JP3050630B2 - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
- Publication number
- JP3050630B2 JP3050630B2 JP3093120A JP9312091A JP3050630B2 JP 3050630 B2 JP3050630 B2 JP 3050630B2 JP 3093120 A JP3093120 A JP 3093120A JP 9312091 A JP9312091 A JP 9312091A JP 3050630 B2 JP3050630 B2 JP 3050630B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- annular ring
- fins
- ring portion
- coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体用のウエハなど
の基板を回転させて、ホトレジストなどを塗布する塗布
装置に関する。
の基板を回転させて、ホトレジストなどを塗布する塗布
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】基板上にホトレジストを塗布する場合、
通常、ホトレジストをノズルにより基板上に滴下する滴
下手段と、ケーシング内で前記基板を載置する載置台
と、吸引により前記基板を載置台に吸着する吸着手段
と、載置台を回転させるモータを備えた塗布装置が使用
されている。この塗布装置では、基板にホトレジストを
滴下し、ケーシング内で前記基板を高速回転させてホト
レジストの薄膜を形成している。
通常、ホトレジストをノズルにより基板上に滴下する滴
下手段と、ケーシング内で前記基板を載置する載置台
と、吸引により前記基板を載置台に吸着する吸着手段
と、載置台を回転させるモータを備えた塗布装置が使用
されている。この塗布装置では、基板にホトレジストを
滴下し、ケーシング内で前記基板を高速回転させてホト
レジストの薄膜を形成している。
【０００３】しかしながら、前記塗布装置では、基板の
高速回転に伴なって飛散するホトレジストの飛沫がケー
シングの内部側壁と衝突し、反射して基板に再付着する
ので、基板上に薄く均一なホトレジストの塗膜を形成で
きない。そして、ホトレジスト膜が不均一化すると、微
細なレジスト像を精度よく形成できなくなる。
高速回転に伴なって飛散するホトレジストの飛沫がケー
シングの内部側壁と衝突し、反射して基板に再付着する
ので、基板上に薄く均一なホトレジストの塗膜を形成で
きない。そして、ホトレジスト膜が不均一化すると、微
細なレジスト像を精度よく形成できなくなる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、基板を高速回転させても、ホトレジストなどの塗布
液の飛沫が基板に再付着することがなく、基板上に均一
な塗膜を形成できる塗布装置を提供することにある。
は、基板を高速回転させても、ホトレジストなどの塗布
液の飛沫が基板に再付着することがなく、基板上に均一
な塗膜を形成できる塗布装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、塗布液を基板上に滴下する滴下手段と、
ケーシング内で前記基板を回転させる回転手段とを有す
る塗布装置であって、前記ケーシングの内周に、前記基
板側が開放し、かつ回転可能な環状リング部が設けられ
ていると共に、この環状リング部に、前記基板の回転方
向から外方に沿って多数の放射状のフィンが設けられて
いる塗布装置を提供する。
め、本発明は、塗布液を基板上に滴下する滴下手段と、
ケーシング内で前記基板を回転させる回転手段とを有す
る塗布装置であって、前記ケーシングの内周に、前記基
板側が開放し、かつ回転可能な環状リング部が設けられ
ていると共に、この環状リング部に、前記基板の回転方
向から外方に沿って多数の放射状のフィンが設けられて
いる塗布装置を提供する。
【０００６】好ましい塗布装置においては、前記環状リ
ング部が、基板と逆方向に回転する。フィンは、環状リ
ング部内に揺動自在に設けてもよい。なお、前記フィン
は、基板の回転方向から外方に沿って放射状に湾曲して
いてもよい。さらに、前記環状リング部は、その下部が
末広がり状に形成してもよい。
ング部が、基板と逆方向に回転する。フィンは、環状リ
ング部内に揺動自在に設けてもよい。なお、前記フィン
は、基板の回転方向から外方に沿って放射状に湾曲して
いてもよい。さらに、前記環状リング部は、その下部が
末広がり状に形成してもよい。
【０００７】
【作用】前記構成の塗布装置では、滴下手段により塗布
