキシアルキル基(例えばヒドロキシ
メチル基、ヒドロキシエチル基)、スルホアルキル基
(例えばスルホメチル基、スルホエチル基)、カルボキ
シアルキル基(例えばカルボキシメチル基、カルボキシ
エチル基)を表す。
発明はこれに限定されるものではない。
あるいはエリソルビル酸(立体異性体)(I−1)であ
る。一般式(I)の化合物の使用量の一般的な範囲とし
ては、現像液1リットルあたり、5×10-3モル〜1モ
ル、特に好ましくは10-2モル〜0.5モルである。
−ピラゾリドン又はその誘導体の例としては1−フェニ
ル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4,4−ジメチ
ル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−メチル−4
−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル
−4,4−ジヒドロキシルメチル−3−ピラゾリドン、
1−フェニル−5−メチル−3−ピラゾリドン、1−p
−アミノフェニル−4,4ジメチル−3−ピラゾリド
ン、1−p−トリル−4−メチル−4−ヒドロキシメチ
ル−3−ピラゾリドンなどがある。p−アミノフェノー
ル系補助現像主薬としては、N−メチルーp−アミノフ
ェノール、p−アミノフェノール、N−(β−ヒドロキ
シエチル)−p−アミノフェノール、N−(4−ヒドロ
キシフェニル)グリシン、2−メチル−p−アミノフェ
ノ−ル、p−ベンジルアミノフェノール等があるが、な
かでもN−メチル−p−アミノフェノールが好ましい。
本発明の一般式(I)で表される化合物と1−フェニル
−3−ピラゾリドン類又はp−アミノフェノール類との
組合せを用いる場合には、後者を通常10-3モル/リッ
トル〜0.1モル/リットル、より好ましくは10-3モ
ル/リットル〜0.06モル/リットルの量で用いるの
が好ましい。
ンゼン類は含まないとは、ジヒドロキシベンゼン類の現
像液中での濃度が一般式(I) の化合物や上記の補助現
像主薬の量に比して取るに足らないこと(例えば5×1
0-4モル/リットル以下であること)を意味する。本発
明の現像液は、好ましくはジヒドロキシベンゼン類を全
く含まないものである。
ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、重亜硫
酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、ホルムアルデヒ
ド重亜硫酸ナトリウム等の亜硫酸塩を添加してもよい。
亜硫酸塩は0.01モル/l以上で用いられる。多量に
用いるとハロゲン化銀乳剤粒子を溶解して、銀汚れの原
因となる。また、COD(化学的酸素要求量)を高める
原因ともなるため、添加量は必要最小限にすべきであ
る。
10.0〜12.0までの範囲が好ましい。さらに好ま
しくは10.4〜12までの範囲である。pHが12.
0以上になると、非画像部のステイン、黒ポツが急増
し、好ましくない。またpH10.0以下では十分なコ
ントラストが得られない。pHの設定のために用いるア
ルカリ剤には水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウムなどがある。本発明の現像液
には、特開昭60−93433号に記載の糖類(例えば
サッカロ−ス)、オキシム類(例えばアセトキシム)、
フェノ−ル類(例えば5−スルホサリチル酸)、ケイ酸
塩、第三リン酸ナトリウム、第三リン酸カリウムの如き
pH緩衝剤を用いることができる。緩衝剤の濃度は0.
