JP3043144B2 - 均一粒状物質の個数判定法 - Google Patents
均一粒状物質の個数判定法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プラスチック製均一粒
状物質の個数をその外観から判定する、均一粒状物質の
個数判定法に関する。
状物質の個数をその外観から判定する、均一粒状物質の
個数判定法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、文字、図形等のパターンマッチン
グ装置において、入力されたパターンと予め記憶した標
準パターンとのマッチングを行なう方法がある（特開平
1-169583）。
グ装置において、入力されたパターンと予め記憶した標
準パターンとのマッチングを行なう方法がある（特開平
1-169583）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来方法は、対象画像
を基準画像によってパターンマッチングする方法である
が、対象画像を基準画像に対して数画素移動させながら
次々とその類似度を求めて判定する必要があるため、処
理に時間がかかるという問題がある。また、接着して存
在する物質の個数を判定できない。
を基準画像によってパターンマッチングする方法である
が、対象画像を基準画像に対して数画素移動させながら
次々とその類似度を求めて判定する必要があるため、処
理に時間がかかるという問題がある。また、接着して存
在する物質の個数を判定できない。
【０００４】更に、入力されるパターンの大きさは予め
既知であることが求められる。本発明は、任意に分散し
て存在する任意の大きさの均一粒状物質の個数を、接着
の有無及びその個数とともに高精度で確実に判定する方
法を提供することを目的とする。
既知であることが求められる。本発明は、任意に分散し
て存在する任意の大きさの均一粒状物質の個数を、接着
の有無及びその個数とともに高精度で確実に判定する方
法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の本発明
は、任意に分散して存在する均一な粒状物質の個数を判
定する、均一粒状物質の個数判定法であって、判定対象
の下方から投光してその透過光を２値画像として撮像
し、撮像された画像中の各パターンの境界を追跡してそ
の輪郭構成画素の位置情報を記憶し、その位置情報を基
に各パターンの内部の黒及び白画素の画素数を計測し、
それらの平均、標準偏差から領域を設定してその領域内
のパターンについて更に黒及び白画素の平均を求めて基
準画素数とし、この領域に含まれなかったパターンにつ
いては、(a) 内部の画素数が第１の規定値以下ならば、
そのパターンを異物と判定し、(b) その他のパターンは
粒子が接着しているものと判定して、それら白及び／又
は黒の画素数をその対象の白及び／又は黒の基準画素数
で除算することにより接着パターンの粒子個数を求める
ようにしたものである。
は、任意に分散して存在する均一な粒状物質の個数を判
定する、均一粒状物質の個数判定法であって、判定対象
の下方から投光してその透過光を２値画像として撮像
し、撮像された画像中の各パターンの境界を追跡してそ
の輪郭構成画素の位置情報を記憶し、その位置情報を基
に各パターンの内部の黒及び白画素の画素数を計測し、
それらの平均、標準偏差から領域を設定してその領域内
のパターンについて更に黒及び白画素の平均を求めて基
準画素数とし、この領域に含まれなかったパターンにつ
いては、(a) 内部の画素数が第１の規定値以下ならば、
そのパターンを異物と判定し、(b) その他のパターンは
粒子が接着しているものと判定して、それら白及び／又
は黒の画素数をその対象の白及び／又は黒の基準画素数
で除算することにより接着パターンの粒子個数を求める
ようにしたものである。
【０００６】請求項２に記載の本発明は、任意に分散し
て存在する均一な粒状物質の個数を判定する、均一粒状
物質の個数判定法であって、判定対象の下方から投光し
てその透過光を２値画像として撮像し、撮像された画像
中の各パターンに対してラベリング処理を行ない、ラベ
リングされた各パターンの画素数をカウントし、ラベリ
ングされた画素で囲まれたラベリングされなかった白画
素の画素数を計測し、それらの平均、標準偏差から領域
を設定してその領域内のパターンについて更に黒及び白
画素の平均を求めて基準画素数とし、この領域に含まれ
なかったパターンについては、(a) 内部の画素数が第１
の規定値以下ならば、そのパターンを異物と判定し、
(b) その他のパターンは粒子が接着しているものと判定
して、それら白及び／又は黒の画素数をその対象の白及
び／又は黒の基準画素数で除算することにより接着パタ
ーンの粒子個数を求めるようにしたものである。
て存在する均一な粒状物質の個数を判定する、均一粒状
物質の個数判定法であって、判定対象の下方から投光し
てその透過光を２値画像として撮像し、撮像された画像
中の各パターンに対してラベリング処理を行ない、ラベ
リングされた各パターンの画素数をカウントし、ラベリ
ングされた画素で囲まれたラベリングされなかった白画
素の画素数を計測し、それらの平均、標準偏差から領域
を設定してその領域内のパターンについて更に黒及び白
画素の平均を求めて基準画素数とし、この領域に含まれ
なかったパターンについては、(a) 内部の画素数が第１
の規定値以下ならば、そのパターンを異物と判定し、
(b) その他のパターンは粒子が接着しているものと判定
して、それら白及び／又は黒の画素数をその対象の白及
び／又は黒の基準画素数で除算することにより接着パタ
ーンの粒子個数を求めるようにしたものである。
【０００７】
【作用】請求項１に記載の本発明によれば、画像中の各
パターンの輪郭構成画素の位置情報を基に各パターンの
内部の黒及び白画素の画素数を計測し、それらの平均、
標準偏差から領域を設定してその領域内のパターンにつ
いて更に黒及び白画素の平均を求めて基準画素数とし、
この領域に含まれなかったパターンについては、(a) 内
部の画素数が第１の規定値以下ならば、そのパターンを
異物と判定し、(b) その他のパターンは粒子が接着して
いるものと判定して、それら白及び／又は黒の画素数を
その対象の基準画素数で除算することにより接着パター
ンの粒子個数を求めることとなり、任意に分散して存在
する任意の大きさの均一粒状物質の個数を、接着の有無
及びその個数とともに高精度で確実に判定することがで
きる。
パターンの輪郭構成画素の位置情報を基に各パターンの
内部の黒及び白画素の画素数を計測し、それらの平均、
標準偏差から領域を設定してその領域内のパターンにつ
いて更に黒及び白画素の平均を求めて基準画素数とし、
この領域に含まれなかったパターンについては、(a) 内
部の画素数が第１の規定値以下ならば、そのパターンを
異物と判定し、(b) その他のパターンは粒子が接着して
いるものと判定して、それら白及び／又は黒の画素数を
その対象の基準画素数で除算することにより接着パター
ンの粒子個数を求めることとなり、任意に分散して存在
する任意の大きさの均一粒状物質の個数を、接着の有無
及びその個数とともに高精度で確実に判定することがで
きる。
【０００８】請求項２に記載の本発明によれば、画像中
のラベリングされた各パターンの画素数をカウントし、
ラベリングされた画素で囲まれたラベリングされなかっ
た白画素の画素数を計測し、それらの平均、標準偏差か
ら領域を設定してその領域内のパターンについて更に黒
及び白画素の平均を求めて基準画素数とし、この領域に
含まれなかったパターンについては、(a) 内部の画素数
が第１の規定値以下ならば、そのパターンを異物と判定
し、(b) その他のパターンは粒子が接着しているものと
判定して、それら白及び／又は黒の画素数をその対象の
白及び／又は黒の基準画素数で除算することにより接着
パターンの粒子個数を求めることとなり、任意に分散し
て存在する任意の大きさの均一粒状物質の個数を、接着
の有無及びその個数とともに高精度で確実に判定するこ
とができる。
のラベリングされた各パターンの画素数をカウントし、
ラベリングされた画素で囲まれたラベリングされなかっ
た白画素の画素数を計測し、それらの平均、標準偏差か
ら領域を設定してその領域内のパターンについて更に黒
及び白画素の平均を求めて基準画素数とし、この領域に
含まれなかったパターンについては、(a) 内部の画素数
が第１の規定値以下ならば、そのパターンを異物と判定
し、(b) その他のパターンは粒子が接着しているものと
判定して、それら白及び／又は黒の画素数をその対象の
白及び／又は黒の基準画素数で除算することにより接着
パターンの粒子個数を求めることとなり、任意に分散し
て存在する任意の大きさの均一粒状物質の個数を、接着
の有無及びその個数とともに高精度で確実に判定するこ
とができる。
【０００９】尚、本発明において、「ラベリング処理」
とは、同じ連結成分に属する全ての画素に同じラベル
（番号）を割り当て、異なった連結成分には異なったラ
ベルを割り当てる操作をいう。
とは、同じ連結成分に属する全ての画素に同じラベル
（番号）を割り当て、異なった連結成分には異なったラ
ベルを割り当てる操作をいう。
【００１０】
【実施例】図１は本発明に係る判定方法の第１実施例を
実施するための装置の一例を示す模式図、図２は判定方
法のアルゴリズムを示すフローチャート、図３は入力画
像の一例を示す模式図、図４はパターンの内部及び外部
の画素数を説明する模式図、図５は本発明に係る判定方
法の第２実施例を実施するための装置の一例を示す模式
図、図６は判定方法のアルゴリズムを示すフローチャー
ト、図７は入力画像の一例を示す模式図、図８はパター
ンの内部及び外部の画素数を説明する模式図である。
実施するための装置の一例を示す模式図、図２は判定方
法のアルゴリズムを示すフローチャート、図３は入力画
像の一例を示す模式図、図４はパターンの内部及び外部
の画素数を説明する模式図、図５は本発明に係る判定方
法の第２実施例を実施するための装置の一例を示す模式
図、図６は判定方法のアルゴリズムを示すフローチャー
ト、図７は入力画像の一例を示す模式図、図８はパター
ンの内部及び外部の画素数を説明する模式図である。
【００１１】（第１実施例）（図１〜図４参照） 図１の判定装置１００の撮像部１０において、１２は硝
子上に分散された液晶パネル用スペーサ等の対象物であ
り、照明装置１１により照射されている。その透過光
を、ここでは示していないが顕微鏡を介したＣＣＤカメ
ラ１３で撮像し、その画像信号が処理装置２０に入力さ
れる。この粒子を下方から投光すると、粒子の中心部は
透過率が高いのに対し、球体であるため周辺部は光が屈
折することにより影となる。
子上に分散された液晶パネル用スペーサ等の対象物であ
り、照明装置１１により照射されている。その透過光
を、ここでは示していないが顕微鏡を介したＣＣＤカメ
ラ１３で撮像し、その画像信号が処理装置２０に入力さ
れる。この粒子を下方から投光すると、粒子の中心部は
透過率が高いのに対し、球体であるため周辺部は光が屈
折することにより影となる。
【００１２】処理装置２０内のＡ／Ｄ変換回路２１で、
入力された画像信号がデジタル信号に変換され、更に２
値化回路２２において所定のレベルにより２値信号に変
換され、ＣＰＵ２４を介して画像メモリ２３に送られ
る。ＲＡＭ２５は、作業用のメモリとして用いられる。
入力された画像信号がデジタル信号に変換され、更に２
値化回路２２において所定のレベルにより２値信号に変
換され、ＣＰＵ２４を介して画像メモリ２３に送られ
る。ＲＡＭ２５は、作業用のメモリとして用いられる。
【００１３】処理装置２０にて処理された結果は、モニ
ター等の出力部３０に送られ、対象物１２の全粒子数及
び接着している粒子数が出力される。
ター等の出力部３０に送られ、対象物１２の全粒子数及
び接着している粒子数が出力される。
【００１４】以下、処理装置２０内の処理手順を図２に
示すフローチャートに基づき、図３の入力画像を例とし
て説明する。
示すフローチャートに基づき、図３の入力画像を例とし
て説明する。
【００１５】(1) ２値画像をラスタ走査し、未処理パタ
ーンをみつけ、その境界を追跡してその輪郭構成画素の
位置情報をＲＡＭに格納する。
ーンをみつけ、その境界を追跡してその輪郭構成画素の
位置情報をＲＡＭに格納する。
【００１６】(2) 各パターンに対してその位置情報から
パターンの内部の黒画素Ｎb(i)（粒子の周辺部に相当）
及び白画素Ｎw(i)（粒子の中央部に相当）の画素数を計
測する（図４参照）。
パターンの内部の黒画素Ｎb(i)（粒子の周辺部に相当）
及び白画素Ｎw(i)（粒子の中央部に相当）の画素数を計
測する（図４参照）。
【００１７】(3) このＮb(i)、Ｎw(i)を用いて、これら
の平均値μw 、μb 、標準偏差σw、σb をそれぞれ計
算し、領域を設定する。 Ｒw ：μw −σw 〜μw ＋σw …(1) Ｒb ：μb −σb 〜μb ＋σb …(2)
の平均値μw 、μb 、標準偏差σw、σb をそれぞれ計
算し、領域を設定する。 Ｒw ：μw −σw 〜μw ＋σw …(1) Ｒb ：μb −σb 〜μb ＋σb …(2)
【００１８】入力画像の中には、ほとんどが均一の大き
さをもった粒子であり、異物などはあまり混入していな
い。また、接着して存在している粒子の数は単独で存在
している粒子に比べその数はかなり少ないことが経験的
に知られている。従って、ここで設定した領域内に単独
で存在する粒子のほとんどが含まれることになる。
さをもった粒子であり、異物などはあまり混入していな
い。また、接着して存在している粒子の数は単独で存在
している粒子に比べその数はかなり少ないことが経験的
に知られている。従って、ここで設定した領域内に単独
で存在する粒子のほとんどが含まれることになる。
【００１９】(4) 黒画素数Ｎb(i)、白画素数Ｎw(i)がと
もに上述の設定した領域に含まれるパターンのみを選択
し、これらを単独で存在する粒子と判定し、これらのパ
ターンの黒及び白画素の平均値μs b、μs wを計算して、
基準画素数として設定する。
もに上述の設定した領域に含まれるパターンのみを選択
し、これらを単独で存在する粒子と判定し、これらのパ
ターンの黒及び白画素の平均値μs b、μs wを計算して、
基準画素数として設定する。
【００２０】(5) 上述の設定した領域に含まれなかった
パターンについては次のように判定する。 Ｎw(i)《μs w ： 異物 …(3) その他 ： 接着して存在 …(4)
パターンについては次のように判定する。 Ｎw(i)《μs w ： 異物 …(3) その他 ： 接着して存在 …(4)
【００２１】パターンに異物が混在していたとしても、
異物には暗部分で囲まれた明部分が存在しないため、異
物を分離できる。
異物には暗部分で囲まれた明部分が存在しないため、異
物を分離できる。
【００２２】また、接着しているパターンの個数は次の
ようにしてその個数を判定する。 ｎ1(i)＝Ｎw(i)／μs w …(5) ｎ2(i)＝Ｎb(i)／μs b …(6) ｎ(i) ＝（ｎ1(i)＋ｎ2(i)）／ 2 …(7)
ようにしてその個数を判定する。 ｎ1(i)＝Ｎw(i)／μs w …(5) ｎ2(i)＝Ｎb(i)／μs b …(6) ｎ(i) ＝（ｎ1(i)＋ｎ2(i)）／ 2 …(7)
【００２３】もしくは ｎ(i) ＝（ｎ1(i)・ｎ2(i)）1/2 …(8)
【００２４】尚、接着パターンの粒子個数ｎ(i) は、下
記(9) 式又は(10)式によって判定しても良い。 ｎ(i) ＝Ｎw(i)／Ｓw …(9) ｎ(i) ＝Ｎb(i)／Ｓb …(10)
記(9) 式又は(10)式によって判定しても良い。 ｎ(i) ＝Ｎw(i)／Ｓw …(9) ｎ(i) ＝Ｎb(i)／Ｓb …(10)
【００２５】上記(1) 〜(5) により、図３の入力画像に
対し、表１の出力結果を得た。
対し、表１の出力結果を得た。
【表１】
【００２６】（第２実施例）（図５〜図８参照） 図５の判定装置２００の撮像部１１０において、１１２
は硝子上に分散された液晶パネル用スペーサ等の対象物
であり、照明装置１１１により照射されている。その透
過光を、ここでは示していないが顕微鏡を介したＣＣＤ
カメラ１１３で撮像し、その画像信号が処理装置１２０
に入力される。この粒子を下方から投光すると、粒子の
中心部は透過率が高いのに対し、球体であるため周辺部
は光が屈折することにより影となる。
は硝子上に分散された液晶パネル用スペーサ等の対象物
であり、照明装置１１１により照射されている。その透
過光を、ここでは示していないが顕微鏡を介したＣＣＤ
カメラ１１３で撮像し、その画像信号が処理装置１２０
に入力される。この粒子を下方から投光すると、粒子の
中心部は透過率が高いのに対し、球体であるため周辺部
は光が屈折することにより影となる。
【００２７】処理装置１２０内のＡ／Ｄ変換回路１２１
で、入力された画像信号がデジタル信号に変換され、更
に２値化回路１２２において所定のレベルにより２値信
号に変換され、ＣＰＵ１２４を介して画像メモリ１２３
に送られる。ＲＡＭ１２５は、作業用のメモリとして用
いられる。
で、入力された画像信号がデジタル信号に変換され、更
に２値化回路１２２において所定のレベルにより２値信
号に変換され、ＣＰＵ１２４を介して画像メモリ１２３
に送られる。ＲＡＭ１２５は、作業用のメモリとして用
いられる。
【００２８】処理装置１２０にて処理された結果は、モ
ニター等の出力部１３０に送られ、対象物１１２の全粒
子数及び接着している粒子数が出力される。
ニター等の出力部１３０に送られ、対象物１１２の全粒
子数及び接着している粒子数が出力される。
【００２９】以下、処理装置１２０内の処理手順を図６
に示すフローチャートに基づき、図７の入力画像を例と
して説明する。 (1) ２値画像をラスタ走査し、ラベリング処理を行な
い、ラベリングされた各パターンの画素数Ｎb(i)（粒子
の周辺部に相当）を求める。
に示すフローチャートに基づき、図７の入力画像を例と
して説明する。 (1) ２値画像をラスタ走査し、ラベリング処理を行な
い、ラベリングされた各パターンの画素数Ｎb(i)（粒子
の周辺部に相当）を求める。
【００３０】(2) 各パターンに対してラベリングされた
画素で囲まれたラベリングされなかった白画素の画素数
Ｎw(i)（粒子の中央部に相当）を計測する（図４参
照）。
画素で囲まれたラベリングされなかった白画素の画素数
Ｎw(i)（粒子の中央部に相当）を計測する（図４参
照）。
【００３１】(3) このＮb(i)、Ｎw(i)を用いて、これら
の平均値μw 、μb 、標準偏差σw、σb をそれぞれ計
算し、領域を設定する。 Ｒw ：μw −σw 〜μw ＋σw …(11) Ｒb ：μb −σb 〜μb ＋σb …(12)
の平均値μw 、μb 、標準偏差σw、σb をそれぞれ計
算し、領域を設定する。 Ｒw ：μw −σw 〜μw ＋σw …(11) Ｒb ：μb −σb 〜μb ＋σb …(12)
【００３２】入力画像の中には、ほとんど均一の大きさ
をもった粒子であり、異物などはあまり混在していな
い。また、接着して存在している粒子の数は単独で存在
している粒子に比べその数はかなり少ないことが経験的
に知られている。従って、ここで設定した領域内に単独
で存在する粒子のほとんどが含まれることになる。
をもった粒子であり、異物などはあまり混在していな
い。また、接着して存在している粒子の数は単独で存在
している粒子に比べその数はかなり少ないことが経験的
に知られている。従って、ここで設定した領域内に単独
で存在する粒子のほとんどが含まれることになる。
【００３３】(4) 黒画素数Ｎb(i)、白画素数Ｎw(i)がと
もに設定した上述の領域に含まれるパターンのみを選択
し、これらを単独で存在する粒子と判定し、これらのパ
ターンの黒及び白画素の平均値μs b、μs wを計算して、
基準値として設定する。
もに設定した上述の領域に含まれるパターンのみを選択
し、これらを単独で存在する粒子と判定し、これらのパ
ターンの黒及び白画素の平均値μs b、μs wを計算して、
基準値として設定する。
【００３４】(5) 上述の設定した領域に含まれなかった
パターンについては次のように判定する。 Ｎw(i)《μs w ： 異物 …(13) その他 ： 接着して存在 …(14)
パターンについては次のように判定する。 Ｎw(i)《μs w ： 異物 …(13) その他 ： 接着して存在 …(14)
【００３５】パターンに異物が混在していたとしても、
異物には暗部分で囲まれた明部分が存在しないため、異
物を分離できる。
異物には暗部分で囲まれた明部分が存在しないため、異
物を分離できる。
【００３６】また、接着しているパターンの個数は次の
ようにしてその個数を判定する。 ｎ1(i)＝Ｎw(i)／μs w …(15) ｎ2(i)＝Ｎb(i)／μs b …(16) ｎ(i) ＝（ｎ1(i)＋ｎ2(i)）／ 2 …(17)
ようにしてその個数を判定する。 ｎ1(i)＝Ｎw(i)／μs w …(15) ｎ2(i)＝Ｎb(i)／μs b …(16) ｎ(i) ＝（ｎ1(i)＋ｎ2(i)）／ 2 …(17)
【００３７】もしくは ｎ(i) ＝（ｎ1(i)・ｎ2(i)）1/2 …(18)
【００３８】尚、接着パターンの粒子個数ｎ(i) は、下
記(19)式又は(20)式によって判定しても良い。 ｎ(i) ＝Ｎw(i)／Ｓw …(19) ｎ(i) ＝Ｎb(i)／Ｓb …(20)
記(19)式又は(20)式によって判定しても良い。 ｎ(i) ＝Ｎw(i)／Ｓw …(19) ｎ(i) ＝Ｎb(i)／Ｓb …(20)
【００３９】上記(1) 〜(5) により、図７の入力画像に
対し、表２の出力結果を得た。
対し、表２の出力結果を得た。
【表２】
【００４０】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、任意に分
散して存在する任意の大きさの均一粒状物質の個数を、
異物が存在していたとしても接着の有無及びその個数と
ともに高精度で確実に判定することができる。
散して存在する任意の大きさの均一粒状物質の個数を、
異物が存在していたとしても接着の有無及びその個数と
ともに高精度で確実に判定することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は本発明に係る判定方法の第１実施例を実
施するための装置の一例を示す模式図である。
施するための装置の一例を示す模式図である。
【図２】図２は判定方法のアルゴリズムを示すフローチ
ャートである。
ャートである。
【図３】図３は入力画像の一例を示す模式図である。
【図４】図４はパターンの内部及び外部の画素数を説明
する模式図である。
する模式図である。
【図５】図５は本発明に係る判定方法の第２実施例を実
施するための装置の一例を示す模式図である。
施するための装置の一例を示す模式図である。
【図６】図６は判定方法のアルゴリズムを示すフローチ
ャートである。
ャートである。
【図７】図７は入力画像の一例を示す模式図である。
【図８】図８はパターンの内部及び外部の画素数を説明
する模式図である。
する模式図である。
１００、２００ 判定装置 １０、１１０ 撮像部 １１、１１１ 照明装置 １２、１１２ 対象物 １３、１１３ ＣＣＤカメラ ２０、１２０ 処理装置 ２１、１２１ Ａ／Ｄ変換回路 ２２、１２２ ２値化回路 ２３、１２３ 画像メモリ ２４、１２４ ＣＰＵ ３０、１３０ 出力部
Claims (2)
- 【請求項１】 任意に分散して存在する均一な粒状物質
の個数を判定する、均一粒状物質の個数判定法であっ
て、判定対象の下方から投光してその透過光を２値画像
として撮像し、撮像された画像中の各パターンの境界を
追跡してその輪郭構成画素の位置情報を記憶し、その位
置情報を基に各パターンの内部の黒及び白画素の画素数
を計測し、それらの平均、標準偏差から領域を設定して
その領域内のパターンについて更に黒及び白画素の平均
を求めて基準画素数とし、この領域に含まれなかったパ
ターンについては、(a) 内部の画素数が第１の規定値以
下ならば、そのパターンを異物と判定し、(b) その他の
パターンは粒子が接着しているものと判定して、それら
白及び／又は黒の画素数をその対象の白及び／又は黒の
基準画素数で除算することにより接着パターンの粒子個
数を求めることを特徴とする均一粒状物質の個数判定
法。 - 【請求項２】 任意に分散して存在する均一な粒状物質
の個数を判定する、均一粒状物質の個数判定法であっ
て、判定対象の下方から投光してその透過光を２値画像
として撮像し、撮像された画像中の各パターンに対して
ラベリング処理を行ない、ラベリングされた各パターン
の画素数をカウントし、ラベリングされた画素で囲まれ
たラベリングされなかった白画素の画素数を計測し、そ
れらの平均、標準偏差から領域を設定してその領域内の
パターンについて更に黒及び白画素の平均を求めて基準
画素数とし、この領域に含まれなかったパターンについ
ては、(a) 内部の画素数が第１の規定値以下ならば、そ
のパターンを異物と判定し、(b) その他のパターンは粒
子が接着しているものと判定して、それら白及び／又は
黒の画素数をその対象の白及び／又は黒の基準画素数で
除算することにより接着パターンの粒子個数を求めるこ
とを特徴とする均一粒状物質の個数判定法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3304737A JP3043144B2 (ja) | 1991-11-20 | 1991-11-20 | 均一粒状物質の個数判定法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3304737A JP3043144B2 (ja) | 1991-11-20 | 1991-11-20 | 均一粒状物質の個数判定法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05143730A JPH05143730A (ja) | 1993-06-11 |
| JP3043144B2 true JP3043144B2 (ja) | 2000-05-22 |
Family
ID=17936610
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3304737A Expired - Fee Related JP3043144B2 (ja) | 1991-11-20 | 1991-11-20 | 均一粒状物質の個数判定法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3043144B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9611574B2 (en) | 2014-09-04 | 2017-04-04 | Clover Mfg. Co., Ltd. | Sewing tool holder |
-
1991
- 1991-11-20 JP JP3304737A patent/JP3043144B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9611574B2 (en) | 2014-09-04 | 2017-04-04 | Clover Mfg. Co., Ltd. | Sewing tool holder |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05143730A (ja) | 1993-06-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |