JP3047877B2 - エポキシ樹脂改質剤及び半導体封止用樹脂組成物 - Google Patents
エポキシ樹脂改質剤及び半導体封止用樹脂組成物Info
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- JP3047877B2 JP3047877B2 JP9345797A JP34579797A JP3047877B2 JP 3047877 B2 JP3047877 B2 JP 3047877B2 JP 9345797 A JP9345797 A JP 9345797A JP 34579797 A JP34579797 A JP 34579797A JP 3047877 B2 JP3047877 B2 JP 3047877B2
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- siloxane compound
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、合成樹脂の改質
に、特にエポキシ樹脂の応力緩和に好適なシロキサン化
合物からなるエポキシ樹脂改質剤とそれを用いた半導体
素子封止用樹脂組成物に関する。
に、特にエポキシ樹脂の応力緩和に好適なシロキサン化
合物からなるエポキシ樹脂改質剤とそれを用いた半導体
素子封止用樹脂組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、耐湿性、電気特性、成形性、
機械的特性などに優れたエポキシ樹脂は半導体素子の樹
脂封止材として広く利用されてきた。しかし、エポキシ
樹脂は一般的に低弾性率であるため可撓性に乏しく、成
形を行うときにこれが内部応力として残り、クラックの
発生や素子の破損が生じ易いといった欠点があった。こ
のため従来より、シリコン系改質剤、ゴム、低応力樹脂
などを用いて応力を緩和する措置が検討されてきた。
機械的特性などに優れたエポキシ樹脂は半導体素子の樹
脂封止材として広く利用されてきた。しかし、エポキシ
樹脂は一般的に低弾性率であるため可撓性に乏しく、成
形を行うときにこれが内部応力として残り、クラックの
発生や素子の破損が生じ易いといった欠点があった。こ
のため従来より、シリコン系改質剤、ゴム、低応力樹脂
などを用いて応力を緩和する措置が検討されてきた。
【０００３】また、ヒドロシリル基を持つシリコーン化
合物にヒドロシリル化反応を用いて水酸基を有するオレ
フィンを付加する場合、ヒドロシリル化触媒により水酸
基がヒドロシリル基の水素原子と脱水素の副反応を起こ
し目的物の収率が下がってしまうため、トリメチルシリ
ル基などの置換基で該水酸基を保護してやる必要があっ
た。
合物にヒドロシリル化反応を用いて水酸基を有するオレ
フィンを付加する場合、ヒドロシリル化触媒により水酸
基がヒドロシリル基の水素原子と脱水素の副反応を起こ
し目的物の収率が下がってしまうため、トリメチルシリ
ル基などの置換基で該水酸基を保護してやる必要があっ
た。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、近年において
はパッケージの薄型化や小型化、又、半導体素子の高集
積化にともなう素子上のパターンの緻密化や素子のチッ
プの大型化が進み、半導体封止材料への要求特性が厳し
くなり、従来のエポキシ樹脂の改質剤よりさらに優れ
た、特に、応力緩和、耐湿性、半田などへの耐熱性に優
れ且つエポキシ樹脂への反応性が良好な改質剤が望まれ
ていた。
はパッケージの薄型化や小型化、又、半導体素子の高集
積化にともなう素子上のパターンの緻密化や素子のチッ
プの大型化が進み、半導体封止材料への要求特性が厳し
くなり、従来のエポキシ樹脂の改質剤よりさらに優れ
た、特に、応力緩和、耐湿性、半田などへの耐熱性に優
れ且つエポキシ樹脂への反応性が良好な改質剤が望まれ
ていた。
【０００５】また、ヒドロシリル基を持つシリコーン化
合物にヒドロシリル化反応を用いて水酸基を有するオレ
フィンを付加する場合は、主原料のほかに保護基として
用いる化合物が必要であるうえ、さらにヒドロシリル化
反応の前に水酸基を保護する工程とヒドロシリル化反応
の終了後に保護基を外す工程が必要であった。このため
反応工程が長くなり且つ製造コストがかさむという欠点
があった。本発明は、以上のような問題点を改良し、安
価で、且つエポキシ樹脂との反応性の優れたシロキサン
化合物からなるエポキシ樹脂の改質剤及びそれを用いた
半導体素子封止用樹脂組成物を提供することを目的とす
る。
合物にヒドロシリル化反応を用いて水酸基を有するオレ
フィンを付加する場合は、主原料のほかに保護基として
用いる化合物が必要であるうえ、さらにヒドロシリル化
反応の前に水酸基を保護する工程とヒドロシリル化反応
の終了後に保護基を外す工程が必要であった。このため
反応工程が長くなり且つ製造コストがかさむという欠点
があった。本発明は、以上のような問題点を改良し、安
価で、且つエポキシ樹脂との反応性の優れたシロキサン
化合物からなるエポキシ樹脂の改質剤及びそれを用いた
半導体素子封止用樹脂組成物を提供することを目的とす
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の目
的を達成するために鋭意研究した結果下記発明に到達し
た。即ち、第１の発明は、一般式（Ｉ）
的を達成するために鋭意研究した結果下記発明に到達し
た。即ち、第１の発明は、一般式（Ｉ）
【０００７】
【化５】
【０００８】｛式中、ｊは０〜２０００の整数を表わ
し、Ｒ1 は次式
し、Ｒ1 は次式
【０００９】
【化６】
【００１０】（式中、Ｒは炭素原子数１〜４のアルキル
基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表わし、Ａは
炭素原子数１〜４の２価の炭化水素基を表わし、ａは０
〜３の整数を表わし、ｂは１又は２である）で示される
基を表わし、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4、Ｒ5 及びＲ6 はそれぞ
れ炭素原子数１〜４のアルキル基又はフェニル基を表わ
す｝によって示されるシロキサン化合物からなるエポキ
シ樹脂用改質剤である。第２の発明は、一般式（II）
基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表わし、Ａは
炭素原子数１〜４の２価の炭化水素基を表わし、ａは０
〜３の整数を表わし、ｂは１又は２である）で示される
基を表わし、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4、Ｒ5 及びＲ6 はそれぞ
れ炭素原子数１〜４のアルキル基又はフェニル基を表わ
す｝によって示されるシロキサン化合物からなるエポキ
シ樹脂用改質剤である。第２の発明は、一般式（II）
【００１１】
【化７】
【００１２】（式中、ｋ及びιはそれぞれ０〜２０００
の整数を表わし、Ｒ1 、Ｒ3 、Ｒ4、Ｒ5 及びＲ6 は前
記と同じ意味を表わし、Ｒ8 は炭素原子数１〜４のアル
キル基又はフェニル基を表わす）によって示されるシロ
キサン化合物よりなるエポキシ樹脂用改質剤である。
の整数を表わし、Ｒ1 、Ｒ3 、Ｒ4、Ｒ5 及びＲ6 は前
記と同じ意味を表わし、Ｒ8 は炭素原子数１〜４のアル
キル基又はフェニル基を表わす）によって示されるシロ
キサン化合物よりなるエポキシ樹脂用改質剤である。
【００１３】第３の発明は、一般式（III)
【００１４】
【化８】
【００１５】（式中、ｍ、ｎ及びｐはそれぞれ０〜２０
００の整数を表わし、Ｒ1 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 及びＲ6
は、前記と同じ意味を表わす）によって示されるシロキ
サン化合物からなるエポキシ樹脂用改質剤である。第４
の発明は、一般式（Ｉ）、(II)及び(III)で示されるシ
ロキサン化合物の１種以上とエポキシ樹脂を含む半導体
素子封止用樹脂組成物である。
００の整数を表わし、Ｒ1 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 及びＲ6
は、前記と同じ意味を表わす）によって示されるシロキ
サン化合物からなるエポキシ樹脂用改質剤である。第４
の発明は、一般式（Ｉ）、(II)及び(III)で示されるシ
ロキサン化合物の１種以上とエポキシ樹脂を含む半導体
素子封止用樹脂組成物である。
【００１６】
【発明の実施の形態】本発明の、上記、第１発明の一般
式（Ｉ）におけるｊ、第２発明の一般式(II)におけるｋ
及びι、はポリシロキサン直鎖部のシロキサンユニット
の個数をあらわし、それらの範囲は、合成樹脂へ導入し
た場合にシロキサンの持つ機能特性の明確な発現を得る
ため、合成樹脂への導入を容易にするため、及び合成を
容易にするために、ｊ、ｋ、ι、ｍ、ｎ及びｐの範囲を
それぞれ０〜２０００とする。
式（Ｉ）におけるｊ、第２発明の一般式(II)におけるｋ
及びι、はポリシロキサン直鎖部のシロキサンユニット
の個数をあらわし、それらの範囲は、合成樹脂へ導入し
た場合にシロキサンの持つ機能特性の明確な発現を得る
ため、合成樹脂への導入を容易にするため、及び合成を
容易にするために、ｊ、ｋ、ι、ｍ、ｎ及びｐの範囲を
それぞれ０〜２０００とする。
【００１７】本発明で用いられるシロキサン化合物は、
水酸基含有置換基を基準としたシロキサン鎖の本数が、
上記第１発明の一般式（Ｉ）で示される１本、第２発明
の一般式（II）で示される２本及び第３発明の一般式
（III)で示される３本の３種類の構造があることを特徴
としている。これらから、目的とする合成樹脂や付与し
たい機能特性に合わせて任意の構造のものを選択し、単
独で又は混合して用いることができる。
水酸基含有置換基を基準としたシロキサン鎖の本数が、
上記第１発明の一般式（Ｉ）で示される１本、第２発明
の一般式（II）で示される２本及び第３発明の一般式
（III)で示される３本の３種類の構造があることを特徴
としている。これらから、目的とする合成樹脂や付与し
たい機能特性に合わせて任意の構造のものを選択し、単
独で又は混合して用いることができる。
【００１８】さらに、第２発明の一般式（II）、及び、
第３発明の一般式（III)で示される、水酸基含有置換基
を基準としたシロキサン鎖本数が２本及び３本の場合の
それぞれのシロキサン鎖長は、目的によってはそれぞれ
違った分子鎖長を設定することもできるが、合成樹脂に
特殊な機能を付与する必要がある場合や特性をより細か
くコントロールする必要がある場合以外は、製造工程が
増え合成条件の許容範囲が狭くなるのを避けるため、そ
れぞれ同一のシロキサン鎖長に設定するのが好ましい。
第３発明の一般式（III)で示される、水酸基含有置換基
を基準としたシロキサン鎖本数が２本及び３本の場合の
それぞれのシロキサン鎖長は、目的によってはそれぞれ
違った分子鎖長を設定することもできるが、合成樹脂に
特殊な機能を付与する必要がある場合や特性をより細か
くコントロールする必要がある場合以外は、製造工程が
増え合成条件の許容範囲が狭くなるのを避けるため、そ
れぞれ同一のシロキサン鎖長に設定するのが好ましい。
【００１９】前記Ｒ1 で表わされる基としては、３−
（ｏ−ヒドロキシフェニル）プロピル基、３−（ｐ−ヒ
ドロキシフェニル）プロピル基、３−（ｍ−ヒドロキシ
フェニル）プロピル基又は３−（ｐ−ヒドロキシ−ｍ−
メトキシフェニル）プロピル基、３−（２，５−ジヒド
ロキシフェニル）プロピル基、３−（３，４−ジヒドロ
キシフェニル）プロピル基、３−（３，５−ジヒドロキ
シフェニル）プロピル基、３−（３−メチル−５−ヒド
ロキシフェニル）プロピル基、３−（３−エチル−５−
ヒドロキシフェニル）プロピル基、３−（３，５−ジメ
チル−４−ヒドロキシフェニル）プロピル基を挙げるこ
とができる。
（ｏ−ヒドロキシフェニル）プロピル基、３−（ｐ−ヒ
ドロキシフェニル）プロピル基、３−（ｍ−ヒドロキシ
フェニル）プロピル基又は３−（ｐ−ヒドロキシ−ｍ−
メトキシフェニル）プロピル基、３−（２，５−ジヒド
ロキシフェニル）プロピル基、３−（３，４−ジヒドロ
キシフェニル）プロピル基、３−（３，５−ジヒドロキ
シフェニル）プロピル基、３−（３−メチル−５−ヒド
ロキシフェニル）プロピル基、３−（３−エチル−５−
ヒドロキシフェニル）プロピル基、３−（３，５−ジメ
チル−４−ヒドロキシフェニル）プロピル基を挙げるこ
とができる。
【００２０】本発明の、第１発明の一般式（Ｉ）、第２
発明の一般式（II）及び第３発明の一般式（III) で示
されるシロキサン化合物は、分子中に存在する水酸基を
これと反応可能なエポキシ樹脂などの合成樹脂と反応さ
せ、化学結合により組み込むことにより、合成樹脂の特
性改善に有用なシロキサン化合物として用いることがで
き、特に半導体素子の樹脂封止材の内部応力緩和剤とし
て優れた効果を得ることができる。
発明の一般式（II）及び第３発明の一般式（III) で示
されるシロキサン化合物は、分子中に存在する水酸基を
これと反応可能なエポキシ樹脂などの合成樹脂と反応さ
せ、化学結合により組み込むことにより、合成樹脂の特
性改善に有用なシロキサン化合物として用いることがで
き、特に半導体素子の樹脂封止材の内部応力緩和剤とし
て優れた効果を得ることができる。
【００２１】本発明の化合物は、一般式(XX)で示される
水酸基を持つオレフィン化合物をそれぞれ一般式(VI)、
(VII)または(VIII)で示されるヒドロシリル基含有シロ
キサン化合物とのヒドロシリル化反応によって得ること
が出来る。
水酸基を持つオレフィン化合物をそれぞれ一般式(VI)、
(VII)または(VIII)で示されるヒドロシリル基含有シロ
キサン化合物とのヒドロシリル化反応によって得ること
が出来る。
【００２２】
【化９】
【００２３】
【化１０】
【００２４】
【化１１】
【００２５】
【化１２】
【００２６】この反応は添加する触媒の種類と量によ
り、更に好ましくはそれらに合わせて反応温度をコント
ロールすることにより、水酸基を持つオレフィンである
式（XX）で示されるフェノール化合物の水酸基部分をヘ
キサメチルジシラザンやトリメチルクロロシランなどの
各種シリル化剤で保護しなくともほとんど副反応を起こ
さず９５％以上の収率で目的化合物を得ることができる
ことを特徴としている。従来、水酸基を持つオレフィン
のヒドロシリル化反応においては、ヒドロシリル化触媒
の作用により珪素原子に結合した水素原子と付加しよう
とするオレフィンの持つ水酸基の水素原子が結合するこ
とにより副反応である脱水素反応が生じ目的物の収量を
減少させていた。このため水酸基部分を、これに他の置
換基を付加させることによって保護し、ヒドロシリル化
反応終了後にその保護基を外す操作が必要であった。こ
の方法を用いることにより、水酸基保護工程に必要な製
造設備への投資や保護置換基として用いる原料が不要と
なるため大幅な製造工程の短縮及びコストダウンが可能
となった。
り、更に好ましくはそれらに合わせて反応温度をコント
ロールすることにより、水酸基を持つオレフィンである
式（XX）で示されるフェノール化合物の水酸基部分をヘ
キサメチルジシラザンやトリメチルクロロシランなどの
各種シリル化剤で保護しなくともほとんど副反応を起こ
さず９５％以上の収率で目的化合物を得ることができる
ことを特徴としている。従来、水酸基を持つオレフィン
のヒドロシリル化反応においては、ヒドロシリル化触媒
の作用により珪素原子に結合した水素原子と付加しよう
とするオレフィンの持つ水酸基の水素原子が結合するこ
とにより副反応である脱水素反応が生じ目的物の収量を
減少させていた。このため水酸基部分を、これに他の置
換基を付加させることによって保護し、ヒドロシリル化
反応終了後にその保護基を外す操作が必要であった。こ
の方法を用いることにより、水酸基保護工程に必要な製
造設備への投資や保護置換基として用いる原料が不要と
なるため大幅な製造工程の短縮及びコストダウンが可能
となった。
【００２７】本発明に用いられるシロキサン化合物の製
造において用いられるヒドロシリル化触媒としては、周
期律表第VIII属の金属元素の錯化合物又はそれらと各種
オレフィンのコンプレックスを用いることができ、特に
白金化合物及びロジウム化合物が良好である。触媒の使
用量は白金化合物の場合で、原料シロキサンの珪素原子
に結合した水素原子１個に対して１×１０-8〜１×１０
-4モルの範囲が良く、１×１０-7〜１×１０-5モルの範
囲が特によい。１×１０-8モル未満では反応系中の微量
の水分や妨害物質の影響によって触媒が失活しやすく、
１×１０-4モルを越える量では副反応が起きやすく目的
シロキサン化合物の収量が低下することがある。ロジウ
ム化合物では原料シロキサンの珪素原子に結合した水素
原子１個に対して１×１０-6〜１×１０-1モルの範囲が
よく、１×１０-5〜１×１０-2モルの範囲が特によい。
１×１０-6モル未満では反応系中の微量の水分や妨害物
質の影響によって触媒が失活しやすく、１×１０-1モル
を越える量では副反応が起きやすく目的シロキサン化合
物の収量が悪化することがある。
造において用いられるヒドロシリル化触媒としては、周
期律表第VIII属の金属元素の錯化合物又はそれらと各種
オレフィンのコンプレックスを用いることができ、特に
白金化合物及びロジウム化合物が良好である。触媒の使
用量は白金化合物の場合で、原料シロキサンの珪素原子
に結合した水素原子１個に対して１×１０-8〜１×１０
-4モルの範囲が良く、１×１０-7〜１×１０-5モルの範
囲が特によい。１×１０-8モル未満では反応系中の微量
の水分や妨害物質の影響によって触媒が失活しやすく、
１×１０-4モルを越える量では副反応が起きやすく目的
シロキサン化合物の収量が低下することがある。ロジウ
ム化合物では原料シロキサンの珪素原子に結合した水素
原子１個に対して１×１０-6〜１×１０-1モルの範囲が
よく、１×１０-5〜１×１０-2モルの範囲が特によい。
１×１０-6モル未満では反応系中の微量の水分や妨害物
質の影響によって触媒が失活しやすく、１×１０-1モル
を越える量では副反応が起きやすく目的シロキサン化合
物の収量が悪化することがある。
【００２８】ヒドロシリル化の反応温度は３０〜１５０
℃の範囲がよく５０〜１００℃の範囲が特によい。３０
℃未満では反応時間が長くかかる上、微量の反応妨害物
質の存在によって反応がスムーズに進行しないことがあ
り、１５０℃を越える温度では副反応が起きやすく目的
シロキサン化合物の収量が低下することがある。この反
応温度は使用触媒の種類及び量、又、合成スケールによ
って決定され、触媒として塩化白金酸を原料シロキサン
の水素原子１個に対して１×１０-6モル使用し、数ｋｇ
の合成スケールの場合は、６０〜７０℃の範囲がよい。
反応の終点は、ガスクロマトグラフィー、赤外分光等に
よって確認できる。
℃の範囲がよく５０〜１００℃の範囲が特によい。３０
℃未満では反応時間が長くかかる上、微量の反応妨害物
質の存在によって反応がスムーズに進行しないことがあ
り、１５０℃を越える温度では副反応が起きやすく目的
シロキサン化合物の収量が低下することがある。この反
応温度は使用触媒の種類及び量、又、合成スケールによ
って決定され、触媒として塩化白金酸を原料シロキサン
の水素原子１個に対して１×１０-6モル使用し、数ｋｇ
の合成スケールの場合は、６０〜７０℃の範囲がよい。
反応の終点は、ガスクロマトグラフィー、赤外分光等に
よって確認できる。
【００２９】反応溶媒を用いるときは、α−オレフィン
でなく、又活性水素を持たない通常の炭化水素系の溶媒
がよく、たとえばトルエン、キシレン及びヘキサンなど
を使用できる。しかし、容積効率の悪化や危険物である
溶媒の取扱いなどのデメリットが大きいので、原料シロ
キサンが高粘度であるなど特別の場合をのぞいては、反
応溶媒は使用しない方が望ましい。
でなく、又活性水素を持たない通常の炭化水素系の溶媒
がよく、たとえばトルエン、キシレン及びヘキサンなど
を使用できる。しかし、容積効率の悪化や危険物である
溶媒の取扱いなどのデメリットが大きいので、原料シロ
キサンが高粘度であるなど特別の場合をのぞいては、反
応溶媒は使用しない方が望ましい。
【００３０】以下に本発明の化合物の製造法をより具体
的に説明する。本発明の化合物の原料であるヒドロシリ
ル基を有するシロキサン化合物は、市販品を入手できる
他、以下の方法によっても容易に得られる。（手法１−
ａ）まず、下記式（XI）
的に説明する。本発明の化合物の原料であるヒドロシリ
ル基を有するシロキサン化合物は、市販品を入手できる
他、以下の方法によっても容易に得られる。（手法１−
ａ）まず、下記式（XI）
【００３１】
【化１３】
【００３２】（式中、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 及びＲ6 は前記
と同じ意味を表わし、ｕ1 は０〜６の整数を表わす）で
示されるシラノール化合物の１種又は２種以上を開始剤
とし、開始剤に対し０．０５〜１００モル％のリチウム
系触媒の存在下、下記式（XII)
と同じ意味を表わし、ｕ1 は０〜６の整数を表わす）で
示されるシラノール化合物の１種又は２種以上を開始剤
とし、開始剤に対し０．０５〜１００モル％のリチウム
系触媒の存在下、下記式（XII)
【００３３】
【化１４】
【００３４】（式中、ｕ2 は３〜５の整数を表わし、Ｒ
5 及びＲ6 は前記と同じ意味を表わす）で示されるシロ
キサン環状体化合物の１種又は２種以上を活性水素を有
しない極性溶媒中でアニオン重合させ、又は式（XI）の
化合物をそのまま用いて下記式（XIII）で示される中間
体化合物を得る。
5 及びＲ6 は前記と同じ意味を表わす）で示されるシロ
キサン環状体化合物の１種又は２種以上を活性水素を有
しない極性溶媒中でアニオン重合させ、又は式（XI）の
化合物をそのまま用いて下記式（XIII）で示される中間
体化合物を得る。
【００３５】
【化１５】
【００３６】（式中、Ｘ0 はリチウム原子又は水素原子
を表わし、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 及びＲ6は前記と同じ意味
を表わし、ｕ3 は０〜２０００の整数を表わす） （手法１−ｂ）手法１−ａによって得られた中間体、式
（XIII）のシロキサン化合物を、下記式（XIV)
を表わし、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 及びＲ6は前記と同じ意味
を表わし、ｕ3 は０〜２０００の整数を表わす） （手法１−ｂ）手法１−ａによって得られた中間体、式
（XIII）のシロキサン化合物を、下記式（XIV)
【００３７】
【化１６】
【００３８】（Ｒ2 は前記と同じ意味を表わす）で示さ
れるクロロシラン化合物で重合停止させることによって
下記式（VI）
れるクロロシラン化合物で重合停止させることによって
下記式（VI）
【００３９】
【化１７】
【００４０】（式中、ｊは０〜２０００の整数を表わ
し、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 及びＲ6は前記と同じ意味
を表わす）で示されるヒドロシリル基含有シロキサン化
合物を得る。 （手法１−ｃ）手法１−ａによって得られた中間体、式
（XIII）のシロキサン化合物を、下記式（XV）
し、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 及びＲ6は前記と同じ意味
を表わす）で示されるヒドロシリル基含有シロキサン化
合物を得る。 （手法１−ｃ）手法１−ａによって得られた中間体、式
（XIII）のシロキサン化合物を、下記式（XV）
【００４１】
【化１８】
【００４２】（Ｒ8 は前記と同じ意味を表わす）で示さ
れるクロロシラン化合物で重合停止させることによって
下記式（VII)
れるクロロシラン化合物で重合停止させることによって
下記式（VII)
【００４３】
【化１９】
【００４４】（式中、ｋ、ι、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6
及びＲ8 は前記と同じ意味を表わす）で示されるヒドロ
シリル基含有シロキサン化合物を得る。 （手法１−ｄ）手法１−ａによって得られた中間体、式
（XIII）のシロキサン化合物を、トリクロロシランで重
合停止させることによって下記式（VIII）
及びＲ8 は前記と同じ意味を表わす）で示されるヒドロ
シリル基含有シロキサン化合物を得る。 （手法１−ｄ）手法１−ａによって得られた中間体、式
（XIII）のシロキサン化合物を、トリクロロシランで重
合停止させることによって下記式（VIII）
【００４５】
【化２０】
【００４６】（式中、ｍ、ｎ、ｐ、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 及
びＲ6 は前記と同じ意味を表わす）で示されるヒドロシ
リル基含有シロキサン化合物を得る。上記式（VI）、式
（VII)及び式（VIII）で示されるシロキサン化合物にお
いてｊ、ｋ、ι、ｍ、ｎ及びｐで表わされるその重合度
は、開始剤である上記式（XI）の化合物と上記式（XII)
で示されるシロキサン環状体化合物の仕込比を変えるこ
とによって任意にコントロールでき、シロキサン鎖１本
当りの数平均分子量が約１５万以下のもの（シロキサン
ユニットの個数で２０００以下）であれば自由に目的分
子量のシロキサン化合物を合成できる。また、これを越
える分子量のものでも重合条件を変えることにより調製
可能である。
びＲ6 は前記と同じ意味を表わす）で示されるヒドロシ
リル基含有シロキサン化合物を得る。上記式（VI）、式
（VII)及び式（VIII）で示されるシロキサン化合物にお
いてｊ、ｋ、ι、ｍ、ｎ及びｐで表わされるその重合度
は、開始剤である上記式（XI）の化合物と上記式（XII)
で示されるシロキサン環状体化合物の仕込比を変えるこ
とによって任意にコントロールでき、シロキサン鎖１本
当りの数平均分子量が約１５万以下のもの（シロキサン
ユニットの個数で２０００以下）であれば自由に目的分
子量のシロキサン化合物を合成できる。また、これを越
える分子量のものでも重合条件を変えることにより調製
可能である。
【００４７】又、上記式（VI）、式（VII)及び式（VII
I）で示されるシロキサン化合物を合成するとき用いる
リチウム系触媒としては、金属リチウム、ブチルリチウ
ム、水酸化リチウム及びリチウムトリアルキルシラノレ
ート等を挙げることができ、これらの１種又は２種以上
の混合物を触媒として用いることができる。上記式（X
I）で示される化合物の例としては、トリメチルシラノ
ール、トリエチルシラノール、トリフェニルシラノー
ル、ジメチルブチルシラノール、ジフェニルブチルシラ
ノール、１−ヒドロキシ−１，１，３，３，３−ペンタ
メチルジシロキサン、１−ヒドロキシ−１，１，３，
３，５，５，７，７，７−ノナメチルテトラシロキサ
ン、１−ヒドロキシ−１，１，３，３，５，５，７，
７，９，９，９−ウンデカメチルペンタシロキサン、１
−ヒドロキシ−１，１，３，３，５，５−ヘキサメチル
−７，７，７−トリフェニルテトラシロキサン、１−ヒ
ドロキシ−１，１，３，３，５，５−ヘキサフェニル−
７，７，７−トリメチルテトラシロキサン、１−ヒドロ
キシ−１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリフェ
ニル−７，７，７−トリメチルテトラシロキサン及び１
−ヒドロキシ−１，３，５−トリメチル−１，３，５−
トリフェニル−７，７，７−トリフェニルテトラシロキ
サン等がある。
I）で示されるシロキサン化合物を合成するとき用いる
リチウム系触媒としては、金属リチウム、ブチルリチウ
ム、水酸化リチウム及びリチウムトリアルキルシラノレ
ート等を挙げることができ、これらの１種又は２種以上
の混合物を触媒として用いることができる。上記式（X
I）で示される化合物の例としては、トリメチルシラノ
ール、トリエチルシラノール、トリフェニルシラノー
ル、ジメチルブチルシラノール、ジフェニルブチルシラ
ノール、１−ヒドロキシ−１，１，３，３，３−ペンタ
メチルジシロキサン、１−ヒドロキシ−１，１，３，
３，５，５，７，７，７−ノナメチルテトラシロキサ
ン、１−ヒドロキシ−１，１，３，３，５，５，７，
７，９，９，９−ウンデカメチルペンタシロキサン、１
−ヒドロキシ−１，１，３，３，５，５−ヘキサメチル
−７，７，７−トリフェニルテトラシロキサン、１−ヒ
ドロキシ−１，１，３，３，５，５−ヘキサフェニル−
７，７，７−トリメチルテトラシロキサン、１−ヒドロ
キシ−１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリフェ
ニル−７，７，７−トリメチルテトラシロキサン及び１
−ヒドロキシ−１，３，５−トリメチル−１，３，５−
トリフェニル−７，７，７−トリフェニルテトラシロキ
サン等がある。
【００４８】上記式（XII)で示される化合物の例として
は、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチル
シクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロ
キサン、ヘキサエチルシクロトリシロキサン、オクタエ
チルシクロテトラシロキサン、デカエチルシクロペンタ
シロキサン、ヘキサプロピルシクロトリシロキサン、オ
クタプロピルシクロテトラシロキサン、ヘキサフェニル
シクロトリシロキサン、オクタフェニルシクロテトラシ
ロキサン、１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリ
フェニルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テト
ラメチル−１，３，５，７−テトラフェニルシクロテト
ラシロキサン、１，３，５−トリメチル−１，３，５−
トリプロピルシクロトリシロキサン及び１，３，５，７
−テトラメチル−１，３，５，７−テトラプロピルシク
ロテトラシロキサン等がある。
は、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチル
シクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロ
キサン、ヘキサエチルシクロトリシロキサン、オクタエ
チルシクロテトラシロキサン、デカエチルシクロペンタ
シロキサン、ヘキサプロピルシクロトリシロキサン、オ
クタプロピルシクロテトラシロキサン、ヘキサフェニル
シクロトリシロキサン、オクタフェニルシクロテトラシ
ロキサン、１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリ
フェニルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テト
ラメチル−１，３，５，７−テトラフェニルシクロテト
ラシロキサン、１，３，５−トリメチル−１，３，５−
トリプロピルシクロトリシロキサン及び１，３，５，７
−テトラメチル−１，３，５，７−テトラプロピルシク
ロテトラシロキサン等がある。
【００４９】上記式（XIV)で示される化合物の例として
は、ジメチルクロロシラン、ジエチルクロロシラン及び
ジフェニルクロロシラン等がある。上記式（XV）で示さ
れる化合物の例としては、メチルジクロロシラン、エチ
ルジクロロシラン及びフェニルジクロロシラン等があ
る。
は、ジメチルクロロシラン、ジエチルクロロシラン及び
ジフェニルクロロシラン等がある。上記式（XV）で示さ
れる化合物の例としては、メチルジクロロシラン、エチ
ルジクロロシラン及びフェニルジクロロシラン等があ
る。
【００５０】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を更に詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定さ
れるものではない。
明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定さ
れるものではない。
【００５１】参考例１ １−ヒドロ−１，１，３，３，５，５，７，７，９，
９，９−ウンデカメチルペンタシロキサンの製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた３ｌ三口丸底フラスコ
にトリメチルシラノール９０．０ｇをＮ2 気流下で仕込
み、ブチルリチウムヘキサン溶液（１．５モル／ｌ）６
６６ｍｌを滴下しつつ添加した。更に、その中へ乾燥テ
トラヒドロフラン３００ｍｌに溶解させたヘキサメチル
シクロトリシロキサン２２３ｇを仕込み、２０℃で１０
時間重合させた。次に、ジメチルクロロシラン９４．６
ｇとトリエチルアミン１０１ｇを加え１時間攪拌し重合
を停止させた。合成物を分液ロートに移し、生成した塩
を水洗により除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥さ
せた。こうして得られた反応生成物から低沸点成分を１
００℃／１００ｍｍＨｇの条件で２時間かけて留去し、
釜残に目的シロキサン化合物をほぼ定量的な収率で得
た。得られたシロキサン化合物の 1Ｈ−ＮＭＲスペクト
ル、ＩＲスペクトルのそれぞれの分析結果及びＳｉ−Ｈ
基定量データは下記の通りであり、次式の構造と確認さ
れた。
９，９−ウンデカメチルペンタシロキサンの製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた３ｌ三口丸底フラスコ
にトリメチルシラノール９０．０ｇをＮ2 気流下で仕込
み、ブチルリチウムヘキサン溶液（１．５モル／ｌ）６
６６ｍｌを滴下しつつ添加した。更に、その中へ乾燥テ
トラヒドロフラン３００ｍｌに溶解させたヘキサメチル
シクロトリシロキサン２２３ｇを仕込み、２０℃で１０
時間重合させた。次に、ジメチルクロロシラン９４．６
ｇとトリエチルアミン１０１ｇを加え１時間攪拌し重合
を停止させた。合成物を分液ロートに移し、生成した塩
を水洗により除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥さ
せた。こうして得られた反応生成物から低沸点成分を１
００℃／１００ｍｍＨｇの条件で２時間かけて留去し、
釜残に目的シロキサン化合物をほぼ定量的な収率で得
た。得られたシロキサン化合物の 1Ｈ−ＮＭＲスペクト
ル、ＩＲスペクトルのそれぞれの分析結果及びＳｉ−Ｈ
基定量データは下記の通りであり、次式の構造と確認さ
れた。
【００５２】
【化２１】
【００５３】（式中、ｚ1 はシロキサンユニットの個数
を表わす）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δｐｐｍ ０．１０（Ｓｉ−ＣＨ 3 ，ｓ，３３Ｈ） ４．５５（Ｓｉ−Ｈ，ｍ，１Ｈ） ＩＲ（ＫＢｒ） ２９７０ｃｍ-1（Ｃ−Ｈ） ２２５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｈ） １２６０ｃｍ-1（Ｓｉ−ＣＨ3 ） １１２０〜１０５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｏ） Ｓｉ−Ｈ基の定量データ Ｈ［ｐｐｍ］ ２７０３［ｐｐｍ］ Ｈ［ｐｐｍ］よりの計算当量 ３７０
を表わす）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δｐｐｍ ０．１０（Ｓｉ−ＣＨ 3 ，ｓ，３３Ｈ） ４．５５（Ｓｉ−Ｈ，ｍ，１Ｈ） ＩＲ（ＫＢｒ） ２９７０ｃｍ-1（Ｃ−Ｈ） ２２５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｈ） １２６０ｃｍ-1（Ｓｉ−ＣＨ3 ） １１２０〜１０５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｏ） Ｓｉ−Ｈ基の定量データ Ｈ［ｐｐｍ］ ２７０３［ｐｐｍ］ Ｈ［ｐｐｍ］よりの計算当量 ３７０
【００５４】実施例１ １−｛３−（ｏ−ヒドロキシフェニル）プロピル｝−
１，１，３，３，５，５，７，７，９，９，９−ウンデ
カメチルペンタシロキサンの製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた１ｌ三口丸底フラスコ
に参考例１で得られた１−ヒドロ−１，１，３，３，
５，５，７，７，９，９，９−ウンデカメチルペンタシ
ロキサン７４．０ｇを仕込み６０℃に加熱した。これに
塩化白金酸１．０×１０-4ｇを添加したのちにｏ−アリ
ルフェノール４０．２ｇを滴下しつつ添加した。滴下終
了後、そのまま２時間熟成させた。こうして得られた反
応生成物から低沸点成分を１００℃／１ｍｍＨｇの条件
で２時間かけて留去し、釜残に目的シロキサン化合物を
ほぼ定量的な収率で得た。得られたシロキサン化合物の
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、粘度のそれ
ぞれの分析結果及び水酸基定量データは下記のとおりで
あり、次式の構造と確認された。
１，１，３，３，５，５，７，７，９，９，９−ウンデ
カメチルペンタシロキサンの製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた１ｌ三口丸底フラスコ
に参考例１で得られた１−ヒドロ−１，１，３，３，
５，５，７，７，９，９，９−ウンデカメチルペンタシ
ロキサン７４．０ｇを仕込み６０℃に加熱した。これに
塩化白金酸１．０×１０-4ｇを添加したのちにｏ−アリ
ルフェノール４０．２ｇを滴下しつつ添加した。滴下終
了後、そのまま２時間熟成させた。こうして得られた反
応生成物から低沸点成分を１００℃／１ｍｍＨｇの条件
で２時間かけて留去し、釜残に目的シロキサン化合物を
ほぼ定量的な収率で得た。得られたシロキサン化合物の
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、粘度のそれ
ぞれの分析結果及び水酸基定量データは下記のとおりで
あり、次式の構造と確認された。
【００５５】
【化２２】
【００５６】（式中、Ｘ3 はｏ−ヒドロキシフェニル基
を表わし、ｚ1 はシロキサンユニットの個数を表わす）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δｐｐｍ ０．１（Ｓｉ−ＣＨ 3 ，ｓ，３３Ｈ） ０．５〜２．７（Ｓｉ−ＣＨ 2 ＣＨ 2 ＣＨ 2 −，ｂｒｏ
ａｄ，６Ｈ） ６．３〜７．２（フェニル基，ｍ，４Ｈ） ＩＲ（ＫＢｒ） ３６５０〜３２００ｃｍ-1（−ＯＨ） ２９７０ｃｍ-1（Ｃ−Ｈ） １２６０ｃｍ-1（Ｓｉ−ＣＨ3 ） １１２０〜１０５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｏ） ７５０ｃｍ-1（１，２−二置換フェニル基） 水酸基の定量データ 水酸基 ３．３８重量％ 粘度（２５℃） ５０センチポイズ
を表わし、ｚ1 はシロキサンユニットの個数を表わす）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δｐｐｍ ０．１（Ｓｉ−ＣＨ 3 ，ｓ，３３Ｈ） ０．５〜２．７（Ｓｉ−ＣＨ 2 ＣＨ 2 ＣＨ 2 −，ｂｒｏ
ａｄ，６Ｈ） ６．３〜７．２（フェニル基，ｍ，４Ｈ） ＩＲ（ＫＢｒ） ３６５０〜３２００ｃｍ-1（−ＯＨ） ２９７０ｃｍ-1（Ｃ−Ｈ） １２６０ｃｍ-1（Ｓｉ−ＣＨ3 ） １１２０〜１０５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｏ） ７５０ｃｍ-1（１，２−二置換フェニル基） 水酸基の定量データ 水酸基 ３．３８重量％ 粘度（２５℃） ５０センチポイズ
【００５７】参考例２ α位にヒドロシリル基を有するシロキサン化合物の製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた３ｌ三口丸底フラスコ
にトリメチルシラノール１８．０ｇをＮ2 気流下で仕込
み、ブチルリチウムヘキサン溶液（１．５モル／ｌ）１
３３ｍｌを滴下しつつ添加した。更に、その中へ乾燥テ
トラヒドロフラン２００ｍｌに溶解させたヘキサメチル
シクロトリシロキサン１７１ｇを仕込み、２０℃で２０
時間重合させた。次に、ジメチルクロロシラン１９．０
ｇとトリエチルアミン２１ｇを加え１時間攪拌し重合を
停止させた。合成物を分液ロートに移し、生成した塩を
水洗により除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ
た。こうして得られた反応生成物から低沸点成分を１０
０℃／１ｍｍＨｇの条件で２時間かけて留去し、釜残に
目的シロキサン化合物をほぼ定量的な収率で得た。得ら
れたシロキサン化合物のＩＲスペクトル、ＧＰＣ（ゲル
パーミエーションクロマトグラフィー）、粘度のそれぞ
れの分析結果及びＳｉ−Ｈ基定量データは下記のとおり
であり、次式の構造と確認された。
にトリメチルシラノール１８．０ｇをＮ2 気流下で仕込
み、ブチルリチウムヘキサン溶液（１．５モル／ｌ）１
３３ｍｌを滴下しつつ添加した。更に、その中へ乾燥テ
トラヒドロフラン２００ｍｌに溶解させたヘキサメチル
シクロトリシロキサン１７１ｇを仕込み、２０℃で２０
時間重合させた。次に、ジメチルクロロシラン１９．０
ｇとトリエチルアミン２１ｇを加え１時間攪拌し重合を
停止させた。合成物を分液ロートに移し、生成した塩を
水洗により除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ
た。こうして得られた反応生成物から低沸点成分を１０
０℃／１ｍｍＨｇの条件で２時間かけて留去し、釜残に
目的シロキサン化合物をほぼ定量的な収率で得た。得ら
れたシロキサン化合物のＩＲスペクトル、ＧＰＣ（ゲル
パーミエーションクロマトグラフィー）、粘度のそれぞ
れの分析結果及びＳｉ−Ｈ基定量データは下記のとおり
であり、次式の構造と確認された。
【００５８】
【化２３】
【００５９】（式中、ｚ2 はシロキサンユニットの個数
を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ２９７０ｃｍ-1（Ｃ−Ｈ） ２２５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｈ） １２６０ｃｍ-1（Ｓｉ−ＣＨ3 ） １１２０〜１０５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｏ） ＧＰＣ（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量 （Ｍｎ） １２００ 重量平均分子量（Ｍｗ） １３００ 分散度 （Ｍｗ／Ｍｎ） １．１ Ｓｉ−Ｈ基の定量データ Ｈ［ｐｐｍ］ １０７４［ｐｐｍ］ Ｈ［ｐｐｍ］よりの計算当量 ９３１ 粘度（２５℃） ６センチポイズ
を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ２９７０ｃｍ-1（Ｃ−Ｈ） ２２５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｈ） １２６０ｃｍ-1（Ｓｉ−ＣＨ3 ） １１２０〜１０５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｏ） ＧＰＣ（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量 （Ｍｎ） １２００ 重量平均分子量（Ｍｗ） １３００ 分散度 （Ｍｗ／Ｍｎ） １．１ Ｓｉ−Ｈ基の定量データ Ｈ［ｐｐｍ］ １０７４［ｐｐｍ］ Ｈ［ｐｐｍ］よりの計算当量 ９３１ 粘度（２５℃） ６センチポイズ
【００６０】実施例２ α位にヒドロキシフェニル基を有するシロキサン化合物
の製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた１ｌ三口丸底フラスコ
に参考例２で得られたα位にヒドロシリル基を有するシ
ロキサン化合物４６５．５ｇを仕込み６０℃に加熱し
た。これに塩化白金酸２．６×１０-4ｇを添加したのち
にｏ−アリルフェノール８０．４ｇを滴下しつつ添加し
た。滴下終了後、そのまま２時間熟成させた。こうして
得られた反応生成物から低沸点成分を１５０℃／１ｍｍ
Ｈｇの条件で２時間かけて留去し、釜残に目的シロキサ
ン化合物をほぼ定量的な収率で得た。得られたシロキサ
ン化合物のＩＲスペクトル、粘度のそれぞれの分析結果
及び水酸基定量データは下記のとおりであり、次式の構
造と確認された。
の製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた１ｌ三口丸底フラスコ
に参考例２で得られたα位にヒドロシリル基を有するシ
ロキサン化合物４６５．５ｇを仕込み６０℃に加熱し
た。これに塩化白金酸２．６×１０-4ｇを添加したのち
にｏ−アリルフェノール８０．４ｇを滴下しつつ添加し
た。滴下終了後、そのまま２時間熟成させた。こうして
得られた反応生成物から低沸点成分を１５０℃／１ｍｍ
Ｈｇの条件で２時間かけて留去し、釜残に目的シロキサ
ン化合物をほぼ定量的な収率で得た。得られたシロキサ
ン化合物のＩＲスペクトル、粘度のそれぞれの分析結果
及び水酸基定量データは下記のとおりであり、次式の構
造と確認された。
【００６１】
【化２４】
【００６２】（式中、Ｘ3 はｏ−ヒドロキシフェニル基
を表わし、ｚ2 はシロキサンユニットの個数を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ３６５０〜３２００ｃｍ-1（−ＯＨ） ２９７０ｃｍ-1（Ｃ−Ｈ） １２６０ｃｍ-1（Ｓｉ−ＣＨ3 ） １１２０〜１０５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｏ） ７５０ｃｍ-1（１，２−二置換フェニル基） 水酸基の定量データ 水酸基 １．６０重量％ 粘度（２５℃） ２２センチポイズ
を表わし、ｚ2 はシロキサンユニットの個数を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ３６５０〜３２００ｃｍ-1（−ＯＨ） ２９７０ｃｍ-1（Ｃ−Ｈ） １２６０ｃｍ-1（Ｓｉ−ＣＨ3 ） １１２０〜１０５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｏ） ７５０ｃｍ-1（１，２−二置換フェニル基） 水酸基の定量データ 水酸基 １．６０重量％ 粘度（２５℃） ２２センチポイズ
【００６３】参考例３ α位にヒドロシリル基を有するシロキサン化合物の製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた５ｌ三口丸底フラスコ
にトリメチルシラノール２．７ｇをＮ2 気流下で仕込
み、ブチルリチウムヘキサン溶液（１．５モル／ｌ）２
０ｍｌを滴下しつつ添加した。更に、その中へ乾燥テト
ラヒドロフラン２００ｍｌに溶解させたヘキサメチルシ
クロトリシロキサン２２２３ｇを仕込み、２５℃で２５
時間重合させた。次に、ジメチルクロロシラン３．１２
ｇとトリエチルアミン４ｇを加え１時間攪拌し重合を停
止させた。合成物を分液ロートに移し、生成した塩を水
洗により除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ
た。こうして得られた反応生成物から低沸点成分を１５
０℃／１ｍｍＨｇの条件で２時間かけて留去し、釜残に
目的シロキサン化合物をほぼ定量的な収率で得た。得ら
れたシロキサン化合物のＩＲスペクトル、ＧＰＣ（ゲル
パーミエーションクロマトグラフィー）、粘度のそれぞ
れの分析結果及びＳｉ−Ｈ基定量データは下記のとおり
であり、次式の構造と確認された。
にトリメチルシラノール２．７ｇをＮ2 気流下で仕込
み、ブチルリチウムヘキサン溶液（１．５モル／ｌ）２
０ｍｌを滴下しつつ添加した。更に、その中へ乾燥テト
ラヒドロフラン２００ｍｌに溶解させたヘキサメチルシ
クロトリシロキサン２２２３ｇを仕込み、２５℃で２５
時間重合させた。次に、ジメチルクロロシラン３．１２
ｇとトリエチルアミン４ｇを加え１時間攪拌し重合を停
止させた。合成物を分液ロートに移し、生成した塩を水
洗により除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ
た。こうして得られた反応生成物から低沸点成分を１５
０℃／１ｍｍＨｇの条件で２時間かけて留去し、釜残に
目的シロキサン化合物をほぼ定量的な収率で得た。得ら
れたシロキサン化合物のＩＲスペクトル、ＧＰＣ（ゲル
パーミエーションクロマトグラフィー）、粘度のそれぞ
れの分析結果及びＳｉ−Ｈ基定量データは下記のとおり
であり、次式の構造と確認された。
【００６４】
【化２５】
【００６５】（式中、ｚ3 はシロキサンユニットの個数
を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ２９７０ｃｍ-1（Ｃ−Ｈ） ２２５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｈ） １２６０ｃｍ-1（Ｓｉ−ＣＨ3 ） １１２０〜１０５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｏ） ＧＰＣ（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量 （Ｍｎ） ６３６００ 重量平均分子量（Ｍｗ） ７９８００ 分散度 （Ｍｗ／Ｍｎ） １．３ Ｓｉ−Ｈ基の定量データ Ｈ［ｐｐｍ］ １５．１［ｐｐｍ］ Ｈ［ｐｐｍ］よりの計算当量 ６６２３０ 粘度（２５℃） ４３１０センチポイズ
を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ２９７０ｃｍ-1（Ｃ−Ｈ） ２２５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｈ） １２６０ｃｍ-1（Ｓｉ−ＣＨ3 ） １１２０〜１０５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｏ） ＧＰＣ（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量 （Ｍｎ） ６３６００ 重量平均分子量（Ｍｗ） ７９８００ 分散度 （Ｍｗ／Ｍｎ） １．３ Ｓｉ−Ｈ基の定量データ Ｈ［ｐｐｍ］ １５．１［ｐｐｍ］ Ｈ［ｐｐｍ］よりの計算当量 ６６２３０ 粘度（２５℃） ４３１０センチポイズ
【００６６】実施例３ α位にヒドロキシフェニル基を有するシロキサン化合物
の製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた１ｌ三口丸底フラスコ
に参考例３で得られたα位にヒドロシリル基を有するシ
ロキサン化合物１００．０ｇとトルエン５０ｍｌ及びｏ
−アリルフェノール０．３ｇを仕込み８０℃に加熱し
た。これに塩化白金酸０．０７８×１０-4ｇを添加し、
そのまま２時間熟成させた。こうして得られた反応生成
物から低沸点成分を１５０℃／１ｍｍＨｇの条件で２時
間かけて留去し、釜残に目的シロキサン化合物をほぼ定
量的な収率で得た。得られたシロキサン化合物のＩＲス
ペクトル、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラ
フィー）、粘度のそれぞれの分析結果及び水酸基定量デ
ータは下記のとおりであり、次式の構造と確認された。
の製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた１ｌ三口丸底フラスコ
に参考例３で得られたα位にヒドロシリル基を有するシ
ロキサン化合物１００．０ｇとトルエン５０ｍｌ及びｏ
−アリルフェノール０．３ｇを仕込み８０℃に加熱し
た。これに塩化白金酸０．０７８×１０-4ｇを添加し、
そのまま２時間熟成させた。こうして得られた反応生成
物から低沸点成分を１５０℃／１ｍｍＨｇの条件で２時
間かけて留去し、釜残に目的シロキサン化合物をほぼ定
量的な収率で得た。得られたシロキサン化合物のＩＲス
ペクトル、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラ
フィー）、粘度のそれぞれの分析結果及び水酸基定量デ
ータは下記のとおりであり、次式の構造と確認された。
【００６７】
【化２６】
【００６８】（式中、Ｘ3 はｏ−ヒドロキシフェニル基
を表わし、ｚ3 はシロキサンユニットの個数を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ３６５０〜３２００ｃｍ-1（−ＯＨ） ２９７０ｃｍ-1（Ｃ−Ｈ） １２６０ｃｍ-1（Ｓｉ−ＣＨ3 ） １１２０〜１０５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｏ） ７５０ｃｍ-1（１，２−二置換フェニル基） ＧＰＣ（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量 （Ｍｎ） ５４２００ 重量平均分子量（Ｍｗ） ７９７００ 分散度 （Ｍｗ／Ｍｎ） １．５ 水酸基の定量データ 水酸基 ０．０３重量％ 粘度（２５℃） １０９４０センチポイズ
を表わし、ｚ3 はシロキサンユニットの個数を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ３６５０〜３２００ｃｍ-1（−ＯＨ） ２９７０ｃｍ-1（Ｃ−Ｈ） １２６０ｃｍ-1（Ｓｉ−ＣＨ3 ） １１２０〜１０５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｏ） ７５０ｃｍ-1（１，２−二置換フェニル基） ＧＰＣ（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量 （Ｍｎ） ５４２００ 重量平均分子量（Ｍｗ） ７９７００ 分散度 （Ｍｗ／Ｍｎ） １．５ 水酸基の定量データ 水酸基 ０．０３重量％ 粘度（２５℃） １０９４０センチポイズ
【００６９】
【００７０】参考例４ ヒドロシリル基を基準としたシロキサン鎖が２本のシロ
キサン化合物の製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた３ｌ三口丸底フラスコ
にトリメチルシラノール１８．０ｇをＮ2 気流下で仕込
み、ブチルリチウムヘキサン溶液（１．５モル／ｌ）１
３３ｍｌを滴下しつつ添加した。更に、その中へ乾燥テ
トラヒドロフラン２００ｍｌに溶解させたヘキサメチル
シクロトリシロキサン１７１ｇを仕込み、２０℃で２０
時間重合させた。次に、メチルジクロロシラン１１．５
ｇとトリエチルアミン２１ｇを加え１時間攪拌し重合を
停止させた。合成物を分液ロートに移し、生成した塩を
水洗により除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ
た。こうして得られた反応生成物から低沸点成分を１０
０℃／１ｍｍＨｇの条件で２時間かけて留去し、釜残に
目的シロキサン化合物をほぼ定量的な収率で得た。得ら
れたシロキサン化合物のＩＲスペクトル、ＧＰＣ（ゲル
パーミエーションクロマトグラフィー）、粘度のそれぞ
れの分析結果及びＳｉ−Ｈ基定量データは下記のとおり
であり、次式の構造と確認された。
キサン化合物の製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた３ｌ三口丸底フラスコ
にトリメチルシラノール１８．０ｇをＮ2 気流下で仕込
み、ブチルリチウムヘキサン溶液（１．５モル／ｌ）１
３３ｍｌを滴下しつつ添加した。更に、その中へ乾燥テ
トラヒドロフラン２００ｍｌに溶解させたヘキサメチル
シクロトリシロキサン１７１ｇを仕込み、２０℃で２０
時間重合させた。次に、メチルジクロロシラン１１．５
ｇとトリエチルアミン２１ｇを加え１時間攪拌し重合を
停止させた。合成物を分液ロートに移し、生成した塩を
水洗により除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ
た。こうして得られた反応生成物から低沸点成分を１０
０℃／１ｍｍＨｇの条件で２時間かけて留去し、釜残に
目的シロキサン化合物をほぼ定量的な収率で得た。得ら
れたシロキサン化合物のＩＲスペクトル、ＧＰＣ（ゲル
パーミエーションクロマトグラフィー）、粘度のそれぞ
れの分析結果及びＳｉ−Ｈ基定量データは下記のとおり
であり、次式の構造と確認された。
【００７１】
【化２７】
【００７２】（式中、ｚ4 及びｚ5 はそれぞれシロキサ
ンユニットの個数を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ２９７０ｃｍ-1（Ｃ−Ｈ） ２２５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｈ） １２６０ｃｍ-1（Ｓｉ−ＣＨ3 ） １１２０〜１０５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｏ） ＧＰＣ（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量 （Ｍｎ） １７００ 重量平均分子量（Ｍｗ） ２１００ 分散度 （Ｍｗ／Ｍｎ） １．２ Ｓｉ−Ｈ基の定量データ Ｈ［ｐｐｍ］ ５０３［ｐｐｍ］ Ｈ［ｐｐｍ］よりの計算当量 １９９０ 粘度（２５℃） ２８センチポイズ
ンユニットの個数を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ２９７０ｃｍ-1（Ｃ−Ｈ） ２２５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｈ） １２６０ｃｍ-1（Ｓｉ−ＣＨ3 ） １１２０〜１０５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｏ） ＧＰＣ（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量 （Ｍｎ） １７００ 重量平均分子量（Ｍｗ） ２１００ 分散度 （Ｍｗ／Ｍｎ） １．２ Ｓｉ−Ｈ基の定量データ Ｈ［ｐｐｍ］ ５０３［ｐｐｍ］ Ｈ［ｐｐｍ］よりの計算当量 １９９０ 粘度（２５℃） ２８センチポイズ
【００７３】実施例４ ヒドロキシフェニル基を基準としたシロキサン鎖が２本
のシロキサン化合物の製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた１ｌ三口丸底フラスコ
に参考例４で得られたヒドロシリル基を基準としたシロ
キサン鎖が２本のシロキサン化合物９９．５ｇ及びｏ−
アリルフェノール１０．１ｇを仕込み６０℃に加熱し
た。これに塩化白金酸２．６×１０-4ｇを添加し、その
まま２時間熟成させた。こうして得られた反応生成物か
ら低沸点成分を１５０℃／１ｍｍＨｇの条件で２時間か
けて留去し、釜残に目的シロキサン化合物をほぼ定量的
な収率で得た。得られたシロキサン化合物のＩＲスペク
トル、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィ
ー）、粘度のそれぞれの分析結果及び水酸基定量データ
は下記のとおりであり、次式の構造と確認された。
のシロキサン化合物の製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた１ｌ三口丸底フラスコ
に参考例４で得られたヒドロシリル基を基準としたシロ
キサン鎖が２本のシロキサン化合物９９．５ｇ及びｏ−
アリルフェノール１０．１ｇを仕込み６０℃に加熱し
た。これに塩化白金酸２．６×１０-4ｇを添加し、その
まま２時間熟成させた。こうして得られた反応生成物か
ら低沸点成分を１５０℃／１ｍｍＨｇの条件で２時間か
けて留去し、釜残に目的シロキサン化合物をほぼ定量的
な収率で得た。得られたシロキサン化合物のＩＲスペク
トル、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィ
ー）、粘度のそれぞれの分析結果及び水酸基定量データ
は下記のとおりであり、次式の構造と確認された。
【００７４】
【化２８】
【００７５】（式中、Ｘ3 はｏ−ヒドロキシフェニル基
を表わし、ｚ4 及びｚ5 はそれぞれシロキサンユニット
の個数を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ３６５０〜３２００ｃｍ-1（−ＯＨ） ２９７０ｃｍ-1（Ｃ−Ｈ） １２６０ｃｍ-1（Ｓｉ−ＣＨ3 ） １１２０〜１０５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｏ） ７５０ｃｍ-1（１，２−二置換フェニル基） ＧＰＣ（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量 （Ｍｎ） １２００ 重量平均分子量（Ｍｗ） ２０１０ 分散度 （Ｍｗ／Ｍｎ） １．７ 水酸基の定量データ 水酸基 ０．８０重量％ 粘度（２５℃） ６４センチポイズ
を表わし、ｚ4 及びｚ5 はそれぞれシロキサンユニット
の個数を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ３６５０〜３２００ｃｍ-1（−ＯＨ） ２９７０ｃｍ-1（Ｃ−Ｈ） １２６０ｃｍ-1（Ｓｉ−ＣＨ3 ） １１２０〜１０５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｏ） ７５０ｃｍ-1（１，２−二置換フェニル基） ＧＰＣ（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量 （Ｍｎ） １２００ 重量平均分子量（Ｍｗ） ２０１０ 分散度 （Ｍｗ／Ｍｎ） １．７ 水酸基の定量データ 水酸基 ０．８０重量％ 粘度（２５℃） ６４センチポイズ
【００７６】参考例５ ヒドロシリル基を基準としたシロキサン鎖が２本のシロ
キサン化合物の製造攪拌装置と冷却装置を取り付けた５
ｌ三口丸底フラスコにトリメチルシラノール６７．５ｇ
をＮ2 気流下で仕込み、ブチルリチウムヘキサン溶液
（１．５モル／ｌ）５００ｍｌを滴下しつつ添加した。
更に、その中へ乾燥テトラヒドロフラン１５００ｍｌに
溶解させたヘキサメチルシクロトリシロキサン１２１７
ｇを仕込み、２０℃で２５時間重合させた。次に、メチ
ルジクロロシラン４３．１ｇとトリエチルアミン７６ｇ
を加え１時間攪拌し重合を停止させた。合成物を分液ロ
ートに移し、生成した塩を水洗により除去した後、無水
硫酸ナトリウムで乾燥させた。こうして得られた反応生
成物から低沸点成分を１５０℃／１ｍｍＨｇの条件で２
時間かけて留去し、釜残に目的シロキサン化合物をほぼ
定量的な収率で得た。得られたシロキサン化合物のＩＲ
スペクトル、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグ
ラフィー）、粘度のそれぞれの分析結果及びＳｉ−Ｈ基
定量データは下記のとおりであり、次式の構造と確認さ
れた。
キサン化合物の製造攪拌装置と冷却装置を取り付けた５
ｌ三口丸底フラスコにトリメチルシラノール６７．５ｇ
をＮ2 気流下で仕込み、ブチルリチウムヘキサン溶液
（１．５モル／ｌ）５００ｍｌを滴下しつつ添加した。
更に、その中へ乾燥テトラヒドロフラン１５００ｍｌに
溶解させたヘキサメチルシクロトリシロキサン１２１７
ｇを仕込み、２０℃で２５時間重合させた。次に、メチ
ルジクロロシラン４３．１ｇとトリエチルアミン７６ｇ
を加え１時間攪拌し重合を停止させた。合成物を分液ロ
ートに移し、生成した塩を水洗により除去した後、無水
硫酸ナトリウムで乾燥させた。こうして得られた反応生
成物から低沸点成分を１５０℃／１ｍｍＨｇの条件で２
時間かけて留去し、釜残に目的シロキサン化合物をほぼ
定量的な収率で得た。得られたシロキサン化合物のＩＲ
スペクトル、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグ
ラフィー）、粘度のそれぞれの分析結果及びＳｉ−Ｈ基
定量データは下記のとおりであり、次式の構造と確認さ
れた。
【００７７】
【化２９】
【００７８】（式中、ｚ6 及びｚ7 はそれぞれシロキサ
ンユニットの個数を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ２９７０ｃｍ-1（Ｃ−Ｈ） ２２５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｈ） １２６０ｃｍ-1（Ｓｉ−ＣＨ3 ） １１２０〜１０５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｏ） ＧＰＣ（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量 （Ｍｎ） ２１２００ 重量平均分子量（Ｍｗ） ２３４００ 分散度 （Ｍｗ／Ｍｎ） １．１ Ｓｉ−Ｈ基の定量データ Ｈ［ｐｐｍ］ ４９．６［ｐｐｍ］ Ｈ［ｐｐｍ］よりの計算当量 ２０１７０ 粘度（２５℃） ３７１センチポイズ
ンユニットの個数を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ２９７０ｃｍ-1（Ｃ−Ｈ） ２２５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｈ） １２６０ｃｍ-1（Ｓｉ−ＣＨ3 ） １１２０〜１０５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｏ） ＧＰＣ（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量 （Ｍｎ） ２１２００ 重量平均分子量（Ｍｗ） ２３４００ 分散度 （Ｍｗ／Ｍｎ） １．１ Ｓｉ−Ｈ基の定量データ Ｈ［ｐｐｍ］ ４９．６［ｐｐｍ］ Ｈ［ｐｐｍ］よりの計算当量 ２０１７０ 粘度（２５℃） ３７１センチポイズ
【００７９】実施例５ ヒドロキシフェニル基を基準としたシロキサン鎖が２本
のシロキサン化合物の製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた１ｌ三口丸底フラスコ
に参考例５で得られたヒドロシリル基を基準としたシロ
キサン鎖が２本のシロキサン化合物２０１．７ｇ及びｏ
−アリルフェノール２．０１ｇを仕込み７０℃に加熱し
た。これに塩化白金酸０．５２×１０-4ｇを添加し、そ
のまま２時間熟成させた。こうして得られた反応生成物
から低沸点成分を１５０℃／１ｍｍＨｇの条件で２時間
かけて留去し、釜残に目的シロキサン化合物をほぼ定量
的な収率で得た。得られたシロキサン化合物のＩＲスペ
クトル、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフ
ィー）、粘度のそれぞれの分析結果及び水酸基定量デー
タは下記のとおりであり、次式の構造と確認された。
のシロキサン化合物の製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた１ｌ三口丸底フラスコ
に参考例５で得られたヒドロシリル基を基準としたシロ
キサン鎖が２本のシロキサン化合物２０１．７ｇ及びｏ
−アリルフェノール２．０１ｇを仕込み７０℃に加熱し
た。これに塩化白金酸０．５２×１０-4ｇを添加し、そ
のまま２時間熟成させた。こうして得られた反応生成物
から低沸点成分を１５０℃／１ｍｍＨｇの条件で２時間
かけて留去し、釜残に目的シロキサン化合物をほぼ定量
的な収率で得た。得られたシロキサン化合物のＩＲスペ
クトル、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフ
ィー）、粘度のそれぞれの分析結果及び水酸基定量デー
タは下記のとおりであり、次式の構造と確認された。
【００８０】
【化３０】
【００８１】（式中、Ｘ3 はｏ−ヒドロキシフェニル基
を表わし、ｚ6 及びｚ7 はそれぞれシロキサンユニット
の個数を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ３６５０〜３２００ｃｍ-1（−ＯＨ） ２９７０ｃｍ-1（Ｃ−Ｈ） １２６０ｃｍ-1（Ｓｉ−ＣＨ3 ） １１２０〜１０５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｏ） ７５０ｃｍ-1（１，２−二置換フェニル基） ＧＰＣ（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量 （Ｍｎ） １６７００ 重量平均分子量（Ｍｗ） ２２６００ 分散度 （Ｍｗ／Ｍｎ） １．４ 水酸基の定量データ 水酸基 ０．０８重量％ 粘度（２５℃） ８７１センチポイズ
を表わし、ｚ6 及びｚ7 はそれぞれシロキサンユニット
の個数を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ３６５０〜３２００ｃｍ-1（−ＯＨ） ２９７０ｃｍ-1（Ｃ−Ｈ） １２６０ｃｍ-1（Ｓｉ−ＣＨ3 ） １１２０〜１０５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｏ） ７５０ｃｍ-1（１，２−二置換フェニル基） ＧＰＣ（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量 （Ｍｎ） １６７００ 重量平均分子量（Ｍｗ） ２２６００ 分散度 （Ｍｗ／Ｍｎ） １．４ 水酸基の定量データ 水酸基 ０．０８重量％ 粘度（２５℃） ８７１センチポイズ
【００８２】参考例６ ヒドロシリル基を基準としたシロキサン鎖が３本のシロ
キサン化合物の製造攪拌装置と冷却装置を取り付けた５
ｌ三口丸底フラスコにトリメチルシラノール６７．５ｇ
をＮ2 気流下で仕込み、ブチルリチウムヘキサン溶液
（１．５モル／ｌ）５００ｍｌを滴下しつつ添加した。
更に、その中へ乾燥テトラヒドロフラン１５００ｍｌに
溶解させたヘキサメチルシクロトリシロキサン１２１７
ｇを仕込み、２０℃で１７時間重合させた。次に、トリ
クロロシラン３４．０ｇとトリエチルアミン７６ｇを加
え１時間攪拌し重合を停止させた。合成物を分液ロート
に移し、生成した塩を水洗により除去した後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥させた。こうして得られた反応生成物
から低沸点成分を１５０℃／１ｍｍＨｇの条件で２時間
かけて留去し、釜残に目的シロキサン化合物をほぼ定量
的な収率で得た。得られたシロキサン化合物のＩＲスペ
クトル、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフ
ィー）、粘度のそれぞれの分析結果及びＳｉ−Ｈ基定量
データは下記のとおりであり、次式の構造と確認され
た。
キサン化合物の製造攪拌装置と冷却装置を取り付けた５
ｌ三口丸底フラスコにトリメチルシラノール６７．５ｇ
をＮ2 気流下で仕込み、ブチルリチウムヘキサン溶液
（１．５モル／ｌ）５００ｍｌを滴下しつつ添加した。
更に、その中へ乾燥テトラヒドロフラン１５００ｍｌに
溶解させたヘキサメチルシクロトリシロキサン１２１７
ｇを仕込み、２０℃で１７時間重合させた。次に、トリ
クロロシラン３４．０ｇとトリエチルアミン７６ｇを加
え１時間攪拌し重合を停止させた。合成物を分液ロート
に移し、生成した塩を水洗により除去した後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥させた。こうして得られた反応生成物
から低沸点成分を１５０℃／１ｍｍＨｇの条件で２時間
かけて留去し、釜残に目的シロキサン化合物をほぼ定量
的な収率で得た。得られたシロキサン化合物のＩＲスペ
クトル、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフ
ィー）、粘度のそれぞれの分析結果及びＳｉ−Ｈ基定量
データは下記のとおりであり、次式の構造と確認され
た。
【００８３】
【化３１】
【００８４】（式中、ｚ8 、ｚ9 及びｚ10はそれぞれシ
ロキサンユニットの個数を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ２９７０ｃｍ-1（Ｃ−Ｈ） ２２５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｈ） １２６０ｃｍ-1（Ｓｉ−ＣＨ3 ） １１２０〜１０５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｏ） ＧＰＣ（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量 （Ｍｎ） ４２００ 重量平均分子量（Ｍｗ） ５３００ 分散度 （Ｍｗ／Ｍｎ） １．３ Ｓｉ−Ｈ基の定量データ Ｈ［ｐｐｍ］ ２１７［ｐｐｍ］ Ｈ［ｐｐｍ］よりの計算当量 ４６１０ 粘度（２５℃） ３８センチポイズ
ロキサンユニットの個数を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ２９７０ｃｍ-1（Ｃ−Ｈ） ２２５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｈ） １２６０ｃｍ-1（Ｓｉ−ＣＨ3 ） １１２０〜１０５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｏ） ＧＰＣ（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量 （Ｍｎ） ４２００ 重量平均分子量（Ｍｗ） ５３００ 分散度 （Ｍｗ／Ｍｎ） １．３ Ｓｉ−Ｈ基の定量データ Ｈ［ｐｐｍ］ ２１７［ｐｐｍ］ Ｈ［ｐｐｍ］よりの計算当量 ４６１０ 粘度（２５℃） ３８センチポイズ
【００８５】実施例６ ヒドロキシフェニル基を基準としたシロキサン鎖が３本
のシロキサン化合物の製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた１ｌ三口丸底フラスコ
に参考例６で得られたヒドロシリル基を基準としたシロ
キサン鎖が３本のシロキサン化合物４６１ｇ及びｏ−ア
リルフェノール２０．１ｇを仕込み７０℃に加熱した。
これに塩化白金酸５．２×１０-4ｇを添加し、そのまま
２時間熟成させた。こうして得られた反応生成物から低
沸点成分を１５０℃／１ｍｍＨｇの条件で２時間かけて
留去し、釜残に目的シロキサン化合物をほぼ定量的な収
率で得た。得られたシロキサン化合物のＩＲスペクト
ル、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィ
ー）、粘度のそれぞれの分析結果及び水酸基定量データ
は下記のとおりであり、次式の構造と確認された。
のシロキサン化合物の製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた１ｌ三口丸底フラスコ
に参考例６で得られたヒドロシリル基を基準としたシロ
キサン鎖が３本のシロキサン化合物４６１ｇ及びｏ−ア
リルフェノール２０．１ｇを仕込み７０℃に加熱した。
これに塩化白金酸５．２×１０-4ｇを添加し、そのまま
２時間熟成させた。こうして得られた反応生成物から低
沸点成分を１５０℃／１ｍｍＨｇの条件で２時間かけて
留去し、釜残に目的シロキサン化合物をほぼ定量的な収
率で得た。得られたシロキサン化合物のＩＲスペクト
ル、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィ
ー）、粘度のそれぞれの分析結果及び水酸基定量データ
は下記のとおりであり、次式の構造と確認された。
【００８６】
【化３２】
【００８７】（式中、Ｘ3 はｏ−ヒドロキシフェニル基
を表わし、ｚ8 、ｚ9 及びｚ10はそれぞれシロキサンユ
ニットの個数を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ３６５０〜３２００ｃｍ-1（−ＯＨ） ２９７０ｃｍ-1（Ｃ−Ｈ） １２６０ｃｍ-1（Ｓｉ−ＣＨ3 ） １１２０〜１０５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｏ） ７５０ｃｍ-1（１，２−二置換フェニル基） ＧＰＣ（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量 （Ｍｎ） ３７５０ 重量平均分子量（Ｍｗ） ５２８０ 分散度 （Ｍｗ／Ｍｎ） １．４ 水酸基の定量データ 水酸基 ０．３６重量％ 粘度（２５℃） １４１センチポイズ
を表わし、ｚ8 、ｚ9 及びｚ10はそれぞれシロキサンユ
ニットの個数を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ３６５０〜３２００ｃｍ-1（−ＯＨ） ２９７０ｃｍ-1（Ｃ−Ｈ） １２６０ｃｍ-1（Ｓｉ−ＣＨ3 ） １１２０〜１０５０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｏ） ７５０ｃｍ-1（１，２−二置換フェニル基） ＧＰＣ（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量 （Ｍｎ） ３７５０ 重量平均分子量（Ｍｗ） ５２８０ 分散度 （Ｍｗ／Ｍｎ） １．４ 水酸基の定量データ 水酸基 ０．３６重量％ 粘度（２５℃） １４１センチポイズ
【００８８】
【発明の効果】本発明の組成物は原料であるシロキサン
化合物は、エポキシ基と反応性のヒドロキシル基を有す
るためエポキシ樹脂と反応し、化学的に結合した化合物
となるため半導体素子の樹脂封止に用いた場合その内部
応力を緩和するのに極めて優れている。
化合物は、エポキシ基と反応性のヒドロキシル基を有す
るためエポキシ樹脂と反応し、化学的に結合した化合物
となるため半導体素子の樹脂封止に用いた場合その内部
応力を緩和するのに極めて優れている。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｇ 77/38 Ｃ０８Ｇ 77/38 Ｃ０８Ｌ 83/04 Ｃ０８Ｌ 83/04 Ｈ０１Ｌ 23/29 Ｈ０１Ｌ 23/30 Ｒ 23/31 (56)参考文献 特開 平２−28213（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−155915（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C08L 63/00 - 63/10 C08L 83/04 - 83/08 C07F 7/08 C07F 7/18 H01L 23/29
Claims (4)
- 【請求項１】 一般式(Ｉ) 【化１】 〔式中、ｊは０〜２０００の整数を表わし、Ｒ1は次式 【化２】 （式中、Ｒは炭素原子数１〜４のアルキル基又は炭素原
子数１〜４のアルコキシ基を表わし、Ａは炭素原子数１
〜４の２価の炭化水素基を表わし、ａは０〜３の整数を
表わし、ｂは１又は２である）で示される基を表わし、
Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、それぞれ炭素原子数１
〜４のアルキル基又はフェニル基を表わす〕によって示
されるシロキサン化合物からなるエポキシ樹脂改質剤。 - 【請求項２】 一般式（II） 【化３】 （式中、ｋ及びιはそれぞれ０〜２０００の整数を表わ
し、Ｒ1 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 及びＲ6 は請求項１に記載
したものと同じ意味を表わし、Ｒ8 は炭素原子数１〜４
のアルキル基又はフェニル基を表わす）によって示され
るシロキサン化合物からなるエポキシ樹脂改質剤。 - 【請求項３】 一般式（III) 【化４】 （式中、ｍ、ｎ及びｐはそれぞれ０〜２０００の整数を
表わし、Ｒ1 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 及びＲ6 は請求項１に
記載したものと同じ意味を表わす）によって示されるシ
ロキサン化合物からなるエポキシ樹脂改質剤。 - 【請求項４】 一般式（Ｉ）、(II)及び(III)で示され
るシロキサン化合物の１種以上とエポキシ樹脂を含む半
導体素子封止用樹脂組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9345797A JP3047877B2 (ja) | 1997-12-01 | 1997-12-01 | エポキシ樹脂改質剤及び半導体封止用樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9345797A JP3047877B2 (ja) | 1997-12-01 | 1997-12-01 | エポキシ樹脂改質剤及び半導体封止用樹脂組成物 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1073342A Division JP2769840B2 (ja) | 1989-03-24 | 1989-03-24 | 水酸基含有置換基を有するシロキサン化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10158476A JPH10158476A (ja) | 1998-06-16 |
| JP3047877B2 true JP3047877B2 (ja) | 2000-06-05 |
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ID=18379051
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9345797A Expired - Lifetime JP3047877B2 (ja) | 1997-12-01 | 1997-12-01 | エポキシ樹脂改質剤及び半導体封止用樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JP3047877B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1997
- 1997-12-01 JP JP9345797A patent/JP3047877B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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