3モル/リットル以上が好ましい。ホウ酸、メタホウ酸
ナトリウムのようなホウ素化合物は、一般式(II)で表
される本発明の化合物と反応して不活化させる恐れがあ
り好ましくない。
制剤、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、ジメチルホルムアミド、メチル
セロソルブ、ヘキシレングリコール、エタノール、メタ
ノールの如き有機溶剤、5−ニトロインダゾールなどの
インダゾール系化合物、2−メルカプトベンツイミダゾ
ール−5−スルホン酸ナトリウムなどのベンツイミダゾ
−ル系化合物、、5−メチルベンツトリアゾールなどの
ベンツトリアゾール系化合物等のカブリ防止剤を含んで
もよく、Research Disclosure 第 176巻、No.17643、第
XXI項(12 月号、1978年) に記載された現像促進剤を
含んでもよい。また米国特許4,269,929号、特
開昭61−267759号及び特願平1−29418号
に記載されているアミン化合物を含有してもよい。更に
必要に応じて色調剤、界面活性剤、硬膜剤などを含んで
もよい。本発明の現像液には、ヨ−ロッパ特許公開13
6582号、英国特許第958678号、米国特許第3
232761号、特開昭56−106244号に記載の
アルカノ−ルアミンなどのアミノ化合物を現像促進、コ
ントラスト上昇などの目的で用いることができる。
水溶液であり、pH3.8以上、好ましくは4.2〜
7.0を有する。定着剤としてはチオ硫酸ナトリウム、
チオ硫酸アンモニウムなどがあるが、定着速度の点から
チオ硫酸アンモニウムが特に好ましい。定着剤の使用量
は適宜変えることができ、一般には約0.1〜約6モル
/リットルある。定着液には硬膜剤として作用する水溶
性アルミニウム塩を含んでもよく、それらには、例えば
塩化アルミニウム、硫酸アルミニウム、カリ明ばんなど
がある。定着液には、酒石酸、クエン酸、グルコン酸あ
るいはそれらの誘導体を単独であるいは2種以上用いる
ことができる。これらの化合物は定着液1リットルにつ
き0.005モル/リットル以上含むものが有効で、特
に0.01モル/リットル〜0.03モル/リットルが
特に有効である。定着液には所望により保恒剤(例え
ば、亜硫酸塩、重亜硫酸塩)、pH緩衝剤(例えば、酢
酸、ホウ酸)pH調整剤(例えば、硫酸、アンモニ
ア)、硬水軟化能のあるキレート剤、界面活性剤、湿潤
剤、定着促進剤、特開昭62−78551号記載の化合
物を含むことができる。定着促進剤としては、例えば特
開昭45−35754号、同58−122535号、同
58−122536号公報記載のチオ尿素誘導体、分子
内に3重結合を持つアルコ−ル、米国特許第41264
59号記載のチオエ−テル化合物などが挙げられ、また
特開昭2−44355号記載の化合物を用いてもよい。
また、色素溶出促進剤として、特開昭64−4739号
記載の化合物を用いることができる。
定着工程の後、水洗水または安定化液で処理され、次い
で乾燥される。ハロゲン化銀感光材料1m2 当たり、3
リットル以下の補充量(ゼロ、すなわちため水水洗も含
む)の水洗水または安定化液で処理することもできる。
すなわち節水処理が可能となるのみならず、自現機設置
の配管を不要とすることができる。水洗水の補充量を少
なくする方法として、古くより多段向流方式(例えば2
段、3段など)が知られている。この多段向流方式を本
発明に適用すれば定着後の感光材料は徐々に清浄な方
向、つまり定着液で汚れていない処理液の方に順次接触
して処理されていくので、さらに効率のよい水洗がなさ
れる。水洗を小量の水で行う場合には、特開昭63−1
8350号、同62−287252号などに記載のスク
イズロ−ラ−、クロスオ−バ−ロ−ラ−の洗浄槽を設け
ることが好ましい。また、小量水洗時に問題となる公害
負荷の軽減のために種々の酸化剤添加やフィルタ−濾過
を組み合わせてもよい。上記の節水処理または無配管処
理には、水洗水または安定化液に防ばい手段を施すこと
が好ましい。
939号に記された紫外線照射法、同60−26394
0号に記された磁場を用いる方法、同61−13163
2号に記されたイオン交換樹脂を用いて純水にする方
法、特開昭62−115154号、同62−15395
2号、同62−220951号、同62−209532
号に記載の防菌剤を用いる方法を用いることができる。
さらには、L.F.West,"Water Quality Criteria" Photo.
Sci. & Eng.,Vol.9 No.6(1965) 、M.W.Reach,"Microbi
ological Growths in Motion- picture Processing",SM
PTE Jounal Vol.85(1976) 、R.O.Deegan,"Photo Proces
sing Wash Water Biocides",J. Imaging Tech.,Vol.10,
No.6(1984)、および特開昭57−8542号、同57−
56143号、同58−105145号、同57−13
2146号、同58−18631号、同57−9753
0号、同57−157244号などに記載されている防
菌剤、防ばい剤、界面活性剤などを併用することもでき
る。さらに、水洗浴または安定化浴には、R.T.Kreiman
著、J. Imaging Tech.,10(6)242 頁(1984)に記載された
イソチアゾリジン系化合物、Research Disclosure第2
05巻、No.20526(1981,No.4) に記載された化合物など
を防菌剤(Microbiocide)として併用することもできる。
その他、「防菌防黴の化学」堀口博著、三共出版(昭和
57)、「防菌防黴技術ハンドブック」日本防菌防黴学
会・博報堂(昭和61)に記載されているような化合物
を含んでもよい。
するときには特開昭63−143548号のような水洗
工程の構成をとることも好ましい。さらに、本発明の方
法で水洗または安定化浴に防黴手段を施した水を処理に
応じて補充することによって生ずる水洗または安定化浴
からのオーバーフローの一部または全部は特開昭60−
235133号に記載されているようにその前の処理工
程である定着能を有する処理液に利用することもでき
る。本発明における現像処理では、現像時間が5秒〜3
分、好ましくは8秒から2分、その現像温度は18°C
〜50°Cが好ましく、24°C〜40°Cがより好ま
しい。
°Cで5秒から3分が好ましく、24°C〜40°Cで
6秒〜2分がより好ましい。この範囲内で十分な定着が
出来、残色が生じない程度に増感色素を溶出させること
ができる水洗(または安定化)における温度および時間
は5〜50°C、6秒〜3分が好ましく、15〜40°
C、8秒〜2分がより好ましい。現像、定着および水洗
(または安定化)された感光材料は水洗水をしぼり切
る、すなわちスクイズローラーを経て乾燥される。乾燥
は約40°C〜100°Cで行われ、乾燥時間は周囲の
状況によって適宜変えられるが、通常は約4秒〜3分で
よく、特に好ましくは40°C〜80°Cで約5秒〜1
分である。Dry to Dryで100秒以下の現像
処理をするときには、迅速処理特有の現像ムラを防止す
るために特開昭63−151943号に記載されている
ようなゴム材質のローラーを現像タンク出口のローラー
に適用することや、特開昭63−151944号に記載
されているように現像タンク内の現像液攪拌のための吐
出流速を10m/分以上にすることや、さらには、特開
昭63−264758号に記載されているように、少な
くとも現像処理中は待機中より強い攪拌をすることがよ
り好ましい。さらに迅速処理のためには、とくに定着タ
ンクのローラーの構成は、定着速度を速めるために、対
向ローラーであることがより好ましい。対向ローラーで
構成することによって、ローラーの本数を少なくでき、
処理タンクを小さくできる。すなわち自現機をよりコン
パクトにすることが可能となる。
ゲン化銀乳剤層またはその他の親水性コロイド層中に、
超硬調化をうながす造核剤としてのヒドラジン誘導体を
含有せしめる系において特に好ましい結果を示す。この
ヒドラジン誘導体としてはすでに公知の化合物を用いる
ことができる。具体的には下記一般式(II)で表される
ものが好適である。
し、R2 は水素原子、アルキル基、アリール基、不飽和
ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ
基、ヒドラジノ基、カルバモイル基、またはオキシカル
ボニル基を表し、G1 は−CO−基、−SO2 −基、−
SO−基、−(R3 )P(=O)−基、−CO−CO−
基、チオカルボニル基、またはイミノメチレン基を表
し、A1 、A2 はともに水素原子、あるいは一方が水素
原子で他方が置換もしくは無置換のアルキルスルホニル
基、または置換もしくは無置換のアリールスルホニル
基、または置換もしくは無置換のアシル基を表す。R3
にはR2 に定義した基と同じ範囲より選ばれ、R2 と異
なっていてもよい。
脂肪族基は好ましくは炭素数1〜30のものであって、
特に炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル
基である。このアルキル基は置換基を有していてもよ
い。一般式(II)において、R1 で表わされる芳香族基
は単環または2環のアリール基または不飽和ヘテロ環基
である。ここで、不飽和ヘテロ環基はアリール基と縮環
していてもよい。R1 として好ましいものはアリール基
であり、特に好ましくはベンゼン環を含むものである。
R1 の脂肪族基または芳香族基は置換されていてもよ
く、代表的な置換基としては、例えばアルキル基、アラ
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ
基、アリール基、置換アミノ基、ウレイド基、ウレタン
基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カルバモイ
ル基、アルキルまたはアリールチオ基、アルキルまたは
アリールスルホニル基、アルキルまたはアリールスルフ
ィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ス
ルホ基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アル
コキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボンアミド
基、スルホンアミド基、カルボキシル基、リン酸アミド
基、ジアシルアミノ基、イミド基、R4 −NHCON
(R5 )−CO−基(R4 とR5 はR2 で定義したと同
じ基の中から選ばれ、互いに異なってもよい)などが挙
げられ、好ましい置換基としてはアルキル基(好ましく
は炭素数1〜20のもの)、アラルキル基(好ましくは
炭素数7〜30のもの)、アルコキシ基(好ましくは炭
素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好ましくは炭素
数1〜20のアルキル基で置換されたアミノ基)、アシ
ルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を持つもの)、
スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜30を持つも
の)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜30を持つも
の)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜30のも
の)などである。これらの基はさらに置換されていても
よい。
アルキル基としては、好ましくは炭素数1〜4のアルキ
ル基であり、アリール基としては単環または2環のアリ
ール基が好ましい(例えばベンゼン環を含むもの)。G
1 が−CO−基の場合、R2 で表わされる基のうち好ま
しいものは、水素原子、アルキル基(例えば、メチル
基、トリフルオロメチル基、3−ヒドロキシプロピル
基、3−メタンスルホンアミドプロピル基、フェニルス
ルホニルメチル基など)、アラルキル基(例えば、o−
ヒドロキシベンジル基など)、アリール基(例えば、フ
ェニル基、3,5−ジクロロフェニル基、o−メタンス
ルホンアミドフェニル基、4−メタンスルホニルフェニ
ル基、2−ヒドロキシメチルフェニル基など)などであ
り、特に水素原子が好ましい。R2 は置換されていても
よく、置換基としてはR1 に関して列挙した置換基が適
用できる。
も好ましい。又、R2 はG1 −R2 の部分を残余分子か
ら分裂させ、−G1 −R2 部分の原子を含む環式構造を
生成させる環化反応を生起するようなものであってもよ
く、その例としては例えば、特開昭63−29751号
などに記載のものが挙げられる。A1 、A2 としては水
素原子が最も好ましい。
カプラー等の不動性写真用添加剤において常用されてい
るバラスト基、またはポリマーが組み込まれているもの
でもよい。バラスト基は8以上の炭素数を有する、写真
性に対して比較的不活性な基であり、例えばアルキル
基、アルコキシ基、フェニル基、アルキルフェニル基、
フェノキシ基、アルキルフェノキシ基などの中から選ぶ
ことができる。また、ポリマーとして例えば、特開平1
−100530号に記載のものが挙げられる。
ハロゲン化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込
まれているものでもよい。かかる吸着基としては、チオ
尿素基、複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、ト
リアゾール基などの米国特許第4,385,108号、
同4,459,347号、特開昭59−195233
号、同59−200231号、同59−201045
号、同59−201046号、同59−201047
号、同59−201048号、同59−201049
号、同61−170733号、同61−270744
号、同62−270948号、同63−234244
号、同63−234245号、同63−234246号
に記載された基が挙げられる。
少なくとも一方がバラスト基を持つか、R1 またはR2
の少なくとも一方がハロゲン化銀粒子表面への吸着を強
める基を持つことが好ましい。さらにR1 がトリアルキ
ルアンモニウム基を持つか、R1 がアルキルチオ基(シ
クロアルキルチオ基を含む)またはアリールチオ基を持
つか、R2 中のG1 と結合する炭素原子が電子吸引性の
基(例えばハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、スルホ
ニル基など)で置換されているものが特に好ましい。
を以下に列挙するが、本発明はこれに限られるものでは
ない。
ては、上記のものの他に、RESEARCHDISCLOSURE Item2
3516(1983年11月号、P.346)およびそ
こに引用された文献の他、米国特許第4,080,20
7号、同4,269,929号、同4,276,364
号、同4,278,748号、同4,385,108
号、同4,459,347号、同4,560,638
号、同4,478,928号、英国特許第2,011,
391B号、特開昭60−179734号、同62−2
70948号、同63−29751号、同61−170
733号、同61−270744号、欧州特許第21
7,310号、同356,898号、米国特許第4,6
86,167号、特開昭62−178246号、同63
−32538号、同63−104047号、同63−1
21838号、同63−129337号、同63−22
3744号、同63−234244号、同63−234
245号、同63−234246号、同63−2945
52号、同63−306438号、同64−10233
号、特開平1−90439号、同1−100530号、
同1−105941号、同1−105943号、同1−
276128号、同1−280747号、同1−283
548号、同1−283549号、同1−285940
号、同2−2541号、同2−77057号、同2−1
39538号、同2−196234号、同2−1962
35号、同2−198440号、同2−198441、
同2−198442号、同2−220042号、同2−
221953号、同2−221954号、同2−302
750号、同2−304550号に記載されたものを用
いることができる。
としてはハロゲン化銀1モルあたり1×10-6モルない
し5×10-2モル含有されるのが好ましく、特に1×1
0-5モルないし2×10-2モルの範囲が好ましい添加量
である。
和性有機溶媒、例えば、アルコール類(メタノール、エ
タノール、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケト
ン類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブな
どに溶解して用いることができる。また、既に良く知ら
れている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、ト
リクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテー
ト、あるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エ
チルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解
し、機械的に乳化分散物を作成して用いることもでき
る。あるいは固体分散法として知られている方法によっ
て、ヒドラジン誘導体の粉末を水の中にボールミル、コ
ロイドミル、あるいは超音波によって分散して用いるこ
ともできる。
剤、現像処理方法等に関しては、特に制限は無く、例え
ば下記箇所に記載されたものを好ましく用いることが出
来る。 項 目 該 当 個 所 1)造核促進剤 特開平2-103536号公報第9 頁右上欄13行目から同第 16頁左上欄10行目の一般式(II-m)ないし(II-p)及び 化合物例II-1ないしII-22 、特開平1-179939号公報 に記載の化合物。 2)界面活性剤 特開平2-122363号公報第9 頁右上欄7 行目から同右 下欄7 行目、及び特開平2-185424号公報第2 頁左下 欄13行目から同第4 頁右下欄18行目。 3)カブリ防止剤 特開平2-103536号公報第17頁右下欄19行目から同第 18頁右上欄4 行目及び同右下欄1 行目から5 行目、 さらに特開平1-237538号公報に記載のチオスルフィ ン酸化合物。 4)ポリマーラテックス 特開平2-103536号公報第18頁左下欄12行目から同20 行目。 5)酸基を有する化合物 特開平2-103536号公報第18頁左下欄6 行目から同第 19頁左上欄1 行目。 6)マット剤、滑り剤、 特開平2-103536号公報第19頁左上欄15行目から同第 可塑剤 19頁右上欄15行目。 7)硬膜剤 特開平2-103536号公報第18頁右上欄5 行目から同第 17頁行目。 8)染料 特開平2-103536号公報第17頁右下欄 1行目から同18 行目の染料、同2-294638号公報及び特願平3-185773 号に記載の固体染料。 9)バインダー 特開平2-18542 号公報第3 頁右下欄1 行目から20行 目。 10)黒ポツ防止剤 米国特許第4956257 号及び特開平1-118832号公報に 記載の化合物。 11)レドックス化合物 特開平2-301743号公報の一般式(I) で表される化合 物(特に化合物1ないし50) 、同3-174143号公報第 3 頁ないし第20頁に記載の一般式(R-1) 、(R-2) 、 (R-3) 、化合物例1 ないし75、さらに特願平3-6946 6 号、同3-15648 号に記載の化合物 12) モノメチン化合物 特開平2-287532号公報の一般式(II)の化合物(特に 化合物例II-1ないしII-26)。 13) ジヒドロキシベンゼ 特開平3-39948 号公報第11頁左上欄から第12頁左下 ン類 欄の記載、及びEP452772A 号公報に記載の化合物。 14) 現像液及び現像方法 特開平2-103536号公報第19頁右上欄16行目から同第 21頁左上欄8 行目。
明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
(I)で表わされる本発明の化合物を含有する現像液を
調製した。比較例としてハイドロキノンを主薬とする現
像液も併せて調製した。
り1.0×10-7モルに相当する(NH4)2 RhCl5(H2O) 、
3.5×10-7に相当するK3IrCl6 を含むハロゲン塩水
溶液を塩化ナトリウムと、1,3−ジメチル−2−イミ
ダゾリジンチオンを含有するゼラチン水溶液に攪拌しな
がらダブルジェット法により添加し、平均粒子サイズ
0.2μm 、塩化銀含有率70モル%の塩臭化銀粒子を
調製した。
KI溶液を加えてコンバージョンを行い、常法に従って
フロキュレーション法により水洗し、銀1モルあたりゼ
ラチン40gを加え、さらに銀1モルあたりベンゼンチ
オスルホン酸ナトリウム7mgとベンゼンスルフィン酸2
mgを加えた後、以下の条件で化学増感を行い、安定剤と
して4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−
テトラザインデン150mgを加え、さらに防腐剤として
プロキセル100mgを加えた。得られた粒子はそれぞれ
平均粒子サイズ0.25μm 、塩化銀含有率69.9モ
ル%の沃塩臭化銀立方体粒子であった。(変動係数10
%)
mgの1,3,3−トリエチル−2−チオ尿素および4mg
の塩化金酸を加えて65℃で最適感度になるように化学
増感した。 〔化学増感ロ〕 pH5.3、pAg8.5に調整し、銀1モル当たり1
mgのチオ硫酸ナトリウムと下記化合物K−1を1mg、お
よび塩化金酸4mgを加えて55℃で最適感度になるよう
に化学増感した。 〔化学増感ハ〕 化学増感ロに対して、チオ硫酸ナトリウムを少なくし
て、化合物K−1の化学増感の割合を多くする為に以下
の条件で化学増感を行なった。pH5.3、pAg8.
5に調整し、銀1モル当たり0.4mgのチオ硫酸ナトリ
ウムと下記化合物K−1を2.3mg、および塩化金酸4
mgを加えて55℃で最適感度になるように化学増感し
た。 〔化学増感ニ〕 pH5.3、pAg8.5に調整し、銀1モル当たり1
mgのチオ硫酸ナトリウムと下記化合物K−2を1mg、お
よび塩化金酸4mgを加えて55℃で最適感度になるよう
に化学増感した。 〔化学増感ホ〕 化学増感ニに対してチオ硫酸ナトリウムを少なくして下
記化合物K−2の化学増感の割合を多くする為に以下の
条件で化学増感を行なった。pH5.3、pAg8.5
に調整し、銀1モル当たり0.25mgのチオ硫酸ナトリ
ウムと下記化合物K−2を4mg、および塩化金酸4mgを
加えて55℃で最適感度になるように化学増感した。得
られた乳剤は表1に示した。
塩臭化銀立方体粒子の他は、乳剤Aと同じに調製した。
-4モル/モルAg加えてオルソ増感を施した。さらにカ
ブリ防止剤としてハイドロキノン、1−フェニル−5−
メルカプトテトラゾールをAg1モルあたりそれぞれ
2.5g、50mg、0.01μm のコロイダルシリカを
ゼラチンバインダー比30%、可塑剤としてポリエチル
アクリレートラテックスをゼラチンバインダー比25
%、硬膜剤として2−ビス(ビニルスルホニルアセトア
ミド)エタンを加えて、ポリエステル支持体上にAg
3.0g/m2、ゼラチン1.0g/m2になるように塗布
した。この時、非感光性上部層としてマット剤(ポリメ
チルメタアクリレートで平均粒子サイズ3.4μm のも
の)を0.10g/m2及び塗布ゼラチン量を1.0g/
m2になる様に添加し塗布助剤としてp−ドデジルベンゼ
ンスルホン酸ソーダと構造式(K−4)のフッソ界面活
性剤を添加し乳剤層と同時に塗布した。
成のバック層およびバック保護層を有する。 (バック層) ゼラチン 2.0g/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 80mg/m2 ゼラチン硬化剤 1,2−ビス(ビニルスルホニルアセト アミド)エタン 200mg/m2 SnO2/Sb (重量比90/10 、平均粒径0.20μ) 200mg/m2
ーを介入し、発光時間10-5sec のセキノンフラッシュ
光で露光し、富士写真フイルム(株)製自動現像機FG
−710NHを用いて下記に示した温度及び時間でセン
シトメトリーを行った。但し、定着液は富士写真フイル
ム(株)製GR−F1を用いた。現像液は表1のように
用いた。 濃度3.0を与える露光量の逆数を感度とし、相対感度
で表1に示した。また、特性曲線で濃度0.1と3.0
の点を結ぶ直線の傾きを階調として同じく第1表に示し
た。
ム(株)製自現機FG360Aのリンス浴機能を停止し
た状態で、未露光試料を38℃20秒の条件で処理し
た。処理ムラが実用不可能レベルのものを×、発生する
が実用可能レベルを△、発生しないものを〇とした。
方法によれば高感であり、高コントラストで画質が良
く、またかぶりが低く、物理現像ムラが出にくい。
Ag−mol 添加した。さらに4,4′−ビス(4,6−
ジナフトキシ−ピリミジン−2−イルアミノ)−スチル
ベンジスルホン酸ジナトリウム塩を銀1モルあたり23
4mg、1−フェニル−5−メルカプトテトラゾールを2
5mg加えた。さらにハイドロキノン150mg/m2、ポリ
エチルアクリレートラテックスをゼラチンバインダー比
30%、0.01μm のコロイダルシリカをゼラチンバ
インダー比30%、硬膜剤として2−ビス(ビニルスル
ホニルアセトアミド)エタンを70mg/m2添加し、ポリ
エステル支持体上に、銀塗布量3.2g/m2、塗布ゼラ
チン量1.4g/m2になる様に塗布した。このとき保護
層として乳剤層の上層にゼラチンを0.5g/m2、下記
構造式の染料を70mg/m2、そしてマット剤として粒径
2.5μm のポリメチルメタクリレートを60mg/m2、
粒径10mμのコロイダルシリカを70mg/m2、また塗
布助剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩
と下記構造式の含フッ素界面活性剤1.5mg/m2及びキ
レート剤20mg/m2を添加し、pH5.5に調整して乳
剤層と同時に塗布した。その他は実施例1と同様にバッ
ク層、バック保護層を付与し633nmにピークを持つ干
渉フィルターを用いた他は実施例1と同じ方法で評価を
行なった。
を使用した画像形成方法によれば高感であり、高コント
ラストで画質が良く、また、かぶりが低く物理現像ムラ
が出にくいことがわかる。
あたり5×10-4モル加え、さらに銀1モルあたり3×
10-4モルの下記K−7で示されるメルカプト化合物、
4×10-4モルのK−8で示されるメルカプト化合物、
4×10-4モルのK−9で示されるトリアジン化合物、
2×10-3モルの5−クロロ−8−ヒドロキシキノリン
を加え、ヒドラジン誘導体I−34を0.5mmol/molAg
と造核促進剤K−12を1mmol/molAgを添加した。さら
に、N−オレイル−N−メチルタウリンナトリウム塩を
30mg/m2塗布されるように添加し、K−10で示され
る水溶性ラテックスを200mg/m2、ポリエチルアクリ
レートの分散物を200mg/m2、メチルアクリレートと
2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナ
トリウム塩と2−アセトアセトキシエチルメタクリレー
トのラテックス共重合体(重量比88:5:7)を20
0mg/m2、さらに硬膜剤として1,3−ジビニルスルホ
ニル−2−プロパノールを200mg/m2を加えた。溶液
のpHは6.0に調製した。それらを両面が塩化ビニリ
デンを含む防湿層下塗りからなるポリエチレンテレフタ
レートフィルム上に塗布銀量3.0g/m2になるように
塗布した。
ン1.0g/m2、平均粒子サイズ約3.5μm の不定形
なSiO2 マット剤40mg/m2、メタノールシリカ0.
1g/m2、ポリアクリルアミド100mg/m2、エチルス
ルホン酸ナトリウム5mg/m2、ハイドロキノン200mg
/m2とシリコーンオイル20mg/m2および塗布助剤とし
て下記構造式K−11で示されるフッ素界面活性剤5mg
/m2とドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム100mg
/m2を塗布した。
ウェッジを通してタングステン光で露光し、現像液とし
て前記組成の現像液を用いて35℃で30秒現像をした
後、定着、水洗、乾燥処理を行った。定着液としてGR
−F1(富士写真フイルム株式会社製)を使用し、この
現像処理にはFG−680A自動現像機(富士写真フイ
ルム株式会社製)を用いた。感度は濃度1.5を与える
露光量の逆数の相対値で示し、値が大きいほど高感にな
るようにとった。画像のコントラストを表す指標(γ)
としては、特性曲線のfog+濃度0.3の点からfo
g+濃度3.0の点を直線で結び、この直線の傾きをγ
値として表した。すなわち、γ=(3.0−0.3)/
〔log(濃度3.0を与える露光量)−log(濃度
0.3を与える露光量)〕であり、γ値は大きいほど硬
調な写真特性であることを示している。黒ポツは素現部
分を顕微鏡観察により5段階に評価したもので「5」が
黒ポツの発生がなく最も良好なレベルを表し、「1」が
黒ポツの発生が著しく、悪い品質を表す。「3」は黒ポ
ツの発生が実用的に許容できる限度レベルである。
物を使用した画像形成方法によれば高感、高コントラス
ト(γ)が得られ、黒ポツのレベルも良い。
Claims (3)
- 【請求項1】 支持体上に少なくとも一層の、セレン化
合物またはテルル化合物の少なくとも1種で化学増感さ
れたハロゲン化銀乳剤の層を有するハロゲン化銀写真感
光材料を画像露光した後、現像主薬として実質的にジヒ
ドロキシベンゼン系主薬を含有せず、下記一般式(I)
で表わされる現像主薬を含有する現像液で現像処理する
ことを特徴とする画像形成方法。 一般式(I) 【化1】 式中、R1 、R2 はそれぞれヒドロキシ基、アミノ基、
アシルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリー
ルスルホニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ
基、メルカプト基またはアルキルチオ基を表す。P、Q
はヒドロキシ基、カルボキシル基、アルコキシ基、ヒド
ロキシアルキル基、カルボキシアルキル基、スルホ基、
スルホアルキル基、アミノ基、アミノアルキル基、メル
カプト基、アルキル基またはアリール基を表すか、また
は、PとQは互いに結合して、R1、R2 が置換してい
る二つのビニル炭素原子とYが置換している炭素原子と
共に5〜8員環を形成する原子群を表す。Yは=O、ま
たは=N−R3 を表す。R3は水素原子、ヒドロキシル
基、アルキル基、アシル基、ヒドロキシアルキル基、ス
ルホアルキル基、カルボキシアルキル基を表す。 - 【請求項2】 該ハロゲン化銀乳剤が、塩化銀含有率5
0モル%以上のハロゲン化銀乳剤からなる請求項1に記
載の画像形成方法。 - 【請求項3】 該乳剤層もしくは他の親水性コロイド層
の少なくとも1層中に一般式(II)で表わされるヒドラ
ジン化合物を含有することを特徴とする請求項1または
2に記載の画像形成方法。一般式(II) 【化2】 式中、R1 は脂肪族基または芳香族基を表し、R2 は水
素原子、アルキル基、アリール基、不飽和ヘテロ環基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、ヒドラジ
ノ基、カルバモイル基、またはオキシカルボニル基を表
し、G1 は−CO−基、−SO2 −基、−SO−基、 【化3】 −CO−CO−基、チオカルボニル基、またはイミノメ
チレン基を表し、A1 、A2 はともに水素原子、あるい
は一方が水素原子で他方が置換もしくは無置換のアルキ
ルスルホニル基、または置換もしくは無置換のアリール
スルホニル基、または置換もしくは無置換のアシル基を
表す。R3 にはR2 に定義した基と同じ範囲より選ば
れ、R2 と異なっていてもよい。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5253349A JP3054627B2 (ja) | 1993-10-08 | 1993-10-08 | 画像形成方法 |
US08/959,735 US5876907A (en) | 1993-10-08 | 1997-10-28 | Image formation method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5253349A JP3054627B2 (ja) | 1993-10-08 | 1993-10-08 | 画像形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07110554A JPH07110554A (ja) | 1995-04-25 |
JP3054627B2 true JP3054627B2 (ja) | 2000-06-19 |
Family
ID=17250096
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP5253349A Expired - Fee Related JP3054627B2 (ja) | 1993-10-08 | 1993-10-08 | 画像形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP3054627B2 (ja) |
-
1993
- 1993-10-08 JP JP5253349A patent/JP3054627B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JPH07110554A (ja) | 1995-04-25 |
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