液を基板上に滴下し、ケーシング内で、回転手段により
前記基板を回転させると、遠心力により、過剰の塗布液
が放射状に飛散する。飛散した塗布液は、基板側が開放
した環状リング部内に飛翔する。そして、回転可能な前
記環状リング部には基板の回転方向から外方に沿って多
数のフィンが放射状に設けられているので、環状リング
部の回転速度をコントロールすることにより、塗布液の
飛沫の飛翔方向とフィンの方向とをほぼ一致させること
ができ、遠心力による塗布液の飛沫をフィン間に導くこ
とができると共に、前記フィン間に飛翔した塗布液の飛
沫が環状リング部の内方へ反射するのを規制できる。従
って、基板への再付着を防止でき、塗布液の飛沫を環状
リング部内に効率よく収容できる。
液を基板上に滴下し、ケーシング内で、回転手段により
前記基板を回転させると、遠心力により、過剰の塗布液
が放射状に飛散する。飛散した塗布液は、基板側が開放
した環状リング部内に飛翔する。そして、回転可能な前
記環状リング部には基板の回転方向から外方に沿って多
数のフィンが放射状に設けられているので、環状リング
部の回転速度をコントロールすることにより、塗布液の
飛沫の飛翔方向とフィンの方向とをほぼ一致させること
ができ、遠心力による塗布液の飛沫をフィン間に導くこ
とができると共に、前記フィン間に飛翔した塗布液の飛
沫が環状リング部の内方へ反射するのを規制できる。従
って、基板への再付着を防止でき、塗布液の飛沫を環状
リング部内に効率よく収容できる。
【０００８】また、前記環状リング部が、基板と逆方向
に回転する場合には、飛翔した塗布液を複数のフィン間
に効率よく導くことができる。
に回転する場合には、飛翔した塗布液を複数のフィン間
に効率よく導くことができる。
【０００９】また、前記フィンを環状リング部内に揺動
自在に設けると、環状リング部の回転速度に応じてフィ
ンの配向方向をコントロールでき、塗布液の飛沫をフィ
ン間に導くことができる。前記フィンが、前記基板の回
転方向から外方に湾曲している場合には、飛散した塗布
液の飛翔方向と、フィンの方向を略一致させることがで
きるので、飛翔した塗布液を環状リング部のフィン間に
より効率よく導くことができると共に、フィンによる飛
沫の反射をさらに抑制できる。
自在に設けると、環状リング部の回転速度に応じてフィ
ンの配向方向をコントロールでき、塗布液の飛沫をフィ
ン間に導くことができる。前記フィンが、前記基板の回
転方向から外方に湾曲している場合には、飛散した塗布
液の飛翔方向と、フィンの方向を略一致させることがで
きるので、飛翔した塗布液を環状リング部のフィン間に
より効率よく導くことができると共に、フィンによる飛
沫の反射をさらに抑制できる。
【００１０】さらに、前記環状リング部の下部が末広が
り状に形成されている場合には、飛翔した飛沫を傾斜し
た側壁により下方に反射させることができる。
り状に形成されている場合には、飛翔した飛沫を傾斜し
た側壁により下方に反射させることができる。
【００１１】
【実施例】以下に、添付図面を参照しつつ、本発明の実
施例をより詳細に説明する。
施例をより詳細に説明する。
【００１２】図１は本発明の一実施例による塗布装置を
示す断面図、図２は図１の塗布装置を示す概略平面図で
ある。
示す断面図、図２は図１の塗布装置を示す概略平面図で
ある。
【００１３】この塗布装置は、ホトレジストなどの塗布
液を定量的に供給し、ノズル１から基板３に滴下する滴
下手段２と、排気流路４を備えたケーシング５内に配設
され、前記基板３を回転駆動する回転手段とを備えてい
る。
液を定量的に供給し、ノズル１から基板３に滴下する滴
下手段２と、排気流路４を備えたケーシング５内に配設
され、前記基板３を回転駆動する回転手段とを備えてい
る。
【００１４】前記回転手段は、前記基板３が載置される
載置プレート６と、この載置プレート６の上面で中空部
が開口し、載置プレート６に載置された基板３を吸引に
より吸着するための中空軸７と、この中空軸７を、前記
ケーシング５の下部で内方へ延出した端部で回転可能に
保持する軸受８ａ，８ｂとを備えている。また、回転手
段は、前記軸受８ａ，８ｂ間の中空軸７およびモータ１
０の回転軸１１に取付けられた滑車９ａと、滑車９ａ間
に緊張状態で設けられたベルト９ｂと、前記モータ１０
の回転軸を回転可能に支持する軸受１２とを有してい
る。
載置プレート６と、この載置プレート６の上面で中空部
が開口し、載置プレート６に載置された基板３を吸引に
より吸着するための中空軸７と、この中空軸７を、前記
ケーシング５の下部で内方へ延出した端部で回転可能に
保持する軸受８ａ，８ｂとを備えている。また、回転手
段は、前記軸受８ａ，８ｂ間の中空軸７およびモータ１
０の回転軸１１に取付けられた滑車９ａと、滑車９ａ間
に緊張状態で設けられたベルト９ｂと、前記モータ１０
の回転軸を回転可能に支持する軸受１２とを有してい
る。
【００１５】従って、前記中空軸７を通じて吸引し、基
板３を載置プレート６に吸着させ、モータ１０を回転さ
せると、回転運動が、ベルト９ｂを介して中空軸７に伝
達し、前記載置プレート６および基板３が回転する。
板３を載置プレート６に吸着させ、モータ１０を回転さ
せると、回転運動が、ベルト９ｂを介して中空軸７に伝
達し、前記載置プレート６および基板３が回転する。
【００１６】前記ケーシング５の内周には、基板３側が
開放し、かつ前記基板３と非接触状態で回転する多翼遠
心ファン１６が配設されている。この多翼遠心ファン１
６は、前記ケーシング５内の底板部１３と、この底板部
１３の中央部から延出し、前記中空軸７を回転可能に収
容する筒状部１４と、前記底板部１３の周縁部に形成さ
れ、基板３側が開放した環状リング部１５とで構成され
ている。
開放し、かつ前記基板３と非接触状態で回転する多翼遠
心ファン１６が配設されている。この多翼遠心ファン１
６は、前記ケーシング５内の底板部１３と、この底板部
１３の中央部から延出し、前記中空軸７を回転可能に収
容する筒状部１４と、前記底板部１３の周縁部に形成さ
れ、基板３側が開放した環状リング部１５とで構成され
ている。
【００１７】また、前記基板３の回転に伴なって、飛散
した塗布液を下方へ反射させるため、前記環状リング部
１５は、その下部が末広がり状、すなわち縦断面ハ字状
に形成されている。さらに、環状リング部１５の外側端
部には、貯溜する塗布液を流出させる開口１７が形成さ
れている。
した塗布液を下方へ反射させるため、前記環状リング部
１５は、その下部が末広がり状、すなわち縦断面ハ字状
に形成されている。さらに、環状リング部１５の外側端
部には、貯溜する塗布液を流出させる開口１７が形成さ
れている。
【００１８】前記筒状部１４は、ケーシング５の下部
に、ケーシング５と一体に形成された受液部１８の端部
で、軸受１９により回転可能に保持されている。また、
前記筒状部１４の下端部にはギヤ２０が取付けられ、こ
のギヤ２０は、前記モータ１０の回転軸１１に取付けら
れたギヤ２１と噛合している。なお、回転軸１１の端部
は、軸受２２により回転可能に保持されている。
に、ケーシング５と一体に形成された受液部１８の端部
で、軸受１９により回転可能に保持されている。また、
前記筒状部１４の下端部にはギヤ２０が取付けられ、こ
のギヤ２０は、前記モータ１０の回転軸１１に取付けら
れたギヤ２１と噛合している。なお、回転軸１１の端部
は、軸受２２により回転可能に保持されている。
【００１９】従って、前記モータ１０の回転運動は、前
記ギヤ２０，２１により多翼遠心ファン１６に伝達さ
れ、かつ前記基板３の回転方向とは逆方向に環状リング
部１５とともに多翼遠心ファン１６が回転する。この例
では、基板３が反時計方向に回転し、多翼遠心ファン１
６が時計方向に回転する。
記ギヤ２０，２１により多翼遠心ファン１６に伝達さ
れ、かつ前記基板３の回転方向とは逆方向に環状リング
部１５とともに多翼遠心ファン１６が回転する。この例
では、基板３が反時計方向に回転し、多翼遠心ファン１
６が時計方向に回転する。
【００２０】そして、前記環状リング部１５には、多数
のフィン２３が設けられ、これらのフィン２３は、基板
３の回転方向から外方に沿って湾曲している。従って、
多翼遠心ファン１６を基板３と逆方向に回転させること
により、回転に伴なって飛翔する飛沫の飛翔方向と、フ
ィン２３の向きを略一致させることができ、環状リング
部１５内のフィン２３間に飛沫を効率よく導き、収容で
きる。また、前記フィン２３が湾曲しているので、フィ
ン２３間に飛翔した飛沫が、環状リング部１５から基板
３の方向へ反射するのを規制できる。
のフィン２３が設けられ、これらのフィン２３は、基板
３の回転方向から外方に沿って湾曲している。従って、
多翼遠心ファン１６を基板３と逆方向に回転させること
により、回転に伴なって飛翔する飛沫の飛翔方向と、フ
ィン２３の向きを略一致させることができ、環状リング
部１５内のフィン２３間に飛沫を効率よく導き、収容で
きる。また、前記フィン２３が湾曲しているので、フィ
ン２３間に飛翔した飛沫が、環状リング部１５から基板
３の方向へ反射するのを規制できる。
【００２１】さらに、前記受液部１８には、前記環状リ
ング部１５の開口１７から流出する塗布液を排出または
回収するためのドレインパイプ２４が接続されている。
ング部１５の開口１７から流出する塗布液を排出または
回収するためのドレインパイプ２４が接続されている。
【００２２】なお、フィンが塗布液の飛沫の飛翔方向、
すなわち基板の回転方向から外方向に沿って設けられて
いると、飛翔する飛沫をフィン間に導き、環状リング部
に収容できる。また、前記フィンは、飛沫の飛翔方向に
沿って湾曲している必要はなく、平板状や捩れていても
よい。
すなわち基板の回転方向から外方向に沿って設けられて
いると、飛翔する飛沫をフィン間に導き、環状リング部
に収容できる。また、前記フィンは、飛沫の飛翔方向に
沿って湾曲している必要はなく、平板状や捩れていても
よい。
【００２３】前記フィンは、環状リング部内で揺動自在
に設けられていてもよい。図３は本発明の他の実施例に
よる環状リング部の部分概略平面図である。
に設けられていてもよい。図３は本発明の他の実施例に
よる環状リング部の部分概略平面図である。
【００２４】この例では、環状リング部３１の内方開放
側の上下部には、フィン３３を回転可能に枢支するピン
３２が設けられ、前記環状リング部３１の上部周方向に
は、フィン３３の揺動範囲を規定する規制ピン３４が設
けられている。なお、前記規制ピン３４は、前記環状リ
ング部３１の上部周方向に形成された環状スリット（図
示せず）内でスライド可能で、かつ所定位置で固定可能
な環状部材（図示せず）の下面から環状リング部３１内
へ突出している。
側の上下部には、フィン３３を回転可能に枢支するピン
３２が設けられ、前記環状リング部３１の上部周方向に
は、フィン３３の揺動範囲を規定する規制ピン３４が設
けられている。なお、前記規制ピン３４は、前記環状リ
ング部３１の上部周方向に形成された環状スリット（図
示せず）内でスライド可能で、かつ所定位置で固定可能
な環状部材（図示せず）の下面から環状リング部３１内
へ突出している。
【００２５】このようなフィン３３を設けた環状リング
部３１を、基板と同一又は逆方向に回転させる場合、前
記環状リング部３１の回転に伴なう流動抵抗により、フ
ィン３３が、前記ピン３２を中心として前記基板の回転
方向から外方に向き、フィン３３の移動が規制ピン３４
により規制される。従って、フィン３３を所定の方向に
配列させることができ、塗布液の飛沫をフィン３３間に
導くことができる。また、環状部材と共に規制ピン３４
を環状スリットに沿って周方向へ移動させることによ
り、フィン３３の揺動範囲を容易に規定できる。
部３１を、基板と同一又は逆方向に回転させる場合、前
記環状リング部３１の回転に伴なう流動抵抗により、フ
ィン３３が、前記ピン３２を中心として前記基板の回転
方向から外方に向き、フィン３３の移動が規制ピン３４
により規制される。従って、フィン３３を所定の方向に
配列させることができ、塗布液の飛沫をフィン３３間に
導くことができる。また、環状部材と共に規制ピン３４
を環状スリットに沿って周方向へ移動させることによ
り、フィン３３の揺動範囲を容易に規定できる。
【００２６】なお、図３に示す実施例において、前記フ
ィン３３を枢支するピンは、基板及び環状リング部の回
転方向に応じて適所に形成することができ、環状リング
部の上下方向に回転可能に設けられたピンに、前記フィ
ンを取付けてもよい。また、前記規制ピン３４に代え
て、環状リング部に形成されたピンや凸部により、前記
フィンの揺動範囲を規定してもよい。
ィン３３を枢支するピンは、基板及び環状リング部の回
転方向に応じて適所に形成することができ、環状リング
部の上下方向に回転可能に設けられたピンに、前記フィ
ンを取付けてもよい。また、前記規制ピン３４に代え
て、環状リング部に形成されたピンや凸部により、前記
フィンの揺動範囲を規定してもよい。
【００２７】前記各実施例において、環状リング部は、
基板と同じ方向に回転してもよい。この場合、例えば、
前記滑車９ａ及びベルト９ｂに代えてギヤを使用しても
よく、前記モータ１０の回転軸１１と中空軸７とに互い
に噛合するギヤを取付け、前記回転軸１１のギヤ２１と
筒状部１４のギヤ２０との間にギヤを介在させてもよ
い。さらに、ギヤ比やプーリ比を調整することにより、
基板の回転速度と環状リング部の回転速度を制御しても
よい。
基板と同じ方向に回転してもよい。この場合、例えば、
前記滑車９ａ及びベルト９ｂに代えてギヤを使用しても
よく、前記モータ１０の回転軸１１と中空軸７とに互い
に噛合するギヤを取付け、前記回転軸１１のギヤ２１と
筒状部１４のギヤ２０との間にギヤを介在させてもよ
い。さらに、ギヤ比やプーリ比を調整することにより、
基板の回転速度と環状リング部の回転速度を制御しても
よい。
【００２８】さらに、前記環状リング部の側壁は、立設
していてもよいが、前記のように、下方に末広がり状に
傾斜して形成されているのが好ましい。環状リング部の
側壁の角度は、基板の回転数などに応じて選択できる。
していてもよいが、前記のように、下方に末広がり状に
傾斜して形成されているのが好ましい。環状リング部の
側壁の角度は、基板の回転数などに応じて選択できる。
【００２９】本発明の塗布装置は、ホトレジストを用い
て微細な回路パターンなどを製造する場合に好適に使用
されるが、ホトレジストに限らず種々の塗布液を塗布す
る場合にも使用できる。
て微細な回路パターンなどを製造する場合に好適に使用
されるが、ホトレジストに限らず種々の塗布液を塗布す
る場合にも使用できる。
【００３０】
【発明の効果】本発明の塗布装置によれば、回転可能な
環状リング部に、特定の方向に向いた多数のフィンが設
けられているため、基板を高速回転させても、塗布液の
飛沫をフィン間に飛翔させて収容できると共に、環状リ
ング部の内方へ反射するのを規制でき、ホトレジストな
どの塗布液の飛沫が基板に再付着することがなく、基板
上に均一な塗膜を形成できる。
環状リング部に、特定の方向に向いた多数のフィンが設
けられているため、基板を高速回転させても、塗布液の
飛沫をフィン間に飛翔させて収容できると共に、環状リ
ング部の内方へ反射するのを規制でき、ホトレジストな
どの塗布液の飛沫が基板に再付着することがなく、基板
上に均一な塗膜を形成できる。
【００３１】前記環状リング部が、基板と逆方向に回転
する場合には、飛翔した塗布液の飛沫を複数のフィン間
に効率よく導くことができ、基板への飛沫の再付着をさ
らに防止できる。
する場合には、飛翔した塗布液の飛沫を複数のフィン間
に効率よく導くことができ、基板への飛沫の再付着をさ
らに防止できる。
【００３２】また、前記フィンが環状リング部内に揺動
自在に設けられている場合には、環状リング部の回転速
度に応じてフィンの配向方向をコントロールでき、飛翔
した塗布液を環状リング部のフィン間により効率よく導
くことができる。なお、前記フィンが、前記基板の回転
方向から外方に湾曲している場合には、飛散した塗布液
の飛翔方向と、フィンの方向を一致させることができる
ので、飛翔した塗布液を環状リング部のフィン間により
効率よく導くことができると共に、フィンによる飛沫の
反射をさらに抑制できる。
自在に設けられている場合には、環状リング部の回転速
度に応じてフィンの配向方向をコントロールでき、飛翔
した塗布液を環状リング部のフィン間により効率よく導
くことができる。なお、前記フィンが、前記基板の回転
方向から外方に湾曲している場合には、飛散した塗布液
の飛翔方向と、フィンの方向を一致させることができる
ので、飛翔した塗布液を環状リング部のフィン間により
効率よく導くことができると共に、フィンによる飛沫の
反射をさらに抑制できる。
【００３３】さらに、前記環状リング部は、その下部が
末広がり状に形成されている場合には、塗布液の飛沫を
下方へ反射させることができるので、基板への飛沫の再
付着を防止できる。
末広がり状に形成されている場合には、塗布液の飛沫を
下方へ反射させることができるので、基板への飛沫の再
付着を防止できる。
【図１】本発明の一実施例による塗布装置を示す断面図
である。
である。
【図２】図１の塗布装置を示す概略平面図である。
【図３】本発明の他の実施例による環状リング部の部分
概略平面図である。
概略平面図である。
２…滴下手段 ３…基板 ５…ケーシング １０…モータ １５，３１…環状リング部 １６…多翼遠心ファン ２３，３３…フィン
Claims (3)
- 【請求項１】 塗布液を基板上に滴下する滴下手段と、
ケーシング内で前記基板を回転させる回転手段とを有す
る塗布装置であって、前記ケーシングの内周に、前記基
板側が開放し、かつ回転可能な環状リング部が設けられ
ていると共に、この環状リング部に、前記基板の回転方
向から外方に沿って多数の放射状のフィンが設けられて
いる塗布装置。 - 【請求項２】 環状リング部が、基板と逆方向に回転す
る請求項１記載の塗布装置。 - 【請求項３】 フィンが、環状リング部内で揺動自在に
設けられている請求項１又は２記載の塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3093120A JP3050630B2 (ja) | 1991-03-30 | 1991-03-30 | 塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3093120A JP3050630B2 (ja) | 1991-03-30 | 1991-03-30 | 塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04303919A JPH04303919A (ja) | 1992-10-27 |
| JP3050630B2 true JP3050630B2 (ja) | 2000-06-12 |
Family
ID=14073662
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3093120A Expired - Fee Related JP3050630B2 (ja) | 1991-03-30 | 1991-03-30 | 塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3050630B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5591264A (en) * | 1994-03-22 | 1997-01-07 | Sony Corporation | Spin coating device |
| JP4969353B2 (ja) | 2007-07-25 | 2012-07-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
| CN113655167A (zh) * | 2020-05-12 | 2021-11-16 | 国家烟草质量监督检验中心 | 一种滤片自动涂液装置测定卷烟主流烟气中氨含量的方法 |
-
1991
- 1991-03-30 JP JP3093120A patent/JP3050630B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04303919A (ja) | 1992-10-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5989632A (en) | Coating solution applying method and apparatus | |
| US4822639A (en) | Spin coating method and device | |
| JP3069762B2 (ja) | 塗布膜形成方法及びその装置 | |
| US11961757B2 (en) | Substrate holding apparatus and substrate processing apparatus | |
| US5069156A (en) | Spin coating apparatus for forming a photoresist film over a substrate having a non-circular outer shape | |
| JP3050630B2 (ja) | 塗布装置 | |
| JPH11239758A (ja) | 基板処理装置 | |
| JPH0945750A (ja) | 板状物保持部材およびそれを用いた回転処理装置 | |
| JP2002151455A (ja) | 半導体ウエハ用洗浄装置 | |
| JPH0864568A (ja) | ウェーハ洗浄装置 | |
| JPH05166712A (ja) | 回転塗布方法 | |
| JPH0910658A (ja) | 塗布方法および塗布装置 | |
| JPS584926A (ja) | 回転塗布装置 | |
| JP2635135B2 (ja) | 塗布装置 | |
| JPH09122558A (ja) | 回転式塗布装置 | |
| US20120162618A1 (en) | Substrate processing device and method | |
| JP3461068B2 (ja) | 回転カップ式液体供給装置 | |
| JPH0851061A (ja) | 塗布膜形成方法及びその装置 | |
| JP5467583B2 (ja) | 基板洗浄装置 | |
| JPH01159080A (ja) | 回転塗布装置 | |
| JPS59232417A (ja) | 半導体ウエ−ハのレジスト現像装置 | |
| CN113138535A (zh) | 光刻胶涂覆装置及光刻胶涂覆方法 | |
| JPS581144A (ja) | フオトレジストの塗布方法 | |
| JPH01139172A (ja) | 塗布装置 | |
| JPH06285414A (ja) | 回転式塗布装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080331 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090331 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100331 Year of fee payment: 10 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |